JP2002352729A - ガス放電パネル - Google Patents

ガス放電パネル

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JP2002352729A
JP2002352729A JP2001158714A JP2001158714A JP2002352729A JP 2002352729 A JP2002352729 A JP 2002352729A JP 2001158714 A JP2001158714 A JP 2001158714A JP 2001158714 A JP2001158714 A JP 2001158714A JP 2002352729 A JP2002352729 A JP 2002352729A
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Hideaki Yasui
秀明 安井
Takeshi Furukawa
武史 古川
Tetsuya Shiratori
哲也 白鳥
Katsuyoshi Yamashita
勝義 山下
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 クロストークの発生を低減させた良好な表示
性能を有するガス放電パネルを提供する。 【解決手段】 一対の基板の少なくとも一方の基板に電
極を形成し、前記電極を誘電体膜で被膜するガス放電パ
ネルにおいて、前記電極間に対応する位置に磁性材料か
らなる領域を設けることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電極と誘電体層が
形成された基板を用いたガス放電パネルに関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(PDP)
に代表されるガス放電型の画像表示装置は、大画面化す
ることが比較的容易なフラットディスプレイパネル(F
DP)であり、すでに50インチクラスのものが商品化
されている。このPDPは、2枚の薄いガラス板(フロ
ントパネルガラスとバックパネルガラス)を隔壁(リ
ブ)を介して対向させ、隔壁の間に蛍光体層を形成し、
両ガラス板の間に放電ガスを封入して気密封着した構成
を持つ。放電ガス中で放電して紫外線を発生するための
表示電極は、フロントパネルガラスの表面に形成され
る。
【0003】図7は、一般的なPDPの概略構成図を示
す。上部パネル基板1は、上部パネル基板1上に互いに
所定の間隔を保ちながら一対を形成するよう配設された
表示電極2、その上に、誘電体層3、保護層4が形成さ
れている。
【0004】下部パネル基板5は、下部パネル基板5上
にアドレス電極6、誘電体層7、隔壁8、蛍光体層9が
形成されている。特に、蛍光体層9は印刷法、塗布法等
でつくられており図7に示すように、隔壁8と誘電体層
7に沿うようになめらかな形状をしている。
【0005】上部パネル基板1と下部パネル基板5を周
辺に封着部材10を形成し、張り合わせる。内部の放電
空間に放電用ガスを封入し、通気管11を封止し、外囲
器12が完成する。
【0006】各セルにおいて表示電極2で発生させた紫
外線は、蛍光体層9で可視光に変換されて発光表示に供
される。PDPでは、このようなセルが複数対の表示電
極2と隔壁8によってマトリックス状に配列されてい
る。
【0007】表示電極2、誘電体層3,保護層4が形成
された基上部パネル基板1の概略断面図を図8に示す。
表示電極は紙面に垂直な方向に細長く形成されており、
また、表示電極2aと表示電極2bの一対からなる表示
電極が、紙面の横方向に同じように多数の電極が形成さ
れている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記ガス放電パネルの
放電電圧などで示される放電特性は、外囲器12を構成
する保護層4の膜質、誘電体層3の膜厚、誘電率、表示
電極2a、2bの抵抗、そして放電ガス中の不純物ガス
の含有量、また、それらの外囲器を製造するときの製造
プロセスの変動により大きく左右されている。
【0009】このため一対からなる表示電極2と、蛍光
体層9側のアドレス電極6から構成されるひとつひとつ
の画素を制御して放電させようとしたとき点灯させた画
素と、その隣の画素(蛍光体層9側のアドレス電極6の
長手方向における)は点灯させない制御をしていても点
灯してしまうクロストークと呼ばれる表示不良が発生す
ることがあった。これは、ひとつの画素を点灯させたと
きに、その画素領域近傍で発生している放電ガス中の電
