JPH11224603A

JPH11224603A - フォトマスク及びそれを使用したプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法

Info

Publication number: JPH11224603A
Application number: JP3796098A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Asano; 雅朗浅野
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1998-02-05
Filing date: 1998-02-05
Publication date: 1999-08-17

Abstract

(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィー法によりプラズマディ
スプレイパネルの蛍光面を形成する際に、精度よくアラ
イメントができるようにする。【解決手段】基板には有効表示範囲外に少なくとも３
本のダミーリブを設けておき、フォトマスク１０には最
外位置にある透明ライン部１１から３本外側のセルに収
まるように縦方向に設けられた縦ライン部１２と、縦ラ
イン部１２の一方側に突き出た凸部１３と、その凸部１
３の反対側の凸部１４から斜め方向に少なくとも３本の
リブを横切る長さで延びる延長部１５とで構成されるア
ライメントマーク１６を設けておき、ダミーリブとアラ
イメントマーク１６とにより基板とフォトマスクの横方
向のアライメントを行って露光を行うようにする。リブ
とフォトマスク１０とのアライメントを合わせて蛍光面
を形成するので、蛍光体層のアライメントずれを防止で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電を利用し
た自発光形式の平板ディスプレイであるプラズマディス
プレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の蛍光面を形成す
る技術分野に属するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。

【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示してあ
る。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもの
で、図示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行
に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガ
ラス基板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一
定の間隔に保持されるようになっている。前面板となる
ガラス基板１の背面側には維持電極４である透明電極と
バス電極５である金属電極とで構成される複合電極が互
いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成さ
れており、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成
されている。また、背面板となるガラス基板２の前面側
には前記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置し
てアドレス電極８が互いに平行に形成され、必要に応じ
てその上に誘電体層が形成されており、さらにリブ３の
壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体層９が設けられ
ている。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板
上の複合電極間に交流電圧を印加し、空間に漏れた電界
で放電させる構造である。この場合、交流をかけている
ために電界の向きは周波数に対応して変化する。そして
この放電により生じる紫外線により蛍光体層９を発光さ
せ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっ
ている。

【０００４】上記の如きＰＤＰにおける背面板は、ガラ
ス基板２の上にアドレス電極８を形成し、必要に応じて
それを覆うように誘電体層を形成した後、リブ３を形成
してそのリブ３の間に蛍光体層９を設けることで製造さ
れる。電極８の形成方法としては、真空蒸着法、スパッ
タリング法、メッキ法、厚膜法等によって基板２上に電
極材料の膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法に
よってパターニングする方法と、厚膜ペーストを用いた
スクリーン印刷法によりパターニングする方法とが知ら
れている。また、誘電体層はスクリーン印刷等により形
成される。そして、リブ３はスクリーン印刷による重ね
刷り、或いはサンドブラスト法等によって形成され、蛍
光体層９はスクリーン印刷等によりリブ３の間に赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の蛍光体ペーストを
選択的に充填するか、もしくは感光性蛍光体ペーストを
用いたフォトリソグラフィー法により形成される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記したフォトリソグ
ラフィー法で３色の蛍光面を順次形成するに際して、リ
ブとフォトマスクのアライメントの合わせを、従来は表
示領域外に形成したマークを利用して行っていた。具体
的には、アドレス電極と同時に作製した銀マークでアラ
イメントを行っている。本来、蛍光体層はリブと同時に
作製したアライメントマークとフォトマスクとのアライ
メントを合わせて形成すべきものであるが、リブ層でア
ライメントマークを形成しようとすると、層自体が百数
十μｍと厚いために形成することができない。よって、
実際には前記の如くリブ形成前のアドレス電極層形成時
に作製したアライメントマークを利用して蛍光体層のア
ライメントを合わせている。その際、アドレス電極とリ
ブとのアライメントを合わせるのはリブの焼成前であ
り、この時にアライメントが合っていたとしてもリブの
焼成工程を経ると少しずれてしまう。そこで防止策とし
て、少しずれることを見積もって焼成前のアライメント
をわざとずらして焼成後に合わせ込むようにしている
が、それでも実際は少しずれてしまう。よって、焼成後
のリブ基板のリブを用いてアライメントを合わせるよう
にした方がよい。

