JP2006257230A - ガラス粉末含有樹脂組成物、転写フィルムおよびこれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 支持フィルム上に塗布された場合に表面平滑性に優れたガラス粉末含有樹脂組成物、膜形成材料層の表面平滑性に優れ、形状不良の発生がない転写フィルム、表面平滑性および膜厚均一性に優れた誘電体層を得られるＰＤＰの製造方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有することを特徴とする、ガラス粉末含有樹脂組成物、当該組成物から得られる膜形成材料層を有する転写フィルムおよびそれを用いたＰＤＰの製造方法を提供する。
【選択図】 なし
【解決手段】 （Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有することを特徴とする、ガラス粉末含有樹脂組成物、当該組成物から得られる膜形成材料層を有する転写フィルムおよびそれを用いたＰＤＰの製造方法を提供する。
【選択図】 なし
Description
本発明は、ガラス粉末含有樹脂組成物、転写フィルムおよびこれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）の断面形状を示す模式図である。図１において、１および２は対向配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようにガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようにガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は、たとえば酸化マグネシウムからなる保護膜である。
なお、カラーＰＤＰにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
なお、カラーＰＤＰにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
このようなＰＤＰの誘電体層の製造方法としては、（１）ガラスペーストを基板上にスクリーン印刷し、これを焼成する、スクリーン印刷法、（２）支持フィルム上にガラスペーストを塗布して形成した膜形成材料層を基板上に転写し、これを焼成する転写法などが知られている。
しかしながら、前記スクリーン印刷法では、パネルの大型化および高精細化に伴い、膜厚均一性の要求が非常に厳しくなり、従来のスクリーン印刷では対応できないという問題があった。これに対して、前記転写法では、膜厚の均一性および表面の均一性に優れた誘電体層を形成することができるため、好適に用いられている。
しかしながら、前記スクリーン印刷法では、パネルの大型化および高精細化に伴い、膜厚均一性の要求が非常に厳しくなり、従来のスクリーン印刷では対応できないという問題があった。これに対して、前記転写法では、膜厚の均一性および表面の均一性に優れた誘電体層を形成することができるため、好適に用いられている。
上記転写法には、通常、支持フィルム上に膜形成材料層を形成し、その上にカバーフィルムを貼り合わせた転写フィルムを用いる。当該転写フィルムは、通常、ロール状に巻かれた状態で保存される。しかしながら、膜形成材料層の表面平滑性が不足すると、カバーフィルムが正常に貼り合わせることができないという問題が生じる。カバーフィルムが貼り合わせできないと、ロール状に保存した際に膜形成材料層に皺などの形状不良が生じる原因となる。このような膜形成材料層の形状不良は、得られる誘電体層に欠陥を与えるおそれがある。本欠陥は放電開始電圧が不安定となったり、発光ムラが生じたりするためパネル性能に重大な影響を及ぼす。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものである。
本発明の第一の目的は、支持フィルム上に塗布された場合に表面平滑性に優れたガラス粉末含有樹脂組成物を提供することである。
本発明の第二の目的は、膜形成材料層の表面平滑性に優れ、形状不良の発生がない転写フィルムを提供することである。
本発明の第三の目的は、表面平滑性および膜厚均一性に優れた誘電体層を得られるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
本発明の第一の目的は、支持フィルム上に塗布された場合に表面平滑性に優れたガラス粉末含有樹脂組成物を提供することである。
本発明の第二の目的は、膜形成材料層の表面平滑性に優れ、形状不良の発生がない転写フィルムを提供することである。
本発明の第三の目的は、表面平滑性および膜厚均一性に優れた誘電体層を得られるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
本発明のガラス粉末含有樹脂組成物は、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有することを特徴とする。
本発明の転写フィルムは、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有する膜形成材料層を有することを特徴とする。
本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に、本発明の転写フィルムを用いて膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料層を焼成することにより、誘電体層を形成する工程を有することを特徴とする
本発明の転写フィルムは、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有する膜形成材料層を有することを特徴とする。
本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に、本発明の転写フィルムを用いて膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料層を焼成することにより、誘電体層を形成する工程を有することを特徴とする
以下、本発明について詳細に説明する。
［ガラス粉末含有組成物］
本発明のガラス粉末含有組成物（以下、単に「組成物」ともいう）は、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有するペースト状の組成物である。ガラス粉末を含有する組成物に、シリル基含有化合物と金属アルコキシドを含有させることにより、表面平滑性に優れ、転写フィルムの膜形成材料層を形成した場合にカバーフィルムの貼り合わせ不良が起こらないという効果を有する。
以下に、本発明の組成物の各成分について具体的に説明する。
［ガラス粉末含有組成物］
本発明のガラス粉末含有組成物（以下、単に「組成物」ともいう）は、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有するペースト状の組成物である。ガラス粉末を含有する組成物に、シリル基含有化合物と金属アルコキシドを含有させることにより、表面平滑性に優れ、転写フィルムの膜形成材料層を形成した場合にカバーフィルムの貼り合わせ不良が起こらないという効果を有する。
以下に、本発明の組成物の各成分について具体的に説明する。
＜（Ａ）ガラス粉末＞
本発明の組成物を構成するガラス粉末としては、軟化点が３５０〜７００℃（好ましくは４００〜６２０℃）の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が３５０℃未満である場合には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の軟化点が７００℃を超える場合には、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
