KR100800263B1 - 오프셋 인쇄용 전극 조성물 및 그에 의한 전극의 제조방법,이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

Abstract

본 발명은 도전성 물질, 유기바인더, 유리 프리트 및 용제를 포함하는 오프셋 인쇄용 전극 조성물, 그에 의한 전극의 제조방법 및 이를 이용한 플라스마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 본 발명의 조성물은 유리전이 온도가 -50℃ 내지 -5℃ 인 유기 바인더를 이용함으로써 우수한 전사성을 가지며, 또한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 및 배면판 상에 미세전극 패턴 제조 시, 패턴의 형성속도를 향상시키고 재현성을 구현할 수 있다.

플라즈마 디스플레이, 오프셋, 도전 물질, 유기바인더, 유리 프리트

Description

오프셋 인쇄용 전극 조성물 및 그에 의한 전극의 제조방법, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널{Electrode Composition for Offset Print, Method for Preparing a Electrode by the Same and a Plasma Display Panel using the Same}

도 1은 본원발명의 조성물을 이용한 오프셋 공정을 도시한 개념도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

11 : 그라비아롤 12 : 금속 칼날

14 : 본원발명의 조성물 15 : 블랭킷롤

17 : 유리기판

본 발명은 오프셋 인쇄를 통하여 전극을 형성하는 조성물에 관한 것으로, 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널 전면판 및 배면판의 어드레스 및 버스전극 형성에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도전성 물질,유기 바인더, 유리프리트 및 용제를 포함하고, 특히 유기 바인더의 유리전이 온도가 -50℃ 내지 -5℃ 인 오프셋 인 쇄용 전극 조성물에 관한 것이다.

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 플랫 패널 디스플레이의 하나로서 LCD나 프로젝션 TV 등과 경쟁하면서, 근래에 급속히 시장이 확대되고 있는 디스플레이의 종류이다.

AC(교류)형 PDP를 예로 들면, 그 구조는 통상 투명 전극(유지 전극)과 버스 전극이 유전체 층으로 덮힌 전면판으로 불리는 유리 기판과, 어드레스 전극, 유전체층, 격벽, 형광체로 구성된 셀 구조를 가지는 배면판으로 불리는 유리 기판을 포함하여 구성되며, 양면의 전극이 직교하도록 마주보게 배치한 것이다.

발광은 양면의 전극 간에 전압을 인가해, 셀 내에 방전 현상을 발생시켜, 이때 생긴 자외선에 의해 격벽셀 내부의 형광체를 여기 시킴으로써 행해진다. 패널의 구조상 발광된 각각의 적녹청(RGB) 셀의 조합으로 얻어진 화상은 전면판의 전극이 형성된 면의 뒤에서 인식된다. 이 때문에 표시되는 화상의 품질(콘트라스트)을 향상시키기 위해 표시 면에 해당되는 전면판의 버스전극이 배면으로부터의 인식성을 억제하는 방법으로서 투명 전극과 버스 전극의 사이에 흑색 전극을 형성하는 방법도 공지된 바 있다.

상기 전극을 형성하는 방법으로는 종래에 감광성 전극형성용 조성물을 스크린 인쇄를 통하여 유리기판에 전면 인쇄를 시행하고 포토 리소그라피법을 이용하여 필요한 부분만을 노광, 현상하고 소성하여 전극을 형성하였다.

하지만 이와 같은 포토리소그라피법은 불필요한 부분까지 모두 인쇄한 후 현상공정을 통하여 제거함으로써 고가의 재료의 유실이 커 제조비가 상승하는 단점과 인쇄,건조,노광,현상,소성 고정을 거쳐 제조되기 때문에 많은 공정시간이 소요되는 단점을 가지고 있다.

