WO2004113449A1

WO2004113449A1 - プラズマディスプレイパネル用転写フィルム並びにプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

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Publication number: WO2004113449A1
Application number: PCT/JP2004/008779
Authority: WO
Inventors: Jiro Takahashi; Hiroaki Mukai
Original assignee: Jsr Corporation
Priority date: 2003-06-17
Filing date: 2004-06-16
Publication date: 2004-12-29
Also published as: KR20060031630A; TW200503058A

Abstract

ガラスフリット、結着樹脂および可塑性付与物質を含有するガラスペースト組成物、その組成物からなる膜形成材料層を有する転写フィルム、そのフィルムから形成されたガラス焼結体からなる隔壁を具えたプラズマディスプレイパネルが提供される。上記ガラスペースト組成物を用いて得られる転写フィルムによれば、ドライフィルムとして十分な柔軟性が得られ、他方このフィルムをポストベークに付すことにより脆性を有する膜が形成されるため、この膜をサンドブラスト処理することにより、その一部を除去して所要の形態に加工することができるので、それを焼成することにより、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体例えばプラズマディスプレイ用の隔壁として有用なガラス焼結体が、比較的簡単に且つ確実に得られる。

Description

転写フィルム並びに

製造方法技術分野

本発明は、プラズマディスプレイパネルの隔壁などを形成するために好適なガラスペースト組成物、この組成物か明ら得られる転写フィルムおよびこの転写フィルムから得られるガラス焼結体よりなる田隔壁を具えた

ルおよびその製造方法に関する。従来の技術

最近において、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図 1は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「P D P」ともいう。）の断面形状を示す模式図である。この図において、 1および 2は、互いに対向するよう配置されたガラス基板、 3は隔壁であり、ガラス基板 1、ガラス基板 2および隔壁 3によって区画されることによりセルが形成されている。 4はガラス基板 1に固定された透明電極、 5は透明電極 4の抵抗を低下させるために当該透明電極 4上に形成されたバス電極、 6はガラス基板 2に固定されたァドレス電極、 7はセル内に保持された蛍光物質、 8は透明電極 4およびバス電極 5を被覆するようガラス基板 1の内面に形成された誘電体層、 9はァドレス電極 6を被覆するようガラス基板 2の内面に形成された誘電体層、 1 0は例えば酸化マグネシゥムよりなる保護膜である。

このような P D Pにおいて、隔壁 3はガラス焼結体により形成され、その幅は例えば 3 0〜6 0 ΠΙ、高さは例えば 1 0 0〜1 5 0 x mとされる。

隔壁 3を形成する方法としては、一般に、以下の方法が知られている。

( 1 ) ガラスフリット、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物（ガラスペースト組成物）を調製し、このガラスペースト組成物をスクリーン印刷によってガラス基板 1の表面に塗布して乾燥する工程を、複数回繰り返すことにより、所要の形態の隔壁形成材料層を形成し、次いで、この隔壁形成材料層を焼成することにより、当該隔壁形成材料層中の有機物質を除去してガラスフリットを焼結させる方法（以下、この方法を「スクリーン印刷法」という。）。

( 2 ) ガラスフリット、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物（ガラスペースト組成物）を調製し、このガラスべ一スト組成物をスクリーン印刷またはブレードコ一夕一等によってガラス基板 1の表面に塗布して乾燥することにより、隔壁形成材料層を得るための材料層形成用膜を形成し、この材料層形成用膜上にレジスト液を塗布またはドライフィルムレジストを転写し、露光処理および現像処理することにより、形成すべき隔壁の形態に対応する形態のレジスト層を形成し、その後、サンドブラスト装置により、主に材料層形成用膜における露出部分をサンドプラスト処理して当該部分を除去することにより、所要の形態の隔壁形成材料層を形成し、次いで、残存したレジスト層を隔壁形成材料層から剥離した後、隔壁形成材料層を焼成することにより、当該隔壁形成材料層中の有機物質を除去してガラスフリットを焼結させる方法（以下、この方法を「サンドブラスト法」という。）。

( 3 ) ガラスフリット、感光性樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物 (感光性ガラスペース卜組成物）を調製し、この感光性ガラスペースト組成物をスクリーン印刷またはブレードコーター等によってガラス基板 1の表面に塗布して乾燥することにより、隔壁形成材料層を得るための感光性材料層形成用膜を形成し、その感光性材料層形成用膜を露光処理および現像処理することにより、所要の形態の隔壁形成材料層を形成し、次いで、この隔壁形成材料層を焼成することにより、当該隔壁形成材料層中の有機物質を除去してガラスフリツトを焼結させる方法（以下、この方法を「感光性ペースト法」という。）。

( 4 ) ガラスフリット、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物（ガラスペースト組成物）を調製し、このガラスペースト組成物をスクリーン印刷またはプレードコ一夕一等によってガラス基板 1の表面に塗布して乾燥することにより、隔壁形成材料層を得るための材料層形成用膜を形成し、この材料層形成用膜をその上方から隔壁の形態に対応する形態の構造を有する型によって加圧することにより、所要の形態の隔壁形成材料層を形成し、次いで、この隔壁形成材料層を焼成することにより、当該隔壁形成材料層中の有機物質を除去してガラスフリットを焼結させる方法（以下、この方法を「加圧成形法」という。）。

ここに、ガラスペースト組成物を構成する結着樹脂としては、メチルセル口一ス、ェチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース誘導体、ポリビエルアルコール、ポリビニルプチラール、ポリエチレングリコール、ウレタン系樹脂、メラミン系樹旨などが知られており、これらのうち、ガラスフリツトの分散性、組成物の塗布特性、燃焼の容易性などの観点から、ェチルセルロースが好ましいとされている（例えば特開平 6— 3 2 1 6 1 9号公報参照)。

上記の方法のうち、加圧成形法は、簡単な工程により隔壁を形成することが可能であるが、精度の高い型を作製することが必要であること、ガラス基板の平坦性によって隔壁形成材料層の形状が大きく影響されることなど、隔壁の形成方法としての信頼性が未だ低い。

また、感光性ペースト法は、露光処理、現像工程が必要なことあるいは廃棄物の発生などが問題になる。

これに対して、サンドブラスト法は、現在、最も普及している方法であり、また、信頼性も高い方法である。然るに、このブスラト法においては、ガラスべ一スト組成物を塗布する方法として、スクリーン印刷法を利用せざるを得ないため、以下のような問題がある。

すなわち、ガラス基板 1上に形成する隔壁形成材料層の高さは、焼成工程における有機物質の除去に伴う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき隔壁 3の高さの 1 . 3〜2 . 0倍程度とすることが必要であり、例えば、隔壁 3の高さを 1 0 0 〜1 5 0 mとするためには、 1 3 0〜3 0 0 m程度の高さの隔壁形成材料層を形成することが必要である。

一方、前記ガラスペースト組成物をスクリーン印刷法により塗布する場合に、

1回の塗布処理によって形成される塗膜の厚さは 1 5〜2 5 m程度である。従つて、所定の高さの隔壁形成材料層を形成するためには、ガラス基板の表面に対して、当該ガラスペースト組成物を複数回（例えば 1 0〜2 0回）にわたり繰り返して塗布（多重印刷）することにより、材料層形成膜を形成することが必要である。

しかしながら、スクリーン印刷法による多重印刷によって材料層形成膜を形成する場合には、形成工程が長大となり、そればかりでなく、得られる隔壁形成材料層の高さにバラツキが生じるため、均一な高さを有する隔壁を形成することが困難である。

