JP2000007383A - 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 膜形成材料層の可撓性、転写性（ガラス基板
に対する膜形成材料層の加熱接着性）に優れた転写フィ
ルムを製造することのできる無機粒子含有組成物および
転写フィルム、それを用いたプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）無機粒子、（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）アクリレート化合物および（Ｄ）溶剤を含有する
ことを特徴とする、無機粒子含有組成物および転写フィ
ルム、それを用いたプラズマディスプレイパネルの製造
方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの各表示セルを構成する電極、隔壁、抵抗
体、誘電体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラック
マトリックスの形成において、高精細パターンを形成す
るために好適に使用することができる無機粒子含有組成
物、それを用いて得られる転写フィルム、およびプラズ
マディスプレイパネルの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易である
こと、視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高
いことなどの理由から、フラットパネル表示技術の中で
注目されており、特にカラープラズマディスプレイパネ
ルは、２０インチ以上の壁掛けテレビ用の表示デバイス
として将来主流になるものと期待されている。カラーＰ
ＤＰは、ガス放電により発生する紫外線を蛍光体に照射
することによってカラー表示が可能になる。そして、一
般に、カラーＰＤＰにおいては、赤色発光用の蛍光体部
位、緑色発光用の蛍光体部位および青色発光用の蛍光体
部位が基板上に形成されることにより、各色の発光表示
セルが全体に均一に混在した状態に構成されている。具
体的には、ガラスなどからなる基板の表面に、バリアリ
ブと称される絶縁性材料からなる隔壁が設けられてお
り、この隔壁によって多数の表示セルが区画され、当該
表示セルの内部がプラズマ作用空間になる。そして、こ
のプラズマ作用空間に蛍光体部位が設けられるととも
に、この蛍光体部位にプラズマを作用させる電極が設け
られることにより、各々の表示セルを表示単位とするプ
ラズマディスプレイパネルが構成される。

【０００３】ＡＣ型ＰＤＰの構造の一例を図１に示す。
前面基板ガラスには、一対の維持電極をストライプ状に
複数形成し、その上を誘電体層で覆い、さらにその上に
保護膜であるＭｇＯ膜を蒸着する。また、プラズマディ
スプレイパネルのコントラストを向上させるために、赤
色、緑色、青色のカラーフィルターやブラックマトリッ
クスを誘電体層の下に設ける場合がある。一方背面基板
ガラス上には、信号電極をストライプ状に複数形成し、
信号電極間に隔壁を設け、この隔壁の側面および底面に
蛍光体層を形成する。前記前面基板の維持電極と背面基
板の信号電極が垂直方向になるように張り合わせてシー
ルし、内部にネオンとキセノンの混合ガスを導入する。

【０００４】ＤＣ型ＰＤＰの構造の一例を図２に示す。
前面基板ガラスには、陰極電極をストライプ状に複数形
成する。一方、背面基板ガラス上には、表示陽極と補助
陽極の電極端子およびリードを形成し、さらに陽極端子
と陽極リードの間、補助陽極端子と補助陽極リードの間
には抵抗体を設ける。また、背面基板上の表示陽極端子
と補助陽極端子の部分を除いて誘電体で絶縁する。次い
で放電空間を区画するために隔壁を格子状に設け、この
隔壁側面と陽極端子を除く底面には蛍光体層を形成す
る。前記前面基板の陰極と背面基板の表示陽極、補助陽
極が垂直方向になるように張り合わせてシールし、内部
にネオンとキセノンの混合ガスを導入する。

【０００５】このようなプラズマディスプレイパネルの
電極、隔壁、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルタ
ーおよびブラックマトリックスの製造方法としては、
（１）非感光性の無機粒子含有組成物を基板上にスクリ
ーン印刷してパターンを得、これを焼成するスクリーン
印刷法、（２）感光性の無機粒子含有組成物の膜を基板
上に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を照
射した上で現像することにより基板上にパターンを残存
させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが知
られている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
クリーン印刷法では、パネルの大型化および高精細化に
伴い、パターンの位置精度の要求が非常に厳しくなり、
通常の印刷では対応できないという問題がある。また、
前記フォトリソグラフィー法では、一回の露光および現
像の工程で１０〜１００μｍの膜厚を有するパターンを
形成する際、膜形成材料層の深さ方向に対する感度が不
十分であり、必ずしもエッジがシャープな高精細パター
ンが得られるものとはならないという問題がある。

