JP3328384B2 - プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板Info
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- JP3328384B2 JP3328384B2 JP20696093A JP20696093A JP3328384B2 JP 3328384 B2 JP3328384 B2 JP 3328384B2 JP 20696093 A JP20696093 A JP 20696093A JP 20696093 A JP20696093 A JP 20696093A JP 3328384 B2 JP3328384 B2 JP 3328384B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming
- mask
- glass paste
- sandblasting
- barrier
- Prior art date
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
ある。そして、プライミングパスなどを有する複雑な形
状の障壁を形成する場合には、重ね刷りを行う際に最上
段をパターン状に抜いて印刷する方法が採られている。
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
ある。そして、プライミングパスなどを有する複雑な形
状の障壁を形成する場合には、重ね刷りを行う際に最上
段をパターン状に抜いて印刷する方法が採られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たようなガラスペーストの重ね刷りにより複雑な形状の
障壁を形成する場合、工程が複雑な上に重ね刷りの位置
合わせが難しく、またガラスペーストのダレが生じるこ
とから、良好な形状の障壁を得るのが困難であるという
問題点があった。
たようなガラスペーストの重ね刷りにより複雑な形状の
障壁を形成する場合、工程が複雑な上に重ね刷りの位置
合わせが難しく、またガラスペーストのダレが生じるこ
とから、良好な形状の障壁を得るのが困難であるという
問題点があった。
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、簡単な工程
により複雑な形状の障壁を形成することのできるＰＤＰ
の障壁形成方法を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、簡単な工程
により複雑な形状の障壁を形成することのできるＰＤＰ
の障壁形成方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るＰＤＰの障壁形成方法は、ガラス基板
上に第１のガラスペースト層を形成する工程と、前記第
１のガラスペースト層上に第１のサンドブラスト用マス
クを形成する工程と、前記第１のサンドブラスト用マス
ク上に第２のガラスペースト層を形成する工程と、前記
第２のガラスペースト層上に第２のサンドブラスト用マ
スクを形成する工程と、前記第２のサンドブラスト用マ
スクを介してサンドブラスト加工を行うことにより前記
第１及び第２のガラスペースト層の不要部分を除去する
とともに前記第１のサンドブラスト用マスクを露出する
工程とを含むことを特徴としている。
に、本発明に係るＰＤＰの障壁形成方法は、ガラス基板
上に第１のガラスペースト層を形成する工程と、前記第
１のガラスペースト層上に第１のサンドブラスト用マス
クを形成する工程と、前記第１のサンドブラスト用マス
ク上に第２のガラスペースト層を形成する工程と、前記
第２のガラスペースト層上に第２のサンドブラスト用マ
スクを形成する工程と、前記第２のサンドブラスト用マ
スクを介してサンドブラスト加工を行うことにより前記
第１及び第２のガラスペースト層の不要部分を除去する
とともに前記第１のサンドブラスト用マスクを露出する
工程とを含むことを特徴としている。
【０００６】
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、第１及
び第２のサンドブラスト用マスクのない部分のガラスペ
ーストが研削されてセル空間が形成されるとともに、下
方に位置する第１のサンドブラスト用マスクの上にある
ガラスペーストが研削される。そして、第１及び第２の
サンドブラスト用マスクを除去することにより障壁の上
部に窪みが形成される。
び第２のサンドブラスト用マスクのない部分のガラスペ
ーストが研削されてセル空間が形成されるとともに、下
方に位置する第１のサンドブラスト用マスクの上にある
ガラスペーストが研削される。そして、第１及び第２の
サンドブラスト用マスクを除去することにより障壁の上
部に窪みが形成される。
【０００７】
【実施例】以下、図１〜図３を参照しながら本発明の実
施例を説明する。
施例を説明する。
【０００８】まず、図１の（ａ）に示すように、陰極等
（図示せず）を形成したガラス基板１の上にガラスペー
ストをスクリーン印刷により膜厚１８０μｍで塗布して
乾燥させることで第１のガラスペースト層２ａを形成
し、その上にマスク材３としてのジアゾニウム塩添加Ｐ
ＶＡをスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布して室温で
乾燥させた後、（ｂ）に示すようにマスクパターン４を
介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定し
た時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃ
ｍ2 である。露光後、水に１〜２分浸漬してからスプレ
ー現像を行い、乾燥工程を経て（ｃ）に示す如く第１の
ガラスペースト層２ａ上に第１のサンドブラスト用マス
ク３１を形成した。
（図示せず）を形成したガラス基板１の上にガラスペー
ストをスクリーン印刷により膜厚１８０μｍで塗布して
乾燥させることで第１のガラスペースト層２ａを形成
し、その上にマスク材３としてのジアゾニウム塩添加Ｐ
ＶＡをスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布して室温で
乾燥させた後、（ｂ）に示すようにマスクパターン４を