そして、サンドブラスト法において、スクリーン印刷法によって材料層形成膜を形成する場合における上記のような問題を解決する手段として、ガラスペースト組成物をドライフィルム化し、これをガラス基板上に転写することによって材料層形成膜を形成する方法が検討されている。

しかして、ドライフィルムは、その特性上、高い柔軟性を有するものであることが必要とされる。然るに、サンドブラスト法によって隔壁を形成するためには、材料層形成膜すなわちドライフィルムは、サンドブラスト処理によって容易に除去される程度の脆性を有するものであることが必要とされる。

以上のように、サンドブラスト法において、ガラスペースト組成物の代わりにドライフィルムを用いる場合には、当該ドライフィルムには、柔軟性および脆性という互いに相反する特性が必要となるため、このような方法を実用化することは困難であった。発明の開示

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その第 1の目的は、転写フィルムにしたときの柔軟性と、サンドブラス卜時の脆性が両立できるガラスペースト組成物および、当該組成物から得られる転写フィルムを提供することにある。

本発明の第 2の目的は、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体を、比較的簡単な工程により確実に形成することができる転写フィルムを提供することにある。本発明の第 3の目的は、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有し、比較的簡単な工程によって得られるガラス焼結体よりなる隔壁を具えたプラズマディスプレイパネルを提供することにある。

本発明の第 4の目的は、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体よりなる隔壁を比較的簡単な工程によって形成することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。

本発明のガラスペースト組成物は、ガラスフリット、結着樹脂および可塑性付与物質を含有することを特徴とする。

本発明のガラスペースト組成物は、ガラスフリットまたはガラスフリットと他の無機酸化物との合計 1 0 0重量部に対して結着樹脂 2〜1 5重量部を含有することが好ましい。

また、本発明のガラスペース卜組成物は、結着樹脂のガラス転移点（T g ) が 0〜9 0 °Cの範囲にあることが好ましい。

また、本発明のガラスべ一スト組成物は、結着樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Mw) が 1 0 0 , 0 0 0〜 3 , 0 0 0 , 0 0 0の範囲にあることが好ましい。

さらに、本発明のガラスペースト組成物は、可塑性付与物質が、下記式 ( 1 ) で表される化合物であることが好ましい。

(式中、 Rは水素原子またはメチル基であり、 nは 1 2または 1 3の数である。）

本発明の転写フィルムは、ガラスフリット、結着樹脂および可塑性付与物質が含有されてなる膜形成材料層を有することを特徴とする。

本発明のプラズマディスプレイパネルは、上記の転写フィルムを用いて形成されたガラス焼結体よりなる隔壁を具えてなることを特徴とする。本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、上記の転写フィルムにおける膜形成材料層をパネル基材に転写し、転写された膜形成材料層に対してボス卜べークを行い、サンドブラスト処理を行って目的とする形態の隔壁形成材料層を形成しそして当該隔壁形成材料層を焼成してガラス焼結体よりなる隔壁を形成する各工程を有することを特徴とする。

本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、ボストベークが、膜形成材料層中の結着樹脂の重量減少率が 3 0 %以下で、かつ、可塑性付与物質の分解または揮発する割合が 9 5 %以上となる条件で行われることが好ましい。上記の構成のガラスべ一スト組成物およびこれを用いて得られる転写フィルムによれば、転写フィルムにしたときの膜形成材料層に可塑性を付与するための可塑性付与物質が含有されているため、ドライフィルムとして十分な柔軟性が得られる。

また、膜形成材料層は、可塑性付与物質の分解または揮発に起因する熱重量減少のピークが、結着樹脂の分解に起因する熱重量減少のピークより相当に低い温度で現れるため、膜形成材料層を転写した後、可塑性付与物質の熱重量減少のピ —ク温度と結着樹脂の熱重量減少のピーク温度との間の温度範囲で、当該膜形成材料層に対してボストべ一クを行うことにより、結着樹脂の分解を進行させずに可塑性付与物質を確実に分解または揮発させることができ、これにより、膜形成材料層の柔軟性が失われる結果、脆性を有する膜が形成される。そのため、この膜をサンドブラスト処理することにより、その一部を除去して所要の形態に加工することができる。

従って、膜形成材料層の厚みを制御すると共に、サンドブラスト処理された膜を焼成することにより、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体が、比較的簡単な工程により確実に得られる。図面の簡単な説明

図 1は、交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。図 2は、本発明に係る転写フィルムの一例における膜形成材料層について熱重量分析を行ったときの T G曲線を示す図である。

図 3は、本発明に係る転写フィルムの他の例における膜形成材料層について熱重量分析を行つたときの T G曲線を示す図である。

図 4は、実施例 1に係る転写フィルムにおける膜形成材料層について熱重量分析を行ったときの T G曲線を示す図である。発明の好ましい実施の形態

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。

くガラスべ一スト組成物 >

本発明のガラスペースト組成物は、好ましくは、ガラスフリット、結着樹脂、可塑性付与物質および通常溶剤を含有してなる。ガラスペースト組成物の各構成成分は、後述する本発明の転写フィルムにおける膜形成材料層の各構成成分に対応するものである。

<転写フィルム >

本発明の転写フィルムは、ガラスフリット、結着樹および可塑性付与物質が含有されてなる膜形成材料層を有する。

この膜形成材料層は、 1 0 °C/分の昇温速度で熱重量分析を行ったときの T G 曲線において、 1 0 0〜4 0 0 °Cの間に熱重量減少のピークが多段階、好ましくは 2段階で現れるものであることが好ましい。この T G曲線において、最初（低温側）の熱重量減少のピークは、主として可塑性付与物質の分解または揮発に起因するものであり、 2つ目（高温側）の熱重量減少のピ一クは、主として結着樹脂の分解に起因するものである。

ここで、「熱重量減少のピークが 2段階で現れる」とは、図 2に示すように、温度が上昇するに従って、最初の熱重量減少のピーク P 1が現れた後、熱重量減少が停止し、その後、 2つ目の熱重量減少のピーク p 2が現れる場合、および、図 3に示すように、温度が上昇するに従つて、最初の熱重量減少のピーク p 1が現れた後、熱重量減少の速度が低下し、その後、熱重量減少の速度が上昇して 2 つ目の熱重量減少のピーク P 2が現れる場合の両方を含むことを意味する。このような条件を満足する膜形成材料層を得るためには、結着樹脂および可塑性付与物質として、 1 o °cz分の昇温速度で焼成した場合において、当該結着樹脂の重量減少率が 3 0 %となる温度 T _r (以下、単に「温度 T J という。）が、当該可塑性付与物質の 9 5 %が分解または揮発する温度 T _p (以下、単に「温度 Τ _ρ」という。）以上となるものを選択して用いればよい。また、温度 T _rと温度 T_pとの差（T _r一 Τ _ρ) は、 5 0〜2 0 0 °Cであることが好ましく、より好ましくは 8 0〜1 5 0 °Cである。

温度 T\が温度 T _pより低い場合には、膜形成材料層を転写した後に、当該膜形成材料層に対して、可塑性付与物質を十分に分解または揮発する温度条件でポストべ一クを行うと、結着樹脂の分解が相当に進行するため、発煙などが発生する結果、排気等に問題が生じ、一方、結着樹脂の分解が進行しない温度条件でポストべ一クを行うと、相当な量の可塑性付与物質が残存するため、当該膜形成材料層の柔軟性が失われず、その結果、サンドブラスト処理によって所期の形態に加工することが困難となる。

