JP2000123729A - プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法Info
- Publication number
- JP2000123729A JP2000123729A JP28915698A JP28915698A JP2000123729A JP 2000123729 A JP2000123729 A JP 2000123729A JP 28915698 A JP28915698 A JP 28915698A JP 28915698 A JP28915698 A JP 28915698A JP 2000123729 A JP2000123729 A JP 2000123729A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ribs
- photosensitive resin
- phosphor
- mask material
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトリソグラフィー法とスクリーン印刷法
の双方の利点を活かすことにより、大面積化及び高精細
化に対応できるようにし、しかもコスト面や生産性も良
好にする。 【解決手段】 ワーク基板１１上に設けられた複数の互
いに平行なリブ１２の上に感光性のドライフィルムをラ
ミネートし、そのドライフィルムの感光性樹脂層１３を
フォトリソグラフィー法によりパターニングすることで
所定のリブ間が開口したマスク材１５を形成した後、マ
スク材１５の開口からリブ間に蛍光体ペースト１６を充
填し、その蛍光体ペースト１６を乾燥させてからマスク
材１５を剥離する工程を所定の色について繰り返し行
い、最後に焼成を行う。フォトリソグラフィー法が有す
る品質面及び生産性の利点とスクリーン印刷法が有する
材料面及びコスト面の利点が活かされる。
の双方の利点を活かすことにより、大面積化及び高精細
化に対応できるようにし、しかもコスト面や生産性も良
好にする。 【解決手段】 ワーク基板１１上に設けられた複数の互
いに平行なリブ１２の上に感光性のドライフィルムをラ
ミネートし、そのドライフィルムの感光性樹脂層１３を
フォトリソグラフィー法によりパターニングすることで
所定のリブ間が開口したマスク材１５を形成した後、マ
スク材１５の開口からリブ間に蛍光体ペースト１６を充
填し、その蛍光体ペースト１６を乾燥させてからマスク
材１５を剥離する工程を所定の色について繰り返し行
い、最後に焼成を行う。フォトリソグラフィー法が有す
る品質面及び生産性の利点とスクリーン印刷法が有する
材料面及びコスト面の利点が活かされる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示のプラ
ズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）におけ
る蛍光面形成の技術分野に属するものである。
ズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）におけ
る蛍光面形成の技術分野に属するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電
極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されてお
り、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアド
レス電極８が互いに平行に形成されており、それを覆っ
て誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体層１０が設けられている。カ
ラー表示用のＰＤＰは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の３色の蛍光体層１０を順に有している。このＡＣ型Ｐ
ＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流
電圧を印加し、空間に漏れた電界で放電させる構造であ
る。この場合、交流をかけているために電界の向きは周
波数に対応して変化する。そしてこの放電により生じる
紫外線により蛍光体層１０を発光させ、前面板を透過す
る光を観察者が視認するようになっている。
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電
極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されてお
り、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアド
レス電極８が互いに平行に形成されており、それを覆っ
て誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体層１０が設けられている。カ
ラー表示用のＰＤＰは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の３色の蛍光体層１０を順に有している。このＡＣ型Ｐ
ＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流
電圧を印加し、空間に漏れた電界で放電させる構造であ