介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定し
た時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃ
ｍ2 である。露光後、水に１〜２分浸漬してからスプレ
ー現像を行い、乾燥工程を経て（ｃ）に示す如く第１の
ガラスペースト層２ａ上に第１のサンドブラスト用マス
ク３１を形成した。
【０００９】次いで、図２の（ｄ）に示すように、第１
のサンドブラスト用マスク３１を覆うようにして第１の
ガラスペースト層２ａ上にガラスペーストをスクリーン
印刷により膜厚２０μｍで塗布して乾燥させることで第
２のガラスペースト層２ｂを形成し、その上に前記した
のと同様にマスク材５としてのジアゾニウム塩添加ＰＶ
Ａをスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布して室温で乾
燥させた後、（ｅ）に示すようにマスクパターン６を介
して前記したのと同様の条件により露光を行った。露光
後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を行い、乾
燥工程を経て（ｆ）に示す如く第２のガラスペースト層
２ｂ上に第２のサンドブラスト用マスク５１を形成し
た。これにより２つの異なる高さにそれぞれが上下方向
に重ならない状態のサンドブラスト用マスク３１，５１
が形成されており、それらのサンドブラスト用マスク３
１，５１とガラス基板１との間にガラスペースト層２が
形成された障壁形成用基板を得た。
のサンドブラスト用マスク３１を覆うようにして第１の
ガラスペースト層２ａ上にガラスペーストをスクリーン
印刷により膜厚２０μｍで塗布して乾燥させることで第
２のガラスペースト層２ｂを形成し、その上に前記した
のと同様にマスク材５としてのジアゾニウム塩添加ＰＶ
Ａをスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布して室温で乾
燥させた後、（ｅ）に示すようにマスクパターン６を介
して前記したのと同様の条件により露光を行った。露光
後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を行い、乾
燥工程を経て（ｆ）に示す如く第２のガラスペースト層
２ｂ上に第２のサンドブラスト用マスク５１を形成し
た。これにより２つの異なる高さにそれぞれが上下方向
に重ならない状態のサンドブラスト用マスク３１，５１
が形成されており、それらのサンドブラスト用マスク３
１，５１とガラス基板１との間にガラスペースト層２が
形成された障壁形成用基板を得た。
【００１０】その後、図３の（ｇ）に示すように第２の
サンドブラスト用マスク５１を介してサンドブラスト加
工を行い、ガラスペースト層２ａ，２ｂの不要部分を除
去した。ここでは研磨材としてアルミナ♯１０００を用
い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2 、ノズルと基板との距離
１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサ
ンドブラスト加工を行った。これにより、第１及び第２
のサンドブラスト用マスク３１，５１のない部分のガラ
スペースト層２ａ，２ｂが研削されてセル空間が形成さ
れるとともに、（ｈ）に示す如く第１のサンドブラスト
用マスク３１が露出した。続いて、第１のサンドブラス
ト用マスク３１と第２のサンドブラスト用マスク５１を
剥離剤により除去し、（ｉ）に示す如くガラス基板１上
にガラスペーストからなる障壁７のパターンを得た後、
焼成工程を経て障壁７を基板に密着させた。これにより
上部にスリット状の窪み７ａを備えた障壁７が形成でき
た。
サンドブラスト用マスク５１を介してサンドブラスト加
工を行い、ガラスペースト層２ａ，２ｂの不要部分を除
去した。ここでは研磨材としてアルミナ♯１０００を用
い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2 、ノズルと基板との距離
１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサ
ンドブラスト加工を行った。これにより、第１及び第２
のサンドブラスト用マスク３１，５１のない部分のガラ
スペースト層２ａ，２ｂが研削されてセル空間が形成さ
れるとともに、（ｈ）に示す如く第１のサンドブラスト
用マスク３１が露出した。続いて、第１のサンドブラス
ト用マスク３１と第２のサンドブラスト用マスク５１を
剥離剤により除去し、（ｉ）に示す如くガラス基板１上
にガラスペーストからなる障壁７のパターンを得た後、
焼成工程を経て障壁７を基板に密着させた。これにより
上部にスリット状の窪み７ａを備えた障壁７が形成でき
た。
【００１１】なお、上記の実施例では２つの異なる高さ
にサンドブラスト用マスクを有するガラスペースト層を
ガラス基板上に設けたが、形成しようとする障壁の形状
によっては３つ以上の異なる高さにサンドブラスト用マ
スクを有するガラスペースト層をガラス基板上に設ける
ようにすることも可能である。また、サンドブラスト用
マスクをメタルマスクで形成することも可能である。
にサンドブラスト用マスクを有するガラスペースト層を
ガラス基板上に設けたが、形成しようとする障壁の形状
によっては３つ以上の異なる高さにサンドブラスト用マ
スクを有するガラスペースト層をガラス基板上に設ける
ようにすることも可能である。また、サンドブラスト用
マスクをメタルマスクで形成することも可能である。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るＰＤ
Ｐの障壁形成方法は、ガラス基板上に第１のガラスペー
スト層を形成する工程と、前記第１のガラスペースト層
上に第１のサンドブラスト用マスクを形成する工程と、
前記第１のサンドブラスト用マスク上に第２のガラスペ
ースト層を形成する工程と、前記第２のガラスペースト
層上に第２のサンドブラスト用マスクを形成する工程
と、前記第２のサンドブラスト用マスクを介してサンド
ブラスト加工を行うことにより前記第１及び第２のガラ
スペースト層の不要部分を除去するとともに前記第１の
サンドブラスト用マスクを露出する工程とを含むことを
特徴としているので、１回のサンドブラスト加工により
第１及び第２のサンドブラスト用マスクのない部分のガ