以下、本発明の転写フィルムを構成する材料について具体的に説明する。

《支持フィルム》

本発明の転写フィルムは、膜形成材料層を支持する支持フィルムを有する。この支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フイルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、口一ルコ一夕一、ブレードコ一ターなどによって支持フィルムの表面に膜形成材料組成物を塗布することができ、得られる転写フィルムをロール状に巻回した状態で保存しまたは供給することができる。

支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフ夕レート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。

支持フィルムの厚みは、例えば 2 0〜1 0 0 mである。

また、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ガラス基板への転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。

《膜形成材料層》

膜形成材料層は、ガラスフリットと、結着樹脂と、可塑性付与物質と、必要に応じて用いられるその他の成分とを含有してなる。

(1) ガラスフリット：

膜形成材料層を構成するガラスフリットとしては、その軟化点が 400〜60 o の範囲内にあるものを用いることが好ましい。

ガラスフリットの軟化点が 400°C未満である場合には、得られる膜形成材料層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラスフリッ卜が溶融して形成される隔壁中に有機物質の一部が残留し、これにより、得られるプラズマディプレイパネル内にアウトガスが拡散する結果、蛍光体の寿命を低下させる恐れがある。一方、ガラスフリットの軟化点が 600°C を超える場合には、得られる膜形成材料層を 600°Cより高温で焼成する必要があるために、当該膜形成材料層の被転写体であるガラス基板に歪みなどが発生しやすい。

好適なガラスフリットの具体例としては、酸化鉛、酸ィ匕ホウ素、酸化ケィ素おょぴ化カルシウム（Pb〇一 B₂〇₃— S i 0₂_C a〇）系、酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化ゲイ素（Zn〇一 B₂〇₂— S i〇₂) 系、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケィ素および酸化アルミニウム（Pb〇一 B₂0₃— S i〇₂— A 1₂〇₃) 系、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化ケィ素（PbO— Zn〇_B₂〇₃— S i 0₂) 系、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケィ素および ¾ィ匕チタン (PbO— ZnO— B₂0₃— S i 0₂— T i〇₂) 系などを挙げることができる。また、これらの物質に、例えば化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガンなどの無機酸ィ匕物を混合してガラスフリットとして使用してもよい。

また、ガラスフリットの平均粒子径は 0. 5〜2. 5 mであることが好ましい。

ガラスフリットには、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケィ素、酸化セリウム、酸化コバルトなどの、ガラスフリット以外の無機酸化物を混合して使用してもよい。混合する無機酸化物の含有量は、好ましくは無機粉体全量（ガラスフリット +無機酸化物）の

4 0重量％以下である。

( 2 ) 結着樹脂：

膜形成材料層を構成する結着樹脂としては、ァクリル樹脂を用いることが好ましい。結着樹脂としてアクリル樹脂が含有されていることにより、当該膜形成材料層には、ガラス基板に対する優れた（加熱）接着性が発揮される。従って、得られる転写フィルムは、膜形成材料層の転写性（ガラス基板への転写性）に優れたものとなる。

かかるアクリル樹脂としては、適度な粘着性を有してガラスフリツトを結着させることができ、膜形成材料層の焼成処理温度例えば 4 0 0〜6 0 0 °Cによって完全に酸化除去される（共）重合体の中から選択される。かかるアクリル樹脂には、下記式（2 ) で表される（メタ）ァクリレート化合物の単独重合体、下記式 ( 2 ) で表される（メタ）ァクリレート化合物の 2種以上の共重合体、および下記式（2 ) で表される（メタ）ァクリレ一卜化合物と他の共重合性単量体との共重合体が含まれる。

R¹

H₂C=C— COOR² ( ² )

一般式 ( 2 ) において、 R ¹は水素原子またはメチル基等を示しそして R ²は 1価の有機基を示す。

上記式（2 ) で表される（メタ）ァクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）ァクリレート、ェチル (メタ) ァクリレート、プロピル（メタ）ァクリレート、イソプロピル（メタ）ァクリレート、ブチル（メタ）ァクリレート、イソブチル（メタ）ァクリレート、 t一ブチル（メタ）ァクリレート、ペンチル (メタ）ァクリレート、ァミル（メタ）ァクリレート、イソアミル（メタ）ァクリレ一ト、へキシル（メタ）ァクリレー卜、ヘプチル（メタ）ァクリレート、ォクチル（メタ）ァクリレー卜、イソォクチル（メタ）ァクリレート、ェチルへキシル（メタ）ァクリレート、ノニル（メタ）ァクリレ一ト、デシル（メタ）ァクリレー卜、イソデシル (メタ) ァクリレート、ゥンデシル (メタ) ァクリレート、ドデシル（メタ）ァクリレート、ラウリル（メタ）ァクリレート、ステアリル (メタ) ァクリレート、イソステアリル (メタ) ァクリレートなどのアルキル (メタ）ァクリレート；

ヒドロキシェチル（メタ）ァクリレート、 2—ヒドロキシプロピル（メタ）ァクリレート、 4—ヒドロキシブチル（メタ）ァクリレ一卜、 3—ヒドロキシプロピル（メタ）ァクリレート、 2—ヒドロキシブチル（メタ）ァクリレート、 3— ヒドロキシブチル (メタ) ァクリレートなどのヒドロキシアルキル (メタ) ァクリレ一卜；

フエノキシェチル（メタ）ァクリレート、 2—ヒドロキシー 3—フエノキシプ口ピル (メタ) ァクリレートなどのフエノキシアルキル (メタ）ァクリレー卜； 2—メトキシェチル（メタ）ァクリレ一ト、 2—エトキシェチル（メタ）ァクリレート、 2—プロポキシェチル（メタ）ァクリレート、 2—ブトキシェチル (メタ) ァクリレート、 2—メトキシブチル (メタ) ァクリレートなどのアルコキシアルキル（メタ）ァクリレート；

ポリエチレングリコールモノ（メタ）アタリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）ァクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）ァクリレート、フエノキシポリエチレングリコール（メタ）ァクリレート、ノニルフエノキシポリエチレングリコール（メタ）ァクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）ァクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）ァクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）ァクリレート、ノニルフエノキシポリプロピレングリコール（メタ）ァクリレートなどのポリアルキレングリコール（メタ）ァクリレート；

シクロへキシル (メタ) ァクリレート、 4一プチルシクロへキシル (メタ） 7 クリレート、ジシクロペン夕ニル (メタ) ァクリレート、ジシクロペンテニル

(メタ）ァクリレート、ジシクロペンタジェニル（メタ）ァクリレート、ポル二ル（メタ）ァクリレート、イソポルニル（メタ）ァクリレート、トリシクロデカニル（メタ）ァクリレ一トなどのシクロアルキル（メタ）ァクリレート；

ベンジル（メタ）ァクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）ァクリレートなどを挙げることができる。

これらのうち、上記式（2 ) 中、 R ²で示される基が、アルキル基またはォキシアルキレン基を含有する基であることが好ましい。特に好ましい（メタ）ァクリレート化合物として、メチル（メタ）アタリレー卜、ブチル (メタ) ァクリレート、ェチルへキシル (メタ) ァクリレート、ラウリル（メタ）ァクリレート、イソデシル (メタ) ァクリレートおよび 2—エトキシェチル (メタ) ァクリレートを挙げることができる。

