JPH08115666A - プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法Info
- Publication number
- JPH08115666A JPH08115666A JP25076494A JP25076494A JPH08115666A JP H08115666 A JPH08115666 A JP H08115666A JP 25076494 A JP25076494 A JP 25076494A JP 25076494 A JP25076494 A JP 25076494A JP H08115666 A JPH08115666 A JP H08115666A
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- JP
- Japan
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- phosphor
- layer
- resist
- paste
- forming
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 所望部分の蛍光体のみを蛍光体ペーストのブ
ラスト速度や充填量によることなく除去してセル障壁内
に均一な蛍光面を形成する。 【構成】 障壁３空間内に蛍光体ペーストを充填して乾
燥させた後、凹凸面を有する蛍光体層５の上にスプレー
塗布によりレジスト層６を形成し、露光・現像により所
望部分のみ耐サンドブラスト性を有するマスク層８を形
成する。このマスク層８を介してサンドブラスト加工を
行い、レジストを除去した部分のみ選択的にサンドブラ
スト処理して不要な蛍光体層５を除去する。バラツキの
少ない加工が行え、均一な蛍光面を形成できる。レジス
トによりブラスト部分を選択的にしているため、パネル
の大面積化及び高精細化にも対応できる。
ラスト速度や充填量によることなく除去してセル障壁内
に均一な蛍光面を形成する。 【構成】 障壁３空間内に蛍光体ペーストを充填して乾
燥させた後、凹凸面を有する蛍光体層５の上にスプレー
塗布によりレジスト層６を形成し、露光・現像により所
望部分のみ耐サンドブラスト性を有するマスク層８を形
成する。このマスク層８を介してサンドブラスト加工を
行い、レジストを除去した部分のみ選択的にサンドブラ
スト処理して不要な蛍光体層５を除去する。バラツキの
少ない加工が行え、均一な蛍光面を形成できる。レジス
トによりブラスト部分を選択的にしているため、パネル
の大面積化及び高精細化にも対応できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰのセル障壁に蛍光面を形成する
方法に関するものである。
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰのセル障壁に蛍光面を形成する
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ＰＤＰの輝度向上を目的と
し、放電空間を規定するセル障壁の壁面に蛍光面を設け
ることが提案されている。そして、セル障壁の壁面に蛍
光面を形成する方法としては、スクリーン印刷法により
赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の３種類の蛍光体ペース
トをそれぞれ所定のセル障壁内に選択充填して乾燥させ
た後、サンドブラスト法などを用いて底面部分の放電に
必要な電極などの露出を行って所定の蛍光面を形成する
方法が知られている（例えば、特開平６−５２０５号公
報参照）。また、蛍光体ペーストをセル障壁内に障壁の
頂部と平滑になるように完全充填し、その後壁面のみに
蛍光体が残留するように耐サンドブラストマスクを形成
した後、サンドブラスト処理により壁面のみに蛍光面を
形成する方法も知られている。
し、放電空間を規定するセル障壁の壁面に蛍光面を設け
ることが提案されている。そして、セル障壁の壁面に蛍
光面を形成する方法としては、スクリーン印刷法により
赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の３種類の蛍光体ペース
トをそれぞれ所定のセル障壁内に選択充填して乾燥させ
た後、サンドブラスト法などを用いて底面部分の放電に
必要な電極などの露出を行って所定の蛍光面を形成する
方法が知られている（例えば、特開平６−５２０５号公
報参照）。また、蛍光体ペーストをセル障壁内に障壁の
頂部と平滑になるように完全充填し、その後壁面のみに
蛍光体が残留するように耐サンドブラストマスクを形成
した後、サンドブラスト処理により壁面のみに蛍光面を
形成する方法も知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術で述べた方
法では、感光性ペーストを用いないため、生産工程が簡
略であるという利点を有してはいるものの、蛍光体ペー
ストのブラスト速度の不均一性や充填量のバラツキによ
り、サンドブラスト法にて除去したい蛍光体の量が不均