【０００６】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたもので、その目的とするところは、フォトリソグ
ラフィー法によりＰＤＰの蛍光面を形成する際に、精度
よくアライメントができるフォトマスクを提供し、併せ
てそれを使用した蛍光面形成方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のフォトマスクは、基板上に設けられた複数
の平行なライン状リブにより区画される複数のセルの中
に、３本毎のセルに合う複数の透明ライン部を備えたフ
ォトマスクを使用して感光性の蛍光面形成層を露光する
工程を含むフォトリソグラフィー法により、赤、緑、青
の蛍光面を順次形成するＰＤＰの蛍光面形成時に使用す
るフォトマスクであって、最外位置にある透明ライン部
から３本外側のセルに収まるように縦方向に設けられた
縦ライン部と、当該縦ライン部の一方側に突き出た凸部
と、その凸部の反対側から斜め方向に少なくとも３本の
リブを横切る長さで延びた延長部とで構成される透明な
アライメントマークを設けたことを特徴としている。

【０００８】また、本発明の蛍光面形成方法は、基板上
に設けられた複数の平行なライン状リブにより区画され
る複数のセルの中に、３本毎のセルに合う複数の透明ラ
イン部を備えたフォトマスクを使用して感光性の蛍光面
形成層を露光する工程を含むフォトリソグラフィー法に
より、赤、緑、青の蛍光面を順次形成するＰＤＰの蛍光
面形成方法において、基板には表示有効範囲外に少なく
とも３本のダミーリブを設けておき、フォトマスクには
最外位置にある透明ライン部から３本外側のセルに収ま
るように縦方向に設けられた縦ライン部と、当該縦ライ
ン部の一方側に突き出た凸部と、その凸部の反対側から
斜め方向に少なくとも３本のリブを横切る長さで延びた
延長部とで構成される透明なアライメントマークを設け
ておき、その基板上のダミーリブとフォトマスクのアラ
イメントマークとにより横方向のアライメントを行って
露光を行うようにしたものである。そして、所定位置に
おいて横向きの突起を形成してあるダミーリブを使用す
れば、このダミーリブの突起とフォトマスクのアライメ
ントマークとにより縦方向のアライメントも行うことが
できる。

【０００９】

【発明の実施の形態】次に、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。

【００１０】図２は本発明に係るフォトマスクの一例を
示す要部拡大図、図３はリブを形成した基板における左
端付近の要部拡大図である。図２に示されるように、フ
ォトマスク１０は基板２０における３本毎のセル２２に
合う複数の透明ライン部１１を備えている。そして、左
側の最外位置にある透明ライン部１１から３本外側のセ
ルに収まるように縦方向に設けられた縦ライン部１２
と、その縦ライン部１２から内側に突き出た凸部１３
と、その凸部１３と反対側に突き出た凸部１４から斜め
外側に向けて３本のリブ２１を横切るように延びる延長
部１５とで構成される透明なアライメントマーク１６を
有している。また、図３において、平行な複数のライン
状リブ２１のうち左側の３本は表示有効範囲外にあるダ
ミーリブ２１ａ，２１ｂ，２１ｃであり、最外のダミー
リブ２１ａには所定位置に外側に向いた突起２３が形成
されている。

【００１１】フォトリソグラフィー法により蛍光面を形
成するには、少なくともリブ２１の間に感光性の蛍光面
形成層を形成し、次いで基板２０とフォトマスク１０と
のアライメントをしてから、フォトマスク１０を介して
露光を行って現像する工程を赤、緑、青の３色について
行った後、焼成して蛍光面を形成する。この場合、ＰＤ
Ｐが大型になったり高精細化が進んだりすると、リブと
フォトマスクの透明ライン部の正確な合わせが難しくな
り、悪くすると隣接するセルに蛍光体を形成してしまう
ことがある。また、セルを区画しているリブの頂部（前
面板と背面板とを合わせる時に触れる所）に蛍光体が形
成されることがある。このような蛍光体があると、前面
板と背面板とを合わせてパネル化する際に邪魔となる。
これを防止するため、蛍光面を形成するリブの間隔より
狭い透明ライン部を持ったフォトマスクを使用するのが
よい。したがって、図２に示したフォトマスク１０では
透明ライン部１１の幅をリブ２１の間隔よりも狭く表示
している。