子が、拡散し、隣の画素を放電しやすい状態にしてしま
っていると考えられるが、その詳細は不明であり、また
その発生しやすさの原因も述べたパネル構成要素の製造
プロセス時のばらつきにより生じるものと考えられてい
たが、その詳細な原因については不明であった。
【0010】これを防止するために、蛍光体層9側の形
成された隔壁8を格子状に形成し、放電領域を限定する
ような手法が取られたりしているが、この手法では、蛍
光体層9側の下部パネル基板の製造プロセスが困難にな
るため、歩留まりが低下しコストが上昇する。また、外
囲器作成時の上部パネル基板と下部パネル基板のアライ
メント時に要求される精度が高くなり、表示ムラの原因
になったりしていた。
【0011】本発明は、上記課題を鑑み、放電特性の良
好な優れた表示品位を実現するガス放電パネルを提供す
ることを目的する。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明のガス放電パネル
は、一対の基板の少なくとも一方の基板に電極を形成
し、電極を誘電体膜で被膜するガス放電パネルにおい
て、電極間に対応する位置に磁性材料を含む領域を設け
たことを特徴とする。
【0013】また、一対の基板の少なくとも一方の基板
に一対以上の電極を形成し、電極を誘電体膜で被膜し、
一対の電極と順次並ぶ他の一対の電極との間に対応する
位置に磁性材料を含む領域を設けたことを特徴とする。
【0014】また、電極間に対応する位置に設けられた
磁性材料を含む領域が、電極の長手方向と同方向に長い
領域を有することを特徴とする。
【0015】また、電極間に対応する位置に設けられた
磁性材料を含む領域が、電極の長手方向と同方向に長い
領域を有し、画像表示領域において前記電極の長手方向
に連続して形成されていることを特徴とする。
【0016】また、電極間に対応する位置に形成された
磁性材料を含む領域が、少なくとも表示領域内で基板上
に形成されていることを特徴とする。
【0017】また、電極間に対応する位置に形成された
磁性材料を含む領域が、少なくとも表示領域内で誘電体
内もしくは誘電体上に形成されたことを特徴とする。
【0018】また、電極間に対応する位置に形成された
磁性材料を含む領域が、少なくとも表示領域内で保護膜
間もしくは保護膜内、保護膜上に形成されたことを特徴
とする。
【0019】また、磁性材料を含む領域が遮光性を有す
ることを特徴とする。
【0020】また、磁性材料を含む領域の少なくとも一
方の面が反射率10%以下の材料からなることを特徴と
する。
【0021】この本発明によると、クロストークを発生
しにくい放電特性の良好な優れた表示品位を実現するガ
ス放電パネルが得られる。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明により、クロストークを生
じにくくなり、本発明を採用した際には、良好な表示性
能を有するガス放電パネルが得られた。
【0023】以下、本発明のガス放電パネルの具体的な
各実施の形態に基づいて説明する。なお、従来例を示す
図7と同様の作用をなすものには同一の符号を付けて説
明する。
【0024】(1.実施の形態1) (1−1.PDPの構成)図1は、本発明の実施の形態
1に係るプラズマディスプレイパネルの主要部である上
部パネルの構成を示す部分的な断面図である。上部パネ
ルは、一例として42インチクラスのハイビジョン仕様
に合わせたサイズ設定になっているが、本発明は勿論こ
の他のサイズや規格に適用させてもよい。
【0025】図1に示すように、上部パネル基板1上に
は、その片面に厚さ7μm、幅95μmの表示電極2
a、2bが、複数対並設されている。表示電極2a、2
bを配設した上部パネル基板1には、その主面全体にわ
たって厚さ約30μmのガラスからなる誘電体層3と厚
さ約1.0μmの保護層4が順次コートされている。
【0026】ここにおいて上部パネルの主たる特徴は、
一対の表示電極2a、2bと隣り合う表示電極2a、2
bの間の位置の保護層4上に、磁性材料を含む領域を設
けたことである。この磁性材料を含む領域の膜厚は約
0.5μmである。
【0027】(1−2.本実施の形態のPDPの製造方
法)次に、上記したPDPの作製方法の一例を説明す
る。
【0028】(1−2−1.上部パネルの作製方法)ま
ずフロート法によって厚さ約2.6mmのソーダライム
ガラスからなる上部パネル基板1を作製する。そしてこ
の面上に、厚さ3μmのCr/Cu/Crの積層構造か
らなる金属膜を形成する。次に、フォトレジストで、表
