JPH11306987A - Ac型プラズマディスプレイパネル - Google Patents
Ac型プラズマディスプレイパネルInfo
- Publication number
- JPH11306987A JPH11306987A JP10111689A JP11168998A JPH11306987A JP H11306987 A JPH11306987 A JP H11306987A JP 10111689 A JP10111689 A JP 10111689A JP 11168998 A JP11168998 A JP 11168998A JP H11306987 A JPH11306987 A JP H11306987A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphor
- electrode
- front plate
- electrodes
- display panel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像の色度を向上させる。
【解決手段】 前面板に金属電極からなるバス電極5を
備えると共に、背面板にバス電極5と直交するアドレス
電極8とこのアドレス電極8の間に立設するリブ3とを
備え、リブ3の壁面と底面とに渡って蛍光体10を設け
てなる構成とし、放電を行う一対のバス電極5を中心と
する左右の領域Aを画素とする。バス電極5が不透明で
且つ間隔が狭いので放電光が漏れず、放電ガス固有の発
光色が蛍光体の発光色と混じることがないことから、色
度の優れた画像が得られる。
備えると共に、背面板にバス電極5と直交するアドレス
電極8とこのアドレス電極8の間に立設するリブ3とを
備え、リブ3の壁面と底面とに渡って蛍光体10を設け
てなる構成とし、放電を行う一対のバス電極5を中心と
する左右の領域Aを画素とする。バス電極5が不透明で
且つ間隔が狭いので放電光が漏れず、放電ガス固有の発
光色が蛍光体の発光色と混じることがないことから、色
度の優れた画像が得られる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電を利用し
た自発光形式のフラットディスプレイであるプラズマデ
ィスプレイパネル(以下、PDPと記す)に関するもの
である。
た自発光形式のフラットディスプレイであるプラズマデ
ィスプレイパネル(以下、PDPと記す)に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】一般にPDPは、2枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にNe,Xe等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル空間内で放電を発生させることに
より、各セルを発光させて表示を行うようにしている。
情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的
に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に
露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている
交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能
や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方
式とメモリー駆動方式とに分類される。
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にNe,Xe等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル空間内で放電を発生させることに
より、各セルを発光させて表示を行うようにしている。
情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的
に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に
露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている
交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能
や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方
式とメモリー駆動方式とに分類される。
【0003】図1にAC型PDPの一構成例を示してあ
る。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもの
で、図示のように2枚のガラス基板1,2が互いに平行
に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガ
ラス基板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一
定の間隔に保持されるようになっている。
る。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもの
で、図示のように2枚のガラス基板1,2が互いに平行
に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガ
ラス基板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一
定の間隔に保持されるようになっている。
【0004】前面板となるガラス基板1の背面側には、
表示電極対X,Yが設けられており、これらの表示電極
対X,Yは、それぞれITO薄膜からなる幅の広い直線
状の透明電極4x,4yと多層構造の金属薄膜からなる
幅の狭い直線状のバス電極5x,5yとから構成されて
いる。透明電極及びバス電極のサイズの具体例を挙げる
と、透明電極が厚さ0.1μm、幅180μmで、バス
電極が厚さ1μm、幅60μmである。なお、バス電極
は導電性を保つための補助電極であり、透明電極におけ
る面放電ギャップから遠い位置の端縁部に配置されてい
る。さらに、表示電極対X,Yを被覆するようにしてP
bO系の低融点ガラス層からなる誘電体層6が設けられ
ており、さらに誘電体層6の上にMgO(酸化マグネシ
ウム)からなる保護膜7が蒸着されている。誘電体層6
の厚さは約30μmであり、保護膜7の厚さは約600
0Åである。
表示電極対X,Yが設けられており、これらの表示電極
対X,Yは、それぞれITO薄膜からなる幅の広い直線
状の透明電極4x,4yと多層構造の金属薄膜からなる
幅の狭い直線状のバス電極5x,5yとから構成されて
いる。透明電極及びバス電極のサイズの具体例を挙げる
と、透明電極が厚さ0.1μm、幅180μmで、バス
電極が厚さ1μm、幅60μmである。なお、バス電極
は導電性を保つための補助電極であり、透明電極におけ
る面放電ギャップから遠い位置の端縁部に配置されてい
る。さらに、表示電極対X,Yを被覆するようにしてP
bO系の低融点ガラス層からなる誘電体層6が設けられ
ており、さらに誘電体層6の上にMgO(酸化マグネシ
ウム)からなる保護膜7が蒸着されている。誘電体層6
の厚さは約30μmであり、保護膜7の厚さは約600
0Åである。
【0005】一方、背面板となるガラス基板2の前面側
には前記表示電極対X,Yに対して直交する方向にリブ
3が形成され、このリブ3によって放電空間が各発光色
毎に区画され、且つ放電空間の間隙寸法が規定されてい
る。また、リブ3の間に位置してアドレス電極8が互い
に平行に形成されており、必要によりその上に誘電体層
9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底面を覆うよ
うにして蛍光体10が設けられている。放電空間は表示
電極対X,Yと直交する方向に対して区画されていない
が、一組の表示電極対X,Yからなる表示ラインどうし
の間隔が100〜500μmに選定されており、各表示
ラインにおける60μm程度の面放電ギャップと比べる
とかなり大きいので、表示ライン間での放電干渉は起き
ない。
には前記表示電極対X,Yに対して直交する方向にリブ
3が形成され、このリブ3によって放電空間が各発光色
毎に区画され、且つ放電空間の間隙寸法が規定されてい
る。また、リブ3の間に位置してアドレス電極8が互い
に平行に形成されており、必要によりその上に誘電体層
9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底面を覆うよ
うにして蛍光体10が設けられている。放電空間は表示
電極対X,Yと直交する方向に対して区画されていない
が、一組の表示電極対X,Yからなる表示ラインどうし
の間隔が100〜500μmに選定されており、各表示
ラインにおける60μm程度の面放電ギャップと比べる
とかなり大きいので、表示ライン間での放電干渉は起き
ない。
【0006】このAC型PDPは面放電型であって、前
面板上の透明電極4x,4y間に交流電圧を印加し、セ
ル空間に漏れた電界で放電させる構造である。この場
合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応
して変化する。そしてこの放電により生じる紫外線によ
り蛍光体10を発光させ、前面板を透過する光を観察者
が視認するようになっている。このように、放電を行う
一対の透明電極4x,4y、すなわち一組の表示電極対
X,Yに対応するリブ3間の空間が画像の構成単位とし
ての絵素となる。そして、R,G,Bの3色の絵素が一
つの画素を形成し、各画素の色を制御することによりカ
ラーの画像を表示する。
面板上の透明電極4x,4y間に交流電圧を印加し、セ
ル空間に漏れた電界で放電させる構造である。この場
合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応
して変化する。そしてこの放電により生じる紫外線によ
り蛍光体10を発光させ、前面板を透過する光を観察者
が視認するようになっている。このように、放電を行う
一対の透明電極4x,4y、すなわち一組の表示電極対
X,Yに対応するリブ3間の空間が画像の構成単位とし
ての絵素となる。そして、R,G,Bの3色の絵素が一
つの画素を形成し、各画素の色を制御することによりカ
ラーの画像を表示する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記のような構成のA
C型PDPでは、セル空間内に封入した放電ガス固有の
放電色(例えば、Neを主体とするガスではオレンジ
色)があり、これが蛍光体の発光色と混色する。したが
って、観察者から見るとどうしても色度が悪くなってし
まうという問題点があった。
C型PDPでは、セル空間内に封入した放電ガス固有の