【０００７】寸法精度の高い電極、隔壁、抵抗体、誘電
体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリッ
クスが得られ、しかも従来の製造方法に比べて作業性が
向上された形成方法として、支持フィルム上に無機粒子
含有組成物からなる膜形成材料層を形成し、基板に転写
し、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト膜を
形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパター
ンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジ
ストパターンを顕在化させ、膜形成材料層をエッチング
処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパ
ターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含
む方法により、電極、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラー
フィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひ
とつを形成する方法を提案している（特願平９−３４０
５１４号参照）。このような製造方法によれば、高精細
でかつ表面の均一性に優れたパターンを形成することが
でき、また、無機粒子含有組成物からなる膜形成材料層
が支持フィルム上に形成されてなる複合フィルム（以
下、「転写フィルム」ともいう。）は、これをロール状
に巻き取って保存することができる点でも有利である。
しかしながら、従来の転写フィルムは、支持フィルム上
に形成される無機膜形成用材料層が十分な可撓性を有す
るものとならず、転写フィルムを折り曲げると、当該無
機膜形成材料層の表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生
するという問題がある。また、ガラス基板に対して十分
な接着性（加熱接着性）を発揮することができず、支持
フィルムからガラス基板の表面に転写されにくいという
問題がある。さらに、エッチング処理時にレジストパタ
ーンに対応する無機膜形成用材料層のパターンの欠損、
欠落が生じやすいという問題がある。

【０００８】本発明は以上のような事情に基いてなされ
たものである。本発明の第１の目的は、膜形成材料層の
可撓性、転写性（ガラス基板に対する膜形成材料層の加
熱接着性）に優れた転写フィルムを製造することのでき
る無機粒子含有組成物および転写フィルムを提供するこ
とにある。本発明の第２の目的は、寸法精度が高いパタ
ーンを形成でき、作業性に優れたプラズマディスプレイ
パネルの製造方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の無機粒子含有組
成物は、（Ａ）無機粒子、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）アク
リレート化合物および（Ｄ）溶剤を含有することを特徴
とする。本発明の転写フィルムは、上記無機粒子含有組
成物から得られる膜形成材料層が支持フィルム上に形成
されていることを特徴とする。本発明のプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、本発明の転写フィルムを構
成する膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料
層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理
してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜
を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、膜形成
材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応す
る膜形成材料層のパターンを形成し、当該パターンを焼
成処理する工程を含む方法により、隔壁、電極、抵抗
体、誘電体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラック
マトリックスの少なくともひとつを形成することを特徴
とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の無機粒子含有組成
物について詳細に説明する。本発明の無機粒子含有組成
物は、無機粒子、結着樹脂およびアクリレート化合物を
含有する有機バインダー並びに溶剤を必須成分として含
有する。

【００１１】＜無機粒子＞本発明の無機粒子含有組成物
に使用される無機粒子は、形成材料の種類によって異な
る。隔壁および誘電体形成材料に使用される無機粒子と
しては、低融点ガラスなどが挙げられ、具体的には、
酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ZnO-B₂O₃
-SiO₂系）、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、の混
合物（PbO-B₂O₃-SiO₂）、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化
ケイ素、酸化アルミニウムの混合物（PbO-B₂O₃-SiO₂-Al
₂O₃系）、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ
素の混合物（PbO-ZnO-B₂O₃-SiO₂系）などを挙げること
ができる。電極形成材料に使用される無機粒子として
は、Ag、Au、Al、Ni、Ag-Pd合金、Cu、Crなどを挙げる
ことができる。抵抗体形成材料に使用される無機粒子と
しては、RuO₂などを挙げることができる。蛍光体形成材
料に使用される無機粒子は、赤色用としてはY₂O₃:E
u³⁺、Y₂SiO₅:Eu³⁺、Y₃Al₅O₁₂:Eu³⁺、YVO₄:Eu³⁺、（Y,G
d）BO₃:Eu³⁺、Zn₃（PO₄）₂:Mnなど、緑色用としてはZn₂
SiO₄:Mn、BaAl₁₂O₁₉:Mn、BaMgAl₁₄O₂₃:Mn、LaPO₄:（Ce,
Tb）、Y ₃（Al,Ga）₅O₁₂:Tbなど、青色用としてはY₂Si
O₅:Ce、BaMgAl₁₀O₁₇:Eu²⁺、BaMgAl ₁₄O₂₃:Eu²⁺、（Ca,S
r,Ba）₁₀（PO₄）₆Cl₂:Eu²⁺、（Zn,Cd）S:Agなどを挙げ
ることができる。カラーフィルター形成材料に使用され
る無機粒子は、赤色用としてはFe₂O₃、Pb₃O₄など、緑色
用としてはCr₂O₃など、青色用としては2（Al₂Na₂Si
₃O₁₀）・Na₂S ₄などを挙げることができる。ブラックマ
トリックス形成材料に使用される無機粒子としては、M
n、Fe、Crなどを挙げることができる。また、形成部位
によっては上記無機粒子のほかに、任意成分として、低
融点ガラスなどの各種無機粒子が含有されていてもよ
い。

【００１２】＜有機バインダー＞本発明の無機粒子含有
組成物を構成する有機バインダーには、結着樹脂および
アクリレート化合物が必須成分として含有される。 （Ｉ）結着樹脂 結着樹脂としては種々の樹脂を用いることができるが、
結着樹脂中にアルカリ可溶性樹脂を３０〜１００重量％
の割合で含有することが特に好ましい。ここに、「アル
カリ可溶性」とは、後述するアルカリ性のエッチング液
によって溶解し、目的とするエッチング処理が遂行され
る程度に溶解性を有する性質をいう。かかるアルカリ可
溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル樹
脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエ
ステル樹脂などを挙げることができる。このようなアル
カリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下
記のモノマー（イ）とモノマー（ロ）との共重合体、又
はモノマー（イ）とモノマー（ロ）とモノマー（ハ）と
の共重合体などの（メタ）アクリル樹脂を挙げることが
できる。