또한 스크린 인쇄시 사용되는 금속 및 폴리에스터 스크린 마스크는 사용 시간이 경과함에 따라 늘어나 변형되어 인쇄 막 두께가 변하는 단점을 가지고 있다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 잉크젯 인쇄, 필름전사 방법 등이 제시되고 있지만, 높은 재료비, 많은 공정 수, 고가의 장비 등의 문제로 현재로서는 기술의 한계성을 가지고 있다.

예로 잉크젯 인쇄의 경우에는 잉크젯 인쇄용 잉크를 제조하기 위하여는 나노 크기의 고가의 전도성 분말이 필요한데, 이에 대한 제조공정이 복잡하며, 제조비도 높다. 뿐만 아니라 잉크젯 인쇄를 통하여 전극 형성시에 미세한 패턴을 정밀성을 가지고 어렵고, 두께 또한 충분치 못한 단점을 가지고 있다.

또 다른 예로 필름전사법의 경우는 스크린 마스크의 정밀성 한계와 긴 가공시간의 단점을 극복하기 위하여 제시되는데 감광성 전극 조성물을 필름상에 형성하여 기판상에 전사시킨 후 노광,현상하여 기판에 전극 패턴을 형성하는 방법으로 여전히 고가 재료의 유실을 줄이는 데는 한계를 보이는 단점이 있다.

상기와 같은 단점을 해결하기 위하여 본 발명에서는 오프셋 인쇄를 통하여 공정 수를 인쇄,건조,소성으로 기존공정 대비 공정수를 줄이고 필요한 부분만을 인쇄함으로써 고가 재료의 유실 없이 미세한 전극 패턴을 재현성을 가지고 기판에 형성할 수 있는 조성물을 개발하였다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출 된 것으로서, 본 발명의 목적은, 오프셋 인쇄를 통하여 미세 패턴 형성을 가능하게 하는 조성물을 개발함으로써 저비용,고효율의 플라스마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 상기 조성물에 의한 전극 및 이를 포함하는 플라스마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은, 도전성 물질, 유리전이 온도가 -50 내지 -5℃ 인 유기 바인더, 유리프리트 및 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 조성물이 제공된다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은

a) 본 발명의 조성물을 제조하는 단계 ;

b) a)단계에서 제조된 조성물을 그라비아롤 요판홈에 충진하는 단계 ;

c) 상기 그라비아롤에 충진된 조성물을 실리콘 고무로 된 블랭킷롤 상에 전사하는 단계 ;

d) 상기 블랭킷롤 상에 전사된 조성물을 유리 기판에 전사하는 단계 ; 및

e) 유리 기판에 전사된 조성물을 건조 및 소성하는 단계

를 포함하는 전극 형성 방법에 관계한다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 양상은 상기 전극 형성 방법으로 형성된 전극 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관계한다.

이하에서 본 발명에 관해 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명에 따른 전극 조성물은 플라스마 디스플레이 패널의 전면판 및 배면판에 오프셋 인쇄에 의하여 미세 패턴을 재현성 있게 형성하는 것 및 인쇄 후 소성 등의 열처리에 의하여 전극을 형성하는 것이므로 먼저 오프셋 인쇄에 대해 도면을 참고로 하여 먼저 상술한다.

본 발명에서의 오프셋인쇄는 오프(Off)공정과 세트(Set)공정으로 두 공정으로 나누어지는데, 먼저 오프공정 이전에 선폭 50~150㎛ 미세한 패턴이 깊이 10~50㎛로 형성된 그라비아롤(11)상에 본원 발명에 의한 조성물(14)을 충진한 후 금속 칼날(12)을 사용하여 그라비아롤 상에 오버플로우 된 조성물을 긁어내는 닥터링 (Doctoring) 공정을 실시하고, 이 후 오프공정은 블랭킷롤(15)과 조성물이 채워진 그라비아롤(11)을 연속하여 압착하면서 회전시켜 그라비아롤 요판 홈에 채워진 조성물을 실리콘 고무 표면으로 된 블랭킷(Blanket)롤(15) 표면에 전사시키는 공정이다.