好適なガラス粉末の具体例としては、１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3-B2O3-SiO2系）の混合物、６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物、１４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化バリウム、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−BaO−SiO2系）の混合物、１５．酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化ケイ素（BaO−CaO−SiO2系）の混合物などを例示することができる。
ガラス粉末の粒径は特に限定されるものではないが、ガラス粉末含有組成物の調製において良好な分散状態を達成するために、平均粒径は０．５〜５μｍの範囲であることが望ましい。
本発明の組成物を構成するガラス粉末としては、軟化点が３５０〜７００℃（好ましくは４００〜６２０℃）の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が３５０℃未満である場合には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の軟化点が７００℃を超える場合には、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
好適なガラス粉末の具体例としては、１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3-B2O3-SiO2系）の混合物、６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物、１４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化バリウム、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−BaO−SiO2系）の混合物、１５．酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化ケイ素（BaO−CaO−SiO2系）の混合物などを例示することができる。
ガラス粉末の粒径は特に限定されるものではないが、ガラス粉末含有組成物の調製において良好な分散状態を達成するために、平均粒径は０．５〜５μｍの範囲であることが望ましい。
＜（Ｂ）結着樹脂＞
本発明の組成物を構成する結着樹脂は、アクリル樹脂であることが好ましい。
結着樹脂としてアクリル樹脂が含有されていることにより、形成される膜形成材料層には、基板に対する優れた（加熱）密着性が発揮される。従って、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布して転写フィルムを製造する場合において、得られる転写フィルムは、膜形成材料層の転写性（基板への加熱密着性）に優れたものとなる。
本発明の組成物を構成するアクリル樹脂としては、適度な粘着性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜形成材料の焼成処理（例えば４００〜６２０℃）によって完全に酸化除去される（共）重合体の中から選択される。
本発明の組成物を構成する結着樹脂は、アクリル樹脂であることが好ましい。
結着樹脂としてアクリル樹脂が含有されていることにより、形成される膜形成材料層には、基板に対する優れた（加熱）密着性が発揮される。従って、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布して転写フィルムを製造する場合において、得られる転写フィルムは、膜形成材料層の転写性（基板への加熱密着性）に優れたものとなる。
本発明の組成物を構成するアクリル樹脂としては、適度な粘着性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜形成材料の焼成処理（例えば４００〜６２０℃）によって完全に酸化除去される（共）重合体の中から選択される。
かかるアクリル樹脂には、下記式（１）で表される（メタ）アクリレートの単独重合体、下記式（１）で表される（メタ）アクリレートの２種類以上の共重合体、および下記式（１）で表される（メタ）アクリレートと共重合性単量体との共重合体が含まれる。
Ｈ２Ｃ＝Ｃ−Ｒ１
｜ （１）
Ｏ＝Ｃ−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ２
｜ （１）
Ｏ＝Ｃ−Ｏ−ＣＨ２−Ｒ２
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ２は１価の有機基を示す。）
上記式（１）で表される（メタ）アクリレートの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ウンデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート；
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、4-ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレートなどのシクロアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、4-ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレートなどのシクロアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。
これらのうち、上記式（１）中、Ｒ２で示される基が、アルキル基またはアルコキシアルキル基を含有する基であることが好ましく、特に好ましい（メタ）アクリレート化合物として、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレートおよび２−エトキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。また、上記式（１）中、Ｒ１で示される基はメチル基であることが特に好ましい。
他の共重合性単量体としては、上記（メタ）アクリレートと共重合可能な化合物ならば特に制限はないが、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビニルフタル酸などの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α-メチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物が挙げられる。
本発明の組成物を構成するアクリル樹脂における、上記式（１）で表される（メタ）アクリレート由来の共重合成分は、通常７０質量％以上、好ましくは９０質量％以上である。
本発明の組成物を構成するアクリル樹脂における、上記式（１）で表される（メタ）アクリレート由来の共重合成分は、通常７０質量％以上、好ましくは９０質量％以上である。
ここに、好ましいアクリル樹脂の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、ポリｎ−ブチルメタクリレート、メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート共重合体、ｎ−ブチルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体などを例示することができる。
本発明の組成物を構成するアクリル樹脂の分子量としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」という）によるポリスチレン換算の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」ともいう）として、４，０００〜３００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜２００，０００とされる。
本発明の組成物における結着樹脂の含有割合としては、ガラス粉末１００質量部に対して、５〜１５０質量部であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜１２０質量部とされる。結着樹脂の割合が過小である場合には、ガラス粉末を確実に結着保持することができず、一方、この割合が過大である場合には、焼成工程に長い時間を要したり、形成される焼結体（誘電体層）が十分な強度や膜厚を有するものとならなかったりする場合がある。