【００１３】モノマー（イ）：アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ
（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボ
キシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートな
どのカルボキシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル
酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒド
ロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプ
ロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシス
チレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチ
レンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などに代
表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類。 モノマー（ロ）：（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）
アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メ
タ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの
モノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；
スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モ
ノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類
などに代表されるモノマー（イ）と共重合可能なモノマ
ー類。 モノマー（ハ）：ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル
酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メ
タ）アクリル酸ベンジルなどのポリマー鎖の一方の末端
に、（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有
するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー
類：

【００１４】上記アルカリ可溶性樹脂の分子量として
は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量
（以下、単に「重量平均分子量（Ｍｗ）」ともいう）と
して５，０００〜１，０００，０００であることが好ま
しく、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００
とされる。また、無機粒子含有組成物における結着樹脂
の含有割合としては、無機粒子１００重量部に対して、
通常１〜１０００重量部とされ、好ましくは５〜２００
重量部とされる。結着樹脂の割合が過小である場合に
は、無機粒子を確実に結着保持することができない。一
方、この割合が過大である場合には、焼成工程に長い時
間を要したり、形成されるパターンの形状が均一なもの
とならなかったりする。

【００１５】（II）アクリレート化合物 有機バインダーに含有されるアクリレート化合物として
は、分子中に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基
を有する化合物が用いられる。分子中に少なくとも１つ
の（メタ）アクリロイル基を有する化合物の具体例とし
ては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレー
ト、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、
ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）ア
クリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル
（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）
アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メ
タ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソ
デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アク
リレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル
（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレー
ト、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル
（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレ
ート類；ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート
などのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；２
−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート
などのアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；ア
クリル酸、メタクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキ
シエチルコハク酸、ω-カルボキシ-ポリカプロラクトン
モノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有
（メタ）アクリレート類；エチレングリコール、プロピ
レングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メ
タ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールの
ジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−
ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメ
チロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ
（メタ）アクリレート類やそれらのジカルボン酸変成
物；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコ
ール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；４−シクロ
ヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの
環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエ
ステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリ
レート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂
（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリ
レート、スピラン樹脂（メタ）アクリレートなどのオリ
ゴ（メタ）アクリレート類；ポリブタジエン、ポリイソ
プレン、ポリカプロラクトンなどの重合体の両末端をヒ
ドロキシル化して得られるジ（メタ）アクリレート類；
トリス（メタ）アクリロイロキシエチルフォスフェート
などを挙げることができ、エチレングリコール、プロピ
レングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メ
タ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールの
ジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−
ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメ
チロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ
（メタ）アクリレート類やそれらのジカルボン酸変成
物；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコ
ール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；が特に好ま
しく用いられる。これらは単独でまたは２種以上を組み
合わせて使用することができる。無機粒子含有組成物に
おけるアクリレート化合物の含有割合としては、無機粒
子１００重量部に対して、通常０．１〜５００重量部と
され、好ましくは０．５〜１００重量部とされる。多価
アクリレート化合物の割合が過小である場合には、得ら
れる転写フィルムの可撓性と転写性に乏しく、またエッ
チング処理時にレジストパターンに対応する膜形成材料
層のパターンの欠損、欠落が生じやすくなる。一方、こ
の割合が過大である場合には、焼成工程に長い時間を要
したり、形成される電極、隔壁、抵抗体、誘電体、蛍光
体、カラーフィルターおよびブラックマトリクスの形状
が均一なものとならなかったりする。また、有機バイン
ダーには、上記結着樹脂およびアクリレート化合物のほ
かに、任意成分として、分散剤、可塑剤、現像促進剤、
接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、粘着性付与剤、表面張力調
整剤、光重合開始剤などの各種添加剤が含有されていて
もよい。

【００１６】＜溶剤＞本発明の無機粒子含有組成物を構
成する溶剤は、当該無機粒子含有組成物に、適当な流動
性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために含有
される。上記溶剤としては、無機粒子との親和性、有機
バインダーの溶解性が良好で、無機粒子含有組成物に適
度な粘性を付与することができ、乾燥されることによっ
て容易に蒸発除去できるものである限り特に制限される
ものではなく、例えばエーテル類、エステル類、エーテ
ルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド
類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スル
ホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化
水素類などを挙げることができる。かかる溶剤の具体例
としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサ
ン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエ
チレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレング
リコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコー
ルジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ
酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオ
ン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、
アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテ
ート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非
環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エス
テル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン
類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジア
ルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−
ピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独でま
たは２種以上を組み合わせて用いることができる。無機
粒子含有組成物における溶剤の含有割合としては、良好
な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内に
おいて適宜選択することができるが、通常、無機粒子１
００重量部に対して、１〜１０，０００重量部であり、
好ましくは１０〜１，０００重量部とされる。