【００１２】上記したフォトマスク１０と基板２０との
アライメント方法を図４により具体的に説明する。

【００１３】まず１色目では、図４（ａ）に示すように
一番外側のダミーリブ２１ａと２番目のダミーリブ２１
ｂの間のセルに縦ライン部１２を合わせる。縦ライン部
１２がこの位置にあることは、アライメントマーク１６
における凸部１４と延長部１５の繋がった左側の領域に
１本のダミーリブ２１ａだけが見える状態になっている
ことで分かる。この場合、縦ライン部１２の両側にダミ
ーリブ２１ａ，２１ｂが見えるので、これにより縦ライ
ン部１２のセンタリングを行う。また、縦ライン部１２
の左側にダミーリブ２１ａの突起２３が見えることによ
り、縦方向のアライメントも行える。

【００１４】次いで２色目では、フォトマスク１０をそ
のまま横にずらし、図４（ｂ）に示すように左から２番
目のダミーリブ２１ｂと３番目のダミーリブ２１ｃの間
のセルに縦ライン部１２を合わせる。縦ライン部１２が
この位置にあることは、アライメントマーク１６におけ
る凸部１４と延長部１５の繋がった左側の領域に一番左
側のダミーリブ２１ａと２番目のダミーリブ２１ｂが見
える状態になっていることで分かる。この場合も、縦ラ
イン部１２の両側にダミーリブ２１ｂ，２１ｃが見える
ので、これにより縦ライン部１２のセンタリングを行
う。

【００１５】続いて３色目では、さらにフォトマスク１
０を横にずらし、図４（ｃ）に示すように左から３番目
のダミーリブ２１ｃとその右隣のリブ２１の間のセルに
縦ライン部１２を合わせる。縦ライン部１２がこの位置
にあることは、アライメントマーク１６における凸部１
４と延長部１５の繋がった左側の領域に３本のダミーリ
ブ２１ａ，２１ｂ，２１ｃが見える状態になっているこ
とで分かる。この場合も、縦ライン部１２の両側にダミ
ーリブ２１ｃとその右隣のリブ２１が見えるので、これ
により縦ライン部１２のセンタリングを行う。

【００１６】以上では、基板の左側に設けたダミーリブ
とそれに対応するアライメントマークで基板２０とフォ
トマスク１０のアライメントを行う手順を説明したが、
実際には基板の左右両側にダミーリブを設けるととも
に、これらに対応してフォトマスクの左右にアライメン
トマークを対称に設けておき、左右で同時にアライメン
トを行うようにした方がより正確な合わせが行える。さ
らには、焼成に伴う基板の収縮を考えると、左右及び上
下の４ヶ所にアライメントマークを設けることで正確な
合わせが行える。

【００１７】上記のようにして３色それぞれについてア
ライメントを行うが、このアライメント時においてアラ
イメントマーク１６の下にダミーリブの一部が見えてい
るので、露光時にはアライメントマーク１６の部分に対
応してダミーリブの上に蛍光体層が形成される。上記に
述べた例では最終的に図５に示すようなパターンでリブ
頂部に蛍光体層３０が形成される。ここで、もしアライ
メントマーク１６の延長部１５がリブ１１の向きに対し
て直交する向きであれば、３回の露光を終えた時点で
は、図６に示すように、一番外側のダミーリブ２１ａで
は３層に重なった蛍光体層が形成され、２番目のダミー
リブ２１ｂでは２層に重なった蛍光体層が形成されるこ
とになる。蛍光面を緑（Ｇ）、青（Ｂ）、赤（Ｒ）の順
で形成した場合、図示のような色で蛍光体層が形成され
る。このように蛍光体層が２層又は３層に重なると、露
光時のフォトマスクとの合わせやパネル化の際の前面板
との貼り合わせに支障をきたす。具体的には、リブ頂部
も凸凹状になっているので、ダミーリブの頂部に１層分
の蛍光体が形成されているのであれば無視できるもの
の、２層や３層になると突起となってその部分に圧力が
加わり、リブが欠けたり、悪くするとフォトマスクに傷
が付いたりしてしまう。この問題点を解決するため、本
発明ではアライメントマーク１６の延長部１５をリブの
向きに対して斜めにしている。また、ダミーリブ２１
ａ，２１ｂ，２１ｃの間にある２つのセルには蛍光体層
が形成されるが、その蛍光体層の上部にはアライメント
マーク１６の延長部１５に対応して他の色の蛍光体層が
重なって形成されてしまう。このようなセルが有効表示
領域内にあるといけないので、３色の蛍光体層を順に形
成する場合、ダミーリブは少なくとも３本必要である。

