JP2634895B2 - プラズマディスプレイおよびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、各セルを形成するための隔壁をアノード
ガラス側に印刷形成したプラズマディスプレイおよびそ
の製造方法に関するものである。

（従来の技術） プラズマディスプレイは冷陰極ガス放電管の一種で、
陰極（カソード）と陽極（アノード）を、周囲が完全に
密封されたガラス内に封入された希ガス空間中に露出さ
せ、アノードとカソード間に高電圧を印加することによ
り希ガス内の原子が励起され電離することにより発生す
るカソード近傍のグロー放電から光子（放電光）が放射
される。この発光を利用したものが、いわゆるDC形プラ
ズマディスプレイといわれるもので、現在パーソナルコ
ンピュータの表示装置などに使用されている。

プラズマディスプレイの従来の一例を第３図に示す。
このプラズマディスプレイは文献「沖電気研究開発Vol5
3,No.3,P5〜P6」に開示されるもので、第３図（ａ）は
平面図、（ｂ）は斜視図、（ｃ）は断面図である。この
プラズマディスプレイは、向い合ってシールされた２枚
のガラス1,2により構成されており、下側のガラス（カ
ソードガラス）１にはカソード電極３と、該カソード電
極３を各セルに分割し放電のための空間を形成する隔壁
４とが設けられており、上側のガラス（アノードガラ
ス）２には、アノード電極５が設けられている。アノー
ド電極５は、放電６による光Ｌをさえぎるのを防ぐため
透明電極を使用しており、具体的にはITO膜（インジウ
ムとスズの酸化物）が用いられている。カソード電極３
と隔壁４はそれぞれ厚膜印刷により形成されており、印
刷，乾燥，焼成後、２枚のガラス1,2を合わせて周囲を
高真空にシールし、内部をNeなどの希ガスに置換した構
造となっている。

このようなプラズマディスプレイにおいて、隔壁４は
従来前記第３図のようにカソードガラス１側に印刷形成
しており、このカソードガラス１とアノードガラス２を
重ね合わす時、カソードガラス１側の隔壁４と隔壁４と
の間に、アノードガラス２側のアノード電極５を正しく
位置合わせする必要がある。もし、ずれが生じると、隔
壁４上にアノード電極５が重なり放電部分が少なくな
り、輝度が取れなくなる。そこで、注意深く位置合わせ
を行っているが、位置合わせに時間がかかる問題点があ
った。

この問題点を解決するために、アノードガラス２のア
ノード電極５相互間に隔壁４を印刷する方法が考えられ
ている。第４図は、このアノードガラス２側に隔壁４を
印刷形成したプラズマディスプレイを示し、図中第３図
と同一部分には同一符号を付してある。

（発明が解決しようとする課題） しかるに、上記のアノードガラス２側に隔壁４を印刷
形成する方法では、該隔壁４を厚膜印刷法、具体的には
スクリーン印刷方式で印刷形成した時の該隔壁４側縁部
の凸凹が、アノードガラス面（発光表示面）に発光面積
のバラツキ（延いては輝度のバラツキ）として出てくる
という問題点があった。この点を以下詳述する。

厚膜印刷には、上述のようにスクリーン印刷方法が用
いられる。スクリーン印刷方式とは、ステンレスの針金
を織った布地（スクリーン）を枠に張って四囲を緊張固
定させ、その上に手工的または光学的（写真的）方法で
版膜を作って必要な画線以外の目を塞ぎ、枠内に印刷ペ
ーストを容れ、スキージと称するヘラ状のゴム板でスク
リーン内面を加圧摺動すれば、ペーストは版膜のない部
分のスクリーンを通過して版の下に織かれた紙、その他
の被印刷物面に押し出されて印刷が行われるという技術
である。

このスクリーン印刷方式で隔壁４を印刷形成する場合
のスクリーンを第５図（ａ）に示し、11はステンレスの
針金、12ひ版膜、13は隔壁を形成するために版膜がない
帯状部分である。このスクリーンを使用していま隔壁を
印刷形成した場合、理想的には帯状部分13からペースト
が押し出されて、該帯状部分13と同様に側縁部が直線的
な隔壁パターンが得られるはずであるが、実際にはいま
帯状部分13のステンレスの針金11の編み方が例えば第５
図（ｂ）であったとすると、○印で囲んだ部分の開口面
積が狭いので、どうしても粘度の高い隔壁様ペーストは
○印の部分から押し出されず、結果として側縁部が凸凹
の第５図（ｃ）のような隔壁パターン（隔壁４）が形成
されてしまう。そして、その隔壁の凸凹になっている部
分例えば第５図（ｃ）の○印のような部分は他の部分よ
り凹んでいるので、アノードガラス（発光表示面）の発
光面積としてはそれを広げることになり、他の部分より
明るく見えることになる。このような隔壁の側縁部の凸
凹による輝度のバラツキは、前記隔壁をカソードガラス
に印刷形成した場合には目立たないが、発光表示面であ
るアノードガラスに印刷形成した場合は大きく目立つ。

