JPH02213020A - プラズマディスプレイおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、各セルを形成するための隔壁をアノードガ
ラス側に印刷形成したプラズマディスプレイおよびその
製造方法に関するものである。

（従来の技術） プラズマディスプレイは冷陰極ガス放電管の一種で、陰
極（カソード）と陽極（アノード）を、周囲が完全に密
封されたガラス内に封入された希ガス空間中に露出させ
、アノードとカソード間に高電圧を印加することにより
希ガス内の原子が励起され電層することにより発生する
カソード近傍のグロー放電から光子（放電光）が放射さ
れる。

この発光を利用したものが、いわゆるＤＣ形プラズマデ
ィスプレイといわれるもので、現在パーソナルコンビエ
ータの表示装置などに使用されている。

プラズマディスプレイの従来の一例を第３図に示す、こ
のプラズマディスプレイは文献「沖電気研究開発Ｖｏｌ
　　５３．１ｔＬ３．　　Ｐ　５〜Ｐ　６Ｊに開示され
ろもので、第３図（ａｌは平面図、山）は斜視図、（Ｃ
）は断面図である。このプラズマディスプレイは、向い
合ってシールされた２枚のガラス１，２により構成され
ており、下側のガラス（カソードガラス）　ｌにはカソ
ード電極３と、該カソード電極３を各セルに分割し放電
のための空間を形成する隔壁４とが設けられており、上
側のガラス（アノードガラス）２には、アノード電極５
が設けられている。アノード電極５は、放電６による光
りをさえぎるのを防ぐため透明電極を使用しており、具
体的にはＩＴＯｌｌｉ（インジウムとスズの酸化物）が
用いられている。カソード電極３と隔壁４はそれぞれ厚
膜印刷により形成されており、印刷、乾燥、焼成後、２
枚のガラス１．２を合わせて周囲を高真空にシールし、
内部をＮｏなどの希ガスに置換した構造となっている。

このようなプラズマディスプレイにおいて、隔壁４は従
来前記第３図のようにカソードガラスＩ側に印刷形成し
ており、このカソードガラス１とアノードガラス２を重
ね合わす時、カソードガラス１側の隔壁４と隔壁４との
間に、アノードガラス２！ｌのアノード電極５を正しく
位置合わせする必要がある。もし、ずれが生じると、隔
壁４上にアノード電極５が重なり放電部分が少なくなり
、輝度が取れなくなる。そこで、注意深く位置合わせを
行っているが、位置合わせに時間がかかる問題点があっ
た。

この問題点を解決するために、アノードガラス２のアノ
ード電極５相互間に隔壁４を印刷する方法が考えられて
いる。第４図は、このアノードガラス２側に隔壁４を印
刷形成したプラズマディスプレイを示し、図中第３図と
同一部分には同一符号を付しである。

（発明が解決しようとする課題） しかるに、上記のアノードガラス２側に隔壁４を印刷形
成する方法では、該隔壁４を厚膜印刷法、具体的にはス
クリーン印刷方式で印刷形成した時の該隔壁４側縁部の
凸凹が、アノードガラス面（発光表示面）に発光面積の
バラツキ（延いては輝度のバラツキ）として出てくると
いう問題点があった。この点を以下詳述する。

厚膜印刷には、上述のようにスクリーン印刷方式が用い
られる。スクリーン印刷方式とは、ステンレスの針金を
織った布地（スクリーン）を枠にＩＡつて四囲を緊張固
定させ、その上に手工的または光学的（写真的）方法で
版膜を作って必要な画線以外の目を塞ぎ、枠内に印刷ペ
ーストを容れ、スキージと称するヘラ状のゴム板でスク
リーン内面を加圧摺動すれば、ペーストは版膜のない部
分のスクリーンを通過して版の下に置かれた紙、その他
の被印鉢物面に押し出されて印刷が行われるという技術
である。