る。この場合、交流をかけているために電界の向きは周
波数に対応して変化する。そしてこの放電により生じる
紫外線により蛍光体層１０を発光させ、前面板を透過す
る光を観察者が視認するようになっている。
【０００４】上記の如きＰＤＰにおける背面板は、ガラ
ス基板２の上にアドレス電極８を形成し、必要に応じて
それを覆うように誘電体層９を形成した後、リブ３を形
成してそのリブ３の間に蛍光体層１０からなる蛍光面を
設けることで製造される。電極８の形成方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法、厚膜法等に
よって基板２上に電極材料の膜を形成し、これをフォト
リソグラフィー法によってパターニングする方法と、厚
膜ペーストを用いたスクリーン印刷法によりパターニン
グする方法とが知られている。また、誘電体層はスクリ
ーン印刷等により形成され、リブ３はスクリーン印刷に
よる重ね刷り、或いはサンドブラスト法等によって形成
されている。そして、Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体パターンは、
粉末状の蛍光体粒子を主成分とする蛍光体ペーストを各
色毎に順にスクリーン印刷法によって基板上に塗布し、
乾燥後に焼成する手法を用いて形成されている（例え
ば、特開平５−２９９０１９号公報参照）。
ス基板２の上にアドレス電極８を形成し、必要に応じて
それを覆うように誘電体層９を形成した後、リブ３を形
成してそのリブ３の間に蛍光体層１０からなる蛍光面を
設けることで製造される。電極８の形成方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法、厚膜法等に
よって基板２上に電極材料の膜を形成し、これをフォト
リソグラフィー法によってパターニングする方法と、厚
膜ペーストを用いたスクリーン印刷法によりパターニン
グする方法とが知られている。また、誘電体層はスクリ
ーン印刷等により形成され、リブ３はスクリーン印刷に
よる重ね刷り、或いはサンドブラスト法等によって形成
されている。そして、Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体パターンは、
粉末状の蛍光体粒子を主成分とする蛍光体ペーストを各
色毎に順にスクリーン印刷法によって基板上に塗布し、
乾燥後に焼成する手法を用いて形成されている（例え
ば、特開平５−２９９０１９号公報参照）。
【０００５】上記したスクリーン印刷法による蛍光面形
成方法は、使用するペーストの性能面での完成度が高
く、コスト的にも材料費が安価であるという利点はある
が、ＰＤＰの画面サイズの大型化が進むにつれて、スク
リーン版であるマスクの作製が困難であると共に、伸縮
や位置決め誤差などの要因でリブの配置パターンとマス
クパターンとの位置ずれが生じ、リブの間に正確に蛍光
体ペーストを塗布することが困難であるという問題点を
生じている。
成方法は、使用するペーストの性能面での完成度が高
く、コスト的にも材料費が安価であるという利点はある
が、ＰＤＰの画面サイズの大型化が進むにつれて、スク
リーン版であるマスクの作製が困難であると共に、伸縮
や位置決め誤差などの要因でリブの配置パターンとマス
クパターンとの位置ずれが生じ、リブの間に正確に蛍光
体ペーストを塗布することが困難であるという問題点を
生じている。
【０００６】そこで、フォトリソグラフィー法により蛍
光面を形成することが考えられている。この方法は、ま
ずワーク基板上に形成したリブの上から感光性の蛍光体
ペーストをベタでコーティングして乾燥させてから、フ
ォトマスクを介して露光を行い、現像して蛍光面を形成
する工程を異なる色の蛍光面形成層について同様に行っ
て３色の蛍光面を形成し、最後に焼成する手順を経るも
のである。そして、この方法によれば、高精細化に対応
が可能である上に、歩留りが良く生産性が安定している
という利点がある。しかし、蛍光体ペーストが感光性で
あると、感光性ということで焼成時に樹脂が焼失しにく
くなり、また完全に焼失したとしても、酸化により焼成
後の蛍光体輝度が劣化するという問題点がある。また、
リブ空間に壁面も含めて均一に蛍光面を形成するために
は、露光時に壁面にも充分光を照射する必要があるが実
際には難しい。何故なら、リブ頂部に光が当たって蛍光
体が残るのを防止するために、壁面には光が照射されな
いようにフォトマスクの設計を行っているからである。
このように種々の課題を残しており、このフォトリソグ
ラフィーによる方法も満足できるものではない。
光面を形成することが考えられている。この方法は、ま
ずワーク基板上に形成したリブの上から感光性の蛍光体
ペーストをベタでコーティングして乾燥させてから、フ
ォトマスクを介して露光を行い、現像して蛍光面を形成
する工程を異なる色の蛍光面形成層について同様に行っ
て３色の蛍光面を形成し、最後に焼成する手順を経るも
のである。そして、この方法によれば、高精細化に対応
が可能である上に、歩留りが良く生産性が安定している
という利点がある。しかし、蛍光体ペーストが感光性で
あると、感光性ということで焼成時に樹脂が焼失しにく
くなり、また完全に焼失したとしても、酸化により焼成
後の蛍光体輝度が劣化するという問題点がある。また、
リブ空間に壁面も含めて均一に蛍光面を形成するために
は、露光時に壁面にも充分光を照射する必要があるが実