세트공정은 실리콘 고무 표면으로 된 블랭킷롤(15)과 유리기판(17)을 압착하면서 회전시켜 실리콘 블랭킷 표면상에 전사된 조성물을 유리기판 위로 다시 전사시키는 공정이다.

상기 오프셋 공정에서 그라비아롤 상의 요판홈 내의 조성물이 패턴의 돌기, 배선의 끊김 없이 모두 실리콘 블랭킷에 전사되는 것과 연속하여 실리콘 블랭킷 상에 전사된 조성물을 잔유물 없이 미세한 전극 패턴으로 유리기판상에 다시 전사시키는 오프셋 인쇄용 전극 조성물을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 오프셋 인쇄용 전극 조성물은 a) 도전성 물질 50 내지 95 중량 %, b)유기바인더 1 내지 20 중량 %, c) 유리프리트 1 내지 20중량 % 및 잔량으로서 용제를 포함한다.

본 발명의 오프셋 인쇄용 전극 조성물에 사용되는 도전성 물질은 통전성을 증가시키기 위한 것으로, 직경이 0.1㎛에서 3㎛범위를 가지는 금, 백금, 팔라듐, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 도전성 분말을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 0.5㎛에서 2㎛ 범위의 직경이 바람직하다.

도전성 물질의 함량은 50 중량%에서 95 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 60 내지 80 중량%이다. 함량이 50 중량% 미만일 경우, 전극의 충분한 도전성을 확보하기 곤란할 수 있으며, 95 중량%를 초과하게 되면 오프셋 인쇄를 시행함에 있어서 전사가 정상적으로 되지 않고, 전극의 두께가 지나치게 두꺼워질 수 있다.

본 발명에서 유기 바인더는 유리전이 온도가 -50℃ 내지 -5℃ 인 고분자 수 지를 사용하는 것이 바람직하다. 유기 바인더의 유리전이 온도가 -50℃ 미만이면 오프 프로세스 및 세트 프로세스상에 패턴에 돌기가 많이 생기게 되며,또한 유리기판상에 전사된 패턴 위에 불필요한 이물이 부착시 압축공기에 의한 먼지 제거가 용이하지 않은 단점이 있다. -5℃를 초과하면 블랭킷 상에 전사된 조성물이 점착력을 가지지 않아 유리기판상에 전사가 용이하게 되지 않는 문제가 있다.

상기 유기바인더로는 에틸렌성 불포화 단량체와 이와 공중합이 가능한 다른 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체인 아크릴계 수지, 수용성 셀룰로스계 수지, 폴리비닐 알콜 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 폴리비닐 부티랄 수지 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이러한 유기 바인더의 함량은 1 내지 20 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 5 내지 15 중량%이다.함량이 1 중량% 미만이면 오프 및 세트 프로세스에서 전사가 용이하지 않으며, 은분말과 같은 무기물의 침강이 쉽게 발생할 수 있고, 20 중량%를 초과하면 소성 후 전극 표면에 기공이 많이 발생하며, 전극의 도전성이 저하되는 문제가 생길 수 있다.

또한, 상기 유기 바인더는 하기 화학식의 구조를 가지는 것이 바람직하며, 중량 평균 분자량은 1,000~200,000이고, 산가는 20~250mgKOH/g인 것이 바람직하다.

본 발명에서 용제는 유기 바인더를 녹일 수 있는 것으로서 100~300℃의 비점을 갖는 용제를 사용할 수 있으며, 실리콘 블랭킷 팽윤을 적게 시키는 1차 및 2차의 알콜류를 사용하는 것이 바람직하다.