【００１８】図７は本発明に係るフォトマスクの他の例
を示す要部拡大図である。図示のフォトマスク１０で
は、アライメントマーク１６の延長部１５が内向きの凸
部１３から斜め内側に向けて延びるように設けられてい
る。このタイプのフォトマスク１０を使用する場合に
は、図８に示すように、基板２０に対してフォトマスク
１０を右側に動かして、アライメントマーク１６の延長
部１５の領域にリブが見えた時、それが最外のダミーリ
ブ２１ａと判断し、その後は前述の例と同様にして各色
のアライメントを行う。

【００１９】上述の各例では、一番外側のダミーリブ２
１ａに設けた外向きの突起２３を使用して１色目の時に
基板とフォトマスクの縦方向のアライメントを行い、２
色目と３色目ではそのまま横にずらすようにしたが、図
９に示すように、２〜４番目のダミーリブ２１ｂ，２１
ｃ，２１ｄにも縦方向合わせ用の突起２３を設けておい
てもよい。このタイプの基板２０に対しては、図１０に
示すような、アライメントマーク１６における凸部１
３，１４の上下幅を突起２３より大きくしたフォトマス
ク１０を使用する。このような基板２０とフォトマスク
１０を使用した場合のアライメントの手順を図１１に示
す。この場合、各色において突起２３によりそれぞれ縦
方向のアライメントを行うとともに、突起２３のない部
分で縦ライン部１２のセンタリングを行うようにする。
また、このような突起はダミーリブから内向きに設けて
もよいし、或いは外向きと内向きの両方に設けてもよ
い。

【００２０】なお、上述の例では、ダミーリブに縦方向
合わせ用の突起を設けたが、ダミーリブにこのような突
起を設けず、他の機械的な方法で縦方向のアライメント
を行ってもよい。

【００２１】また、上述の各例で説明したアライメント
マーク１６は、縦ライン部１２から両側に凸部１３，１
４を設け、そのいずれかの凸部から斜めの延長部１５を
設けた構成としたが、この形状に限定されるものではな
い。すなわち、本発明のアライメントマークは、最外位
置にある透明ライン部から３本外側のセルに収まるよう
に縦方向に設けられた縦ライン部の両サイドに透明領域
を形成してあり、その一方は隣のリブが見えるサイズで
あると共に、他方は少なくとも３本のリブが見える長さ
で傾斜していればよいものである。例えば、延長部は縦
ライン部から凸部を介さずに直接傾斜して延びていても
よい。ただしこの場合、ダミーリブに突起を設けてある
ならば、延長部はその突起が区別できるサイズであるこ
とが必要となる。

【００２２】

【実施例】以下、ＡＣ型ＰＤＰの背面板に蛍光面を形成
する場合を例に挙げて本発明の実施例を説明する。

【００２３】まず、背面板となるガラス基板上にアドレ
ス電極とそれを覆って誘電体層を形成し、その上に複数
の平行なライン状リブを形成した。そして、左右の表示
有効範囲外にそれぞれ５本ずつのダミーリブも併せて形
成し、さらに左側の一番外のダミーリブには縦方向合わ
せ用の突起も形成しておいた。ここでは、下記組成のリ
ブ材料ペーストをダイヘッドコーターにより厚さ４２０
μｍで塗布した後、１５０℃にて５０分間乾燥させて膜
厚１８０μｍのリブ形成層を形成した後、このリブ形成
層をサンドブラスト加工して不要部分を除去することに
よりリブを形成した。

【００２４】＜リブ材料ペーストの組成＞ガラスフリット（松浪硝子工業製「ＭＢ−００８」）７０重量％ α−アルミナＲＡ−４０（岩谷化学工業製）１０重量％セルロース系樹脂２重量％ターピネオール１８重量％