＜（Ｃ）シリル基含有化合物＞
本発明の組成物は、ガラス粉末（Ａ）の分散安定性を向上させるために、シリル基含有化合物を含有する。本発明に用いられるシリル基含有化合物の種類は特に限定されないが、好ましくは、下記式（２）で表されるシリル基含有化合物（飽和アルキル基含有（アルキル）アルコキシシラン）を挙げることができる。
本発明の組成物は、ガラス粉末（Ａ）の分散安定性を向上させるために、シリル基含有化合物を含有する。本発明に用いられるシリル基含有化合物の種類は特に限定されないが、好ましくは、下記式（２）で表されるシリル基含有化合物（飽和アルキル基含有（アルキル）アルコキシシラン）を挙げることができる。
（式中、ｐは３〜２０の整数、ｍは１〜３の整数、ｎは１〜３の整数、そしてａは１から３の整数である。）
上記式（２）中、ｐは３〜２０の整数、好ましくは４〜１６の整数、ｍは１〜３の整数、ｎは１〜３の整数、ａは１〜３の整数である。ｐが上記範囲にあると、本発明の組成物から得られる膜形成材料層は十分な可撓性を示す。さらに、ｐが上記範囲にある化合物は、分解温度が比較的低く、後述するＰＤＰの製造方法の焼成工程において完全に分解除去されるため、シリル基含有化合物が残存することなく誘電体層を形成することができる。その結果、誘電体層の光透過率が低下しない。
上記化合物の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルメトキシシランなどの飽和アルキルジメチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルメトキシシランなどの飽和アルキルジエチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルメトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルエトキシシランなどの飽和アルキルジメチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルエトキシシランなどの飽和アルキルジエチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルエトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジメチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジエチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝２）；
ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルメトキシシランなどの飽和アルキルジエチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルメトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルエトキシシランなどの飽和アルキルジメチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルエトキシシランなどの飽和アルキルジエチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルエトキシシランなどの飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジメチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジエチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルプロポキシシランなどの飽和アルキルジプロピルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルメチルジメトキシシランなどの飽和アルキルメチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジメトキシシランなどの飽和アルキルエチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルプロピルジメトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝３）
ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルメチルジエトキシシランなどの飽和アルキルメチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジエトキシシランなどの飽和アルキルエチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルプロピルジエトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−エイコシルメチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルメチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルエチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝２）；
ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルメチルジメトキシシランなどの飽和アルキルメチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジメトキシシランなどの飽和アルキルエチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルプロピルジメトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝３）
ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルメチルジエトキシシランなどの飽和アルキルメチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジエトキシシランなどの飽和アルキルエチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルプロピルジエトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−エイコシルメチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルメチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジプロポキシシランなどの飽和アルキルエチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−エイコシルプロピルジプロポキシシランなどの飽和アルキルプロピルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝３）；
ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−エイコシルトリメトキシシランなどの飽和アルキルトリメトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝１）；
ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−エイコシルトリエトキシシランなどの飽和アルキルトリエトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝２）；
ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−エイコシルトリプロポキシシランなどの飽和アルキルトリプロポキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝３）などを挙げることができる。これらは、１種単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−エイコシルトリメトキシシランなどの飽和アルキルトリメトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝１）；
ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−エイコシルトリエトキシシランなどの飽和アルキルトリエトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝２）；
ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−エイコシルトリプロポキシシランなどの飽和アルキルトリプロポキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝３）などを挙げることができる。これらは、１種単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの化合物のうち、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシランなどが特に好ましい。
本発明の組成物において、シリル基含有化合物（Ｃ）は、ガラス粉末（Ａ）１００重量部に対して、通常、０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部の範囲で含まれることが望ましい。シリル基含有化合物（Ｃ）の割合が０．０１質量部未満では、ガラス粉末の分散安定性向上という所定の効果が十分に得られない場合がある。また、１０質量部を超えると、本発明の組成物を保存する際に粘度が経時的に上昇したり、シリル基含有化合物同士で反応が起こり、得られる誘電体層の光透過率を下げる原因になったりする場合がある。
＜（Ｄ）金属アルコキシド＞
本発明の組成物には、金属アルコキシドが含有される。金属アルコキシドは、（Ａ）ガラス粉末に含まれるＯＨ基と速やかに反応し、続いて上記（Ｃ）シリル基含有化合物との置換反応が効率よく進行する。そのため、（Ａ）ガラス粉末のさらなる分散性の向上と、形成される膜形成材料層における表面平滑性の向上という効果を発現するものである。シリル基含有化合物単独では（Ａ）ガラス粉末との反応が不十分のため、分散性の向上がさほど期待出来ない。
本発明に用いられる金属アルコキシドとしては、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、マグネシウムアルコキシド等が好ましいものとして挙げられる。その中でも反応性の面からチタニウムアルコキシドが特に好ましく用いられる。
本発明の組成物には、金属アルコキシドが含有される。金属アルコキシドは、（Ａ）ガラス粉末に含まれるＯＨ基と速やかに反応し、続いて上記（Ｃ）シリル基含有化合物との置換反応が効率よく進行する。そのため、（Ａ）ガラス粉末のさらなる分散性の向上と、形成される膜形成材料層における表面平滑性の向上という効果を発現するものである。シリル基含有化合物単独では（Ａ）ガラス粉末との反応が不十分のため、分散性の向上がさほど期待出来ない。
本発明に用いられる金属アルコキシドとしては、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、マグネシウムアルコキシド等が好ましいものとして挙げられる。その中でも反応性の面からチタニウムアルコキシドが特に好ましく用いられる。
本発明で用いられる金属アルコキシドの具体例としては、下記式（３）で表される化合物が、好ましいものとして挙げられる。
ＲｓＭ（ＯＲ’）ｔ−ｓ ・・・（３）
（ここで、Ｍはアルミニウム、チタン、マグネシウムなどの金属原子であり、Ｒは炭素数１〜８の１価の有機基であり、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基であり、ｔはＭの原子価であり、ｓは０〜ｔ−１の整数である。ＲまたはＲ’が複数個存在するときは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。）
ＲｓＭ（ＯＲ’）ｔ−ｓ ・・・（３）
（ここで、Ｍはアルミニウム、チタン、マグネシウムなどの金属原子であり、Ｒは炭素数１〜８の１価の有機基であり、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基であり、ｔはＭの原子価であり、ｓは０〜ｔ−１の整数である。ＲまたはＲ’が複数個存在するときは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。）
上記式（３）において、炭素数１〜８の１価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基などのアルキル基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ベンゾイル基、トリオイル基などのアシル基；アセトキシル基、プロピオニロキシル基、ブチリロキシル基、バレリロキシル基、ベンゾイルオキシル基、トリオイルオキシル基などのアシルオキシル基；ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基、フェニル基、グリシジル基、（メタ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アミド基、フルオロアセトアミド基、イソシアナート基等並びにこれらの基に含まれる水素原子の一部または全部がハロゲン原子、置換もしくは非置換のアミノ基、水酸基、メルカプト基、イソシアナート基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、（メタ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アンモニウム塩基等により置換された基を挙げることができる。
また、Ｒ’の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。
このような金属アルコキシドの具体例としては、例えば、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラブトキシド等のチタニウムアルコキシド類；アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリブトキシド等のアルミニウムアルコキシド類；マグネシウムジメトキシド、マグネシウムジメトキシド等のマグネシウムアルコキシド類を挙げることが出来る。これらの金属アルコキシドは１種単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の組成物における金属アルコキシドの含有割合としては、ガラス粉末１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．００１〜３重量部とされる。金属アルコキシドの割合が過小である場合には、ガラス粉末の分散性の向上効果、形成される膜形成材料層における表面平滑性の向上効果を十分に発揮させることができない。一方、この割合が過大である場合には、本発明の組成物を保存する際に粘度が経時的に上昇したり、金属アルコキシド同士で反応が起こり、得られる誘電体層の光透過率を下げる原因になったりする場合がある。
＜溶剤＞
本発明の組成物には、通常、組成物に適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。
当該溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などを挙げることができる。
かかる溶剤の具体例としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の組成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