放電色(例えば、Neを主体とするガスではオレンジ
色)があり、これが蛍光体の発光色と混色する。したが
って、観察者から見るとどうしても色度が悪くなってし
まうという問題点があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明のAC型PDPは、放電光が漏れないよ
うな構成を採ることとしている。そして、このような構
成により、放電ガス固有の放電色が観察者側から見えな
いようにし、したがって色度に優れた画像を表示するこ
とができる。
ために、本発明のAC型PDPは、放電光が漏れないよ
うな構成を採ることとしている。そして、このような構
成により、放電ガス固有の放電色が観察者側から見えな
いようにし、したがって色度に優れた画像を表示するこ
とができる。
【0009】
【発明の実施の形態】図2は本発明に係るAC型PDP
の一例を示す説明用の斜視図であり、前面板については
その電極のみを示している。また、図1と同様の部位に
は同じ符号を付してある。同図に示されるように、本発
明のAC型PDPは、前面板に抵抗値の低い金属電極か
らなるバス電極5x,5yを備えると共に、背面板にバ
ス電極5x,5yと直交するアドレス電極8とこのアド
レス電極8の間に立設するリブ3とを備え、さらにリブ
3の壁面と底面とに渡って蛍光体10を設けてセル空間
に蛍光面を形成した構成を採っている。そして、表示電
極対となる隣接した一対のバス電極5x,5yを中心と
する左右の領域Aが画素となる。すなわち、放電を行う
一対のバス電極5x,5yに対応するリブ3の間の空間
が絵素となり、R,G,Bの3色の絵素が一つの画素を
形成する。この図2に示す構成では、バス電極5が不透
明であり且つ放電を行う一対のバス電極5の間隔が狭い
ので、放電光が漏れることがない。そして、遮光性を更
に上げるために、一対のバス電極5x,5yを隠すよう
にして前面板にブラックストライプ11を設けるように
してもよい。
の一例を示す説明用の斜視図であり、前面板については
その電極のみを示している。また、図1と同様の部位に
は同じ符号を付してある。同図に示されるように、本発
明のAC型PDPは、前面板に抵抗値の低い金属電極か
らなるバス電極5x,5yを備えると共に、背面板にバ
ス電極5x,5yと直交するアドレス電極8とこのアド
レス電極8の間に立設するリブ3とを備え、さらにリブ
3の壁面と底面とに渡って蛍光体10を設けてセル空間
に蛍光面を形成した構成を採っている。そして、表示電
極対となる隣接した一対のバス電極5x,5yを中心と
する左右の領域Aが画素となる。すなわち、放電を行う
一対のバス電極5x,5yに対応するリブ3の間の空間
が絵素となり、R,G,Bの3色の絵素が一つの画素を
形成する。この図2に示す構成では、バス電極5が不透
明であり且つ放電を行う一対のバス電極5の間隔が狭い
ので、放電光が漏れることがない。そして、遮光性を更
に上げるために、一対のバス電極5x,5yを隠すよう
にして前面板にブラックストライプ11を設けるように
してもよい。
【0010】また、上記のバス電極5x,5yの代わり
に、抵抗値の低い主電極と透明な維持電極とからなる複
合電極を前面板に設けてもよいが、この場合、維持電極
は透明電極であるため、放電光が漏れなくするには、そ
の一対の複合電極を隠すブラックストライプを前面板に
設ける必要がある。
に、抵抗値の低い主電極と透明な維持電極とからなる複
合電極を前面板に設けてもよいが、この場合、維持電極
は透明電極であるため、放電光が漏れなくするには、そ
の一対の複合電極を隠すブラックストライプを前面板に
設ける必要がある。
【0011】また、図3に示すように、隣接する画素の
間に蛍光体のない領域Nを設けるようにしてもよく、こ
の場合、蛍光体のない領域Nを隠すブラックストライプ
を前面板に設けるようにしてもよい。また、一対のバス
電極5x,5yを隠すようにして前面板に前述のブラッ
クストライプ11を設けるようにしてもよい。
間に蛍光体のない領域Nを設けるようにしてもよく、こ
の場合、蛍光体のない領域Nを隠すブラックストライプ
を前面板に設けるようにしてもよい。また、一対のバス
電極5x,5yを隠すようにして前面板に前述のブラッ
クストライプ11を設けるようにしてもよい。
【0012】また、図4に示すように、蛍光体は全体に
渡って設けるが、画素を分割するために、画素と画素の
間に位置するようにして単にブラックストライプ12を
前面板に設けるようにしてもよい。もちろん、一対のバ
ス電極5x,5yを隠すようにして前面板に前述のブラ
ックストライプ11を設けるようにしてもよい。
渡って設けるが、画素を分割するために、画素と画素の
間に位置するようにして単にブラックストライプ12を
前面板に設けるようにしてもよい。もちろん、一対のバ
ス電極5x,5yを隠すようにして前面板に前述のブラ
ックストライプ11を設けるようにしてもよい。
【0013】上記の如き反射型の蛍光面を形成する方法
として、スクリーン印刷により3色の蛍光体ペーストを
セル空間内に選択的に充填し、しかる後に焼成する方法
が考えられる。この方法によれば、塗布工程とパターニ
ング工程が同時に行えるのでプロセス的にも簡便であ
り、生産性が高いという利点があるものの、大面積、高
精細な蛍光面を形成する場合、版の伸び等により精度を
維持するのが難しく、特に、前記したような蛍光体のな
い領域Nを設けるのはスクリーン印刷では難しい。そこ
で、好ましい方法として、感光性の蛍光体ペーストを用
いたフォトリソグラフィ法がある。具体的には、感光性