【００１７】本発明の無機粒子含有組成物は、無機粒
子、有機バインダーおよび溶剤を、ロール混練機、ミキ
サー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混
練機を用いて混練することにより調製することができ
る。上記のようにして調製される本発明の無機粒子含有
組成物は、通常、塗布に適した流動性を有するペースト
状の組成物であり、その粘度は、通常、１００〜３０，
０００ｃｐであり、好ましくは、１，０００〜２０，０
００ｃｐである。

【００１８】＜転写フィルム＞本発明の無機粒子含有組
成物は、転写フィルムを製造するために特に好適に使用
することができる。この転写フィルムは、支持フィルム
と、この支持フィルム上に形成された本発明の無機粒子
含有組成物からなる膜形成材料層とにより構成される。
ここに、支持フィルムへの塗布工程に供される本発明の
無機粒子含有組成物の粘度としては、１，０００〜２
０，０００ｃｐであることが好ましい。

【００１９】転写フィルムを構成する支持フィルムは、
耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する
樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可
撓性を有することにより、ロールコーターによって本発
明の組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロー
ル状に巻回した状態で保存し、供給することができる。
支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチ
レンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなど
の含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げるこ
とができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０
〜１００μｍとされる。

【００２０】転写フィルムを構成する膜形成材料層は、
本発明の無機粒子含有組成物を前記支持フィルム上に塗
布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去するこ
とにより形成することができる。本発明の組成物を支持
フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性に優
れた膜厚の大きい（例えば１μｍ以上）塗膜を効率よく
形成することができるものであることが好ましく、具体
的には、グラビアによる塗布方法、ダイによる塗布方
法、ロールコーターによる塗布方法、ドクターブレード
による塗布方法、ドクターロールによる塗布方法、カー
テンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる
塗布方法などを好ましいものとして挙げることができ
る。塗膜の乾燥条件としては、５０〜１５０℃で０．５
〜３０分間程度とされ、乾燥後における溶剤の残存割合
（膜形成材料層中の含有率）は、通常、２重量％以下と
される。上記のようにして支持フィルム上に形成される
膜形成材料層の膜厚としては、無機粒子の含有率、部材
の種類やサイズなどにより、適宜選択することができ
る。また、本発明の転写フィルムは、支持フィルム上
に、後述するレジスト膜を形成した後、本発明の無機粒
子含有組成物からなる膜形成材料層を積層形成してなる
ものであってもよい。この場合、支持フィルム上に形成
されたレジスト膜と膜形成材料層との積層膜を基板上に
一括転写することが可能となり、さらなる工程の簡略
化、パターンの高精細化を図ることができる。なお、本
発明の転写フィルムに用いられる支持フィルムの表面
は、必要に応じて離型処理が施されていることが好まし
い。これにより、基板への転写工程において、支持フィ
ルムの剥離操作を容易に行うことができる。また、転写
フィルムには、膜形成材料層の表面に保護フィルム層が
設けられてもよい。このような保護フィルム層として
は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレ
ンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙
げることができ、必要に応じて離型処理が施されている
ことが好ましい。

【００２１】本発明の組成物は、上記のように、支持フ
ィルム上に膜形成材料層を形成して転写フィルムを製造
する際に特に好適に使用することができるが、これらの
用途に限定されるものではなく、従来において公知の膜
形成材料層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法な
どによって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布
し、塗膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する
方法にも好適に使用することができる。ここに、スクリ
ーン印刷法によるガラス基板への塗布工程に供される本
発明の無機粒子含有組成物の粘度としては、１０，００
０〜２００，０００ｃｐであることが好ましい。

【００２２】＜レジスト膜（レジスト組成物）＞本発明
のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、
膜形成材料層上にレジスト膜が形成され、当該レジスト
膜に露光処理および現像処理を施すことにより、前記膜
形成材料層上にレジストパターンが形成される。レジス
ト膜を形成するために使用するレジスト組成物として
は、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、有機溶
剤現像型感放射線性レジスト組成物、水性現像型感放射
線性レジスト組成物などを例示することができるが、好
ましくはアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物が用
いられる。本発明でいう「放射線」とは、可視光線、紫
外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線などを含むものである。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物は、アルカリ
可溶性樹脂と感放射線性成分を必須成分として含有して
なる。アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成
するアルカリ可溶性樹脂としては、無機粒子含有組成物
の有機バインダー成分を構成するものとして例示したア
ルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。

