KR100676360B1 - 포지티브형 감광성 수지 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (4)
- 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 히드록시폴리아미드 100 질량부,<화학식 1>(식 중, X1은 2개 이상의 탄소 원자를 갖는 4가 유기기이고, X2, Y1 및 Y2는 2개 이상의 탄소 원자를 갖는 2가 유기기이며, m은 2 내지 1000의 정수, n은 0 내지 500의 정수이며, m/(m+n)>0.5이되, X1 및 Y1을 포함하는 m개의 디히드록시디아미드 단위, 및 X2 및 Y2를 포함하는 n개의 디아미드 단위의 배열 순서는 상관없다.)
- 1) 제1항 또는 제2항에 기재된 포지티브형 감광성 수지 조성물을 층 또는 필름의 형태로 기판 상에 형성하고,2) 마스크를 통해 화학선으로 노광하거나, 광선, 전자선 또는 이온선을 직접 조사하고,3) 노광부 또는 조사부를 용출 또는 제거하고,4) 얻어진 릴리프 패턴을 가열 처리하는 것을 포함하는,경화 릴리프 패턴의 제조 방법.
- 제3항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 경화 릴리프 패턴층을 갖는 반도체 장치.
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