際には難しい。何故なら、リブ頂部に光が当たって蛍光
体が残るのを防止するために、壁面には光が照射されな
いようにフォトマスクの設計を行っているからである。
このように種々の課題を残しており、このフォトリソグ
ラフィーによる方法も満足できるものではない。
【０００７】そこで、高精度で均一な形状の蛍光体パタ
ーンを形成できる新たな形成方法として、所定の色の蛍
光体パターンの形成時に、その蛍光体パターンを形成し
ようとする凹部以外の凹部を予め塞いでおくようにした
方法が提案されている（特開平１０−１７２４３１号公
報参照）。この方法では、形成しようとする凹部以外の
凹部を予め塞いでおく材料としてポジ型感光性樹脂組成
物を、また所定の色の蛍光体パターン材料として蛍光体
含有感光性フィルム材料を使用している。
ーンを形成できる新たな形成方法として、所定の色の蛍
光体パターンの形成時に、その蛍光体パターンを形成し
ようとする凹部以外の凹部を予め塞いでおくようにした
方法が提案されている（特開平１０−１７２４３１号公
報参照）。この方法では、形成しようとする凹部以外の
凹部を予め塞いでおく材料としてポジ型感光性樹脂組成
物を、また所定の色の蛍光体パターン材料として蛍光体
含有感光性フィルム材料を使用している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た特開平１０−１７２４３１号公報に記載の方法は、蛍
光体形成にフィルムを使用するため、ペーストタイプ
（塗工後のレベリング効果を利用できる）に比べるとリ
ブ空間に埋め込みにくいという問題点がある。また、ポ
ジ型の感光性フィルムだと柔軟性がないので、ロール処
理するのが困難である。よって、ラミネートをシートで
行う必要性が生じ、蛍光体パターンを形成しようとする
凹部以外の上にも形成して露光現像後に落とすため、材
料ロスが大きくなって実用的でない。
た特開平１０−１７２４３１号公報に記載の方法は、蛍
光体形成にフィルムを使用するため、ペーストタイプ
（塗工後のレベリング効果を利用できる）に比べるとリ
ブ空間に埋め込みにくいという問題点がある。また、ポ
ジ型の感光性フィルムだと柔軟性がないので、ロール処
理するのが困難である。よって、ラミネートをシートで
行う必要性が生じ、蛍光体パターンを形成しようとする
凹部以外の上にも形成して露光現像後に落とすため、材
料ロスが大きくなって実用的でない。
【０００９】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、フォトリ
ソグラフィー法とスクリーン印刷法の双方の利点を活か
すことにより、大面積化及び高精細化に対応でき、しか
もコスト面や生産性にも優れたＰＤＰの蛍光面形成方法
を提供することにある。
されたものであり、その目的とするところは、フォトリ
ソグラフィー法とスクリーン印刷法の双方の利点を活か
すことにより、大面積化及び高精細化に対応でき、しか
もコスト面や生産性にも優れたＰＤＰの蛍光面形成方法
を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ため、本発明の蛍光面形成方法は、ワーク基板上に設け
られた複数の互いに平行なリブの上に感光性のドライフ
ィルムをラミネートし、そのドライフィルムの感光性樹
脂層をフォトリソグラフィー法によりパターニングする
ことで、所定のリブ間が開口したマスク材を形成した
後、マスク材の開口からリブ間に蛍光体ペーストを充填
し、その蛍光体ペーストを乾燥させてからマスク材を剥
離する工程を所定の色について繰り返し行い、最後に焼
成を行うことを特徴とするものである。そして、マスク
材の開口からリブ間への蛍光体ペーストの充填を、スク
リーン印刷法、ブレードコート法、ダイコート法のいず
れかで行うようにしたものである。
ため、本発明の蛍光面形成方法は、ワーク基板上に設け
られた複数の互いに平行なリブの上に感光性のドライフ
ィルムをラミネートし、そのドライフィルムの感光性樹
脂層をフォトリソグラフィー法によりパターニングする
ことで、所定のリブ間が開口したマスク材を形成した
後、マスク材の開口からリブ間に蛍光体ペーストを充填
し、その蛍光体ペーストを乾燥させてからマスク材を剥
離する工程を所定の色について繰り返し行い、最後に焼
成を行うことを特徴とするものである。そして、マスク
材の開口からリブ間への蛍光体ペーストの充填を、スク
リーン印刷法、ブレードコート法、ダイコート法のいず
れかで行うようにしたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】図２は本発明に係る蛍光面形成方
法の一例を説明するための工程図であり、この例では、
フォトリソグラフィー法において支持体フィルムとその
一面に形成された感光性樹脂層とからなる通常のドライ
フィルムを使用する。なお、ドライフィルムは感光性樹
脂層が保護フィルムで覆われており、使用時にこの保護
フィルムを剥がすようになっている。
法の一例を説明するための工程図であり、この例では、
フォトリソグラフィー法において支持体フィルムとその
一面に形成された感光性樹脂層とからなる通常のドライ
フィルムを使用する。なお、ドライフィルムは感光性樹
脂層が保護フィルムで覆われており、使用時にこの保護
フィルムを剥がすようになっている。
【００１２】図２（ａ）はワーク基板であり、ガラス基