(メタ）ァクリレート化合物との共重合に供される他の共重合性単量体としては、上記（メタ）ァクリレート化合物と共重合可能な化合物であれば特に制限はない。例えば（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビニルフ夕ル酸などの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルェ一テル、ビニルダリシジルエーテル、スチレン、ひーメチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物を挙げることができる。

膜形成材料層を構成する結着樹脂としてアクリル樹脂を用いる場合において、当該アクリル樹脂は、上記式 ( 2 ) で表される（メタ）ァクリレート化合物に由来する共重合成分が、好ましくは 7 0重量％以上、より好ましくは 9 0重量％以上、さらに好ましくは 1 0 0重量％のものである。

結着樹脂の T gは、 0〜9 0 °Cの範囲にあることが好ましく、 1 0〜8 0 °Cの範囲にあることがより好ましく、 3 0〜6 0 °Cの範囲にあることが特に好ましい。結着樹脂の T gが低すぎると隔壁の形成工程においてボストべ一ク後の結着樹脂の柔軟性が大きく、脆性の発現が不充分になりサンドブラスト工程にかかる時間が著しく長くなつてしまう。また結着樹脂の T gが高すぎると転写フィルムにしたときの可撓性が不足し、転写性が不足したり膜形成材料層表面に亀裂が生じたりする場合がある。結着樹脂の Tgが上記の範囲内に入っていることにより、ポストベーク前の転写フィルムの柔軟性と、ボストべ一ク後の脆性が両立でき例えばサンドプラス卜法による隔壁形成用の転写フィルムとして優れた特性を発現することができる。

膜形成材料層を構成する結着樹脂の分子量としては、 GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量（以下、「Mw」ともいう）が、好ましくは、 2， 00 0〜3, 000, 000の範囲であり、 100, 000〜 3, 000, 000の範囲にあることがより好ましく、 150， 000〜2，000， 000の範囲にあることが特に好ましい。結着樹脂の Mwが小さすぎると転写フィルムにしたときのフィルム保持性（バインダー性）が不足し、膜形成材料層がフィルムとしての形態を保持できない場合がある。また、結着樹脂の Mwが大きすぎると、フィルム柔軟性が不足し、転写性が不足したり膜形成材料層表面に亀裂が生じたりする場合がある。結着樹脂の合成方法としては、 Mwが 300, 000以下の場合は溶液重合法、 300, 000以上の場合は乳化重合法が好適に用いられる。

膜形成材料層における結着樹脂の含有割合は、ガラスフリットを含む無機粉体 100重量部に対して、好ましくは、 1〜40重量部であり、より好ましくは 2 〜15重量部、さらに好ましくは 5〜10重量部である。無機粉体に対し結着樹脂の含有量が少なすぎると転写フィルム (こしたときの可撓性が不足し、フィルム形態を保持できなかったり、転写性が不足したりする。また結着樹脂の含有量が多すぎるとボストベーク後の脆性の発現が不充分になりサンドプラスト工程にかかる時間が著しく長くなつてしまう。結着樹脂の含有量が無機粉体 100重量部に対して 2〜15重量部であることにより、ポストべーク前の転写フィルムの柔軟性と、ボス卜べ一ク後の脆性が両立でき例えばサンドプラスト法による隔壁形成用として特に優れた特性を発現することができる。

(3) 可塑性付与物質：

膜形成材料層を構成する可塑性付与物質は、当該膜形成材料層に良好な柔軟性を与えるために含有されるものである。この可塑性付与物質が含有されることにより、膜形成材料層はドライフィルムとして十分な柔軟性を有するものとなる。これにより、当該転写フィルムは、これを折り曲げても膜形成材料層の表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生することがなく、また、ロール状に容易に巻き取ることが可能なものとなる。

かかる可塑性付与物質としては、下記式（1 ) で表される化合物、下記式 ( 3 ) で表される化合物および下記式（4 ) で表される化合物よりなる群から選ばれた可塑剤、ポリプロピレングリコール、あるいは前述した（メタ）ァクリレ —ト化合物等の共重合性単量体および後述する溶剤のうち沸点が 1 5 0 °C以上のものを用いることが好ましく、これらは単独でまたは 2種以上を組み合わせて使用することができる。これらのうち、下記式（1 ) で表される化合物が特に好ましい。

R

H₂C=C― COO― Ο_ηΗ_(2η. ( 1 ) 式中、 Rは水素原子またはメチル基でありそして ηは 1 2または 1 3の数である _c

( 3 )

式中、 R ³および R ⁶は、それぞれ独立して炭素数が 1〜3 0の 1価の鎖式炭化水素基を示し、 R ⁴および R ⁵は、それぞれ独立してメチレン基または炭素数が 2〜3 0の 2価の鎖式炭化水素基を示し、 sは 0〜 5の整数でありそして tは 1〜1 0の整数である。 (4)

式中、 R ⁷は炭素数が 1〜 3 0の 1価の鎖式炭化水素基を示す。

上記式（1 ) における Rは、水素原子またはメチル基であり、特にメチル基が好ましい。また、上記式 ( 1 ) における nは 1 2または 1 3の数を示す。 nの値が 1 2より小さい場合には、転写フィルムとした場合の柔軟性が不十分となる場合があり、 nの値が 1 3より大きい場合には、隔壁を形成した場合にポストべ一クによって十分に分解または揮発されないおそれがあり、その結果、ポストべ一ク後の脆性の発現が不十分になってサンドプラスト工程にかかる時間が著しく長くなつてしまうおそれがある。

また、上記式 ( 3 ) において、 R ³または R ⁶で示される 1価の鎖式炭ィヒ水素基、並びに； ⁴または R ⁵で示される 2価の鎖式炭化水素基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、また、アルキル基またはアルキレン基（飽和基）であつてもアルケニル基またはアルケニレン基（不飽和基）であってもよい。

また、 R ³または; R ⁶で示される鎖式炭化水素基の炭素数は 1 ~ 3 0であり、好ましくは 2〜2 0、さらに好ましくは 4〜1 0である。この鎖式炭化水素基の炭素数が 3 0を超える場合には、後述する溶剤に対する溶解性が低いものとなるため、得られる膜形成材料層に良好な柔軟性を与えることが困難となることがある。

上記式（1 ) で表される化合物の具体例としては、イソデシルメタクリレート、イソデシルァクリレート、ラウリルメタクリレート、ラウリルァクリレートが挙げられ、特にィソデシルメタクリレートおよびラゥリルメタクリレー卜が好ましい。

上記式（3 ) で表される化合物の具体例としては、ジブチルアジペート、ジィソブチルアジペート、ジー 2—ェチルへキシルアジぺート、ジー 2—ェチルへキシルァゼレ一ト、ジブチルセバゲ一ト、ジブチルジグリコールアジペートなどが挙げられる。

上記式（4) において、 R ⁷で示される 1価の鎖式炭ィ匕水素基は、直鎖状であつても分岐状であってもよく、また、アルキル基（飽和基）であってもアルケニル基（不飽和基）であってもよい。

また、 R ⁷で示される鎖式炭化水素基の炭素数は、 1〜3 0であり、好ましくは 2〜2 0、さらに好ましくは 1 0〜1 8である。

上記式（4) で示される化合物の具体例としては、プロピレングリコールモノラウレート、プロピレングリコ一ルモノォレートなどが挙げられる。

また、可塑性付与物質としてポリプロピレングリコールを用いる場合には、当該ポリプロピレングリコールの重量平均分子量（Mw) は、 2 0 0〜 3 , 0 0 0 の範囲にあることが好ましく、 3 0 0〜2， 0 0 0の範囲にあることが特に好ましい。この重量平均分子量 Mwが 2 0 0未満である場合には、膜強度の大きい膜形成材料層を支持フィルム上に形成することが困難になる場合があり、当該膜形成材料層を支持フィルムからガラス基板に転写する工程において、ガラス基板に加熱接着された膜形成材料層から支持フィルムを剥離する際に、当該膜形成材料層の凝集破壊を起こすことがある。一方、この重量平均分子量 Mwが 3 , 0 0 0 を超える場合には、被転写体であるガラス基板との加熱接着性が良好な膜形成材料層が得られない場合がある。