このスクリーン印刷方式で隔壁４を印刷形成する場合の
スクリーンを第５図ｉａ＞に示し、ｉｔはステンレスの
針金、１２は版膜、」３は隔壁を形成するために版膜が
ない帯状部分である。このスクリーンを使用していま隔
壁を印刷形成した場合、理想的には帯状部分１３からペ
ーストが押し出されて、該帯状部分１３と同様に側縁部
が直線的な隔壁パターンが得られるはずであるが、実際
にはいま帯状部分１３のステンレスの針金１１の編み方
が例えば第５図（ｂｌであったとすると、Ｏ印で囲んだ
部分の開口面積が狭いので、どうしても粘度の高い隔壁
用ペーストはＱ印の部分から押し出されず、結果として
側縁部が凸凹の第５図（Ｃ１のような隔壁パターン（隔
壁４）が形成されてしまう。

そして、その隔壁の凸凹になっている部分例えば第５図
（Ｃ）の○印のような部分は他の部分より凹んでいるの
で、アノードガラス（発光表示面）の発光面積としては
それを広げることになり、他の部分より明るく見えるこ
とになる。このような隔壁の側縁部の凸凹による輝度の
バラツキは、前記隔壁をカソードガラスに印刷形成した
場合には目立たないが、発光表示面であるアノードガラ
スに印刷形成した場合は大きく目立つ。

そこで、第６図に示すように、アノードガラス２のアノ
ード電極５相互間に、側縁部の直線性の良好な不透明な
マスクＷＡ７を形成し、このマスク膜７に重ねて、かつ
このマスク１ｌ１７より幅狭に隔壁４を印刷形成するこ
とが考えられている。

この方法によれば、隔壁４は不透明マスク７の面内にか
くれ、側縁部の凸凹はアノードガラス面での発光面積を
決定する要素とはならず、アノードガラス面での発光面
積は、側縁部の直線性の良好なマスク膜７によって決定
される。したがって、アノードガラス面での発光面積は
均一になり、延いては輝度が均一となる。

（発明が解決しようとする課Ｎ） しかるに、上記のマスクＭ７を形成する方法では、アノ
ード電極５形成後、再びフォトリソ・エッチング工程な
どを用いてマスクＭ７を形成しなければならないため、
膜形成製造工程は２工程となり、このため、設備・工程
が２倍かかり、加工費、材料費が高くなったり、製造中
の為損じなどにより歩留りが低下する問題点があった。

この発明は上記の点に鑑みなされたもので、工程の短縮
、価格の低減および歩留りの向上を図って均一な輝度を
得ることのできるプラズマディスプレイおよびその製造
方法を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） この発明は、アノード電極を有するアノードガラス側に
、各セルを形成するための隔壁が設けられるプラズマデ
ィスプレイ・およびその製造方法において、アノード電
極相互間のアノードガラス面をサンドプラスト処理によ
り不透明部とし、その不透明部に前記隔壁を形成するも
のである。さらに、製造方法のより詳細としては、アノ
ードガラス面に、電極材料の被着とフォトリソ・エッチ
ング工程によりアノード電極を形成した後、前記エツチ
ング工程で用いたマスクをアノード電極上に残したまま
サンドプラスト処理し、アノード電極相互間のアノード
ガラス面を不透明部とし、その後、その不透明部に隔壁
を印刷形成するものである。

（作　用） この発明においては、アノード電極相互間のアノードガ
ラス面をサンドプラスト処理により不透明部（くもりガ
ラス状）とすることにより、ここから放出される光は掻
く僅かとなる。したがって、この発明においては、アノ
ード電ｌｉｔ　（ＩＴＯなどからなる透明電極）部分の
みが発光領域となり、発光面積の均一性はアノード電極
の側縁部の直線性によって決まり、前記不透明部に形成
する隔壁は関係なくなる。ここで、アノード電極は、フ
ォトリソ・エンチング工程により側縁部の直線性が良好
に形成される。したがって、この発明においＣは、第６
図のマスク膜を形成する場合と同様に、アノードガラス
面での発光面積の均一性はよく、輝度が均一となる。し
かも、この発明においては、アノードを掻形成時のマス
クをアノード電極上に残した状態でサンドプラスト処理
することにより、アノード電極を充分に保護しつつ、７
ノ一ド電極相互間のアノードガラス面のみを余すことな
く正確に不透明化処理できる。しかも、この不透明化処
理（！ＩＩ言すれば発光面積、発光輝度の均一化処理）
は、単にサンドプラスト処理を行うだけでよい。