一となりパネル特性がばらつくという問題があった。ま
た、後者の方法のおいて感光性レジストを使用する場合
でも、平滑性のよい面へのレジスト塗布が容易ではある
ものの、底面への蛍光面形成が不可能であるという問題
やサンドブラスト処理時間が長くなるなどの問題があっ
た。
法では、感光性ペーストを用いないため、生産工程が簡
略であるという利点を有してはいるものの、蛍光体ペー
ストのブラスト速度の不均一性や充填量のバラツキによ
り、サンドブラスト法にて除去したい蛍光体の量が不均
一となりパネル特性がばらつくという問題があった。ま
た、後者の方法のおいて感光性レジストを使用する場合
でも、平滑性のよい面へのレジスト塗布が容易ではある
ものの、底面への蛍光面形成が不可能であるという問題
やサンドブラスト処理時間が長くなるなどの問題があっ
た。
【０００４】本発明は、このような問題点に鑑みなされ
たものであり、その目的とするところは、所望部分の蛍
光体のみを蛍光体ペーストのブラスト速度や充填量によ
ることなくバラツキのない状態で除去することが可能で
あり、さらに大面積で高精細パターンを有するＰＤＰの
セル障壁の内部に均一な形状の蛍光面を形成することの
できる蛍光面形成方法を提供することにある。
たものであり、その目的とするところは、所望部分の蛍
光体のみを蛍光体ペーストのブラスト速度や充填量によ
ることなくバラツキのない状態で除去することが可能で
あり、さらに大面積で高精細パターンを有するＰＤＰの
セル障壁の内部に均一な形状の蛍光面を形成することの
できる蛍光面形成方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の蛍光面形成方法は、放電空間を規定するセ
ル障壁を基板上に形成した後、障壁空間内に蛍光体ペー
ストを充填して乾燥させることにより、蛍光体ペースト
に含まれる溶媒を気化させて凹凸面を有する蛍光体層を
形成する工程と、耐サンドブラスト性を有する感光性レ
ジストを前記凹凸面を有する蛍光体層の上に塗布してレ
ジスト層を形成する工程と、前記レジスト層を所望のパ
ターンを用いて露光し、現像により未露光部分を除去し
てマスク層を形成する工程と、サンドブラスト処理によ
り前記レジスト層の除去された部分の蛍光体層を除去す
る工程と、前記マスク層を剥離する工程とを含むことを
特徴としている。そして、前記レジスト層を形成する工
程において、耐サンドブラスト性を有する感光性レジス
トをスプレー法により塗布することが望ましいものであ
る。
に、本発明の蛍光面形成方法は、放電空間を規定するセ
ル障壁を基板上に形成した後、障壁空間内に蛍光体ペー
ストを充填して乾燥させることにより、蛍光体ペースト
に含まれる溶媒を気化させて凹凸面を有する蛍光体層を
形成する工程と、耐サンドブラスト性を有する感光性レ
ジストを前記凹凸面を有する蛍光体層の上に塗布してレ
ジスト層を形成する工程と、前記レジスト層を所望のパ
ターンを用いて露光し、現像により未露光部分を除去し
てマスク層を形成する工程と、サンドブラスト処理によ
り前記レジスト層の除去された部分の蛍光体層を除去す
る工程と、前記マスク層を剥離する工程とを含むことを
特徴としている。そして、前記レジスト層を形成する工
程において、耐サンドブラスト性を有する感光性レジス
トをスプレー法により塗布することが望ましいものであ
る。
【０００６】
【作用】上述の構成からなる蛍光面形成方法では、乾燥
後の凹凸面を有する蛍光体層の当該凹凸面にスプレー塗
布などの手段によってレジスト層を形成し、露光・現像
を経て所望の部分のみレジスト層を除去することによ
り、蛍光体ペーストのブラスト速度や充填量に影響され
ることなく、レジスト層を除去した部分のみ選択的にサ
ンドブラスト加工で不要な蛍光体ペーストを除去でき
る。また、レジスト層によりブラスト部分を選択的にし
ているため、必要最小限の電極を露出させることがで
き、パネルが大面積化した場合でも均一な加工が可能と
なる。
後の凹凸面を有する蛍光体層の当該凹凸面にスプレー塗
布などの手段によってレジスト層を形成し、露光・現像
を経て所望の部分のみレジスト層を除去することによ
り、蛍光体ペーストのブラスト速度や充填量に影響され
ることなく、レジスト層を除去した部分のみ選択的にサ
ンドブラスト加工で不要な蛍光体ペーストを除去でき
る。また、レジスト層によりブラスト部分を選択的にし
ているため、必要最小限の電極を露出させることがで
き、パネルが大面積化した場合でも均一な加工が可能と
なる。
【０００７】
【実施例】図１及び図２は本発明に係るＰＤＰの蛍光面
形成方法の一実施例を示す工程図であり、以下、同図の
各工程を追って本実施例を説明する。
形成方法の一実施例を示す工程図であり、以下、同図の
各工程を追って本実施例を説明する。
【０００８】まず、図１（ａ）に示すように、ガラス製
の基板１の上に電極２及びセル障壁３のパターンを形成
して焼成する。本実施例では、電極２をピッチ０．５ｍ
ｍ、ライン幅０．３ｍｍ、膜厚２０μｍのライン状と
し、セル障壁３をピッチ０．５ｍｍ、ライン幅１００μ
ｍ、膜厚２００μｍのマトリクス状パターンとした。
の基板１の上に電極２及びセル障壁３のパターンを形成