板１１の上に複数のリブ１２が所定間隔で平行に立設さ
れている。このリブ１２の間に例えばＲ，Ｇ，Ｂの蛍光
体層を順に繰り返して形成するのである。なお、ガラス
基板１１とリブ１２の間にはアドレス電極と必要に応じ
て誘電体層が設けられるが、この工程図ではその図示を
省略している。
板１１の上に複数のリブ１２が所定間隔で平行に立設さ
れている。このリブ１２の間に例えばＲ，Ｇ，Ｂの蛍光
体層を順に繰り返して形成するのである。なお、ガラス
基板１１とリブ１２の間にはアドレス電極と必要に応じ
て誘電体層が設けられるが、この工程図ではその図示を
省略している。
【００１３】まず、保護フィルムを剥がしたドライフィ
ルムを感光性樹脂層がリブ１２側となる向きで全てのリ
ブ１２の上に重なるようにラミネートしてから、支持体
フィルムを剥がすことにより、図２（ｂ）に示すように
リブ１２上に感光性樹脂層１３を残す。次いで、図２
（ｃ）に示すように所定のラインパターンマスク１４を
介して紫外線を照射することにより感光性樹脂層１３を
露光した後、露光されない部分を所定の現像液で除去し
て感光性樹脂層１３をパターニングすることにより、図
２（ｄ）に示す如く所定のリブ間が開口したマスク材１
５を形成する。
ルムを感光性樹脂層がリブ１２側となる向きで全てのリ
ブ１２の上に重なるようにラミネートしてから、支持体
フィルムを剥がすことにより、図２（ｂ）に示すように
リブ１２上に感光性樹脂層１３を残す。次いで、図２
（ｃ）に示すように所定のラインパターンマスク１４を
介して紫外線を照射することにより感光性樹脂層１３を
露光した後、露光されない部分を所定の現像液で除去し
て感光性樹脂層１３をパターニングすることにより、図
２（ｄ）に示す如く所定のリブ間が開口したマスク材１
５を形成する。
【００１４】続いて、図２（ｅ）に示すように、スクリ
ーン印刷法によりマスク材１５の開口からリブ間に蛍光
体ペースト１６を充填する。次いで、充填した蛍光体ペ
ースト１６を乾燥させた後、図２（ｆ）に示すようにマ
スク材１５をリブ１２から剥離する。これにより所定の
リブ間に蛍光体ペースト１６が充填される。
ーン印刷法によりマスク材１５の開口からリブ間に蛍光
体ペースト１６を充填する。次いで、充填した蛍光体ペ
ースト１６を乾燥させた後、図２（ｆ）に示すようにマ
スク材１５をリブ１２から剥離する。これにより所定の
リブ間に蛍光体ペースト１６が充填される。
【００１５】以上の工程をＲ，Ｇ，Ｂの各色の蛍光体ペ
ーストについて繰り返し行い、最後に焼成を行うことに
より所定の蛍光体層が形成される。
ーストについて繰り返し行い、最後に焼成を行うことに
より所定の蛍光体層が形成される。
【００１６】蛍光体ペーストとしては、例えば各色用蛍
光物質１０〜５０ｗｔ％、エチルセルローズ５ｗｔ％及
びＢＣＡ４５〜８５ｗｔ％の混合物が使用される。な
お、赤色用蛍光物質としては、例えば（Ｙ，Ｇｄ，Ｅ
ｕ）ＢＯ3 を用い、緑色用蛍光物質としては、例えばＺ
ｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎを用い、青色用蛍光物質としては、
例えば（Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17を用いることがで
きる。
光物質１０〜５０ｗｔ％、エチルセルローズ５ｗｔ％及
びＢＣＡ４５〜８５ｗｔ％の混合物が使用される。な
お、赤色用蛍光物質としては、例えば（Ｙ，Ｇｄ，Ｅ
ｕ）ＢＯ3 を用い、緑色用蛍光物質としては、例えばＺ
ｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎを用い、青色用蛍光物質としては、
例えば（Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17を用いることがで
きる。
【００１７】図３は本発明に係る蛍光面形成方法の別の
例を説明するための一部工程図である。この例において
は、支持体フィルム２１とその一面に形成された粘着性
の感光性樹脂層２２とからなり、その感光性樹脂が露光
領域での粘着性が低下する性質を有してなるドライフィ
ルム２０を使用する。なお、リブ間が開口したマスク材
を形成した後に続く工程は先の例と同じであるので省略
してある。
例を説明するための一部工程図である。この例において
は、支持体フィルム２１とその一面に形成された粘着性
の感光性樹脂層２２とからなり、その感光性樹脂が露光
領域での粘着性が低下する性質を有してなるドライフィ
ルム２０を使用する。なお、リブ間が開口したマスク材
を形成した後に続く工程は先の例と同じであるので省略
してある。
【００１８】まず図３（ａ）に示すように、全てのリブ
１２の上に重なるようにドライフィルム２０をラミネー
トする。この場合、感光性樹脂層２２がリブ側となるよ
うにしてドライフィルム２０をリブ１２の上にラミネー
トする。次いで、図３（ｂ）に示すように、所定のライ
ンパターンマスク２３を介して紫外線を照射することに
よりドライフィルムを露光する。支持体フィルム２１と
感光性樹脂層２２との露光領域での密着力をα、露光さ
れない領域での密着力をγ、リブと感光性樹脂層との露
光領域での密着力をβとすると、γ＞β＞αとなる。し
たがって、支持体フィルム２１を剥がすと、図３（ｃ）
に示すように、感光性樹脂層２２における露光した部分