膜形成材料層における可塑性付与物質の含有割合は、当該膜形成材料層を構成する材料全体の 3重量％以上であることが好ましく、より好ましくは 4〜1 5重量％である。可塑性付与物質の含有割合が過小である場合には、膜形成材料層に良好な柔軟性を与えることが困難となる場合がある。

( 4) その他の成分：

本発明の転写フィルムにおいては、ガラスフリットの分散性の向上および膜形成材料層の可塑化の向上を目的として、膜形成材料層中にシランカツプリング剤が含有されていてもよい。かかるシランカップリング剤としては、下記式（5 ) で表される化合物〔飽和アルキル基含有（アルキル）アルコキシシラン〕が好ましい

式中、 pは 3〜2 0の整数、 mは 1〜3の整数、 nは 1〜 3の整数そして aは 1〜 3の整数である。

上記式（5 ) において、飽和アルキル基の炭素数を示す pは 3〜2 0の整数であり好ましくは 4〜1 6の整数である。

この pの値が 3未満である飽和アルキル基含有 (アルキル) アルコキシシランを含有させても、得られる膜形成材料層において十分な可撓性が発現されない場合がある。一方、この pの値が 2 0を超える飽和アルキル基含有（アルキル）ァルコキシシランは分解温度が高く、得られる膜形成材料層の焼成工程において、有機物質（前記シラン誘導体）が完全に分解除去されない段階でガラスフリットが溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層の光透過率が低下する場合がある。

上記式 ( 5 ) で表されるシランカップリング剤の具体例としては、 n—プロピルジメチルメトキシシラン、 n _プチルジメチルメトキシシラン、 n—デシルジメチルメトキシシラン、 n—へキサデシルジメチルメトキシシラン、 n—ィコサンジメチルメトキシシランなどの飽和アルキルジメチルメトキシシラン類 ( a = 1 , m— 1 , η = 1 )；

η—プロピルジェチルメトキシシラン、 η—ブチルジェチルメトキシシラン、 η—ィコサンジェチルメトキシシランなどの飽和アルキルジェチルメトキシシラン類（ a = 1， m= 1 , n = 2 )； n—へキサデシルジプロピルメトキシシラン、 n—ィコサンジプロピルメトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルメトキシシラン類（a = l， m=l, n: 3)；

n—ィコサンジェチルェトキシシランなどの飽和アルキルジェチルェトキシシラン類（a - 1， m=2， n = 2)；

n—へ干 trアンルンノ口じルェ |、干ンンフン、 nーィコサンジフ口ピルエトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類（a=l, m=2, n = 3)；

n—プロピルジメチルプロボキシシラン、 n—ブチルジメチルプロポキシシラン、 n—デシルジメチルプロボキシシラン、 n—へキサデシルジメチルプロポキシシラン、 n—ィコサンジメチルプロボキシシランなどの飽和アルキルジメチルプロボキシシラン類 (a= 1, m=3， n = 1 )；

n—プロピルジェチルプロボキシシラン、 n—ブチルジェチルプロポキシシラン、 n—デシルジェチルプロボキシシラン、 n—へキサデシルジェチルプロポキシシラン、 n—ィコサンジェチルプロボキシシランなどの飽和アルキルジェチルプロボキシシラン類（a=l， m=3, n = 2)；

n -ブチルジプロピルプロポキシシラン、 n一デシルジプロピルプロポキシシラン、 n—へキサデシルジプロピルプロボキシシラン、 n—ィコサンジプロピルプロボキシシランなどの飽和アルキルジプロピルプロボキシシラン類（a= 1， m=3, n = 3)；

n—プロピルメチルジメ卜キシシラン、 η-' n—ィコサンメチルジメトキシシランなどの飽和アルキルメチルジメ

ン類（ a = 2， m= 1， n = 1 )；

n—プロピルェチルジメトキシシラン、 n—プチルェチルジメトキシシラン、 n—ィコサンェチルジメトキシシランなどの飽和アルキルェチルジメ

ン類（ a = 2 , m= 1 , n= 2)；

n—プチルプロピルジメトキシシラン、

シランなどの飽和アルキルプ口ピルジメトキシシラン類（a = 2， m:

3)

ン類（ a = 2 , m= 2 , n= 1)；

nーィコサンェチルジェトキシシランなどの飽和アルキルェチルジェトキシシラン類（a = 2, m=2, n = 2)；

シランなどの飽和アルキルプロピルジェトキシシラン類（a = 2, m=2, n = 3)；

n—プロピルメチルジプロボキシシラン、 n—ブチルメチルジプロボキシシラン、 n一デシルメチルジプロポキシシラン、 n一へキサデシルメチルジプロポキシシラン、 n—ィコサンメチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルメチルジプロボキシシラン類（a = 2， m=3, n= 1) ；

n—プロピルェチルジプロポキシシラン、 n—ブチルェチルジプロポキシシラン、 n—デシルェチルジプロボキシシラン、 n—へキサデシルェチルジプロポキシシラン、 n—- )飽和アルキルェチルジプロポキシシラン類（a = 2， m= 3 , n= 2 ) ；

n—ブチルプロピルジプロボキシシラン、 n—- ラン、 n—へキサデシルプロピルジプロボキシシラン、 n—ィコサンプロピルジプロボキシシランなどの飽和アルキルプ口ピルジプロボキシシラン類（a = 2 , m= 3 , n = 3 ) ；

n—プロピルトリメトキシシラン、 n—プチルトリメトキシシラン、 n—デシルトリメトキシシラン、 n—へキサデシルトリメトキシシラン、 n—ィコサントリメトキシシランなどの飽和アルキルトリメトキシシラン類（a = 3， m= 1 ) ；

n—プロピルトリエトキシシラン、 n一ブチルトリエトキシシラン、 n—デシルトリエトキシシラン、 n―へキサデシルトリエトキシシラン、 n—ィコサントリエトキシシランなどの飽和アルキルトリエトキシシラン類（a = 3 , m= 2 ) ；

n—プロピルトリプロポキシシラン、 n—ブチルトリプロポキシシラン、 n— デシルトリプロポキシシラン、 n—へキサデシルトリプロポキシシラン、 n—ィコサントリプロポキシシランなどの飽和アルキルトリプロポキシシラン類（ a = 3， m= 3 ) などを挙げることができる。これらは、単独でまたは 2種以上を組み合わせて使用することができる。

チルトリプロボキシシラン、 n—デシルトリプロボキシシラン、 n—へキサデシルトリプロボキシシランなどが特に好ましい。 .