本発明の組成物には、通常、組成物に適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。
当該溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などを挙げることができる。
かかる溶剤の具体例としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の組成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
＜その他の成分＞
本発明の組成物は、転写フィルムを形成した際、膜形成材料層に良好な柔軟性を与えるために、上記結着樹脂（Ｂ）の補助剤として可塑剤を含有していてもよい。可塑剤を含有する組成物から形成される膜形成材料層は、十分な柔軟性を有し、得られる転写フィルムは、折り曲げても膜形成材料層の表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生することがなく、また、ロール状に容易に巻き取ることができる。
本発明の組成物は、転写フィルムを形成した際、膜形成材料層に良好な柔軟性を与えるために、上記結着樹脂（Ｂ）の補助剤として可塑剤を含有していてもよい。可塑剤を含有する組成物から形成される膜形成材料層は、十分な柔軟性を有し、得られる転写フィルムは、折り曲げても膜形成材料層の表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生することがなく、また、ロール状に容易に巻き取ることができる。
上記可塑剤としては、下記式（４）で表される化合物、下記式（５）で表される化合物、下記式（６）で表される化合物、ポリプロピレングリコールなどが挙げられ、これらの中では沸点が１５０℃以上のものが好ましい。このような可塑性剤は１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（式（４）中、Ｒ3およびＲ6は、それぞれ独立して炭素数が１〜３０の１価の鎖式炭化水素基を示し、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立して炭素数が１〜３０の２価の鎖式炭化水素基を示し、ｘは０〜５の整数であり、ｙは１〜１０の整数である。）
（式（５）中、Ｒ7は炭素数が１〜３０の１価の鎖式炭化水素基を示す。）
（式（６）中、Ｒ８、Ｒ９およびＲ10のうちの１つの基は−ＣＯ−Ａで表される基を示し、残りの２つの基はそれぞれ独立に水素原子、アセチル基またはプロパノイル基を示す。Ａは炭素数５〜２０のアルキル基を示す。）
上記式（４）におけるＲ3またはＲ6で示される１価の鎖式炭化水素基は、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基（飽和基）またはアルケニル基（不飽和基）であり、鎖式炭化水素基の炭素数は１〜３０、好ましくは２〜２０、より好ましくは４〜１０である。鎖式炭化水素基の炭素数が上記範囲を超える場合には、後述する溶剤に対する溶解性が低くなり、無機粉体含有樹脂層に良好な柔軟性を与えることが困難となることがある。
上記Ｒ4またはＲ5で示される２価の鎖式炭化水素基は、メチレン基、直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基（飽和基）またはアルケニレン基（不飽和基）である。
上記式（４）で表される化合物としては、例えば、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジブチルセバケート、ジブチルジグリコールアジペートなどが挙げられる。
上記Ｒ4またはＲ5で示される２価の鎖式炭化水素基は、メチレン基、直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基（飽和基）またはアルケニレン基（不飽和基）である。
上記式（４）で表される化合物としては、例えば、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジブチルセバケート、ジブチルジグリコールアジペートなどが挙げられる。
上記式（５）において、Ｒ７で示される１価の鎖式炭化水素基は、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基（飽和基）またはアルケニル基（不飽和基）であり、鎖式炭化水素基の炭素数は１〜３０、好ましくは２〜２０、より好ましくは１０〜１８である。
上記式（５）で表される化合物としては、例えば、プロピレングリコールモノラウレート、プロピレングリコールモノオレートなどが挙げられる。
上記式（５）で表される化合物としては、例えば、プロピレングリコールモノラウレート、プロピレングリコールモノオレートなどが挙げられる。
上記式（６）におけるＲ８、Ｒ９およびＲ10のうちの１つの基は−ＣＯ−Ａで表される基であり、残りの２つの基はそれぞれ独立に水素原子、アセチル基またはプロパノイル基である。Ａは炭素数５〜２０のアルキル基、好ましくは炭素数１０〜１８のアルキル基であり、具体的には、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基（ラウリル基）、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基（ステアリル基）、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基などが挙げられる。これらのアルキル基のうち、ｎ−ドデシル基が特に好ましい。また、残りの２つの基としては、特にアセチル基が好ましい。
上記式（６）で表される化合物としては、例えば、グリセリン−１−アセチル−３−ラウレート、グリセリン−２−アセチル−１−ラウレート、グリセリン−１，２−ジアセチル−３−ラウレート、グリセリン−１−アセチル−３−モノオレート、グリセリン−２−アセチル−１−モノオレート、グリセリン−１，２−ジアセチル−３−モノオレート、グリセリン−１−アセチル−３−ステアレート、グリセリン−２−アセチル−１−ステアレート、グリセリン−１，２−ジアセチル−３−ステアレートなどが挙げられる。
上記式（６）で表される化合物としては、例えば、グリセリン−１−アセチル−３−ラウレート、グリセリン−２−アセチル−１−ラウレート、グリセリン−１，２−ジアセチル−３−ラウレート、グリセリン−１−アセチル−３−モノオレート、グリセリン−２−アセチル−１−モノオレート、グリセリン−１，２−ジアセチル−３−モノオレート、グリセリン−１−アセチル−３−ステアレート、グリセリン−２−アセチル−１−ステアレート、グリセリン−１，２−ジアセチル−３−ステアレートなどが挙げられる。
また、可塑剤としてポリプロピレングリコールを用いる場合には、該ポリプロピレングリコールの重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００〜３，０００の範囲にあることが好ましく、３００〜２，０００の範囲にあることが特に好ましい。Ｍｗが２００未満である場合には、膜強度の大きい膜形成材料層を支持フィルム上に形成することが困難になる場合があり、該層を支持フィルムからガラス基板に転写する工程において、ガラス基板に加熱接着された該層から支持フィルムを剥離する際に、凝集破壊を起こすことがある。一方、Ｍｗが３，０００を超える場合には、被転写体であるガラス基板との加熱接着性が良好な膜形成材料層が得られない場合がある。
本発明の組成物には、さらに、必要に応じて、シリル基含有化合物以外の分散剤、粘着性付与剤、表面張力調整剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤を添加してもよい。
＜組成物の調製＞
本発明の組成物は、上記各成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサーなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