そこで、第６図に示すように、アノードガラス２のア
ノード電極５相互間に、側縁部の直線性の良好な不透明
なマスク膜７を形成し、このマスク膜７に重ねて、かつ
このマスク膜７より幅狭に隔壁４を印刷形成することが
考えられている。

この方法によれば、隔壁４は不透明マスク７の面内に
かくれ、側縁部の凸凹はアノードガラス面では発光面積
を決定する要素とはならず、アノードガラス面での発光
面積は、側縁部の直線性の良好なマスク膜７によって決
定される。したがって、アノードガラス面での発光面積
は均一になり、延いては輝度が均一となる。

（発明が解決しようとする課題） しかるに、上記のマスク膜７の形成する方法では、ア
ノード電極５形成後、再びフォトリソ・エッチング工程
などを用いてマスク膜７を形成しなければならないた
め、膜形成製造工程は２工程となり、このため、設備・
工程が２倍かかり、加工費、材料費が高くなったり、製
造中の為損じなどにより歩留りが低下する問題点があっ
た。

この発明は上記の点に鑑みなされたもので、工程の短
縮、価格の低減および歩留りの向上を図って均一な輝度
を得ることのできるプラズマディスプレイおよびその製
造方法を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） この発明は、アノード電極を有するアノードガラス側
に、各セルを形成するための隔壁が設けられるプラズマ
ディスプレイにおいてその製造方法において、アノード
電極相互間のアノードガラス面をサンドプラスト処理に
より不透明部とし、その不透明部に前記隔壁を形成する
ものである。さらに、製造方法のより詳細としては、ア
ノードガラス面に、電極材料の被着とフォトリソ・エッ
チング工程によりアノード電極を形成した後、前記エッ
チング工程で用いたマスクをアノード電極上に残したま
まサンドプラスト処理し、アノード電極相互間のアノー
ドガラス面を透明部とし、その後、その不透明部に隔壁
を印刷形成するものである。

（作 用） この発明においては、アノード電極相互間のアノード
ガラス面をサンドプラスト処理により不透明部（くもり
ガラス状）とすることにより、ここから放出される光は
極く僅かとなる。したがって、この発明においては、ア
ノード電極（ITOなどからなる透明電極）部分のみが発
光領域となり、発光面積の均一性はアノード電極の側縁
部の直線性によって決まり、前記不透明部に形成する隔
壁は関係なくなる。ここで、アノード電極は、フォトリ
ソ・エッチング工程により側縁部の直線性が良好に形成
される。したがって、この発明においては、第６図のマ
スク膜を形成する場合と同様に、アノードガラス面での
発光面積の均一性はよく、輝度が均一となる。しかも、
この発明においては、アノード電極形成時のマスクをア
ノード電極上に残した状態でサンドプラスト処理するこ
とにより、アノード電極を充分に保護しつつ、アノード
電極相互間のアノードガラス面のみを余すことなく正確
に不透明化処理できる。しかも、この不透明化処理（換
言すれば発光面積、発光輝度の均一化処理）は、単にサ
ンドブラスト処理を行うだけでよい。

（実施例） 以下この発明の一実施例を図面を参照して説明する。

第１図はこの発明のプラズマディスプレイの一実施例
を示す断面図である。この図において、21はカソードガ
ラスで、内面上にはストライプ状のカソード電極22が複
数本並べて形成されている。このカソードガラス21と所
定間隔に対向してアノードガラス23が設けられており、
周囲の相互間はシールされている。このアノードガラス
23の内面には、例えばITO膜からなるストライプ状のア
ノード電極24が複数本所定間隔に、前記カソード電極22
と直交する方向に設けられている。また、このアノード
電極24相互間のアノードガラス23面は、サンドブラスト
処理によるくもりガラス状の不透明部25に形成されてお
り、この不透明部25に、前記カソード電極22を各セルに
分割し放電のための空間を形成するためのストライプ状
の隔壁26が印刷形成される。また、アノードガラス23と
カソードガラス21相互間の密閉空間部には、Neなどの希
ガスが封入される。

このように構成されたプラズマディスプレイにおいて
は、アノード電極24相互間のアノードガラス面がくもり
ガラス状の不透明部25となっているから、ここから放出
される光は極く僅かとなる。したがって、上記プラズマ
ディスプレイにおいては、透明なアノード電極24部分の
みが発光領域となり、発光面積の均一性はアノード電極
24の側縁部の直線性によって決まり、前記不透明部25に
形成した隔壁26は関係なくなる。ここで、アノード電極
24は、後述するようにフォトリソ・エッチング工程で形
成され、側縁部の直線性は良好である。したがって、上
記プラズマディスプレイにおいては、第６図のマスク膜
を形成する場合と同様に、アノードガラス23面での発光
面積は均一になり、延いては輝度が均一となる。なお、
第１図において、27は放電、Ｌは放電光を表わす。