상기 용제의 예로는 이소프로필 알콜, 2-에틸헥실알콜, 메톡시펜탄올, 부톡시에탄올, 에톡시에톡시 에탄올, 부톡시에톡시 에탄올, 메톡시 프로폭시 프로판올, 글리세롤, 에틸렌글리콜, 글리세롤, 텍산올, 알파터피네올, 케로센, 미네랄스피릿 및 디히드로터피네올 으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 사용할 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에서는 비점이 100~150℃인 것과 비점이 200~300℃인 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 비점이 100~150℃인 것과 비점이 200~300℃인 두 용제를 혼용하는 경우, 그 혼합비는 1/9 내지 9/1인 것이 바람직하다. 혼합비가 1/9 미만이면 세트 공정 시 조성물의 기판상에 전사가 양호하지 않은 문제가 있으며, 9/1을 초과하면 닥터링 공정에서 그라비아롤 상에 존재하는 조성물의 건조가 빨라 정상적으로 오프 되지 않는 문제점이 발생할 수 있다.

본 발명에서 유리 프리트는 도전성 물질과 기판과의 부착성을 증가시키는 기능을 하는 것으로서 연화점이 300~600℃의 것으로, 산화납, 산화비스무스, 산화 아연 등을 주성분으로 하고, 유리 전이온도가 200~500℃인 것이 바람직하다. 입경은 사용 막 두께를 고려해 최대 입경이 5㎛을 넘지 않도록 하는 것이 바람직하다.

이러한 유리 프리트의 함량은 1 내지 20 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 3 내지 15 중량%이다.함량이 1 중량% 미만이면 소성 후 전극패턴과 전극기판과의 접착성이 용이하지 않으며, 20 중량%를 초과하면 상대적으로 도전성 물질이나 유기 바인더의 함량이 적어져, 전극 패턴의 도전성 및 기계적 강도가 저하될 수 있다.

본 발명의 조성물은 상술한 성분들 이외에 바인더 용액에 가용인 유기 바인더의 용해성을 조정하기 위해 가소제를 더 포함할 수 있다. 가소제는 유기 바인더에 혼용성을 가지는 것이 사용될 수 있으며, 건조특성을 조정할 목적으로 사용된다. 상기 가소제의 예로는 프탈산에스테르, 아디핀산에스테르, 인산에스테르, 트리멜리트산에스테르, 구연산에스테르, 에폭시, 폴리에스테르, 글리세롤 및 수용성이며 고비점을 가지는 아크릴 화합물의 모노머, 올리고머 및 트리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.

또한, 본 발명에서는 상기 성분 이외에 필요에 따라 분산제, 점도 안정화제, 소포제, 커플링제 등을 추가로 더 포함할 수 있다.

본 발명의 다른 양상은 상술한 전극 형성 방법에 관계한다. 본 발명의 방법에 의해 투명 전극을 제조하는 경우에는

a) 본 발명의 조성물을 제조하는 단계 ;

b) a)단계에서 제조된 조성물을 그라비아롤 요판홈에 충진하는 단계 ;

c) 상기 그라비아롤에 충진된 조성물을 실리콘 고무로 된 블랭킷롤 상에 전사하는 단계 ;

d) 상기 블랭킷롤 상에 전사된 상기 조성물을 유리 기판에 전사하는 단계 ; 및

e) 유리 기판에 전사된 조성물을 건조 및 소성하여 전극을 형성하는 단계

를 포함한다.

또한 본 발명은 상기 제조방법을 통해 형성된 전극을 포함한 플라즈마 디스플레이 패널을 포함한다.

이하에서 실시예를 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명할 것이나, 이들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로, 본 발명의 보호범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.

실시예 1.

메타크릴산2-에칠헥실메타크릴레이트부틸아크릴레이트 공중합체 수지를 60중량% 포함한 텍산올 용액 17.5 중량%에, 점도 안정화제로서 말론산 0.17중량%, 은 분말 64중량%, 유리 프리트 8.9 중량%로 혼합, 교반 후, 세라믹 3 롤밀로 혼련분산하여 조성물을 얻었다. 이것에 희석용제로서 메톡시 프로폭시 프로판올을 9.5중량%로 더하여 점도를 조절하였다.

실시예 2.