また、本発明の組成物は、塗布や印刷に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１，０００〜３０，０００ｃｐ、好ましくは３，０００〜１０，０００ｃｐである。
本発明の組成物は、上記各成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサーなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
また、本発明の組成物は、塗布や印刷に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１，０００〜３０，０００ｃｐ、好ましくは３，０００〜１０，０００ｃｐである。
本発明の組成物は、後述する転写フィルム（本発明の転写フィルム）を製造するために特に好適に使用することができ、ＰＤＰの誘電体層を形成するために好適に使用される。また、本発明の組成物は、従来公知の膜形成材料層形成方法、すなわち、スクリーン印刷法などによりこの組成物を基板の表面に直接塗布または印刷し、塗膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する方法に使用することもできる。さらに、本発明の組成物は、結着樹脂としてアルカリ可溶性のアクリル樹脂を用い、ＰＤＰの隔壁形成用材料として用いることもできる。
［転写フィルム］
本発明の転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有し、さらに必要に応じて可塑剤などその他の添加剤を含有する膜形成材料層と、通常、カバーフィルムとから構成される複合フィルムである。当該転写フィルムは、ＰＤＰの誘電体層の形成工程に好適に使用することができる。また、本発明の転写フィルムは、結着樹脂としてアルカリ可溶性のアクリル樹脂を用い、ＰＤＰの隔壁形成用として用いることもできる。なお、ＰＤＰの隔壁形成用として用いる本発明の転写フィルムは、支持フィルム上にレジスト層を有し、その上に膜形成材料層を有する積層フィルムであることが好ましい。
以下、本発明に係る転写フィルムの構成およびその製造方法を詳細に説明する。
本発明の転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有し、さらに必要に応じて可塑剤などその他の添加剤を含有する膜形成材料層と、通常、カバーフィルムとから構成される複合フィルムである。当該転写フィルムは、ＰＤＰの誘電体層の形成工程に好適に使用することができる。また、本発明の転写フィルムは、結着樹脂としてアルカリ可溶性のアクリル樹脂を用い、ＰＤＰの隔壁形成用として用いることもできる。なお、ＰＤＰの隔壁形成用として用いる本発明の転写フィルムは、支持フィルム上にレジスト層を有し、その上に膜形成材料層を有する積層フィルムであることが好ましい。
以下、本発明に係る転写フィルムの構成およびその製造方法を詳細に説明する。
＜転写フィルムの構成＞
図２（ａ）は、ロール状に巻回された本発明の転写フィルムの一例を示す概略断面図であり、図２（ｂ）は、この転写フィルムの層構成の一例を示す断面図〔（ａ）の部分詳細図〕である。
図２に示す転写フィルムは、ＰＤＰの誘電体層を形成するために使用される複合フィルムであって、通常、支持フィルムＦ１と、この支持フィルムＦ１の表面に形成された膜形成材料層Ｆ２と、この膜形成材料層Ｆ２の表面に貼付されたカバーフィルムＦ３とから構成されている。支持フィルムＦ１と膜形成材料層Ｆ２とは剥離可能であり、膜形成材料層Ｆ２とカバーフィルムＦ３とは容易に剥離することができる。
図２（ａ）は、ロール状に巻回された本発明の転写フィルムの一例を示す概略断面図であり、図２（ｂ）は、この転写フィルムの層構成の一例を示す断面図〔（ａ）の部分詳細図〕である。
図２に示す転写フィルムは、ＰＤＰの誘電体層を形成するために使用される複合フィルムであって、通常、支持フィルムＦ１と、この支持フィルムＦ１の表面に形成された膜形成材料層Ｆ２と、この膜形成材料層Ｆ２の表面に貼付されたカバーフィルムＦ３とから構成されている。支持フィルムＦ１と膜形成材料層Ｆ２とは剥離可能であり、膜形成材料層Ｆ２とカバーフィルムＦ３とは容易に剥離することができる。
上記支持フィルムＦ１は、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムＦ１が可撓性を有すると、ロールコーターやブレードコーターなどを用いて本発明の組成物を塗布することができ、これにより、膜厚の均一な膜形成材料層を形成できるとともに、形成された膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。
支持フィルムＦ１を構成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムＦ１の厚さは、２０〜１００μｍが好ましい。また、支持フィルムＦ１の表面は離型処理が施されていることが好ましい。これにより、膜形成材料層Ｆ２を基板などに転写した後、膜形成材料層Ｆ２から支持フィルムを容易に剥離することができる。
支持フィルムＦ１を構成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムＦ１の厚さは、２０〜１００μｍが好ましい。また、支持フィルムＦ１の表面は離型処理が施されていることが好ましい。これにより、膜形成材料層Ｆ２を基板などに転写した後、膜形成材料層Ｆ２から支持フィルムを容易に剥離することができる。
膜形成材料層Ｆ２は、本発明の組成物を上記支持フィルムＦ１上に塗布、乾燥して得られ、焼成されることによって焼結体（ＰＤＰの誘電体層）を形成する層である。膜形成材料層Ｆ２の厚さは、ガラス粉末（Ａ）の含有率、パネルの種類やサイズなどによって適宜設定されるが、たとえば、５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。膜形成材料層Ｆ２の厚さが上記範囲にあると、焼結処理を施しても、所期の特性を確保するために必要な厚さでＰＤＰの誘電体層を形成することができる。特に、大型のパネルの場合には、膜形成材料層Ｆ２の厚さは１０〜１００μｍが好ましく、これにより所望の膜厚を有するＰＤＰの誘電体層を形成することができる。
カバーフィルムＦ３は、膜形成材料層Ｆ２の表面（最終的にはガラス基板との接触面）を保護するためのフィルムである。このカバーフィルムＦ３も可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。カバーフィルムＦ３を構成する樹脂としては、支持フィルムＦ１を構成する樹脂として例示した樹脂を挙げることができる。カバーフィルムＦ３の厚さは、２０〜１００μｍが好ましい。また、カバーフィルムＦ３の表面も離型処理が施されていることが好ましい。これにより、膜形成材料層Ｆ２を基板などに転写する前に、膜形成材料層Ｆ２からカバーフィルムＦ３を容易に剥離することができる。
＜転写フィルムの製造方法＞
本発明の転写フィルムは、たとえば、支持フィルムＦ１上に、本発明の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層Ｆ２を形成した後、膜形成材料層Ｆ２上にカバーフィルムＦ３を貼付（圧着、特に熱圧着が好ましい。）することにより製造することができる。
本発明の組成物を支持フィルムＦ１上に塗布する好ましい方法としては、膜厚が大きく（たとえば上記範囲）、膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる観点から、ロールコーター、ドクターブレードなどのブレードコーター、カーテンコーターまたはワイヤーコーターによる塗布方法などを挙げることができる。
本発明の組成物から形成された上記塗膜は、乾燥より溶剤の一部または全部が除去されて膜形成材料層Ｆ２を形成する。この乾燥条件は、たとえば４０〜１５０℃で０．１〜３０分間程度が好ましい。乾燥後における膜形成材料層Ｆ２中の溶剤残存率（膜形成材料層Ｆ２中の溶剤含有率）は、通常１０重量％以下であり、基板に対する粘着性および適度な形状保持性を膜形成材料層に発現させるためには、１〜５重量％が好ましい。