の蛍光体ペーストを少なくともセル空間にコーティング
して乾燥させる工程と、所定パターンのフォトマスクを
介しての露光とこれに続く現像を行って所定のセル空間
に蛍光体ペースト層を残す工程とを必要な色数だけ繰り
返し行った後、焼成工程を経て蛍光面を完成させるよう
にする。
として、スクリーン印刷により3色の蛍光体ペーストを
セル空間内に選択的に充填し、しかる後に焼成する方法
が考えられる。この方法によれば、塗布工程とパターニ
ング工程が同時に行えるのでプロセス的にも簡便であ
り、生産性が高いという利点があるものの、大面積、高
精細な蛍光面を形成する場合、版の伸び等により精度を
維持するのが難しく、特に、前記したような蛍光体のな
い領域Nを設けるのはスクリーン印刷では難しい。そこ
で、好ましい方法として、感光性の蛍光体ペーストを用
いたフォトリソグラフィ法がある。具体的には、感光性
の蛍光体ペーストを少なくともセル空間にコーティング
して乾燥させる工程と、所定パターンのフォトマスクを
介しての露光とこれに続く現像を行って所定のセル空間
に蛍光体ペースト層を残す工程とを必要な色数だけ繰り
返し行った後、焼成工程を経て蛍光面を完成させるよう
にする。
【0014】
【実施例】(実施例1)この実施例では図2に示すタイ
プのPDPを製造する。
プのPDPを製造する。
【0015】前面板は次のようにして作製した。まず、
ガラス基板の表面にPbO系の低融点ガラスペーストを
スクリーン印刷にて塗布して焼成することにより下地層
(10μm程度)を形成した。次に、銀ペーストをスク
リーン印刷にて塗布して焼成することで、各電極幅60
μm、電極間ギャップ20μmの表示電極対としての一
対のバス電極5を形成した。なお、この電極は、真空薄
膜法で形成されるCr/Cu/Cr等の積層電極でも、
感光性の銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法に
より形成した電極でも構わない。次いで、バス電極5を
覆って2層からなる誘電体層を形成した。この場合、銀
電極と接する側の誘電体層は、焼成中に粘度が上がら
ず、銀電極と反応を起こさない材料組成が要求される。
例えば、PbO/SiO2 /B2 O3 /ZnOを含むガ
ラスペーストであり、ガラス軟化点を高くする意味でS
iO2 を多く含む材料を選定する。一方、2層の内の上
側となる誘電体層は、焼成中に粘度が上がることで段差
がなくなって表面が平坦になるような材料組成が要求さ
れる。例えば、PbO/SiO2 /B2 O3 /ZnOを
含むガラスペーストであり、ガラス軟化点を低くする意
味でSiO2 を少なく含む材料を選定する。これら各々
の層のペーストをスクリーン印刷で塗布し、約580℃
の温度にて約60分間焼成して2層からなるの誘電体層
を形成した。さらに、この誘電体層の上にMgOからな
る厚さ約6000Åの保護膜を蒸着にて形成した。
ガラス基板の表面にPbO系の低融点ガラスペーストを
スクリーン印刷にて塗布して焼成することにより下地層
(10μm程度)を形成した。次に、銀ペーストをスク
リーン印刷にて塗布して焼成することで、各電極幅60
μm、電極間ギャップ20μmの表示電極対としての一
対のバス電極5を形成した。なお、この電極は、真空薄
膜法で形成されるCr/Cu/Cr等の積層電極でも、
感光性の銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法に
より形成した電極でも構わない。次いで、バス電極5を
覆って2層からなる誘電体層を形成した。この場合、銀
電極と接する側の誘電体層は、焼成中に粘度が上がら
ず、銀電極と反応を起こさない材料組成が要求される。
例えば、PbO/SiO2 /B2 O3 /ZnOを含むガ
ラスペーストであり、ガラス軟化点を高くする意味でS
iO2 を多く含む材料を選定する。一方、2層の内の上
側となる誘電体層は、焼成中に粘度が上がることで段差
がなくなって表面が平坦になるような材料組成が要求さ
れる。例えば、PbO/SiO2 /B2 O3 /ZnOを
含むガラスペーストであり、ガラス軟化点を低くする意
味でSiO2 を少なく含む材料を選定する。これら各々
の層のペーストをスクリーン印刷で塗布し、約580℃
の温度にて約60分間焼成して2層からなるの誘電体層
を形成した。さらに、この誘電体層の上にMgOからな
る厚さ約6000Åの保護膜を蒸着にて形成した。
【0016】背面板は次のようにして作製した。まずガ
ラス基板上に線幅60μmのアドレス電極をピッチ36
0μmで形成した後、それを覆って暗色の誘電体層を形
成した。具体的には、ガラスペーストをスクリーン印刷
により基板上に塗布し、平滑な表面を得るため印刷後に
室温で10分間レベリングを行ってから、100℃で1
5分間乾燥を行った。さらに、ベルト炉にて580℃で
60分間の焼成を行い、乾燥塗膜に含まれる有機物を分
解した。
ラス基板上に線幅60μmのアドレス電極をピッチ36
0μmで形成した後、それを覆って暗色の誘電体層を形
成した。具体的には、ガラスペーストをスクリーン印刷
により基板上に塗布し、平滑な表面を得るため印刷後に
室温で10分間レベリングを行ってから、100℃で1
5分間乾燥を行った。さらに、ベルト炉にて580℃で
60分間の焼成を行い、乾燥塗膜に含まれる有機物を分
解した。
【0017】アドレス電極を覆って誘電体層を形成した
後、その誘電体層上にリブを形成した。ここでは、下記
組成のリブ材料ペーストをブレードコーターにより厚さ