膜形成材料層におけるシラン力ップリング剤の含有割合は、ガラスフリット 1 0 0重量部に対して、 0 . 0 0 1〜 1 0重量部であることが好ましく、さらに好ましくは 0. 0 0 1〜 5重量部である。シラン力ップリング剤の割合が過小である場合には、ガラスフリツ卜の分散安定性の向上効果、形成される膜形成材料層における可撓性の向上効果を十分に発揮させることができない。一方、この割合が過大である場合には、得られるガラスペース卜組成物を保存する際に粘度が経時的に上昇したり、シランカップリング剤同士で反応が起こり、焼成後の光透過率を下げる原因になったりする場合がある。

《カバーフィルム》

本発明の転写フィルムにおいては、膜形成材料層の表面を保護するために当該膜形成材料層の表面上にカバーフィルムが設けられていてもよい。このカバーフイルムは、可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。これにより、得られる転写フィルムをロール状に巻回した状態で保存しまたは供給することができる。

カバーフィルムを構成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフ夕レートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。

〈転写フィルムの製造方法〉

本発明の転写フィルムは、膜形成材料層を構成する材料、すなわちガラスフリット、結着樹脂、可塑性付与物質および必要に応じて用いられるその他の成分と、溶剤とを含有するガラスペースト組成物を調製し、このガラスペースト組成物を支持フィルム上に塗布し、得られる塗布膜を乾燥することにより、膜形成材料層を形成し、必要に応じて膜形成材料層の表面上にカバ一フィルムを密着して配置することによって、得られる。

《溶剤》

ガラスペースト組成物を構成する溶剤としては、ガラスフリットとの親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、ガラスペースト組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。

また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（1気圧における沸点）が 6 0〜2 o o °cであるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げることができる。

かかる特定溶剤の具体例としては、メチルェチルケトン、ジェチルケトン、メチルプチルケトン、ジプロピルケトン、シクロへキサノンなどのケトン類； n— ペン夕ノール、 4—メチルー 2—ペンタノ一ル、シクロへキサノール、ジァセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコ一ルモノメチルエーテル、 X チレングリコールモノェチルエーテル、ェチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノェチルェ一テルなどのェ一テル系アルコール類；酢酸一 n—プチル、酢酸ァミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸ェチル、乳酸—n—ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセ口ソルブァセテート、ェチルセ口ソルブァセテート、プロピレングリコールモノメチルェ一テルアセテート、ェチルー 3—ェトキシプロビオネ一トなどのエーテル系エステル類などを挙げることができ、これらの中では、メチルブチルケトン、シクロへキサノン、ジアセトンアルコール、ェチレングリコ一ルモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ェチル、ェチルー 3—エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは 2種以上を組み合わせて使用することができる。また、特定溶剤以外の使用可能な溶剤の具体例としては、テレビン油、ェチルセ口ソルブ、メチルセ口ソルブ、テルピネオール、プチルカルビトールアセテート、プチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。

ガラスペースト組成物における溶剤の含有割合としては、当該ガラスペースト組成物の粘度を好適な範囲に維持する観点から、ガラスフリット 1 0 0重量部に対して、 5〜5 0重量部であることが好ましく、さらに好ましくは 1 0〜4 0重量部とされる。

また、全溶剤に対する特定溶剤の含有割合は、 5 0重量％以上であることが好ましく、さらに好ましくは 7 0重量％以上とされる。

ガラスペースト組成物は、上記ガラスフリット、結着樹脂、可塑性付与物質、 P T/JP2004/008779

23

溶剤および必要に応じて用いられるその他の成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、サンドミルなどの混練 ·分散機を用いて混練することにより調製することができる。

ここで、ガラスペースト組成物の粘度は、例えば 0 . 3〜3 0 P a * sであることが好ましい。

ガラスべ一スト組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性が高くかつ膜厚力大きい（例えば 2 0 / m以上の）塗膜を高い効率で形成することができるものであることが好ましく、具体的には、口一ルコ一ターによる塗布方法、ブレードコ一夕一による塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤ一コ一ターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。膜形成材料層の膜厚は、形成すべき隔壁の高さにもよるが、好ましくは 1 0 0〜 5 0 0 τη, より好ましくは 1 5 0〜 4 0 0 x mである。

本発明の転写フィルムによれば、膜形成材料層中に、当該膜形成材料層に可塑性を付与するための可塑性付与物質が含有されているため、ドライフィルムとして十分な柔軟性が得られる。

また、膜形成材料層は、熱重量分析を行ったときの T G曲線において、熱重量減少のピークが 2段階で現れる、すなわち可塑性付与物質の分解または揮発に起因する熱重量減少のピークが、結着樹脂の分解に起因する熱重量減少のピークより相当に低い温度で現れるものであるため、膜形成材料層を転写した後、可塑性付与物質の熱重量減少のピーク温度と結着樹脂の熱重量減少のピーク温度との間の温度範囲で、当該膜形成材料層に対してポストべ一クを行うことにより、結着榭脂の分解を進行させずに可塑性付与物質を確実に分解または揮発させることができ、これにより、膜形成材料層の柔軟性力失われる結果、脆性を有する膜が形成される。そのため、この膜をサンドブラスト処理することにより、その一部を除去して所要の形態に加工することができる。

従って、膜形成材料層の厚みを制御すると共に、サンドブラスト処理された膜を焼成することにより、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体が、比較的簡単な工程により確実に得られる。本発明のプラズマディスプレイパネルは、例えば図 1に示すような構成を有するものであり、その隔壁が上記の転写フィルムによって得られるガラス焼結体により形成されている。

このようなプラズマディスプレイパネルによれば、隔壁を形成するガラス焼結体が上記の転写フィルムによって形成されているため、当該隔壁は、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するものとなり、しかも、比較的簡単な工程によって得ることができる。

〈プラズマディスプレイパネルの製造方法〉

本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、上記の転写フィルムを用い、例えば以下のように,してガラス焼結体よりなる隔壁を形成する。先ず、転写フィルムにおけるカバーフィルムを膜形成材料層の表面から剥離し、その後、ガラス基板の表面に、膜形成材料層の表面が接するよう転写フィルムを重ね合わせる。

次いで、加熱口一ルによって膜形成材料層をガラス基板に熱圧着し、その後、膜形成材料層から支持フィルムを剥離することにより、膜形成材料層をガラス基板上に転写する。

ここで、加熱ロールによる熱圧着条件としては、例えば加熱ロールの温度が 5 0〜1 3 0 °Cで、ロール圧が l〜4 k gZ c m²、加熱ロールの移動速度が 0 . 5〜5 mZ分である。

次いで、転写された膜形成材料層に対してポストべークを行うことにより、当該膜形成材料層中の可塑性付与物質を除去し、これにより、隔壁形成材料層を得るための材料層形成用膜を形成する。

ここで、ポストべークは、膜形成材料層中の結着樹脂の重量減少率が 3 0 %以下で、かつ、可塑性付与物質の分解または揮発する割合が 9 5 %以上となる条件下で行われることが好ましい。具体的な条件は、用いられる結着樹脂および可塑性付与物質の種類に応じて設定される。例えば処理温度が 1 0 0〜3 0 0 °C、処理時間が 1 5〜1 2 0分間である。このようにして形成された材料層形成用膜上にレジスト液を塗布またはドライフィルムレジストを転写し、露光処理および現像処理することにより、形成すベき隔壁の形態に対応する形態のレジスト層を形成し、その後、サンドブラスト装置により、主に材料層形成用膜における露出部分をサンドブラスト処理して当該部分を除去することにより、所要の形態の隔壁形成材料層を形成する。

次いで、残存したレジスト層を隔壁形成材料層から剥離し、その後、隔壁形成材料層を焼成することにより、当該隔壁形成材料層中の有機物質（結着樹脂等）を分解除去すると共にガラスフリットを溶融して焼結させる。