【００２３】アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物
を構成する感放射線性成分としては、例えば、（イ）多
価アクリレートと光重合開始剤との組み合わせ、（ロ）
メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生
剤との組み合わせ、（ハ）放射線照射によりアルカリ難
溶性のものがアルカリ可溶性になる化合物などを例示す
ることができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多価ア
クリルと光重合開始剤とのネガタイプの組み合わせと
（ハ）のポジタイプが特に好ましい。ネガタイプの感放
射線性成分を構成する多価アクリレートとしては、上述
した本発明の無機粒子含有組成物に用いられるアクリレ
ート化合物のうち、２つ以上の（メタ）アクリロイル基
を有する化合物を挙げることができる。これらは単独で
または２種以上を組み合わせて使用することができる。

【００２４】また、ネガタイプの感放射線性成分を構成
する光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾ
イン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチ
ル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォ
リノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１
−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリ
ル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物ある
いはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有
機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパー
オキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハ
イドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−
ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラ
ニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン
類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，
４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾール
などのイミダゾール二量体などを挙げることができ、こ
れらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。

【００２５】一方、ポジタイプの感放射線性化合物とし
ては、ポリヒドロキシ化合物の１,２−ベンゾキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、１,２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステルおよび１,２
−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステルなど
が挙げられ、特に、１,２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステルが好ましい。感放射線性化合
物は、例えば、ポリヒドロキシ化合物とキノンジアジド
スルホニルクロリドとを塩基性触媒の存在下で反応させ
ることにより得られる。通常、ポリヒドロキシ化合物の
全水酸基に対するキノンジアジドスルホン酸エステルの
割合（平均エステル化率）は、２０％以上１００％以下
であり、好ましくは４０％以上９５％以下である。平均
エステル化率が低すぎると、パターン形成が難しく、高
すぎると感度の低下を招くことがある。ここで、用いら
れるポリヒドロキシ化合物としては、特に限定されるも
のではないが、具体例として下記に示す化合物が挙げら
れる。

【００２６】

【化１】

【００２７】（式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₁₅は、それぞれ相互に同
一または異なり、水素原子、Ｃ₁ 〜Ｃ ₄ のアルキル基、
Ｃ₁ 〜Ｃ₄ のアルコキシ基、Ｃ₆ 〜Ｃ₁₀のアリール基ま
たは水酸基である。ただし、Ｘ₁ 〜Ｘ₅ およびＸ₆ 〜Ｘ
₁₀のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも１つは水
酸基である。また、Ｙ₁ は、水素原子またはＣ₁ 〜Ｃ₄
のアルキル基である。）

【００２８】

【化２】

【００２９】（式中、Ｘ₁₆〜Ｘ₃₀は、前記Ｘ₁ 〜Ｘ₁₅と
同様である。ただし、Ｘ₁₆〜Ｘ₂₀、Ｘ ₂₁〜Ｘ₂₅およびＸ
₂₆〜Ｘ₃₀のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも１
つは水酸基である。また、Ｙ₂ 〜Ｙ₄ は、それぞれ相互
に同一または異なり、水素原子またはＣ₁ 〜Ｃ₄ のアル
キル基である。）

【００３０】

【化３】

【００３１】（式中、Ｘ₃₁〜Ｘ₄₄は、前記Ｘ₁ 〜Ｘ₁₅と
同様である。ただし、Ｘ₃₁〜Ｘ₃₅において少なくとも１
つは水酸基である。また、Ｙ₅ 〜Ｙ₈ は、それぞれ相互
に同一または異なり水素原子またはＣ₁ 〜Ｃ₄ のアルキ
ル基である。）

【００３２】

【化４】

【００３３】（式中、Ｘ₄₅〜Ｘ₅₈は、それぞれ相互に同
一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ₁ 〜Ｃ₄
のアルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ のアルコキシ基、Ｃ₅ 〜Ｃ₇
のシクロアルキル基または水酸基である。ただし、Ｘ₄₅
〜Ｘ₄₈およびＸ₄₉〜Ｘ₅₃のそれぞれの組み合わせにおい
て少なくとも１つは水酸基である。また、Ｙ₉ およびＹ
₁₀は、それぞれ相互に同一または異なり水素原子、Ｃ₁
〜Ｃ₄ のアルキル基またはＣ₅ 〜Ｃ₇ のシクロアルキル
基である。）

【００３４】

【化５】

【００３５】（式中、Ｘ₅₉〜Ｘ₈₀は、前記Ｘ₄₅〜Ｘ₅₈と
同様である。ただし、Ｘ₅₉〜Ｘ₆₃、Ｘ ₆₄〜Ｘ₆₇、Ｘ₇₂〜
Ｘ₇₅およびＸ₇₆〜Ｘ₈₀のそれぞれの組み合わせにおいて
少なくとも１つは水酸基である。また、Ｙ₁₁〜Ｙ₁₈は、
それぞれ相互に同一または異なり水素原子またはＣ₁ 〜
Ｃ₄ のアルキル基である。）

【００３６】

【化６】

【００３７】（式中、Ｘ₈₁〜Ｘ₉₀はそれぞれ相互に同一
または異なり、水素原子、Ｃ₁ 〜Ｃ₄のアルコキシ基、
Ｃ₆ 〜Ｃ₁₀のアリール基または水酸基である。ただし、
Ｘ₈₁〜Ｘ₉₀の組み合わせにおいて少なくとも１つは水酸
基である。）