220μmで塗布し、150℃にて50分間乾燥させて
膜厚180μmのリブ形成層を形成した後、このリブ形
成層をサンドブラスト加工して不要部分を除去すること
でリブを形成した。
後、その誘電体層上にリブを形成した。ここでは、下記
組成のリブ材料ペーストをブレードコーターにより厚さ
220μmで塗布し、150℃にて50分間乾燥させて
膜厚180μmのリブ形成層を形成した後、このリブ形
成層をサンドブラスト加工して不要部分を除去すること
でリブを形成した。
【0018】 <リブ材料ペーストの組成> ガラス粉体:松浪硝子工業製「MB−008」 60重量部 フィラー:岩谷化学工業製「α−アルミナRA−40」 10重量部 バインダー:ダウコーニング製「エトセルSTD100」 2重量部 顔料:TiO2 10重量部 溶剤:ターピネオール 18重量部
【0019】リブ形成層のサンドブラスト処理は次のよ
うにして行った。まず基板を80℃に加熱し、リブ形成
層の上にドライフィルムレジスト(日本合成化学工業製
の「NCP225」)をラミネートしてから、線幅90
μm、ピッチ360μmのラインパターンマスクを介し
て紫外線により露光を行った。露光条件は364nmで
測定した時に強度200μW/cm2 、照射量120m
J/cm2 である。露光後、炭酸ナトリウム1wt%水
溶液により液温30℃でスプレー現像を行って線幅90
μm、ピッチ360μmのサンドブラスト用マスクを形
成した。そして、このサンドブラスト用マスクを介して
サンドブラスト加工を行うことによりリブ形成層の不要
部分の除去を行った。具体的には、研磨材としてアルミ
ナ♯800を用い、研磨材噴射量100g/min、噴
射圧力3kgf/cm2 、基板とノズルの距離100m
m、スキャン速度10mm/secの条件でサンドブラ
スト加工を行った。サンドブラスト処理を終了後、水酸
化ナトリウム2wt%水溶液を使用し、30℃にてスプ
レー剥離してレジストを剥離した。その後、ピーク温度
570℃、保持時間20分の条件で焼成を行ってリブを
形成した。
うにして行った。まず基板を80℃に加熱し、リブ形成
層の上にドライフィルムレジスト(日本合成化学工業製
の「NCP225」)をラミネートしてから、線幅90
μm、ピッチ360μmのラインパターンマスクを介し
て紫外線により露光を行った。露光条件は364nmで
測定した時に強度200μW/cm2 、照射量120m
J/cm2 である。露光後、炭酸ナトリウム1wt%水
溶液により液温30℃でスプレー現像を行って線幅90
μm、ピッチ360μmのサンドブラスト用マスクを形
成した。そして、このサンドブラスト用マスクを介して
サンドブラスト加工を行うことによりリブ形成層の不要
部分の除去を行った。具体的には、研磨材としてアルミ
ナ♯800を用い、研磨材噴射量100g/min、噴
射圧力3kgf/cm2 、基板とノズルの距離100m
m、スキャン速度10mm/secの条件でサンドブラ
スト加工を行った。サンドブラスト処理を終了後、水酸
化ナトリウム2wt%水溶液を使用し、30℃にてスプ
レー剥離してレジストを剥離した。その後、ピーク温度
570℃、保持時間20分の条件で焼成を行ってリブを
形成した。
【0020】なお、上記のリブ形成層はリブ材料ペース
トを塗布する他に、リブ材料シートからの転写により形
成することもできる。また、サンドブラスト法以外の方
法でリブを形成してもよい。例えば、スクリーン印刷に
よりリブ材料ペーストをパターン状に重ね刷りしてから
焼成する方法、レジスト等により形成してなる雌型の空
間内にリブ材料ペーストを充填し、雌型を除去してから
焼成する方法、などがある。
トを塗布する他に、リブ材料シートからの転写により形
成することもできる。また、サンドブラスト法以外の方
法でリブを形成してもよい。例えば、スクリーン印刷に
よりリブ材料ペーストをパターン状に重ね刷りしてから
焼成する方法、レジスト等により形成してなる雌型の空
間内にリブ材料ペーストを充填し、雌型を除去してから
焼成する方法、などがある。
【0021】このように誘電体層の上にリブを形成した
後、リブで規定されるセル空間内にG,B,R各色の蛍
光体ペースト層を選択的に形成した。
後、リブで規定されるセル空間内にG,B,R各色の蛍
光体ペースト層を選択的に形成した。
【0022】手順としては、まず緑色の発光色を持つ蛍
光体粉を含有する感光性蛍光体ペーストをブレードコー
ターにより全面塗布し、オーブンにより80℃で1時間
の条件で乾燥させ、セル空間の中央で窪んだ蛍光体ペー
スト層を形成した。この感光性蛍光体ペーストには次の
ものを使用した。すなわち、Zn2 SiO4 :Mn(化
成オプトニクス製「PI−G1S」)からなる蛍光体粉
510重量部、平均分子量6万のヒドロキシプロピルセ
ルロース100重量部、ペンタエリスリトールトリアク
リレート100重量部、2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−
オン10重量部、メチルヒドロキノン0.5重量部、3
−メチル−3−メトキシブタノール300重量部を3本
ロールミルで混練して調製した感光性蛍光体ペーストを
使用した。この組成物の粘度は、B型回転粘度計で測定
して25℃で1,200Pであった。
光体粉を含有する感光性蛍光体ペーストをブレードコー
ターにより全面塗布し、オーブンにより80℃で1時間
の条件で乾燥させ、セル空間の中央で窪んだ蛍光体ペー
スト層を形成した。この感光性蛍光体ペーストには次の