ここで、隔壁形成材料層の焼成条件は、用いられる結着樹脂およびガラスフリットの種類に応じて設定されるが、例えば処理温度が 5 0 0〜6 5 0 °C、処理時間が 5〜9 0分間である。

このような方法によれば、転写された膜形成材料層に対し、膜形成材料層中の結着樹脂の重量減少率が 3 0 %以下で、かつ、可塑性付与物質の分解または揮発する割合が 9 5 %以上となる条件下でボス卜べークを行うため、当該ボストベークにおいて、発煙を防止または抑制した状態で、膜形成材料層中の可塑性付与物質を除去して脆性を有する材料層形成膜を形成することができる。そして、材料層形成膜に対してサンドプラスト処理を行い、得られる隔壁形成材料層を焼成することにより、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体よりなる隔壁を形成することができる。実施例

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。

また、下記の実施例および比較例において使用した材料は、次の通りである。

[ガラスフリット]

D T Aによる軟化転移点が 4 6 0 °Cで、平均粒子径が 1 . 3 mの P b O— B ₂0₃— S 1 0₂—八1 ₂0₃— 1^ 0₃系物質ょりなるもの（旭硝子（株）製） [結着樹脂] TJP2004/008779

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結着樹脂（a)：

—トとを、重量比でイソプチルメタクリレー

ートが 90/10となる割合で共重合させて得られたアクリル樹脂（温度 T_r = 330。C，ガラス転移点 T g = 40 °C，重量平均分子量 Mw二 130, 000), 結着樹脂（b)：メチルメタクリレートとブチルメタクリレートとを、重量比でメチルメタクリレート Zブチルメタクリレートが 10Z90となる割合で共重合させて得られたアクリル樹脂（温度 T_r=300°C，ガラス転移点 Tg=5 5°C, Mw= 170, 000)，

結着樹脂（c)：ポリブチルメタクリレート（温度 T_r==290°C，ガラス転移点 Tg = 40° (：、 Mw=270， 000)

結着樹脂（d)：ベンジルメタクリレートとヒドロキシェチルメタクリレートとを、重量比でベンジルメタクリレート/ヒドロキシェチルメタクリレートが 9 0 10となる割合で共重合させて得られたアクリル樹脂（T_r=310°C, T g - 55 °C, Mw= 140, 000)，

結着樹脂（e) ：イソプチルメタクリレートとヒドロキシプロピルメタクリレ —トとを、重量比でィソプチルメタクリレート Zヒドロキシプロピルメ夕クリレートが 90/10となる割合で共重合させて得られたアクリル樹脂（1\=33 0。C， T = 40°C, Mw=230, 000),

結着樹脂（f) ：メチルメタクリレートとヒドロキシェチルメタクリレートとを、重量比でメチルメタクリレート Zヒドロキシェチルメタクリレートが 90Z 10となる割合で共重合させて得られたアクリル樹脂（1\=310°C， Tg = 90。C， Mw= 190, 000),

結着樹脂 (g) ： 2—ェチルへキシルメタクリレートとヒドロキシェチルメ夕クリレートとを、重量比でメチルメタクリレー卜/ヒドロキシェチルメタクリレ —卜が 80/20となる割合で共重合させて得られたアクリル樹脂（1\==32 0°C, Tg=5。C， Mw= 470, 000) 上記 Mwは、東ソー株式会社製ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー（G P T脑 04/008779

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PC) (商品名 HLC— 802 A) により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。また Tgは、示差走査熱量計（DSC :デュポン社製）を用い、 A STM法に準じて測定した値を用いた。

[可塑性付与物質]

可塑性付与物質（a)：ポリプロピレングリコール（温度 T_p=250°C，重量平均分子量 Mw=400)，

可塑性付与物質（b)：ジー 2—ェチルへキシルァゼレート（温度 T_p==33 0°C)，

可塑性付与物質（c) ：ラウリルメタクリレート（温度 T_P=200°C，一般式（1) の n= 12)

可塑性付与物質（d) ：イソデシルメタクリレート（温度 T_P=2 10°C、式 (1) の n=l 3))

[シランカップリング剤] [溶剤]

プロピレングリコールモノメチルェ一テル

実施例 1

(1) ガラスペースト組成物の調製：

ガラスフリット 100重量部と、結着樹脂 (a) 5重量部と、可塑性付与物質 (a) 10重量部と、シランカップリング剤 1重量部と、溶剤 20重量部とを、分散機を用いて混練することにより、粘度が 2， 000 c pであるガラスペースト組成物を調製した。

(2) 転写フィルムの製造：

上記（1) で調製したガラスペースト組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（PET) よりなる支持フィルム（幅 400mm, 長さ 30m，厚み 38 rn) 上にロールコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を 100°C で 5分間加熱することにより溶剤を除去し、これにより、厚みが 250 / mの膜形成材料層が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルムを製造した。この転写フィルムにおける膜形成材料層中の可塑性付与物質の割合は、 1 0重量％である。

この転写フィルムについて、膜形成材料層の表面状態を顕微鏡を用いて観察したところ、ガラスフリットの凝集物、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥は認められなかた。

また、膜形成材料層について、測定温度が 3 0〜6 0 0 ° (、昇温速度が 1 0 °C Z分、リファレンスがアルミナの条件下で熱重量分析を行った。その結果を図 4 に示す。

( 3 ) 膜形成材料層の転写：

2 0インチパネル用のガラス基板の表面に、膜形成材料層の表面が当接されるよう、上記（2 ) で製造した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ロールにより熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ロールの表面温度を 1 1 0 ° (：、ロール圧を 3 k g/ c m²、加熱ロールの移動速度を l m/分とした。

熱圧着処理が終了した後、膜形成材料層から支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に膜形成材料層を転写した。

(4) 膜形成材料層のポストべーク：

上記（3 ) によりガラス基板に転写された膜形成材料層に対して、 2 8 0 °Cで 6 0分の条件でボストベークすることにより、隔壁形成材料層を得るための材料層形成膜を形成した。このポストべークにおける結着樹脂の重量減少率は 1 0 % であり、可塑性付与物質の分解率は 9 8 %であった。また、ポストべ一クにおいて、膜形成材料層からの発煙は殆ど認められなかった。

( 5 ) サンドブラスト処理：

上記（4 ) により得られた材料層形成膜上に、所要のパターンのレジスト層を形成した後、サンドブラスト装置を用い、材料層形成膜に対してサンドブラスト処理を行うことにより、隔壁形成材料層を形成した。

得られた隔壁形成材料層を観察したところ、所要の形態に加工されており、サンドプラスト性が良好なものであることが確認された。なお、下記の通りサンドブラスト性の評価は下記の条件で行った。

<サンドプラスト性の評価 >

ボストべ一ク後の隔壁形成材料層の全表面に、 5 0 m幅のストライプのパターンを有するレジス卜層を形成した後、サンドブラスト装置（不二製作所製 S G L 一 4 AT型）を用い、隔壁形成材料層に対して切削加工（サンドブラスト処理）を行った。サンドブラスト処理は、切削粉として S i Cの # 6 0 0を用い、切削粉の吐出圧は 0 . 2 MP aとし、被切削体（隔壁材料形成層）の上方 1 5 O mm からブラストを行った。隔壁材料形成層の切削深さを切削時間で割った値を切削レートとし、切削レートが 1 mZ s以上のものをサンドブラスト性が「良好」、 1 mZ s未満のものを「不良」であるとして評価した。