のみがワーク基板に残ることになり、所定のリブ間が開
口したマスク材２４が形成される。
１２の上に重なるようにドライフィルム２０をラミネー
トする。この場合、感光性樹脂層２２がリブ側となるよ
うにしてドライフィルム２０をリブ１２の上にラミネー
トする。次いで、図３（ｂ）に示すように、所定のライ
ンパターンマスク２３を介して紫外線を照射することに
よりドライフィルムを露光する。支持体フィルム２１と
感光性樹脂層２２との露光領域での密着力をα、露光さ
れない領域での密着力をγ、リブと感光性樹脂層との露
光領域での密着力をβとすると、γ＞β＞αとなる。し
たがって、支持体フィルム２１を剥がすと、図３（ｃ）
に示すように、感光性樹脂層２２における露光した部分
のみがワーク基板に残ることになり、所定のリブ間が開
口したマスク材２４が形成される。
【００１９】このようにマスク材２４を形成した後は図
２（ｅ），（ｆ）で説明したのと同様に、蛍光体ペース
トの充填及び乾燥、マスク材の剥離を行う。そして、以
上の工程をＲ，Ｇ，Ｂの各色の蛍光体ペーストについて
繰り返し行い、最後に焼成を行って所定の蛍光体層を形
成する。
２（ｅ），（ｆ）で説明したのと同様に、蛍光体ペース
トの充填及び乾燥、マスク材の剥離を行う。そして、以
上の工程をＲ，Ｇ，Ｂの各色の蛍光体ペーストについて
繰り返し行い、最後に焼成を行って所定の蛍光体層を形
成する。
【００２０】
【実施例】ガラス基板上に電極とその上にリブを形成し
てあるワーク基板を準備した。この基板は４２インチ表
示サイズで、ガラスサイズは１０００×６００ｍｍであ
り、リブは幅が３０μｍ、高さが８０μｍ、ピッチが１
６０μｍである。このワーク基板におけるリブの上に厚
さ２０μｍのドライフィルム（東京応化工業製「ＢＦ−
７０３」）をラミネートした。そして、ラインパターン
マスクを介して露光量２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光を行っ
てから、炭酸ナトリウム１ｗｔ％水溶液により液温３０
℃でスプレー現像を行ってパターニングし、２つ置きに
リブ間が開口したマスク材を形成した。
てあるワーク基板を準備した。この基板は４２インチ表
示サイズで、ガラスサイズは１０００×６００ｍｍであ
り、リブは幅が３０μｍ、高さが８０μｍ、ピッチが１
６０μｍである。このワーク基板におけるリブの上に厚
さ２０μｍのドライフィルム（東京応化工業製「ＢＦ−
７０３」）をラミネートした。そして、ラインパターン
マスクを介して露光量２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光を行っ
てから、炭酸ナトリウム１ｗｔ％水溶液により液温３０
℃でスプレー現像を行ってパターニングし、２つ置きに
リブ間が開口したマスク材を形成した。
【００２１】続いて、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎからなる蛍
光体粉末を主成分とし、これにエチルセルロースとＢＣ
Ａからなるバインダーを混合してなる緑色の蛍光体ペー
ストを用い、リブ上のマスク材を版代わりに使用してス
クリーン印刷によりこの青色の蛍光体ペーストをリブ間
に充填した。次いで、１７０℃で３０分間乾燥させた
後、水酸化ナトリウム２ｗｔ％水溶液により液温３０℃
でスプレー剥離してマスク材を除去した。リブ間に充填
した蛍光体ペーストを乾燥させた時に、ペースト中に含
まれる溶媒が気化して蛍光体ペーストはすり鉢状にへこ
んだ状態になっていた。
光体粉末を主成分とし、これにエチルセルロースとＢＣ
Ａからなるバインダーを混合してなる緑色の蛍光体ペー
ストを用い、リブ上のマスク材を版代わりに使用してス
クリーン印刷によりこの青色の蛍光体ペーストをリブ間
に充填した。次いで、１７０℃で３０分間乾燥させた
後、水酸化ナトリウム２ｗｔ％水溶液により液温３０℃
でスプレー剥離してマスク材を除去した。リブ間に充填
した蛍光体ペーストを乾燥させた時に、ペースト中に含
まれる溶媒が気化して蛍光体ペーストはすり鉢状にへこ
んだ状態になっていた。
【００２２】その後、青色と赤色の蛍光体層について
も、マスク材の形成、蛍光体ペーストの充填及び乾燥、
及びマスク材の除去を上記と同様の工程で行ってから、
最後にピーク温度５５０℃、保持時間３時間の条件で焼
成を行った。この場合、青色の蛍光体粉末として（Ｂ
ａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17を、赤色の蛍光体粉末として
（Ｙ，Ｇｄ，Ｅｕ）ＢＯ3 を用いた。このようにして３
色の蛍光体層を形成したところ、良好な蛍光面が得られ
た。
も、マスク材の形成、蛍光体ペーストの充填及び乾燥、
及びマスク材の除去を上記と同様の工程で行ってから、
最後にピーク温度５５０℃、保持時間３時間の条件で焼
成を行った。この場合、青色の蛍光体粉末として（Ｂ
ａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17を、赤色の蛍光体粉末として
（Ｙ，Ｇｄ，Ｅｕ）ＢＯ3 を用いた。このようにして３
色の蛍光体層を形成したところ、良好な蛍光面が得られ
た。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の蛍光面形
成方法は、フォトリソグラフィー法が有する品質面及び
生産性の利点とスクリーン印刷法が有する材料面及びコ