ものを使用した。すなわち、Zn2 SiO4 :Mn(化
成オプトニクス製「PI−G1S」)からなる蛍光体粉
510重量部、平均分子量6万のヒドロキシプロピルセ
ルロース100重量部、ペンタエリスリトールトリアク
リレート100重量部、2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−
オン10重量部、メチルヒドロキノン0.5重量部、3
−メチル−3−メトキシブタノール300重量部を3本
ロールミルで混練して調製した感光性蛍光体ペーストを
使用した。この組成物の粘度は、B型回転粘度計で測定
して25℃で1,200Pであった。
【0023】次に、所定パターンのフォトマスクを介し
て蛍光体ペースト層をパターン露光した。露光条件は3
64nmで測定した時に強度5mW/cm2 、照射量4
80mJ/cm2 である。次いで、純水を用いて1.5
kgf/cm2 の噴射圧でスプレー現像を行い、所定の
セル空間内に緑色の蛍光体ペースト層を残してから、オ
ーブンにより80℃で10分間の条件で乾燥させた。
て蛍光体ペースト層をパターン露光した。露光条件は3
64nmで測定した時に強度5mW/cm2 、照射量4
80mJ/cm2 である。次いで、純水を用いて1.5
kgf/cm2 の噴射圧でスプレー現像を行い、所定の
セル空間内に緑色の蛍光体ペースト層を残してから、オ
ーブンにより80℃で10分間の条件で乾燥させた。
【0024】そして、青色、赤色の発光色を持つ蛍光体
粉を含有する感光性蛍光体ペーストについてもそれぞれ
同様に蛍光体ペースト層の形成を行い、所定の配置でセ
ル空間内に3色の蛍光体ペースト層を形成した。青色の
蛍光体粉末にはBaMgAl 10O17:Eu(化成オプト
ニクス製「KX−501A」)を、赤色の蛍光体粉末に
は(Y,Gd)BO3 :Eu(化成オプトニクス製「K
X−504A」)を使用し、緑色の蛍光体粉末の場合と
同様にしてそれぞれの感光性蛍光体ペーストを調製し
た。
粉を含有する感光性蛍光体ペーストについてもそれぞれ
同様に蛍光体ペースト層の形成を行い、所定の配置でセ
ル空間内に3色の蛍光体ペースト層を形成した。青色の
蛍光体粉末にはBaMgAl 10O17:Eu(化成オプト
ニクス製「KX−501A」)を、赤色の蛍光体粉末に
は(Y,Gd)BO3 :Eu(化成オプトニクス製「K
X−504A」)を使用し、緑色の蛍光体粉末の場合と
同様にしてそれぞれの感光性蛍光体ペーストを調製し
た。
【0025】続いて、455℃で15分間の焼成工程に
より蛍光体ペースト層の有機分を焼失させた。これによ
りR,G,B各色の蛍光体がそれぞれ所定のセル空間内
にパターニングされた背面板を得ることができた。
より蛍光体ペースト層の有機分を焼失させた。これによ
りR,G,B各色の蛍光体がそれぞれ所定のセル空間内
にパターニングされた背面板を得ることができた。
【0026】以上のようにして作製した前面板と背面板
とを貼り合わせてパネル化した。一対のバス電極5x,
5yからなる表示ラインどうしの間隔は940μmであ
り、バス電極5x,5yのギャップ20μmと比べて遙
に大きいので、表示ライン間の干渉がなく、しかもバス
電極5x,5yのギャップ20μmと狭いため、放電光
が漏れず、色度の優れた表示ができた。
とを貼り合わせてパネル化した。一対のバス電極5x,
5yからなる表示ラインどうしの間隔は940μmであ
り、バス電極5x,5yのギャップ20μmと比べて遙
に大きいので、表示ライン間の干渉がなく、しかもバス
電極5x,5yのギャップ20μmと狭いため、放電光
が漏れず、色度の優れた表示ができた。
【0027】(実施例2)この実施例では図3に示すタ
イプのPDPを製造する。
イプのPDPを製造する。
【0028】前面板は実施例1と同様にして作製した。
一方、背面板は、リブに沿って形成する蛍光面に100
μm幅で蛍光体のない領域Nを設けたものを作製した。
具体的には、蛍光体ペースト層の露光に際して、隣接す
る画素の間を露光しないパターンのフォトマスクを使用
する以外は実施例1と同様にして背面板を作製した。こ
の前面板と背面板とを貼り合わせてパネル化して点灯し
たところ、実施例1のパネルと比べて鮮明な画像が得ら
れた。
一方、背面板は、リブに沿って形成する蛍光面に100
μm幅で蛍光体のない領域Nを設けたものを作製した。
具体的には、蛍光体ペースト層の露光に際して、隣接す
る画素の間を露光しないパターンのフォトマスクを使用
する以外は実施例1と同様にして背面板を作製した。こ
の前面板と背面板とを貼り合わせてパネル化して点灯し
たところ、実施例1のパネルと比べて鮮明な画像が得ら
れた。
【0029】(実施例3)この実施例では、図4に示す
タイプであって、画素と画素の間に遮光層であるブラッ
クストライプを有すると共に、バス電極を隠す遮光層で
あるブラックストライプをも有するPDPを製造する。
タイプであって、画素と画素の間に遮光層であるブラッ
クストライプを有すると共に、バス電極を隠す遮光層で
あるブラックストライプをも有するPDPを製造する。
【0030】前面板は次のようにして作製した。まず、
実施例1と同様にして、ガラス基板に下地層、一対のバ
ス電極を形成するまでの工程を行った。次いで、バス電
極を覆うようにして、黒色顔料を含有したフォトレジス
ト層をスクリーン印刷により形成した。黒色顔料は、マ
ンガン、鉄、Crの酸化物であり、感光性のフォトレジ
ストにこれらの黒色顔料を混入したものが使用される。
ここでは東京応化工業製の顔料分散型フォトレジストを