( 6 ) 隔壁形成材料層の焼成：

上記（5 ) により形成された隔壁形成材料層を有するガラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常温から 1 0 °CZ分の昇温速度で 5 6 0 °Cまで昇温し、 5 6 0 °Cの温度雰囲気下で 1 0分間にわたって焼成処理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる隔壁を形成した。

この隔壁の形状を目視で観察したところ、ひび割れ、基板からの剥離などは認められなかった。

また、この隔壁の寸法を測定したところ、幅が 4 0 mで高さが 1 3 0 であり、アスペクト比の高いものであった。また、隔壁の寸法を詳細に測定したところ、幅および高さなどの寸法の均一性に優れたものであることが確認された。実施例 2

表 1に示す処方に従ってガラスペースト組成物を調製したこと以外は実施例 1 と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用い、表 1に示す条件に従ってポストべ一クを行ったこと以外は、実施例 1と同様にしてガラス基板上に隔壁を形成した。

実施例 2の各工程における評価結果を表 1に示す。表 1

実施例 3〜4

表 2に示す処方に従ってガラスペースト組成物を調製し、実施例 1と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用い、表 2に示す条件に従つてボストべ一クを行ったこと以外は、実施例 1と同様にしてガラス基板上に隔壁を形成した。

実施例 3〜 4の各工程における評価結果を表 2に示す。なお、「転写フィルムの柔軟性」については、フィルムを 1 8 0度折り曲げたときに折り曲げ線において亀裂が生じたり、またその動作中にフィルムが脆性破壊してしまう時に「不良」と定義した。表 2

実施例 5〜 6

表 3に示す処方に従ってガラスべ一スト組成物を調製したこと以外は実施例 1 と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用い、表 3に示す条件に従ってポストべークを行ったこと以外は、実施例 1と同様にしてガラス基板上に隔壁を形成した。

実施例 5〜 6の各工程における評価結果を表 3に示す。

表 3

実施例 5 実施例 6

ガラス粉末重量部 100 100

結着樹脂重量部 5 7

可塑性付与物質重量部 10 10

結着樹脂 (d) (d)

可塑性付与物質 (a) (b)

転写フィルム柔軟性良好良好

転写性良好良好

ポストべーク条件 180°CX30分 150 :X30分サンドブラス卜性良好良好実施例 7〜1 0

表 4に示す処方に従つてガラスペースト組成物を調製したこと以外は実施例 1 と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用い、表 4に示す条件に従ってポストべークを行ったこと以外は、実施例 1と同様にしてガラス基板上に隔壁を形成した。

実施例 7〜 1 0の各工程における評価結果を表 4に示す。表 4

実施例 1 1〜 1 3

表 5に示す処方に従ってガラスペースト組成物を調製したこと以外は実施例 1 と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用い、表 5に示す条件に従ってボストベ一クを行つたこと以外は、実施例 1と同様にしてガラス基板上に隔壁を形成した。

実施例 1 1〜： ί 3の各工程における評価結果を表 5に示す。表 5

以上説明したように、本発明の転写フィルムによれば、膜形成材料層中に、当該膜形成材料層に可塑性を付与するための可塑性付与物質が含有されているため、ドライフィルムとして十分な柔軟性が得られる。

また、膜形成材料層は、熱重量分析を行ったときに、可塑性付与物質の分解または揮発に起因する熱重量減少のピークが結着樹脂の分解に起因する熱重量減少のピークより相当に低い温度で現れるものであるため、膜形成材料層を転写した後、可塑性付与物質の熱重量減少のピーク温度と結着樹脂の熱重量減少のピーク温度との間の温度範囲で、当該膜形成材料層に対してボストベークを行うことにより、結着樹脂の分解を進行させずに可塑性付与物質を確実に分解または揮発させることができ、これにより、膜形成材料層はその柔軟性が失われて脆いものとなる。そのため、当該膜形成材料層をサンドブラスト処理することにより、その一部を容易に除去することができる。

従って、本発明の転写フィルムによれば、形成すべきガラス焼結体の高さに応じて膜形成材料層の厚みを制御することにより、高さの均一性に優れ、ァスぺクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体を、比較的簡単な工程により確実に得ることができる。

また、本発明のプラズマディスプレイパネルによれば、隔壁が上記の転写フィルムによって形成されているため、当該隔壁は、高さの均一性に優れ、ァスぺク卜比が高く、所要の形態を有するものとなり、しかも、比較的簡単な工程によつて得ることができる。

また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、高さの均一性に優れ、アスペクト比が高く、所要の形態を有するガラス焼結体よりなる隔壁を形成することができる。

Claims

請求の範囲

1 . ガラスフリット、結着樹脂および可塑性付与物質を含有することを特徴とするガラスべ一スト組成物。 .

2 . ガラスフリット以外の無機酸化物をさらに含有しそしてガラスフリツトを含む無機粉体 1 0 0重量部に対して結着樹脂 2〜1 5重量部を含有する請求項 1に記載のガラスペースト組成物。

3 . 結着樹脂のガラス転移点（T g) が 0〜9 0 °Cの範囲にある請求項 1に記載のガラスペース卜組成物。

4. 結着樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Mw) が 1 0 0， 0 0 0〜3 , 0 0 0， 0 0 0の範囲にある請求項 1に記載のガラスペースト組成物。

5 . 可塑性付与物質が、下記式（1 ) で表される化合物である請求項 1に記載のガラスペースト組成物。

(式中、 Rは水素原子またはメチル基でありそして nは 1 2または 1 3の数である。）

6 . 支持フィルムならびに支持フィルム上のガラスフリット、結着樹脂および可塑性付与物質が含有されてなる膜形成材料層を有することを特徴とする転写フィルム。

7. 膜形成材料層が、 10°CZ分の昇温速度で熱重量分析を行ったときの TG曲線において、 100〜400°Cの間に多段階で現れる熱重量減少のピークを有する請求項 6に記載の転写フィルム。

8. 結着樹脂および可塑性付与物質を 10°C/分の昇温速度で焼成した場合において、当該結着樹脂の重量減少率が 30%となる温度を T_r [C]、当該可塑性付与物質の 95%が分解または揮発する温度を T_p [°C] としたとき、 T_r≥T_p を満足する、請求項 6に記載の転写フィルム。

9. ガラスフリット 100重量部に対して結着樹脂 2〜15重量部を含有する請求項 6に記載の転写：

10. 結着樹脂のガラス転移点（Tg) が 0〜90°Cの範囲にある請求項 6に記載の転写フィルム。

11. 結着樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Mw) が 100， 000〜 3, 000, 000の範囲にある請求項 6に記載の転写フィルム。

12. 可塑性付与物質が、下記式（1) で表される化合物である請求項 6に記載の転写フィルム。

R

H₂C=C— COO— Ο_ηΗ_(2η. ( i )

(式中、 Rは水素原子またはメチル基でありそして ηは 12または 13の数である。）

13. 請求項 6に記載の転写フィルムを用いて形成されたガラス焼結体よりなる隔壁を具えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。

1 4. 請求項 6に記載の転写フィルムにおける膜形成材料層をパネル基材に転写し、転写された膜形成材料層についてポストべークを行い、サンドブラスト処理を行って目的とする形態の隔壁形成材料層を形成しそして当該隔壁形成材料層を焼成してガラス焼結体よりなる隔壁を形成する、ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。

1 5 . ポストべークが、膜形成材料層中の結着樹脂の重量減少率が 3 0 %以下で、かつ、可塑性付与物質の分解または揮発する割合が 9 5 %以上となる条件で行われる請求項 1 4に記載の方法。