示電極のパターンを形成した後、エッチング処理により
金属膜の不要部分を除去し、フォトレジストを除去・洗
浄することにより、表示電極2a、2bが形成される。
【0029】次に、表示電極2a、2bの上から粉末状
ガラス成分(例えばPbO系ガラス成分)と、有機バイ
ンダー溶液(分散剤のホモゲノールを0.2wt%と可
塑剤のフタル酸ジブチルを2.5wt%、さらにエチル
セルロースを45wt%混合したもの)を、55:45
の重量比で混合してペーストを作り、これを上部パネル
基板1の全面にわたってコートし焼成(520℃で10
分)して厚さ約30μmの誘電体層3を形成する。誘電
体層3が形成できたら、その表面上に酸化マグネシウム
(MgO)よりなる保護層4を厚さ約1.0μmで形成
する。
【0030】次に本発明の特徴である磁性材料を含む領
域13を形成するが、まずフォトレジストで、一対の表
示電極と隣り合う電極間に対応する位置にパターンを形
成した後、酸化クロム膜を厚さ0.4μm成膜する。そ
の後、リフトオフ法により不要な酸化クロム膜とフォト
レジストを除去し、磁性材料を含む領域13が形成され
る。
【0031】なお、本実施の形態において、酸化クロム
膜を用いたが、フェライトを用いてもよく本実施形態に
限定されるものではない。また、フォトレジストを用い
たリフトオフ法で形成したが、印刷法等の他の方法で形
成してもよく本実施形態に限定されるものではない。
【0032】これで、上部パネルが作製される。
【0033】(1−2−2.下部パネルの作成方法)次
に下部パネルの作製手法としては、フロート法で作製し
た厚さ約2.6mmのソーダライムガラスからなる下部
パネル基板5の表面上に、スクリーン印刷法によりAg
を主成分とする導電材料を一定間隔でストライプ状に塗
布し、厚さ約5μmのアドレス電極6を形成する。
【0034】続いて、アドレス電極6を形成した下部パ
ネル基板5の面全体にわたって前記誘電体層3と同様の
ペーストを厚さ約20μmで塗布して焼成し、誘電体層
7を形成する。
【0035】次に、誘電体層7と同じガラス材料によ
り、誘電体層7の上に隣り合うアドレス電極6の間隙
(約140μm)毎に高さ約120μmの隔壁8を形成
する。この隔壁8は、例えば上記ガラス材料を含むペー
ストを繰り返しスクリーン印刷し、その後焼成すると形
成できる。
【0036】隔壁8の形成後、隔壁8の壁面と、隣接す
る隔壁8間で露出している誘電体層7の表面に、赤色
(R)蛍光体、緑色(G)蛍光体、青色(B)蛍光体の
いずれかを含む蛍光インクを塗布し、これを乾燥・焼成
してそれぞれ蛍光体層9とする。
【0037】ここで一般的な蛍光体材料の一例を以下に
列挙する。
【0038】赤色蛍光体;(YxGd1-x)BO3:Eu
3+ 緑色蛍光体;Zn2SiO4:Mn 青色蛍光体;BaMgAl1017:Eu3+(或いはBa
MgAl1423:Eu 3+) 各蛍光体材料は、例えば平均粒径が約3μm程度の粉末
が使用できる。蛍光体インクの塗布法は幾つかの方法が
あるが、ここでは公知のメニスカス法と称される極細ノ
ズルからメニスカス(表面張力による架橋)を形成しな
がら蛍光体インクを吐出する方法を用いる。この方法は
蛍光体インクを目的の領域に均一に塗布するのに好都合
である。なお、本発明は当然ながらこの方法に限定する
ものではなく、スクリーン印刷法など他の方法も使用可
能である。
【0039】以上で下部パネルが完成される。
【0040】なお上部パネル基板1および下部パネル基
板5をソーダライムガラスからなるものとしたが、これ
は材料の一例として挙げたものであって、これ以外の材
料でもよい。
【0041】(1−2−3.PDPの完成)作製した上
部パネルと下部パネルを、封着用ガラスを用いて貼り合
わせる。その後、放電空間の内部を高真空(8×10-7
Torr(1064×10-7Pa))程度に排気し、こ
れに所定の圧力(500〜760Torr(66.5〜
101.08kPa))でNe−Xe系やHe−Ne−
Xe系、He−Ne−Xe−Ar系などの放電ガスを封
入する。
【0042】以上でPDPが完成される。
【0043】(1−2−4.本実施の形態による効果)
以上の構成を有するプラズマディスプレイパネルによれ
ば、PDP駆動時にはアドレス放電に引き続き、放電維
持期間において各対の表示電極2a、2bにパルスが印
加されると、当該表示電極2a、2bの間隙で放電が開
始される。そして放電空間に放電ガスのプラズマが拡大
し、放電が維持放電されることによって、画面表示がな
される。
【0044】このとき本実施の形態1では、一対の表示