本発明の転写フィルムは、たとえば、支持フィルムＦ１上に、本発明の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層Ｆ２を形成した後、膜形成材料層Ｆ２上にカバーフィルムＦ３を貼付（圧着、特に熱圧着が好ましい。）することにより製造することができる。
本発明の組成物を支持フィルムＦ１上に塗布する好ましい方法としては、膜厚が大きく（たとえば上記範囲）、膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる観点から、ロールコーター、ドクターブレードなどのブレードコーター、カーテンコーターまたはワイヤーコーターによる塗布方法などを挙げることができる。
本発明の組成物から形成された上記塗膜は、乾燥より溶剤の一部または全部が除去されて膜形成材料層Ｆ２を形成する。この乾燥条件は、たとえば４０〜１５０℃で０．１〜３０分間程度が好ましい。乾燥後における膜形成材料層Ｆ２中の溶剤残存率（膜形成材料層Ｆ２中の溶剤含有率）は、通常１０重量％以下であり、基板に対する粘着性および適度な形状保持性を膜形成材料層に発現させるためには、１〜５重量％が好ましい。
＜転写フィルムの使用方法＞
本発明の転写フィルムからカバーフィルムＦ３を剥離した後、基板と膜形成材料層Ｆ２とが当接するように、基板と転写フィルムとを貼り合わせて、熱圧着する。その後、支持フィルムＦ１と膜形成材料層Ｆ２とを剥離することにより膜形成材料層Ｆ２を基板上に転写することができる。
この転写方法は、支持フィルムＦ１上の膜形成材料層Ｆ２を基板の表面に一括転写することができる。このような簡単な操作によると、膜形成材料層をガラス基板上に確実に形成することができ、誘電体層などのＰＤＰの構成部材を高効率で形成することができるとともに、形成される誘電体層における安定した誘電特性の発現を図ることができる。
なお、本発明の転写フィルムを用いてＰＤＰの隔壁を形成する場合には、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト層を設け（この場合、上述した積層構造の転写フィルムを用いて膜形成材料層とレジスト層とを一括転写することが好ましい）、当該レジスト層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該レジスト層を現像処理して形成されたパターンをマスクとして膜形成材料層をエッチング（好ましくはアルカリエッチング）し、得られた隔壁パターンを焼成することにより、隔壁を形成することができる。
本発明の転写フィルムからカバーフィルムＦ３を剥離した後、基板と膜形成材料層Ｆ２とが当接するように、基板と転写フィルムとを貼り合わせて、熱圧着する。その後、支持フィルムＦ１と膜形成材料層Ｆ２とを剥離することにより膜形成材料層Ｆ２を基板上に転写することができる。
この転写方法は、支持フィルムＦ１上の膜形成材料層Ｆ２を基板の表面に一括転写することができる。このような簡単な操作によると、膜形成材料層をガラス基板上に確実に形成することができ、誘電体層などのＰＤＰの構成部材を高効率で形成することができるとともに、形成される誘電体層における安定した誘電特性の発現を図ることができる。
なお、本発明の転写フィルムを用いてＰＤＰの隔壁を形成する場合には、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト層を設け（この場合、上述した積層構造の転写フィルムを用いて膜形成材料層とレジスト層とを一括転写することが好ましい）、当該レジスト層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該レジスト層を現像処理して形成されたパターンをマスクとして膜形成材料層をエッチング（好ましくはアルカリエッチング）し、得られた隔壁パターンを焼成することにより、隔壁を形成することができる。
［ＰＤＰの製造方法］
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の転写フィルムを用いて膜形成材料層を基板の表面に転写し、この膜形成材料層を焼成することにより、前記基板の表面に誘電体層を形成する工程を有する。
以下、上記製造方法をより詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（ｉ）図２に示すようなロール状に巻回された本発明の転写フィルムを基板の面積に応じた大きさに裁断する。
（ii）裁断した上記転写フィルムの膜形成材料層Ｆ２の表面からカバーフィルムＦ３を剥離した後、基板の表面に、膜形成材料層Ｆ２の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。
（iii）基板に重ね合わされた転写フィルム上に加熱ローラを移動させて基板と膜形成材料層Ｆ２とを熱圧着させる。
（iv）熱圧着により基板に固定された膜形成材料層Ｆ２から支持フィルムＦ１を剥離除去する。
このような操作により、支持フィルムＦ１上の膜形成材料層Ｆ２が基板上に転写される。ここで、転写条件としては、たとえば、加熱ローラの表面温度は６０〜１２０℃が好ましく、加熱ローラによるロール圧は１〜５ｋｇ／ｃｍ２が好ましく、加熱ローラの移動速度は０．２〜１０．０ｍ／分が好ましい。この転写工程は、ラミネータ装置により行うことができる。また、基板は、たとえば４０〜１００℃で予熱されていてもよい。
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の転写フィルムを用いて膜形成材料層を基板の表面に転写し、この膜形成材料層を焼成することにより、前記基板の表面に誘電体層を形成する工程を有する。
以下、上記製造方法をより詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（ｉ）図２に示すようなロール状に巻回された本発明の転写フィルムを基板の面積に応じた大きさに裁断する。
（ii）裁断した上記転写フィルムの膜形成材料層Ｆ２の表面からカバーフィルムＦ３を剥離した後、基板の表面に、膜形成材料層Ｆ２の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。
（iii）基板に重ね合わされた転写フィルム上に加熱ローラを移動させて基板と膜形成材料層Ｆ２とを熱圧着させる。
（iv）熱圧着により基板に固定された膜形成材料層Ｆ２から支持フィルムＦ１を剥離除去する。
このような操作により、支持フィルムＦ１上の膜形成材料層Ｆ２が基板上に転写される。ここで、転写条件としては、たとえば、加熱ローラの表面温度は６０〜１２０℃が好ましく、加熱ローラによるロール圧は１〜５ｋｇ／ｃｍ２が好ましく、加熱ローラの移動速度は０．２〜１０．０ｍ／分が好ましい。この転写工程は、ラミネータ装置により行うことができる。また、基板は、たとえば４０〜１００℃で予熱されていてもよい。
次いで、基板上に転写形成された膜形成材料層Ｆ２を焼成して無機焼結体（誘電体層）を形成する。焼成方法としては、膜形成材料層Ｆ２を固定した基板を、高温雰囲気下に配置する方法を挙げることができる。これにより、膜形成材料層Ｆ２に含有される有機成分、たとえば、（メタ）アクリル樹脂（Ｂ）、可塑剤（Ｃ）、残留溶剤、および各種添加剤が分解除去され、さらにガラス粉末（Ａ）が溶融して焼結する。焼成温度は、使用する基板やガラス粉末（Ａ）の溶融温度、上記有機成分の分解温度などによって適宜設定されるが、たとえば、３００〜８００℃が好ましく、４００〜６００℃がさらに好ましい。
下記に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例および比較例において使用した材料は、次の通りである。
[ガラス粉末]
酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物（軟化点５６５℃、比重２．７９）
酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物（軟化点５６５℃、比重２．７９）
[結着樹脂]
下記合成例で得られた樹脂を用いた。