使用した。そして、所定のフォトマスクを介して露光し
て現像した後、100〜200℃の乾燥雰囲気中でベー
キング遮光層を形成した。なお、この遮光層は、ガラス
基板と下地層との間、下地層と電極層との間、さらには
後に形成する2層構造の誘電体層の間に設けるようにし
ても構わない。続いて、実施例1と同様にして、2層構
造の誘電体層と、さらには保護層を形成した。遮光層
は、誘電体層と同時に焼成することで密着性を高めた。
実施例1と同様にして、ガラス基板に下地層、一対のバ
ス電極を形成するまでの工程を行った。次いで、バス電
極を覆うようにして、黒色顔料を含有したフォトレジス
ト層をスクリーン印刷により形成した。黒色顔料は、マ
ンガン、鉄、Crの酸化物であり、感光性のフォトレジ
ストにこれらの黒色顔料を混入したものが使用される。
ここでは東京応化工業製の顔料分散型フォトレジストを
使用した。そして、所定のフォトマスクを介して露光し
て現像した後、100〜200℃の乾燥雰囲気中でベー
キング遮光層を形成した。なお、この遮光層は、ガラス
基板と下地層との間、下地層と電極層との間、さらには
後に形成する2層構造の誘電体層の間に設けるようにし
ても構わない。続いて、実施例1と同様にして、2層構
造の誘電体層と、さらには保護層を形成した。遮光層
は、誘電体層と同時に焼成することで密着性を高めた。
【0031】このようにして作製した前面板と、実施例
1で作製したのと同じ背面板とを貼り合わせてパネル化
して点灯したところ、実施例1のパネルと比べて鮮明な
画像が得られた。
1で作製したのと同じ背面板とを貼り合わせてパネル化
して点灯したところ、実施例1のパネルと比べて鮮明な
画像が得られた。
【0032】
【発明の効果】本発明は、上記のように構成されている
ので、次に記載の効果を奏する。
ので、次に記載の効果を奏する。
【0033】請求項1に記載のAC型PDPは、前面板
の電極を抵抗値の低い金属材料からなるバス電極のみと
し、放電を行う一対のバス電極を中心とする左右の領域
を画素としたことにより、バス電極が不透明で且つ間隔
が狭いので放電光が漏れず、したがって放電ガス固有の
発光色が蛍光体の発光色と混じることがないことから、
色度の優れた画像を得ることができる。
の電極を抵抗値の低い金属材料からなるバス電極のみと
し、放電を行う一対のバス電極を中心とする左右の領域
を画素としたことにより、バス電極が不透明で且つ間隔
が狭いので放電光が漏れず、したがって放電ガス固有の
発光色が蛍光体の発光色と混じることがないことから、
色度の優れた画像を得ることができる。
【0034】請求項2に記載のAC型PDPは、一対の
バス電極を隠すブラックストライプを設けたことによ
り、さらに遮光性を上げることができる。
バス電極を隠すブラックストライプを設けたことによ
り、さらに遮光性を上げることができる。
【0035】請求項3に記載のAC型PDPは、金属材
料からなるバス電極の代わりに、金属材料の主電極と透
明材料の維持電極とからなる複合電極を前面板に設けた
タイプであるが、その一対の複合電極を隠すブラックス
トライプを前面板に設けたことにより、放電光が漏れな
い構造になり、したがって色度の優れた画像を得ること
ができる。
料からなるバス電極の代わりに、金属材料の主電極と透
明材料の維持電極とからなる複合電極を前面板に設けた
タイプであるが、その一対の複合電極を隠すブラックス
トライプを前面板に設けたことにより、放電光が漏れな
い構造になり、したがって色度の優れた画像を得ること
ができる。
【0036】請求項4に記載のAC型PDPは、隣接す
る画素の間に蛍光体のない領域を設けたので、画素が分
割状態になり、鮮明な画像が得られる。
る画素の間に蛍光体のない領域を設けたので、画素が分
割状態になり、鮮明な画像が得られる。
【0037】請求項5に記載のAC型PDPは、隣接す
る画素の間に蛍光体のない領域を設けると共に、その領
域を隠すブラックストライプを前面板に設けたので、画
素が分割状態になり、鮮明な画像が得られる。
る画素の間に蛍光体のない領域を設けると共に、その領
域を隠すブラックストライプを前面板に設けたので、画
素が分割状態になり、鮮明な画像が得られる。
【0038】請求項6に記載のAC型PDPは、蛍光体
が連続状態ではあるものの、画素と画素の間に位置する
ようにして前面板にブラックストライプを設けたので、
この場合も画素が分割状態になり、色度が優れると共に
鮮明な画像が得られる。
が連続状態ではあるものの、画素と画素の間に位置する
ようにして前面板にブラックストライプを設けたので、
この場合も画素が分割状態になり、色度が優れると共に
鮮明な画像が得られる。
【0039】請求項7に記載のAC型PDPは、蛍光面
を形成する材料に感光性の蛍光体ペーストを用いたの
で、フォトリソグラフィ法により蛍光面を形成すること
により、スクリーン印刷法に比べて高い精度で蛍光面を
形成することができる。
を形成する材料に感光性の蛍光体ペーストを用いたの
で、フォトリソグラフィ法により蛍光面を形成すること
により、スクリーン印刷法に比べて高い精度で蛍光面を
形成することができる。
【0040】また、従来構造のPDPでは、一組の表示
電極対からなる表示ライン間の放電干渉を防ぐため、表
示電極対どうしは500μm程度の間隔を有する必要が
ある。この間隔は発光しない無駄な領域(放電させない
領域)で、開口率を低下させてしまう要因であり、結果
的には輝度を下げてしまう。ところが、請求項1〜7に
記載のPDPでは、表示電極対の左右領域が表示領域で