（実施例） 以下この発明の一実施例を図面を参照して説明する。

第１図はこの発明のプラズマディスプレイの一実施例を
示す断面図である。こ・の図において、２１はカソード
ガラスで、内面上にはストライブ状のカソード電極２２
が複数本差べて形成されている。

このカソードガラス２１と所定間隔に対向してアノード
ガラス２３が設けられており、周囲の相互間はシールさ
れている。このアノードガラス２３の内面には、例えば
ＩＴＯ膜からなるストライプ状のアノード電極２４が複
数本所定間隔に、前記カソード電極２２と直交する方向
に設けられている。また、このアノード電極２４相互間
のアノードガラス２３面は、サンドプラスト処理による
くもりガラス状の不透明部２５に形成されており、この
不透明部２５に、前記カソード電極２２を各セルに分割
し放電のための空間を形成するためのストライブ状の隔
壁２６が印刷形成される。また、アノードガラス２３と
カソードガラス２１椙互間の密閉空間部には、Ｎｅｔど
の希ガスが封入される。

このように構成されたプラズマディスプレイにおいては
、アノード電極２４相互間のアノードガラス面がくもり
ガラス状の不透明部２５となっているから、ここから放
出される光は掻く僅かとなる。したがって、上記プラズ
マディスプレイにおいては、透明なアノード電極２４部
分のみが発光領域となり、発光面積の均一性はアノード
電極２４の側縁部の直線性によって決まり、前記不透明
部２５に形成した隔壁２６は関係なくなる。ここで、ア
ノード電極２４は、後述するようにフォトリソ・エッチ
ング工程で形成され、側縁部の直線性は良好である。し
たがうて、上記プラズマディスプレイにおいては、第６
図のマスク膜を形成する場合と同様に、アノードガラス
２３面での発光面積は均一になり、延いては輝度が均一
となる。なお、第１図において、２７は放電、Ｌは放電
光を表わす。

上記のようなプラズマディスプレイは、カソード電極２
２を形成したカソードガラス２１と、アノード電極２４
．不透明部２５および隔壁２６を形成したアノードガラ
ス２３を準備し、それを第１図のように対向させ、周囲
をシールし、内部をＭｅなどの希ガスに置換することに
より製造されるが、各部の詳細な製法は、本発明の特徴
部分つまりアノード電極の製造法に関連しての不透明部
の形成法を除いて従来と同様である。そこで、以下の製
造方法の説明では、アノード電極の製造法およびこれに
関連しての不透明部の形成法のみを詳細に述べることと
する。

まず第２図（ａ）に示すようにアノードガラス２３を準
備し、その表面をｓｉｏ、処理した後、該アノードガラ
ス２３の表面上にアノード電極形成膜としてここではＩ
ＴＯ膜２４ａをＭｆｒさせ、その上にレジスト３１を塗
布する。

次に、レジスト３１を第２図０１に示すように露光マス
ク３２を通して露光した後、現像することにより、第２
図ｔｃ＋に示すようにレジスト３１をアノード電極形成
部分にのみ残す。

その後、残存レジスト３１をマスクとしてＩＴＯＷＡ２
４ａを工ンチンクすることにより、第２図（ｄｌに示す
ようにＩＴＯ膜２４ａはレジスト３１下のみに残り、ア
ノード電極２４が形成される。この時、アノード電極２
４は、前記のようにフォトリソ・エッチング法で形成す
ることにより、側縁部の直線性は良好である。

次に、アノード電極２４上にレジスト３１を残したまま
、アノードガラス２３に対してサンドプラスト処理する
。すなわち第２図（ｅ）に示すように、砥粒（縞かい粒
）と水を混ぜて、それを、圧縮空気を用いてノズル３３
からアノードガラス２３に向って吹き付けるや具体的な
一例としては、砥粒として酸化アールミナ１５０〜２５
０メツシュを用い、この砥粒と水を１：３に混ぜ合わせ
て約４ｋｌ／Ｌ！！ｌＩの圧縮空気を用いてノズル３３
からアノードガラス２３に向って吹き付ける。このサン
ドプラスト処理により、前記第２図（８１に示すように
、アノード電極２４相互間のアノードガラス２３面は、
正確にかつ未処理部を残すことなく雲すガラス状の不透
明部２５となる。この時、アノード電極２４はレジスト
３１により保護され、サンドプラスト処理によるダメー
ジを受けることはない。