して焼成する。本実施例では、電極２をピッチ０．５ｍ
ｍ、ライン幅０．３ｍｍ、膜厚２０μｍのライン状と
し、セル障壁３をピッチ０．５ｍｍ、ライン幅１００μ
ｍ、膜厚２００μｍのマトリクス状パターンとした。
【０００９】次に、図１（ｂ）に示すように、セル障壁
３によって囲まれる放電空間としての障壁空間内に蛍光
体ペースト４をスクリーン印刷法により充填した後、１
５０℃で２０分間乾燥させる。このように障壁空間内に
蛍光体ペースト４を充填して乾燥させることにより、ペ
ースト中に含まれる溶媒が気化し、図１（ｃ）に示すよ
うに、蛍光体とペーストからなる蛍光体層５はセルの中
央部でへこんだ状態になる。この工程を赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体ペーストについて計３回行
い、図１（ｄ）に示すように、所定のセル障壁３内にそ
れぞれ各色の蛍光体層５を形成した。
３によって囲まれる放電空間としての障壁空間内に蛍光
体ペースト４をスクリーン印刷法により充填した後、１
５０℃で２０分間乾燥させる。このように障壁空間内に
蛍光体ペースト４を充填して乾燥させることにより、ペ
ースト中に含まれる溶媒が気化し、図１（ｃ）に示すよ
うに、蛍光体とペーストからなる蛍光体層５はセルの中
央部でへこんだ状態になる。この工程を赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体ペーストについて計３回行
い、図１（ｄ）に示すように、所定のセル障壁３内にそ
れぞれ各色の蛍光体層５を形成した。
【００１０】蛍光体ペーストとしては、蛍光体粉末を主
とし、これにエチルセルロースと溶剤からなるバインダ
ーを混合したものを使用した。蛍光体粉末としては、赤
色蛍光体にＹ2 Ｏ3 ：Ｅｕ、緑色蛍光体にＢａＡｌ12Ｏ
19：Ｍｎ、青色蛍光体にＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+を
使用した。なお、蛍光体ペーストの充填手段にスクリー
ン印刷法を利用したが、これは本発明を限定するもので
はなく、例えばスプレー法等その他の手段で充填するよ
うにしてもよい。
とし、これにエチルセルロースと溶剤からなるバインダ
ーを混合したものを使用した。蛍光体粉末としては、赤
色蛍光体にＹ2 Ｏ3 ：Ｅｕ、緑色蛍光体にＢａＡｌ12Ｏ
19：Ｍｎ、青色蛍光体にＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+を
使用した。なお、蛍光体ペーストの充填手段にスクリー
ン印刷法を利用したが、これは本発明を限定するもので
はなく、例えばスプレー法等その他の手段で充填するよ
うにしてもよい。
【００１１】次いで、図２（ａ）に示すように、凹凸面
を有する蛍光体層５の上に、ジアゾニウム塩添加ＰＶＡ
水溶液（５０ｃｐｓ）をスプレー法により膜厚約５〜１
０μｍ程度にて塗布を行ってレジスト層６を形成した。
このようにスプレー塗布することにより、凹凸に追従し
た状態でレジスト層６を形成することができる。その
後、室温で乾燥させた後、図２（ｂ）に示すように、所
望のパターンを有するマスク７を介して露光を行った。
露光条件は３６５ｎｍで測定した時に強度７００μＷ／
ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 である。露光後、水
に１〜２分間浸漬してからスプレー現像を行い、図２
（ｃ）に示すように、蛍光体層５の上に耐サンドブラス
ト性を有するマスク層８を形成した。本実施例では、マ
スク層８を蛍光体充填セルの中央部に１５０μｍ角の開
口部が形成されるようにした。
を有する蛍光体層５の上に、ジアゾニウム塩添加ＰＶＡ
水溶液（５０ｃｐｓ）をスプレー法により膜厚約５〜１
０μｍ程度にて塗布を行ってレジスト層６を形成した。
このようにスプレー塗布することにより、凹凸に追従し
た状態でレジスト層６を形成することができる。その
後、室温で乾燥させた後、図２（ｂ）に示すように、所
望のパターンを有するマスク７を介して露光を行った。
露光条件は３６５ｎｍで測定した時に強度７００μＷ／
ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 である。露光後、水
に１〜２分間浸漬してからスプレー現像を行い、図２
（ｃ）に示すように、蛍光体層５の上に耐サンドブラス
ト性を有するマスク層８を形成した。本実施例では、マ
スク層８を蛍光体充填セルの中央部に１５０μｍ角の開
口部が形成されるようにした。
【００１２】続いて、図２（ｄ）に示すように、サンド
ブラスト処理により前記レジスト層の除去された部分の
蛍光体ペーストを除去した。具体的には、研磨材として
ガラスビーズ＃８００を用い、噴射圧力１．０ｋｇｆ／
ｃｍ2 、ノズルと基板との距離１７０ｍｍ、スキャン速
度３０００ｍｍ／ｍｉｎの条件でサンドブラスト処理を
行って蛍光体層５の不要部分を除去し、下部の電極２を
露出させた。
ブラスト処理により前記レジスト層の除去された部分の
蛍光体ペーストを除去した。具体的には、研磨材として