上記のようなプラズマディスプレイは、カソード電極
22を形成したカソードガラス21と、アノード電極24,不
透明部25および隔壁26を形成したアノードガラス23を準
備し、それを第１図のように対向させ、周囲をシール
し、内部をNeなどの希ガスに置換することにより製造さ
れるが、各部の詳細な製法は、本発明の特徴部分つまり
アノード電極の製造法に関連しての不透明部の形成法を
除いて従来と同様である。そこで、以下の製造方法の説
明では、アノード電極の製造法およびこれに関連しての
不透明部の形成法のみを詳細に述べることとする。

まず第２図（ａ）に示すようにアノードガラス23を準
備し、その表面をSiO₂処理した後、該アノードガラス23
の表面上にアノード電極形成膜としてここではITO膜24
を蒸着させ、その上にレジスト31を塗布する。

次に、レジスト31を第２図（ｂ）に示すように露光マ
スク32を通して露光した後、現像することにより、第２
図（ｃ）に示すようにレジスト31をアノード電極形成部
分にのみ残す。

その後、残存レジスト31をマスクとしてITO膜24aをエ
ッチングすることにより、第２図（ｄ）に示すようにIT
O膜24aはレジスト31下のみに残り、アノード電極24が形
成される。この時、アノード電極24は、前記のようにフ
ォトリソ・エッチング法で形成することにより、側縁部
の直線性は良好である。

次に、アノード電極24上にレジスト31を残したまま、
アノードガラス23に対してサンドブラスト処理する。す
なわち第２図（ｅ）に示すように、砥粒（細かい粒）と
水を混ぜて、それを、圧縮空気を用いてノズル33からア
ノードガラス23に向って吹き付ける。具体的な一例とし
ては、砥粒として酸化アルミナ150〜250メッシュを用
い、この砥粒と水を1:3に混ぜ合わせて約4kg/cm²の圧縮
空気を用いてノズル33からアノードガラス23に向って吹
き付ける。このサンドブラスト処理により、前記第２図
（ｅ）に示すように、アノード電極24相互間のアノード
ガラス23面は、正確にかつ未処理部を残すことなく雲り
ガラス状の不透明部25となる。この時、アノード電極24
はレジスト31により保護され、サンドブラスト処理によ
るダメージを受けることはない。その関係上、レジスト
31としては、強度の強いものを用いるとともに、厚さを
厚くしてもよい。また、他の樹脂とハイブリット構成
（下層が他の樹脂、上層がレジストの２層構成）にする
などして、サンドブラストに耐えるように形成すること
もできる。

このようにしてサンドブラスト処理を行ったならば、
次に水洗してアノードガラス23に付着している砥粒など
を充分除去した後、第２図（ｆ）に示すようにアノード
電極24上のレジスト31を除去する。

その後は、アノードガラス23の前記不透明部25に隔壁
をスクリーン印刷方式で印刷形成することとなる。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、この発明によれば、アノ
ード電極相互間のアノードガラス面をサンドブラスト処
理により不透明部として、側縁の直線性の良好なアノー
ド電極部分のみを発光領域としたので、アノードガラス
面での発光面積、延いては輝度を均一とすることができ
る。また、この発明では、アノード電極をフォトリソ・
エッチング法で形成した後、前記エッチング時に使用し
たマスクをアノード電極上に残した状態でサンドブラス
ト処理することにより、アノード電極を充分に保護しつ
つ、アノード電極相互間のアノードガラス面を余すこと
なく正確に不透明化処理できる。さらに、このサンドブ
ラストによる不透明化処理によれば、単にサンドブラス
トだけを追加して行えばよいのであるから、輝度の均一
化を図る上で、マスク膜形成法と比較して、工程の短
縮、価格の低減および歩留りの向上を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のプラズマディスプレイの一実施例を
示す構成断面図、第２図はこの発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の一実施例を示す工程断面図、第３図は
従来のプラズマディスプレイの一例を示す平面図、斜視
図および断面図、第４図は隔壁をアノードガラス側に形
成した従来のプラズマディスプレイの断面図、第５図は
スクリーン印刷方式におけるスクリーンと得られた隔壁
を示す平面図、第６図はマスク膜形成により輝度の均一
化を図ったプラズマィスプレイを示す断面図である。 23……アノードガラス、24……アノード電極、25……不
透明部、26……隔壁、24a……ITO膜、31……レジスト、
32……露光マスク、33……ノズル。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】アノード電極を有するアノードガラス側
   に、各セルを形成するための隔壁が設けられるプラズマ
   ディスプレイにおいて、 アノード電極相互間のアノードガラス面はサンドブラス
   ト処理による不透明部とされ、 この不透明部に前記隔壁が形成されたことを特徴とする
   プラズマディスプレイ。
2. 【請求項２】アノード電極を有するアノードガラス側
   に、各セルを形成するための隔壁が設けられるプラズマ
   ディスプレイの製造方法において、 アノードガラス面に、電極材料の被着とフォトリソ・エ
   ッチング工程によりアノード電極を形成する工程と、 その後、前記エッチング工程で用いたマスクをアノード
   電極上に残したままサンドブラスト処理し、アノード電
   極相互間のアノードガラス面を不透明部とする工程と、 その後、前記不透明部に隔壁を印刷形成する工程とを具
   備してなるプラズマディスプレイの製造方法。