＜合成例＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部、ｎ−ブチルメタクリレート３０部、２−エチルヘキシルメタクリレート７０部およびアゾビスイソブチロニトリル１部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。攪拌後、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液は、重合率が９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（樹脂ａ）のＭｗは９０，０００であった。
下記合成例で得られた樹脂を用いた。
＜合成例＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部、ｎ−ブチルメタクリレート３０部、２−エチルヘキシルメタクリレート７０部およびアゾビスイソブチロニトリル１部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。攪拌後、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液は、重合率が９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（樹脂ａ）のＭｗは９０，０００であった。
[分散剤]
分散剤ａ：ｎ−デシルトリメトキシシラン（シリル基含有化合物）
分散剤ｂ：ポリオキシエチレングリコール（その他の分散剤）
[金属アルコキシド]
チタンテトライソプロポキシド
[可塑剤]
ジ−２−エチルヘキシルアゼレート
[溶剤]
プロピレングリコールモノメチルエーテル
分散剤ａ：ｎ−デシルトリメトキシシラン（シリル基含有化合物）
分散剤ｂ：ポリオキシエチレングリコール（その他の分散剤）
[金属アルコキシド]
チタンテトライソプロポキシド
[可塑剤]
ジ−２−エチルヘキシルアゼレート
[溶剤]
プロピレングリコールモノメチルエーテル
＜実施例１＞
（１）ガラス粉末含有樹脂組成物の調製：
ガラス粉末１００重量部、結着樹脂４０重量部、可塑剤３部、分散剤ａ１部、金属アルコキシド０．１部および溶剤６０部を分散機を用いて混錬することにより、粘度が３８００ｍＰａ・ｓ（２．５ｒｐｍ、TV-30形粘度計（東機産業社製）にて測定、以下同じ）である本発明の組成物を調製した。
（１）ガラス粉末含有樹脂組成物の調製：
ガラス粉末１００重量部、結着樹脂４０重量部、可塑剤３部、分散剤ａ１部、金属アルコキシド０．１部および溶剤６０部を分散機を用いて混錬することにより、粘度が３８００ｍＰａ・ｓ（２．５ｒｐｍ、TV-30形粘度計（東機産業社製）にて測定、以下同じ）である本発明の組成物を調製した。
（２）転写フィルムの製造および評価：
上記（１）で調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）よりなる支持フィルム（幅４００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にブレードコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を１００℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、厚さ６５μｍの膜形成材料層を支持フィルム上に形成した。形成された塗膜の表面について、接触式膜厚計（α-ｓｔｅｐ５００；ケーエルエー・テンコール（株）製）を用いてＪＩＳ規格（Ｂ ０６０１）に準じて表面粗さ（Ｒａ）を、２０００μｍの範囲、１００μｍ／ｓ、カットオフ値１４．２μｍで測定したところＲａ＝１８５０Åであり、表面平滑性に優れたものであった。次いで、当該膜形成材料層上に、予め離型処理したＰＥＴよりなるカバーフィルム（幅４００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）をロールにて貼り合わせ、本発明の転写フィルムを製造した。
得られた転写フィルムは柔軟性を有しており、ロール状に巻き取る操作を容易に行うことができた。またこの転写フィルムを折り曲げても、カバーフィルムとの密着性が良好なため、膜形成材料層からカバーフィルムが浮いたり剥離したりすることがなく、膜形成材料層の表面にひび割れ（屈曲亀裂）等が生じることもなく、当該膜形成材料層は、優れた可撓性を有するものであった。結果を表１に示す。
上記（１）で調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）よりなる支持フィルム（幅４００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にブレードコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を１００℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、厚さ６５μｍの膜形成材料層を支持フィルム上に形成した。形成された塗膜の表面について、接触式膜厚計（α-ｓｔｅｐ５００；ケーエルエー・テンコール（株）製）を用いてＪＩＳ規格（Ｂ ０６０１）に準じて表面粗さ（Ｒａ）を、２０００μｍの範囲、１００μｍ／ｓ、カットオフ値１４．２μｍで測定したところＲａ＝１８５０Åであり、表面平滑性に優れたものであった。次いで、当該膜形成材料層上に、予め離型処理したＰＥＴよりなるカバーフィルム（幅４００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）をロールにて貼り合わせ、本発明の転写フィルムを製造した。
得られた転写フィルムは柔軟性を有しており、ロール状に巻き取る操作を容易に行うことができた。またこの転写フィルムを折り曲げても、カバーフィルムとの密着性が良好なため、膜形成材料層からカバーフィルムが浮いたり剥離したりすることがなく、膜形成材料層の表面にひび割れ（屈曲亀裂）等が生じることもなく、当該膜形成材料層は、優れた可撓性を有するものであった。結果を表１に示す。
＜比較例１〜４＞
分散剤、金属アルコキシドを下記表１に記載のものとした以外は実施例１と同様にして、ガラス粉末含有樹脂組成物を調製し、転写フィルムを製造して評価した。また、実施例１と同様に膜形成材料層を支持フィルム上に形成し、表面粗さを測定した。結果を表１に併せて示す
分散剤、金属アルコキシドを下記表１に記載のものとした以外は実施例１と同様にして、ガラス粉末含有樹脂組成物を調製し、転写フィルムを製造して評価した。また、実施例１と同様に膜形成材料層を支持フィルム上に形成し、表面粗さを測定した。結果を表１に併せて示す
１ ガラス基板 ２ ガラス基板
３ 背面隔壁 ４ 透明電極
５ バス電極 ６ アドレス電極
７ 蛍光物質 ８ 誘電体層
９ 誘電体層 １０ 保護層
１１ 前面隔壁 Ｆ１ 支持フィルム
Ｆ２ 膜形成材料層 Ｆ３ カバーフィルム
３ 背面隔壁 ４ 透明電極
５ バス電極 ６ アドレス電極
７ 蛍光物質 ８ 誘電体層
９ 誘電体層 １０ 保護層
１１ 前面隔壁 Ｆ１ 支持フィルム
Ｆ２ 膜形成材料層 Ｆ３ カバーフィルム
Claims (5)
- （Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有することを特徴とする、ガラス粉末含有樹脂組成物。
- （Ｃ）シリル基含有化合物が、下記式（２）で表される化合物である、請求項１記載のガラス粉末含有樹脂組成物。
- （Ｄ）金属アルコキシドが、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドおよびマグネシウムアルコキシドから選ばれる少なくとも一種である、請求項１乃至２記載のガラス粉末含有樹脂組成物。
- （Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）シリル基含有化合物および（Ｄ）金属アルコキシドを含有する膜形成材料層を有することを特徴とする、転写フィルム。
- 基板上に、請求項４記載の転写フィルムを用いて膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料層を焼成することにより、誘電体層を形成する工程を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
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