ラスペーストが研削されてセル空間が形成されるととも
に、下方に位置する第１のサンドブラスト用マスクの上
にあるガラスペーストが研削されて障壁上に窪みが形成
されることから、簡単な工程で複雑な形状の障壁を形成
することができる。
Ｐの障壁形成方法は、ガラス基板上に第１のガラスペー
スト層を形成する工程と、前記第１のガラスペースト層
上に第１のサンドブラスト用マスクを形成する工程と、
前記第１のサンドブラスト用マスク上に第２のガラスペ
ースト層を形成する工程と、前記第２のガラスペースト
層上に第２のサンドブラスト用マスクを形成する工程
と、前記第２のサンドブラスト用マスクを介してサンド
ブラスト加工を行うことにより前記第１及び第２のガラ
スペースト層の不要部分を除去するとともに前記第１の
サンドブラスト用マスクを露出する工程とを含むことを
特徴としているので、１回のサンドブラスト加工により
第１及び第２のサンドブラスト用マスクのない部分のガ
ラスペーストが研削されてセル空間が形成されるととも
に、下方に位置する第１のサンドブラスト用マスクの上
にあるガラスペーストが研削されて障壁上に窪みが形成
されることから、簡単な工程で複雑な形状の障壁を形成
することができる。
【００１３】また、本発明に係るＰＤＰの障壁形成用基
板は、ガラス基板上に当該ガラス基板からの高さが異な
る複数のサンドブラスト用マスクが形成されており、前
記ガラス基板と前記複数のサンドブラスト用マスクとの
間にガラスペースト層が形成されていることを特徴とし
ているので、高さの異なる複雑な形状の障壁を１回のサ
ンドブラスト加工により形成することができる。
板は、ガラス基板上に当該ガラス基板からの高さが異な
る複数のサンドブラスト用マスクが形成されており、前
記ガラス基板と前記複数のサンドブラスト用マスクとの
間にガラスペースト層が形成されていることを特徴とし
ているので、高さの異なる複雑な形状の障壁を１回のサ
ンドブラスト加工により形成することができる。
【図１】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法の実施例を示す前半の工程図である。
壁形成方法の実施例を示す前半の工程図である。
【図２】図１に続く工程図である。
【図３】図２に続く後半の工程図である。
１ ガラス基板 ２ ガラスペースト層 ２ａ 第１のガラスペースト層 ２ｂ 第２のガラスペースト層 ３１ 第１のサンドブラスト用マスク ５１ 第２のサンドブラスト用マスク
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板上に第１のガラスペースト層
を形成する工程と、前記第１のガラスペースト層上に第
１のサンドブラスト用マスクを形成する工程と、前記第
１のサンドブラスト用マスク上に第２のガラスペースト
層を形成する工程と、前記第２のガラスペースト層上に
第２のサンドブラスト用マスクを形成する工程と、前記
第２のサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト
加工を行うことにより前記第１及び第２のガラスペース
ト層の不要部分を除去するとともに前記第１のサンドブ
ラスト用マスクを露出する工程とを含むことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項２】 サンドブラスト加工を行った後、第１の
サンドブラスト用マスクと第２のサンドブラスト用マス
クを除去してガラス基板上にガラスペーストからなる障
壁のパターンを形成する工程と、障壁を基板に密着させ
る焼成工程を行うことを特徴とする請求項１に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項３】 ガラス基板上に当該ガラス基板からの高
さが異なる複数のサンドブラスト用マスクが形成されて
おり、前記ガラス基板と前記複数のサンドブラスト用マ
スクとの間にガラスペースト層が形成されていることを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696093A JP3328384B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696093A JP3328384B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745191A JPH0745191A (ja) | 1995-02-14 |
| JP3328384B2 true JP3328384B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=16531862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20696093A Expired - Lifetime JP3328384B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3328384B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100594830B1 (ko) * | 1998-08-28 | 2006-07-03 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 |
| KR100807942B1 (ko) | 2000-10-10 | 2008-02-28 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법 |
| JP3788596B2 (ja) * | 2001-10-22 | 2006-06-21 | パイオニア株式会社 | 立体マスクを用いる加工方法及び該立体マスクの製造方法 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP20696093A patent/JP3328384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0745191A (ja) | 1995-02-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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