【００２５】リブ形成層のサンドブラスト処理は次のよ
うにして行った。まず基板を８０℃に加熱し、リブ形成
層の上にドライフィルムレジスト（日本合成化学工業製
の「ＮＣＰ２２５」）をラミネートしてから、線幅５０
μｍ、ピッチ１５０μｍのラインパターンマスクを介し
て紫外線により露光を行った。露光条件は３６４ｎｍで
測定した時に強度２００μＷ／ｃｍ²、照射量１２０ｍ
Ｊ／ｃｍ²である。露光後、炭酸ナトリウム１ｗｔ％水
溶液により液温３０℃でスプレー現像を行って線幅５０
μｍ、ピッチ１５０μｍのサンドブラスト用マスクを形
成した。そして、このサンドブラスト用マスクを介して
サンドブラスト加工を行うことによりリブ形成層の不要
部分の除去を行った。具体的には、研磨材としてアルミ
ナ♯８００を用い、研磨材噴射量１００ｇ／ｍｉｎ、噴
射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ²、基板とノズルの距離１００ｍ
ｍ、スキャン速度１０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサンドブラ
スト加工を行った。サンドブラスト処理を終了後、水酸
化ナトリウム２ｗｔ％水溶液を使用し、３０℃にてスプ
レー剥離してレジストを剥離した。その後、ピーク温度
５７０℃、保持時間２０分の条件で焼成を行ってリブを
形成した。

【００２６】なお、上記のリブ形成層はリブ材料ペース
トを塗布する他に、リブ材料シートからの転写により形
成することもできる。また、サンドブラスト法以外の方
法でリブを形成してもよい。例えば、スクリーン印刷に
よりリブ材料ペーストをパターン状に重ね刷りしてから
焼成する方法、レジスト等により形成してなる雌型の空
間内にリブ材料ペーストを充填し、雌型を除去してから
焼成する方法、などがある。

【００２７】このようにしてリブを形成した後、リブで
囲まれたセル内にＲ，Ｇ，Ｂ各色の蛍光体層を選択的に
形成した。

【００２８】手順としては、まず、緑色の発光色を持つ
蛍光体粉を含有する下記組成Ａの感光性蛍光体ペースト
をダイヘッドコーターにより全面塗布し、オーブンによ
り８０℃で１時間の条件で乾燥させて蛍光面形成層を形
成した。

【００２９】（組成Ａ）蛍光体粉末：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ５００重量部（化成オプトニクス製「ＰＩ−Ｇ１Ｓ」）ヒドロキシプロピルセルロース（平均分子量６万）１００重量部ペンタエリスリトールトリアクリレート１００重量部２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノール１０重量部メチルヒドロキノン０．５重量部３−メチル−３−メトキシブタノール３００重量部

【００３０】次に、図２に示すパターンのガラス製フォ
トマスクを使用し、そのアライメントマークにより基板
のリブとの縦方向及び横方向のアライメントを行ってか
ら、蛍光面形成層をパターン露光した。露光条件は３６
４ｎｍで測定した時に強度２００μＷ／ｃｍ²、照射量
４８０ｍＪ／ｃｍ²である。次いで、純水を用いて１．
５ｋｇｆ／ｃｍ²の噴射圧でスプレー現像を行い、所定
のセル内に緑色の蛍光体層を残してから、オーブンによ
り８０℃で１０分間の条件で乾燥させた。

【００３１】次いで、青色の発光色を持つ蛍光体粉を含
有する感光性蛍光体ペーストについて、前記と同様にし
て蛍光面形成層を形成した後、フォトマスクを横にずら
して横方向のアライメントを行ってから、上記と同様の
条件で蛍光面形成層をパターン露光した。青色の蛍光体
粉末にはＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ（化成オプトニクス
製「ＫＸ−５０１Ａ」）を使用し、緑色の蛍光体粉末の
場合と同様の組成で感光性蛍光体ペーストを調製した。

【００３２】続いて、赤色の発光色を持つ蛍光体粉を含
有する感光性蛍光体ペーストについて、前記と同様にし
て蛍光面形成層を形成した後、フォトマスクをさらに横
にずらして横方向のアライメントを行ってから、上記と
同様の条件で蛍光面形成層をパターン露光した。赤色の
蛍光体粉末には（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ（化成オプト
ニクス製「ＫＸ−５０４Ａ」）を使用し、緑色の蛍光体
粉末の場合と同様の組成で感光性蛍光体ペーストを調製
した。

【００３３】最後に、４５５℃で３０分間の焼成工程を
行って蛍光体ペーストの有機分を焼失させた。これによ
りＲ，Ｇ，Ｂ各色の蛍光体層がそれぞれ所定のセル内に
パターニングされた背面板を得ることができた。

【００３４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
フォトリソグラフィー法でセル内に蛍光面を形成するに
際し、リブとフォトマスクとのアライメントを合わせて
蛍光面形成層を露光するようにしたことにより、蛍光体
層のアライメントずれを防止することができる。