메타크릴산2-에칠헥실메타크릴레이트부틸아크릴레이트 공중합체 수지를 60중량% 포함한 텍산올 용액 17.5 중량%에, 점도 안정화제로서 말론산 0.17중량%, 은 분말 64중량%, 유리 프리트 8.9 중량%로 혼합, 교반 후, 세라믹 3 롤밀로 혼련분산하여 조성물을 얻었다. 이것에 희석용제로서 부톡시 에탄올을 9.5중량%로 더하여 점도를 조절하였다.

실시예 3.

메타크릴산2-에칠헥실메타크릴레이트부틸아크릴레이트 공중합체 수지를 60중량% 포함한 텍산올 용액 17.5 중량%에, 점도 안정화제로서 말론산 0.17중량%, 은분말 64중량%, 유리 프리트 8.9 중량%로 혼합, 교반 후, 세라믹 3 롤밀로 혼련분산하여 조성물을 얻었다. 이것에 희석용제로서 에톡시 에톡시 에탄올을 9.5중량%로 더하여 점도를 조절하였다.

실시예 4.

메타크릴산2-에칠헥실메타크릴레이트부틸아크릴레이트 공중합체 수지를 60중량% 포함한 부톡시 에탄올 용액 17.5 중량%에, 점도 안정화제로서 말론산 0.17중량%, 은분말 64중량%, 유리 프리트 8.9 중량%로 혼합, 교반 후, 세라믹 3 롤밀로 혼련분산하여 조성물을 얻었다. 이것에 희석용제로서 부톡시 에탄올을 9.5중량%로 더하여 점도를 조절하였다.

비교예 1.

메타크릴산메칠메타아크릴레이트 공중합체 수지를 60중량% 포함한 텍산올 용액 17.5 중량%에, 점도 안정화제로서 말론산 0.17중량%, 은분말 64중량%, 유리 프리트 8.9 중량%로 혼합, 교반 후, 세라믹 3 롤밀로 혼련분산하여 조성물을 얻었다. 이것에 희석용제로서 다이프로필렌글리콜 메틸 에테르를 9.5중량%로 더하여 점도를 조절하였다.

평가는 14cm×14cm 크기의 고융점 유리판에 상기 실시예 1 내지 3의 조성물과 비교예 1의 조성물을 오프셋 인쇄기를 이용하여 전극 패턴을 형성한 후, 100℃로 10분간 유지되도록 조정된 IR벨트 건조로에서 건조하였다. 상기의 공정 후 평가는 오프 프로세스 후 블랭킷에 전사된 상태, 세트공정 후 기판에 전사된 상태 및 블랭킷에 조성물의 잔유물 남음 여부를 확인하였다. 이후 기판을 560℃에서 20분간 소성하여 패턴형상 및 저항을 확인하였고 그 결과를 표 1에 나타내었다.

[평가기준]

1. 오프(off) 프로세스

매우좋음 : 패턴부 돌기,배선부의 끊김없이 발생하지 않음

좋음 : 패턴부 돌기,배선부의 끊김이 약간 발생

나쁨 : 패턴부 돌기,배선부의 끊김이 많이 발생

2. 세트(set) 프로세스

매우좋음 : 패턴부 돌기,배선부의 끊김없이 발생하지 않음

좋음 : 패턴부 돌기,배선부의 끊김이 약간 발생

나쁨 : 패턴부 돌기,배선부의 끊김이 많이 발생

3.세트 후 블랭킷상 잔유물

매우좋음 : 잔유물이 남지 않음

좋음 : 소량의 잔유물이 남음

나쁨 : 다량의 잔유물이 남음

4. 소성후 전극형상

매우좋음 : 전극의 상단부가 동그라며, 하단부에는 잔사가 생기지 않음.

좋음 : 전극의 상단부가 동그라며, 하단부에는 잔사가 생김.

나쁨 : 전극의 상단부는 뾰족하며, 하단부에는 잔사가 생김.