スト面の利点の双方が活かされるので、大面積化及び高
精細化に対応でき、しかもコスト面及び生産性にも優れ
ている。
成方法は、フォトリソグラフィー法が有する品質面及び
生産性の利点とスクリーン印刷法が有する材料面及びコ
スト面の利点の双方が活かされるので、大面積化及び高
精細化に対応でき、しかもコスト面及び生産性にも優れ
ている。
【図１】ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの一構成例
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構造図であ
る。
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構造図であ
る。
【図２】本発明に係る蛍光面形成方法の一例を説明する
ための工程図である。
ための工程図である。
【図３】本発明に係る蛍光面形成方法の別の例を説明す
るための工程図である。
るための工程図である。
１，２ ガラス基板 ３ リブ ４ 維持電極 ５ バス電極 ６ 誘電体層 ７ 保護層（ＭｇＯ層） ８ アドレス電極 ９ 誘電体層 １０ 蛍光体層 １１ ガラス基板 １２ リブ １３ 感光性樹脂層 １４ ラインパターンマスク １５ マスク材 １６ 蛍光体ペースト ２０ ドライフィルム ２１ 支持体フィルム ２２ 感光性樹脂層 ２３ ラインパターンマスク ２４ マスク材
Claims (4)
- 【請求項１】 ワーク基板上に設けられた複数の互いに
平行なリブの上に感光性のドライフィルムをラミネート
し、そのドライフィルムの感光性樹脂層をフォトリソグ
ラフィー法によりパターニングすることで、所定のリブ
間が開口したマスク材を形成した後、マスク材の開口か
らリブ間に蛍光体ペーストを充填し、その蛍光体ペース
トを乾燥させてからマスク材を剥離する工程を所定の色
について繰り返し行い、最後に焼成を行うことを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法。 - 【請求項２】 マスク材の開口からリブ間への蛍光体ペ
ーストの充填を、スクリーン印刷法、ブレードコート
法、ダイコート法のいずれかで行うことを特徴とする請
求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光面形
成方法。 - 【請求項３】 支持体フィルムとその一面に形成された
感光性樹脂層とからなるドライフィルムを使用し、感光
性樹脂層がリブ側となるように該ドライフィルムをリブ
の上にラミネートしてから支持体フィルムのみを剥が
し、リブ上に残った感光性樹脂層を露光した後、露光さ
れない部分を現像液で除去することにより、所定のリブ
間が開口したマスク材を形成するようした請求項１又は
２に記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方
法。 - 【請求項４】 支持体フィルムとその一面に形成された
粘着性の感光性樹脂層とからなり、その感光性樹脂が露
光領域での粘着性が低下する性質を有してなるドライフ
ィルムを使用し、感光性樹脂層がリブ側となるように該
ドライフィルムをリブの上にラミネートして露光した
後、支持体フィルムを剥がして感光性樹脂層における露
光した部分のみをワーク基板に残すことにより、所定の
リブ間が開口したマスク材を形成するようした請求項１
又は２に記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光面形
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28915698A JP2000123729A (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28915698A JP2000123729A (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000123729A true JP2000123729A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17739498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28915698A Pending JP2000123729A (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000123729A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014038454A1 (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | 東京応化工業株式会社 | パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池 |
| US10243198B2 (en) | 2013-03-29 | 2019-03-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for forming pattern, structural body, method for producing comb-shaped electrode, and secondary cell |