あり、開口率を下げることなく輝度の向上が図れる。
電極対からなる表示ライン間の放電干渉を防ぐため、表
示電極対どうしは500μm程度の間隔を有する必要が
ある。この間隔は発光しない無駄な領域(放電させない
領域)で、開口率を低下させてしまう要因であり、結果
的には輝度を下げてしまう。ところが、請求項1〜7に
記載のPDPでは、表示電極対の左右領域が表示領域で
あり、開口率を下げることなく輝度の向上が図れる。
【図1】AC型プラズマディスプレイパネルの一構成例
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構造図であ
る。
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構造図であ
る。
【図2】本発明に係るAC型PDPの一例を示す説明用
の斜視図である。
の斜視図である。
【図3】本発明に係るAC型PDPの別の例を示す説明
用の斜視図である。
用の斜視図である。
【図4】本発明に係るAC型PDPのさらに別の例を示
す説明用の斜視図である。
す説明用の斜視図である。
1,2 ガラス基板 3 リブ 4x,4y 透明電極 5x,5y バス電極 6 誘電体層 7 保護膜 8 アドレス電極 9 誘電体層 10 蛍光体 11,12 ブラックストライプ
Claims (7)
- 【請求項1】 前面板に金属電極からなるバス電極を備
えると共に、背面板に前記バス電極と直交するアドレス
電極とこのアドレス電極の間に立設するリブとを備え、
リブの壁面と底面とに渡って蛍光体を設けてセル空間に
蛍光面を形成してなる構成とし、放電を行う一対のバス
電極を中心とする左右の領域を画素としたことを特徴と
するAC型プラズマディスプレイパネル。 - 【請求項2】 一対のバス電極を隠すブラックストライ
プを前面板に設けた請求項1に記載のAC型プラズマデ
ィスプレイパネル。 - 【請求項3】 バス電極の代わりに主電極と維持電極と
からなる複合電極を前面板に備え、その一対の複合電極
を隠すブラックストライプを前面板に設けた請求項1に
記載のAC型プラズマディスプレイパネル。 - 【請求項4】 隣接する画素の間に蛍光体のない領域を
設けた請求項1〜3のいずれかに記載のAC型プラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項5】 蛍光体のない領域を隠すブラックストラ
イプを前面板に設けた請求項4に記載のAC型プラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項6】 画素と画素の間に位置するようにして前
面板にブラックストライプを設けた請求項1〜3のいず
れかに記載のAC型プラズマディスプレイパネル。 - 【請求項7】 蛍光面を形成する材料に感光性の蛍光体
ペーストを用いた請求項1〜6のいずれかに記載のAC
型プラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10111689A JPH11306987A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | Ac型プラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10111689A JPH11306987A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | Ac型プラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11306987A true JPH11306987A (ja) | 1999-11-05 |
Family
ID=14567686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10111689A Pending JPH11306987A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | Ac型プラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11306987A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002075214A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-15 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | プラズマディスプレイパネル |
-
1998
- 1998-04-22 JP JP10111689A patent/JPH11306987A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002075214A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-15 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | プラズマディスプレイパネル |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050418 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070605 |