【００３８】このアルカリ現像型感放射線性レジスト組
成物における感放射線性成分の含有割合としては、アル
カリ可溶性樹脂１００重量部当たり、通常１〜２００重
量部とされ、好ましくは５〜１００重量部である。ま
た、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物について
は、良好な膜形成性付与するために、適宜有機溶剤が含
有される。かかる有機溶剤としては、無機粒子含有組成
物を構成するものとして例示した溶剤を挙げることがで
きる。本発明において使用するレジスト組成物には、任
意成分として、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防
止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料などの各種添加剤が
含有されていてもよい。

【００３９】＜現像液＞レジスト膜の現像工程で使用さ
れる現像液としては、レジスト膜（レジスト組成物）の
種類に応じて適宜選択することができる。具体的には、
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物によるレジス
ト膜にはアルカリ現像液を使用することができる。アル
カリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナ
トリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カ
リウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモ
ニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウ
ム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホ
ウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ア
ンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチル
アンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有
機アルカリ性化合物などを挙げることができる。レジス
ト膜の現像工程で使用されるアルカリ現像液は、前記ア
ルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解さ
せることにより調製することができる。ここに、アルカ
リ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常
０．００１〜１０重量％とされ、好ましくは０．０１〜
５重量％とされる。なお、アルカリ現像液による現像処
理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。

【００４０】＜エッチング液＞膜形成材料層のエッチン
グ工程で使用されるエッチング液としては、アルカリ性
溶液であることが好ましい。これにより、膜形成材料層
に含有されるアルカリ可溶性樹脂を容易に溶解除去する
ことができる。なお、膜形成材料層に含有される無機粒
子は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されている
ため、アルカリ性溶液でバインダーであるアルカリ可溶
性樹脂を溶解させ、洗浄することにより、無機粒子も同
時に除去される。ここに、エッチング液として使用され
るアルカリ性溶液としては、現像液と同一組成の溶液で
あることがさらに好ましい。エッチング液が、現像工程
で使用するアルカリ現像液と同一の溶液であることによ
り、現像工程と、エッチング工程とを連続的に実施する
ことが可能となり、工程の簡略化を図ることができる。
なお、アルカリ性溶液によるエッチング処理がなされた
後は、通常、水洗処理が施される。

【００４１】＜プラズマディスプレイパネルの製造方法
＞以下、本発明の製造方法について詳細に説明する。本
発明の製造方法においては、〔１〕膜形成材料層の転写
工程、〔２〕レジスト膜の形成工程、〔３〕レジスト膜
の露光工程、〔４〕レジスト膜の現像工程、〔５〕膜形
成材料層のエッチング工程、〔６〕パターンの焼成工程
により、プラズマディスプレイパネルの電極、抵抗体、
誘電体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマト
リックスを形成する。

【００４２】〔１〕膜形成材料層の転写工程 本発明の転写フィルムを使用し、本発明の無機粒子含有
組成物から形成される膜形成材料層を基板の表面に転写
する。転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必
要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を
剥離した後、基板の表面に、膜形成材料層の表面が当接
されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィ
ルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、膜形成材料
層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板
の表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態とな
る。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの
表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧
が１〜５ｋｇ／ｃｍ² 、加熱ローラの移動速度が０．１
〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、基板は予
熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１
００℃とすることができる。

【００４３】〔２〕レジスト膜の形成工程 この工程においては、転写された膜形成材料層の表面に
レジスト膜を形成する。このレジスト膜を構成するレジ
ストとしては、ポジ型レジストおよびネガ型レジストの
いずれであってもよい。レジスト膜は、スクリーン印刷
法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の
方法によってレジストを塗布した後、塗膜を乾燥するこ
とにより形成することができる。また、支持フィルム上
に形成されたレジスト膜を膜形成材料層の表面に転写す
ることによって形成してもよい。このような形成方法に
よれば、レジスト膜の形成工程における工程改善（高効
率化）を図ることができるとともに、形成されるパター
ンの膜厚均一性を図ることができる。レジスト膜の膜厚
としては、通常、０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５
〜２０μｍである。

【００４４】〔３〕レジスト膜の露光工程 この工程においては、膜形成材料層上に形成されたレジ
スト膜の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの
放射線を選択的照射（露光）して、レジストパターンの
潜像を形成する。ここに、放射線照射装置としては、前
記フォトリソグラフィー法で使用されている紫外線照射
装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用さ
れている露光装置など特に限定されるものではない。

【００４５】〔４〕レジスト膜の現像工程 この工程においては、露光されたレジスト膜を現像処理
することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化さ
せる。ここに、現像処理条件としては、レジスト膜の種
類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時
間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャ
ワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜
選択することができる。この現像工程により、レジスト
残留部とレジスト除去部とから構成されるレジストパタ
ーンが形成される。このレジストパターンは、次工程
（エッチング工程）におけるエッチングマスクとして作
用するものであり、レジスト残留部の構成材料（光硬化
されたレジスト）は、膜形成材料層の構成材料よりもエ
ッチング液に対する溶解速度が小さいことが必要であ
る。