その関係上、レジスト３１としては、強度の強いものを
用いるとともに、厚さを厚くしてもよい。

また、他の樹脂とハイブリット構成（下層が他の樹脂、
上層がレジストの２層構成）にするなどして、サンドプ
ラストに耐えるように形成することもできる。

このようにしてサンドプラスト処理を行ったならば、次
に水洗してアノードガラス２３に付着している砥粒など
を充分除去した後、第２図（ｆｌに示すように７ノード
電極２４上のレジスト３１を除去する。

その後は、アノードガラス２３の前記不透明部２５に隔
壁をスクリーン印刷方式で印刷形成することとなる。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、この発明によれば、アノー
ド電極相互間のアノードガラス面をサンドプラスト処理
により不透明部として、ｍ緑の直線性の良好なアノード
電極部分のみを発光領域としたので、アノードガラス面
での発光面積、延いては輝度を均一とすることができる
。また、この発明では、アノード電極をフォトリソ・エ
ッチング法で形成した後、前記エツチング時に使用した
マスクをγノード電極上に残した状態でサンドプラスト
処理することにより、アノード電極を充分に保護しつつ
、アノード電極相互間のアノードガラス面を余すことな
く正確に不透明化処理できる。

さらに、このサンドプラストによる不透明化処理によれ
ば、単にサンドプラストだけを追加して行えばよいので
あるから、輝度の均一化を図る上で、マスク膜形成法と
比較して、工程の短縮、価格の低減および歩留りの向上
を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のプラズマディスプレイの一実施例を
示す構造断面図、第２図はこの発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の一実施例を示す工程断面図、第３図は
従来のプラズマディスプレイの一例を示す平面図、斜視
図および断面図、第４図は隔壁をアノードガラス側に形
成した従来のプラズマディスプレイの断面図、第５図は
スクリーン印刷方式におけるスクリーンと得られた隔壁
を示す平面図、第６図はマスク膜形成により輝度の均一
化を図ったプラズマディスプレイを示す断面図である。 ２３・・・アノードガラス、２４・・・アノード電極、
２５・・・不透明部、２６・・・隔壁、２４ａ・・・Ｉ
ＴＯ膜、３１・・・レジスト、３２・・・露光マスク、
３３・・・ノズル。 本発明一実施例の製造法 第２図 本発明−実施側の製造法 第２ 図 隔壁をアノードガラス側に形成したプラズマディスプレ
イ第４ 図 （ａ） 斜視図 （Ｃ） 従来のプラズマディスプレイの一例 第３図 マスク膜１こより譚度の均一化を図フたプラズマディス
プレイ第６図 （ｍ） （Ｃ） （ａ） スクリーン印刷方式におけるスクリーンと得られた隔壁
第５ 図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）アノード電極を有するアノードガラス側に、各セ
   ルを形成するための隔壁が設けられるプラズマディスプ
   レイにおいて、 アノード電極相互間のアノードガラス面はサンドプラス
   ト処理による不透明部とされ、 この不透明部に前記隔壁が形成されたことを特徴とする
   プラズマディスプレイ。
2. （２）アノード電極を有するアノードガラス側に、各セ
   ルを形成するための隔壁が設けられるプラズマディスプ
   レイの製造方法において、 アノードガラス面に、電極材料の被着とフォトリソ・エ
   ッチング工程によりアノード電極を形成する工程と、 その後、前記エッチング工程で用いたマスクをアノード
   電極上に残したままサンドプラスト処理し、アノード電
   極相互間のアノードガラス面を不透明部とする工程と、 その後、前記不透明部に隔壁を印刷形成する工程とを具
   備してなるプラズマディスプレイの製造方法。