평가 항목	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	비교예 1
공중합체 수지의 유리전이온도 (℃)	-15	-15	-15	-15	100
오프 공정	◎	○	◎	○	◎
세트 공정	◎	◎	○	◎	×
세트 후 블랭킷상 잔유물	◎	◎	◎	○	×
비저항(μΩ·㎝)	3.6	3.6	3.6	3.6	3.2
소성 후 두께(㎛)	3.0	3.0	3.0	3.0	3.0
소성 후 전극 형상	◎	○	◎	○	×

(◎ : 매우좋음 ○: 좋음 ×: 나쁨)

표 1을 참고하면, 실시예 1 내지 4이 모든 평가 항목에서 양호한 결과를 나타냄을 알 수 있다. 비교예 1은 세트 공정, 블랫킷의 잔유물 여부 및 소성 후 전극형상에서 불량함을 나타내었다.

이상에서 바람직한 구현예를 이용하여 설명하였으나, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하므로 첨부된 특허청구범위는 본 발명의 요지에 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함한다.

상기 언급한 바와 같은 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 있어서 오프셋 인쇄용 전극 조성물을 사용하여 전극이 형성된 플라스마 디스플레이 패널의 전면판 및 후면판은 충분한 도정성과 미세한 패턴을 재현성 있게 빠른 속도로 제조할 수 있다. 뿐만 아니라 전극을 필요부분만 형성 하여 고가의 도전성 은분말의 사용을 절감하여 재료 비용 삭감에 의해 보다 저가격의 플라스마 디스플레이 패널을 제조할 수 있는 장점이 있다.

Claims (11)

1. a) 도전성물질, b) 유기바인더, c) 유리프리트 및 용제를 포함하는 전극 형성용 조성물에 있어서, 상기 유기바인더가 중량 평균 분자량이 1,000~200,000인 하기 화학식 1로 표시되고, 및 상기 유기바인더의 유리전이 온도가 -50 내지 -5℃인 인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.

   [화학식 1]

   
2. 제 1항에 있어서,

   a) 도전물질 50 ~ 95 중량 %

   b) 유기바인더 1 ~ 20 중량 %

   c) 유리프리트 1 ~ 20 중량 %

   및 잔량으로서 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
3. 삭제
4. 제 1항에 있어서, 상기 유기바인더의 산가가 20~250mgKOH/g인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
5. 제 1항에 있어서, 상기 용제는 비점이 100 내지 150℃인 용제 및 비점이 200 내지 300℃인 용제를 각각 1종 이상 혼합한 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
6. 제 5항에 있어서, 상기 비점이 100 내지 150℃인 용제 및 비점이 200 내지 300℃인 용제의 혼합비가 1/9 내지 9/1인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
7. 제 1항에 있어서, 상기 유리 프리트는 연화점이 300~600℃이고, 유리 전이 온도가 200~500℃인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
8. 제 1항에 있어서, 상기 조성물은 가소제로서 프탈산에스테르, 아디핀산에스테르, 인산에스테르, 트리멜리트산에스테르, 구연산에스테르, 에폭시, 폴리에스테르, 글리세롤 및 수용성이며 고비점을 가지는 아크릴 화합물의 모노머, 올리고머 및 트리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
9. 제 1항에 있어서, 상기 조성물은 분산제, 점도 안정화제, 소포제 및 커플링제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.
10. a) 제 1항, 제 2항, 제 4항 내지 제 9항 중 어느 한 항의 조성물을 제조하는 단계 ;

    b) a)단계에서 제조된 조성물을 그라비아롤 요판 홈에 충진하는 단계 ;

    c) 상기 그라비아롤에 충진된 조성물을 실리콘 고무로 된 블랭킷롤 상에 전사하는 단계 ;

    d) 상기 블랭킷롤 상에 전사된 상기 조성물을 유리 기판에 전사하는 단계 ; 및

    e) 유리 기판에 전사된 조성물을 건조 및 소성하는 단계를 포함하는 전극 형성 방법.
11. 제 10항의 방법으로 형성된 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.

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