【００４６】〔５〕膜形成材料層のエッチング工程 この工程においては、膜形成材料層をエッチング処理
し、レジストパターンに対応するパターンを形成する。
すなわち、膜形成材料層のうち、レジストパターンのレ
ジスト除去部に対応する部分がエッチング液に溶解され
て選択的に除去される。そして、膜形成材料層における
レジスト除去部に対応する部分で、基板表面が露出す
る。これにより、材料層残留部と材料層除去部とから構
成されるパターンが形成される。ここに、エッチング処
理条件としては、膜形成材料層の種類などにに応じて、
エッチング液の種類・組成・濃度、処理時間、処理温
度、処理方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、ス
プレー法、パドル法）、処理装置などを適宜選択するこ
とができる。なお、エッチング液として、現像工程で使
用した現像液と同一の溶液を使用することができるよ
う、レジスト膜および膜形成材料層の種類を選択するこ
とにより、現像工程と、エッチング工程とを連続的に実
施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率
の向上を図ることができる。ここに、レジストパターン
を構成するレジスト残留部は、エッチング処理の際に徐
々に溶解され、パターンが形成された段階（エッチング
処理の終了時）で完全に除去されるものであることが好
ましい。なお、エッチング処理後にレジスト残留部の一
部または全部が残留していても、当該レジスト残留部
は、次の焼成工程で除去される。

【００４７】〔６〕パターンの焼成工程 この工程においては、パターンを焼成処理して電極、抵
抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルターまたはブラッ
クマトリックスを形成する。これにより、材料層残留部
中の有機物質が焼失して、金属層、蛍光体層などの無機
物層が形成され、基板の表面に電極、抵抗体、誘電体、
蛍光体、カラーフィルターまたはブラックマトリックス
のパターンが形成されてなるパネル材料を得ることがで
きる。ここに、焼成処理の温度としては、材料層残留部
中の有機物質が焼失される温度であることが必要であ
り、通常、４００〜６００℃とされる。また、焼成時間
は、通常１０〜９０分間とされる。

【００４８】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において「部」は「重量部」を示す。 ＜実施例１＞ （１）無機粒子含有組成物（電極形成用組成物）の調
製： （ａ）無機粒子として平均粒径１μｍの銀粉末１００
部、平均粒径２μｍのガラス粉末１０部、（ｂ）結着樹
脂としてｎ−ラウリルメタクリレート／ｎ−ブチルメタ
クリレート／メタクリル酸＝４０／４０／２０（重量
％）共重合体（Ｍｗ＝２５０，０００）３０部、アクリ
レート化合物として、トリプロピレングリコールジアク
リレート１０部、（ｃ）溶剤としてプロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート１００部、およびその
他任意成分としてステアリン酸（分散剤として）１部を
混練りすることにより、本発明の無機粒子含有組成物を
調製した。 （２）アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物の調
製：次いで、アルカリ可溶性樹脂としてｎ−ブチルメタ
クリレート／メタクリル酸＝７０／３０（重量％）共重
合体（Ｍｗ＝６０，０００）６０部、多価アクリレート
（感放射線性成分）としてペンタエリスリトールテトラ
アクリレート４０部、光重合開始剤（感放射線性成分）
として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン５部および
溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート１００部を混練りすることにより、アルカリ現
像型感放射線性レジスト組成物（以下、「レジスト組成
物」という。）を調製した。

【００４９】（３）転写フィルムの製造：下記（イ）、
（ロ）の操作により、レジスト膜および膜形成材料層を
有する積層膜が支持フィルム上に形成されてなる本発明
の転写フィルムを作製した。 （イ）上記（２）で調製したレジスト組成物を予め離型
処理したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム上にロー
ルコータを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥
して溶剤を完全に除去し、厚さ５μｍのレジスト膜を支
持フィルム上に形成した。 （ロ）上記（１）で調製した無機粒子含有組成物をレジ
スト膜上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を１００
℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ４０μｍ
の膜形成材料層をレジスト膜上に形成した。 （４）転写フィルムの可撓性評価：上記（３）で製造し
た転写フィルムを折り曲げ、膜形成材料層の表面にひび
割れ（屈曲亀裂）の発生を目視確認することにより、当
該転写フィルムの可撓性評価を行った。評価結果を表１
に示す。