電極2a、2bと隣り合う一対の表示電極2a,2bと
の間の部分に対応する保護層4上に磁性材料を含む領域
13が形成されているため、クロストークの発生が低下
する。クロストーク発生の詳細な理由は不明であるが、
一つの画素で放電により発生した電子等が従来拡散し、
隣の画素付近まで拡散するため、点灯させない画素が点
灯しやすい状況になり、点灯してしまうと推定される。
クロストークの発生状況が減少する理由の詳細は不明だ
が、本実施の形態の磁性材料を含む領域13により、電
子を捕獲され、隣の画素に影響を及ぼしにくくなってい
る、つまり電子が隣の画素の領域に拡散する際、ローレ
ンツ力(e(電荷量)×v(速度)×B(磁束))が働
くため、隣の画素に向かっていた電子は、その電子の進
行方向と、磁束の発生方向とに垂直な方向に力が働くた
め、電子の軌道が変更されるため、隣の画素への影響が
減少していると考えられる。この形態によりクロストー
クの発生を低下させた表示品位の高いガス放電パネルが
得られることになる。
【0045】また、本実施の形態1の磁性材料からなる
領域13は、酸化クロム膜により構成されるため遮光膜
として働き、ブラックストライプの役割を果たし、コン
トラストの向上を図ることができる効果もある。また、
反射率の低い材料を適応することにより、上部パネルに
外部から入射する光を反射させずにコントラストを良好
に保つこともできる。
【0046】なお、本実施の形態における磁性材料から
なる領域は、複数個の島上の形成でもよく、また、表示
電極の長手方向と同方向に長い領域を有してもよい。ま
た、その領域が画像表示領域において表示電極の長手方
向に連続して形成されてもよい。
【0047】(2.実施の形態2)次に、本発明の実施
の形態2について説明する。実施の形態1では保護層上
に磁性材料からなる領域を設けたが、実施の形態2では
図2に示すように、保護層4間に形成している。
【0048】このような導電性材料からなる領域13は
次のような工程で作製できる。
【0049】すなわち、誘電体層3を形成後、保護層4
をMgOを用いた蒸着法により形成する。次に磁性材料
からなる領域を形成する部分の保護層4をフォトリソグ
ラフィー法を用いてエッチングにより部分的に保護層4
を除去する。次にこの上に磁性材料を形成した後、リフ
トオフ法を用いて不要な磁性材料を除去し、必要な部分
に磁性材料からなる領域を形成する。
【0050】または逆に先に磁性材料からなる領域を形
成した後、保護層を形成して、部分的に保護層を除去し
ても良い。
【0051】このような実施の形態2の構成によって
も、実施の形態1と同等の効果を奏する。
【0052】また、本実施形態では保護層間に磁性材料
からなる領域を設けたが、図3、4に示すように、誘電
体3上で、保護層4下に設けても良い。従来に比べクロ
ストークに対して、実施の形態1に近いの効果を奏す
る。
【0053】(3.実施の形態3)次に、本発明の実施
の形態3について説明する。実施の形態1では保護層上
に導電性材料からなる領域を設けたが、実施の形態3で
は図5に示すように、誘電体層3内に形成している。
【0054】このような導電性材料からなる領域13は
次のような工程で作製できる。
【0055】すなわち、表示電極2a、2bを形成後、
誘電体層3の半分をスクリーン印刷、および焼成により
形成する。次にこの上に磁性材料を形成した後、フォト
リソグラフィー法を用いてエッチングにより除去し、必
要な部分に導電性材料からなる領域を形成する。さらに
誘電体層3の半分をスクリーン印刷、および焼成により
形成した後、保護層を形成する。
【0056】このような実施の形態3の構成によって
も、実施の形態1に近い効果を奏する。
【0057】また、本実施形態では保護層間に磁性材料
からなる領域を設けたが、図6に示すように、上部パネ
ル基板1上で、誘電体層3下に設けても良い。従来に比
べクロストークに対して、実施の形態1に近い効果を奏
する。
【0058】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、一対の表
示電極と隣り合う一対の表示電極との間に対応する位置
に磁性材料からなる領域を設けることによりクロストー
クの発生を低下させた良好な表示特性を有するガス放電
パネルを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の(実施の形態1)の磁性材料からなる
領域を設けた上部パネルの概略断面図
【図2】本発明の(実施の形態2)の磁性材料からなる
領域を設けた上部パネルの概略断面図