ガラスビーズ＃８００を用い、噴射圧力１．０ｋｇｆ／
ｃｍ2 、ノズルと基板との距離１７０ｍｍ、スキャン速
度３０００ｍｍ／ｍｉｎの条件でサンドブラスト処理を
行って蛍光体層５の不要部分を除去し、下部の電極２を
露出させた。
【００１３】その後、弱アルカリにてマスク層８の剥離
を行い、蛍光体ペースト中に含まれる有機分を消失させ
るため、ピーク温度４５０℃、保持時間１０〜２０分の
条件で焼成した。これにより、図２（ｅ）に示すよう
に、セル障壁３内の電極開口が良好になされた蛍光面９
の形成が良好にできた。
を行い、蛍光体ペースト中に含まれる有機分を消失させ
るため、ピーク温度４５０℃、保持時間１０〜２０分の
条件で焼成した。これにより、図２（ｅ）に示すよう
に、セル障壁３内の電極開口が良好になされた蛍光面９
の形成が良好にできた。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るＰＤ
Ｐの蛍光面形成方法は、セル障壁の障壁空間内に蛍光体
ペーストを充填して乾燥させた後、凹凸面を有する蛍光
体層の上にレジスト層を形成し、露光・現像により所望
の部分にのみ耐サンドブラスト性を有するマスク層を形
成してサンドブラスト加工を行うようにしたので、蛍光
体ペーストのブラスト速度や充填量に影響されることな
く、レジストを除去した部分のみ選択的にサンドブラス
ト処理して不要な蛍光体層を除去できることから、バラ
ツキの少ない加工を行うことができ、セル障壁の内部に
均一な蛍光面を形成することができる。また、レジスト
によりブラスト部分を選択的にしているため、パネルの
大面積化及び高精細パターンにも対応することができ
る。
Ｐの蛍光面形成方法は、セル障壁の障壁空間内に蛍光体
ペーストを充填して乾燥させた後、凹凸面を有する蛍光
体層の上にレジスト層を形成し、露光・現像により所望
の部分にのみ耐サンドブラスト性を有するマスク層を形
成してサンドブラスト加工を行うようにしたので、蛍光
体ペーストのブラスト速度や充填量に影響されることな
く、レジストを除去した部分のみ選択的にサンドブラス
ト処理して不要な蛍光体層を除去できることから、バラ
ツキの少ない加工を行うことができ、セル障壁の内部に
均一な蛍光面を形成することができる。また、レジスト
によりブラスト部分を選択的にしているため、パネルの
大面積化及び高精細パターンにも対応することができ
る。
【図１】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの蛍
光面形成方法の実施例を説明するための前半の工程図で
ある。
光面形成方法の実施例を説明するための前半の工程図で
ある。
【図２】図１に続く後半の工程図である。
１ 基板 ２ 電極 ３ セル障壁 ４ 蛍光体ペースト ５ 蛍光体層 ６ レジスト層 ８ マスク層 ９ 蛍光面
Claims (2)
- 【請求項１】 放電空間を規定するセル障壁を基板上に
形成した後、障壁空間内に蛍光体ペーストを充填して乾
燥させることにより、蛍光体ペーストに含まれる溶媒を
気化させて凹凸面を有する蛍光体層を形成する工程と、
耐サンドブラスト性を有する感光性レジストを前記凹凸
面を有する蛍光体層の上に塗布してレジスト層を形成す
る工程と、前記レジスト層を所望のパターンを用いて露
光し、現像により未露光部分を除去してマスク層を形成
する工程と、サンドブラスト処理により前記レジスト層
の除去された部分の蛍光体層を除去する工程と、前記マ
スク層を剥離する工程とを含むことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの蛍光面形成方法。 - 【請求項２】 前記レジスト層を形成する工程におい
て、耐サンドブラスト性を有する感光性レジストをスプ
レー法により塗布することを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの蛍光面形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25076494A JPH08115666A (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25076494A JPH08115666A (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08115666A true JPH08115666A (ja) | 1996-05-07 |
Family
ID=17212700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25076494A Pending JPH08115666A (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08115666A (ja) |
-
1994
- 1994-10-17 JP JP25076494A patent/JPH08115666A/ja active Pending
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