【００５０】（５）転写フィルムの転写性評価：予めホ
ットプレート上で８０℃に加熱されたガラス基板の表面
に、反射防止膜形成用ペースト層の表面が当接されるよ
う上記（４）で製造した転写フィルムを重ね合わせ、こ
の転写フィルムを加熱ローラに熱圧着した。ここで、圧
着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロ
ール圧を４ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度を０．
５ｍ／分、および０．１ｍ／分とした。熱圧着処理の
終了後、転写フィルム（レジスト膜の表面）から支持フ
ィルムを剥離除去し、ガラス基板の表面に転写フィルム
が転写されて密着した状態となることを目視確認するこ
とにより、当該転写フィルムの転写性評価を行った。評
価結果を表１に示す。 （６）パターニング特性の評価：上記（５）においてガ
ラス基板上に形成された転写膜中のレジスト膜に対し
て、露光用マスク（５０μｍ幅のストライプパターン）
を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍ
の紫外線）を２００ｍＪ／ｃｍ²照射し、次いで、露光
処理されたレジスト膜に対して、０．１重量％の水酸化
カリウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法に
よるレジスト膜の現像処理および連続して０．１重量％
の水酸化カリウム水溶液（２５℃）をエッチング液とす
るシャワー法による無機膜形成用材料層のエッチング処
理を、合計３分間行った。次いで、超純水による水洗処
理および乾燥処理を行い、パターンの欠損、欠落を光学
顕微鏡観察することにより、パターニング特性評価を行
った。評価結果を表１に示す。

【００５１】＜実施例２＞実施例１の（１）無機粒子含
有組成物の調製における（ｂ）アクリレート化合物を、
トリメチロールプロパントリアクリレート１０部に変更
した以外は実施例１と同様にして、転写フィルムの製
造、パターンの形成および評価を行った。評価結果を表
１に併せて示す。 ＜実施例３＞実施例１の（１）無機粒子含有組成物の調
製における（ｂ）アクリレート化合物を、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート１０部に変更した以外は
実施例１と同様にして、転写フィルムの製造、パターン
の形成および評価を行った。評価結果を表１に併せて示
す。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【発明の効果】本発明の無機粒子含有組成物から得られ
る本発明の転写フィルムは、可撓性および転写性に優
れ、エッチング処理時にレジストパターンに対応する膜
形成用材料層のパターンを良好に形成することができ
る。したがって、本発明の無機粒子含有組成物および転
写フィルムは、プラズマディスプレイパネルの電極、隔
壁、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルターおよび
ブラックマトリックスの形成のために好適に使用するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 一般的なＡＣ型ＰＤＰを示す説明用断面図で
ある。

【図２】 一般的なＤＣ型ＰＤＰを示す説明用断面図で
ある。

【符号の説明】

１ 前面基板 ２ 背面
基板 ３ 誘電体 ３Ａ Ｍｇ
Ｏ層 ４ 蛍光体 ５ 障壁 ６Ａ 維持電極 ６Ｂ 信号
電極 ６ａ 陰極 ６ｂ 表示
陽極 ６ｂ’ 表示陽極リード ６ｃ 補助
陽極 ６ｃ’ 補助陽極リード ７ 抵抗 ８ 表示セル ９ 補助
セル １０ バスライン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 17/49 Ｈ０１Ｊ 17/49 Ｚ ５Ｃ０４０ // Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ ５１２ ５１２ (72)発明者 野間 節子 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB11 AB17 AC01 AD01 AD03 DA40 EA08 FA03 FA15 FA29 FA40 4G059 AA07 AA08 FA15 FA28 FB10 4J002 AC112 BC121 BG011 BG071 BH001 CC031 CF001 CF192 CH052 DA066 DC006 DE096 DL006 ED008 EE028 EH008 EH077 EP008 EV028 EV208 EV218 FD016 FD202 FD206 FD207 FD208 GP03 5C027 AA01 AA05 AA09 5C028 AA01 FF01 HH14 5C040 GC18 GC19 GD07 GD09 GF18 GF19 GG07 GG09 GH03 GH07 JA01 JA09 JA15 JA19 KA01 KA07 KA16 KA17 KB04 KB06 KB14 KB19 KB24 LA17 MA26

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）無機粒子、（Ｂ）結着樹脂、
   （Ｃ）アクリレート化合物および（Ｄ）溶剤を含有する
   ことを特徴とする、無機粒子含有組成物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の無機粒子含有組成物から
   得られる膜形成材料層が支持フィルム上に形成されてい
   ることを特徴とする、転写フィルム。
3. 【請求項３】 請求項２記載の転写フィルムを用いて、
   膜形成材料層を基板上に転写し、当該膜形成材料層上に
   レジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレ
   ジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像
   処理してレジストパターンを顕在化させ、膜形成材料層
   をエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形
   成材料層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理
   する工程を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、誘電
   体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリッ
   クスの少なくともひとつを形成することを特徴とする、
   プラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 【請求項４】 レジスト膜と、請求項１記載の無機粒子
   含有組成物からなる膜形成材料層との積層膜を支持フィ
   ルム上に形成し、当該積層膜を基板上に転写し、当該積
   層膜を構成するレジスト膜を露光処理してレジストパタ
   ーンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレ
   ジストパターンを顕在化させ、膜形成材料層をエッチン
   グ処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層の
   パターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を
   含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、誘電体、蛍光
   体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少
   なくともひとつを形成することを特徴とする、プラズマ
   ディスプレイパネルの製造方法。