【００３５】また、アライメントマークの延長部をリブ
の向きに対して斜めとしたことにより、フォトマスクや
前面板との合わせの際のリブ欠けやフォトマスクの傷付
きの防止につながる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの一構成例
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構造図であ
る。

【図２】本発明に係るフォトマスクの一例を示す要部拡
大図である。

【図３】リブを形成した基板における左端付近の要部拡
大図である。

【図４】図２に示すフォトマスクと図３に示す基板との
アライメント方法を示す説明図である。

【図５】リブ頂部に形成される蛍光体層の説明図であ
る。

【図６】リブ頂部に重ねて形成される蛍光体層の説明図
である。

【図７】本発明に係るフォトマスクの他の例を示す要部
拡大図である。

【図８】図７に示すフォトマスクを使用した場合のアラ
イメント方法を説明するための図である。

【図９】リブを形成した他のタイプの基板における左端
付近の要部拡大図である。

【図１０】図９に示す基板に使用するフォトマスクを示
す要部拡大図である。

【図１１】図９に示す基板と図１０に示すフォトマスク
とのアライメント方法を示す説明図である。

【符号の説明】

１前面板２背面板３リブ４維持電極５バス電極６誘電体層７保護層（ＭｇＯ層）８アドレス電極９蛍光体層１０フォトマスク１１，１１ａ透明ライン部１２，１３凸部１４延長部１５アライメントマーク２０基板２１リブ２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄダミーリブ２２セル２３突起

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に設けられた複数の平行な縦方向
のライン状リブにより区画される複数のセルの中に、３
本毎のセルに合う複数の透明ライン部を備えたフォトマ
スクを使用して感光性の蛍光面形成層を露光する工程を
含むフォトリソグラフィー法により、赤、緑、青の蛍光
面を順次形成するプラズマディスプレイパネルの蛍光面
形成時に使用するフォトマスクであって、ライン状リブ
により区画されたセル中に相当する位置にアライメント
マークを設けたことを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】請求項１に記載のフォトマスクを使用し
て露光を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルの蛍光面形成方法。
【請求項３】基板上に設けられた複数の平行な縦方向
のライン状リブにより区画される複数のセルの中に、３
本毎のセルに合う複数の透明ライン部を備えたフォトマ
スクを使用して感光性の蛍光面形成層を露光する工程を
含むフォトリソグラフィー法により、赤、緑、青の蛍光
面を順次形成するプラズマディスプレイパネルの蛍光面
形成時に使用するフォトマスクであって、最外位置にあ
る透明ライン部から３本外側のセルに収まるように縦方
向に設けられた縦ライン部と、当該縦ライン部の一方側
に突き出た凸部と、その凸部の反対側から斜め方向に少
なくとも３本のリブを横切る長さで延びた延長部とで構
成される透明なアライメントマークを設けたことを特徴
とするフォトマスク。
【請求項４】基板上に設けられた複数の平行なライン
状リブにより区画される複数のセルの中に、３本毎のセ
ルに合う複数の透明ライン部を備えたフォトマスクを使
用して感光性の蛍光面形成層を露光する工程を含むフォ
トリソグラフィー法により、赤、緑、青の蛍光面を順次
形成するプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法
において、基板には表示有効範囲外に少なくとも３本の
ダミーリブを設けておき、フォトマスクには最外位置に
ある透明ライン部から３本外側のセルに収まるように縦
方向に設けられた縦ライン部と、当該縦ライン部の一方
側に突き出た凸部と、その凸部の反対側から斜め方向に
少なくとも３本のリブを横切る長さで延びた延長部とで
構成される透明なアライメントマークを設けておき、そ
の基板上のダミーリブとフォトマスクのアライメントマ
ークとにより横方向のアライメントを行って露光を行う
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの蛍光面
形成方法。
【請求項５】請求項４に記載の方法で複数のセルの中
に順に赤、緑、青の蛍光面が形成された基板であって、
アライメント部分に対応するリブ頂部に複数色の蛍光体
が付着していることを特徴とする基板。
【請求項６】所定位置に横向きの突起を形成してある
ダミーリブを使用し、このダミーリブの突起とフォトマ
スクのアライメントマークとにより縦方向のアライメン
トも行うようにした請求項４に記載のプラズマディスプ
レイパネルの蛍光面形成方法。
【請求項７】請求項６に記載の方法で複数のセルの中
に順に赤、緑、青の蛍光面が形成された基板であって、
ダミーリブの所定位置に突起を有することを特徴とする
基板。