【図3】本発明の(実施の形態2)の磁性材料からなる
領域を設けた上部パネルの概略断面図
【図4】本発明の(実施の形態2)の磁性材料からなる
領域を設けた上部パネルの概略断面図
【図5】本発明の(実施の形態3)の磁性材料からなる
領域を設けた上部パネルの概略断面図
【図6】本発明の(実施の形態3)の磁性材料からなる
領域を設けた上部パネルの概略断面図
【図7】従来のPDPの破断斜視図
【図8】従来の上部パネルの概略断面図
【符号の説明】
1 上部パネル基板 2,2a,2b 表示電極 3 誘電体層 4 保護層 5 下部パネル基板 6 アドレス電極 7 誘電体層 8 隔壁 9 蛍光体層 10 封着部材 11 通気管 12 外囲器 13 磁性材料からなる領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白鳥 哲也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山下 勝義 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C040 FA01 GB13 GB14 KA20 MA02 MA30

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の基板の少なくとも一方の基板に電
    極を形成し、前記電極を誘電体膜で被膜するガス放電パ
    ネルにおいて、前記電極間に対応する位置に磁性材料を
    含む領域を設けたことを特徴とするガス放電パネル。
  2. 【請求項2】 一対の基板の少なくとも一方の基板に一
    対以上の電極を形成し、前記電極を誘電体膜で被膜し、
    前記一対の電極と順次並ぶ他の前記一対の電極との間に
    対応する位置に磁性材料を含む領域を設けたことを特徴
    とする特許請求項1記載のガス放電パネル。
  3. 【請求項3】 前記電極間に対応する位置に設けられた
    磁性材料を含む領域が、前記電極の長手方向と同方向に
    長い領域を有することを特徴とする特許請求項1または
    2記載のガス放電パネル。
  4. 【請求項4】 前記電極間に対応する位置に設けられた
    磁性材料を含む領域が、前記電極の長手方向と同方向に
    長い領域を有し、画像表示領域において前記電極の長手
    方向に連続して形成されていることを特徴とする特許請
    求項1または2記載のガス放電パネル。
  5. 【請求項5】 前記電極間に対応する位置に形成された
    磁性材料を含む領域が、少なくとも表示領域内で基板上
    に形成されていることを特徴とする特許請求項1または
    2記載のガス放電パネル。
  6. 【請求項6】 前記電極間に対応する位置に形成された
    磁性材料を含む領域が、少なくとも表示領域内で誘電体
    内もしくは誘電体上に形成されたことを特徴とする特許
    請求項1または2記載のガス放電パネル。
  7. 【請求項7】 前記電極間に対応する位置に形成された
    磁性材料を含む領域が、少なくとも表示領域内で保護膜
    間もしくは保護膜内、保護膜上に形成されたことを特徴
    とする特許請求項1または2記載のガス放電パネル。
  8. 【請求項8】 前記磁性材料を含む領域が遮光性を有す
    ることを特徴とする特許請求項1〜7のいずれかに記載
    のガス放電パネル。
  9. 【請求項9】 前記磁性材料を含む領域の少なくとも一
    方の面が反射率10%以下の材料からなることを特徴と
    する特許請求項1〜8のいずれかに記載のガス放電パネ
    ル。
  10. 【請求項10】 前記ガス放電パネルがプラズマディス
    プレイパネルであることを特徴とする特許請求項1〜9
    のいずれかに記載のガス放電パネル。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100669412B1 (ko) 2004-11-30 2007-01-15 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
JP2010050047A (ja) * 2008-08-25 2010-03-04 Panasonic Corp プラズマディスプレイパネル
CN103794442A (zh) * 2011-12-31 2014-05-14 四川虹欧显示器件有限公司 等离子屏及其制备方法

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