-
1998
- 1998-10-12 JP JP28915698A patent/JP2000123729A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014038454A1 (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | 東京応化工業株式会社 | パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池 |
| US9478791B2 (en) | 2012-09-07 | 2016-10-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for forming pattern, structural body, method for producing comb-shaped electrode, and secondary cell |
| US10243198B2 (en) | 2013-03-29 | 2019-03-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for forming pattern, structural body, method for producing comb-shaped electrode, and secondary cell |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000123729A (ja) | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 | |
| JP3877449B2 (ja) | 蛍光体パターンの形成方法 | |
| JPH04277439A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| KR100350652B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 및 형광체 형성 방법 | |
| KR100726631B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 | |
| JPH08222135A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP3558043B2 (ja) | プラズマディスプレイ表示装置の製造方法 | |
| JP2002216620A (ja) | プラズマディスプレイ表示装置の製造方法 | |
| KR19990072535A (ko) | 플라즈마디스플레이패널용배면판의제조법 | |
| JP2002134034A (ja) | プラズマディスプレイ表示装置及びプラズマディスプレイ表示装置の製造方法 | |
| JP2002216640A (ja) | ガス放電表示装置およびその製造方法 | |
| KR100700779B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 | |
| KR100363800B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법 | |
| JPH1154036A (ja) | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及びそれに使用する充填装置 | |
| JP3890987B2 (ja) | シート状誘電体材料およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP3861696B2 (ja) | シート状誘電体材料およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JPH04301339A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JPH09245644A (ja) | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 | |
| JPH04249033A (ja) | ガス放電型表示パネル及びその製造方法 | |
| JP2001236891A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2002124181A (ja) | プラズマディスプレイ表示装置の製造方法 | |
| JP2007080825A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JPH11224603A (ja) | フォトマスク及びそれを使用したプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 | |
| JP2002372919A (ja) | 凹凸パターン形成方法 | |
| JP2000164146A (ja) | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法 |