JP4397418B2 - ポジ型感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を構成する各成分について、以下に具体的に説明する。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物のベースポリマーであるヒドロキシポリアミドは、下記一般式(1)のジヒドロキシジアミド単位m個を有する。
イミノ−ジ−p−フェニレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、4−メチル−2,4−ビス(4−アミノフェニル)ペンタン、5(または6)−アミノ−1−(4−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、ビス(p−アミノフェニル)ホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノアゾベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニル尿素、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ベンゾフェノン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4’−ビス[4−(α,α−ジメチル−4−アミノベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’−ビス[4−(α,α―ジメチル−4−アミノベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、フェニルインダンジアミン、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、o−トルイジンスルホン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、ビス(4−アミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェノキシフェニル)スルフィド、1,4−(4−アミノフェノキシフェニル)ベンゼン、1,3−(4−アミノフェノキシフェニル)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−ジ−(3−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、及び4,4’−ジアミノベンズアニリド等、ならびにこれら芳香族ジアミンの芳香核の水素原子が、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ基、シアノ基、及びフェニル基からなる群より選ばれた少なくとも一種の基または原子によって置換された化合物が挙げられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる光酸発生剤としては、感光性ジアゾキノン化合物、オニウム塩、ハロゲン含有化合物、などを用いることができるが、感光性ジアゾキノン化合物が好ましい。
テルペンとは、種々の植物(まれに動物)から得られる有機化合物のうち炭素数が5の倍数で生合成的見地からはn(n≧2)個のイソプレンあるいはイソペンタンから構成される前駆物質に由来すると考えられる物質の総称である。本発明で用いるテルペン化合物とは上記テルペンのことを言い、アルコール性ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル基、及びエーテル基からなる群から選択される少なくとも1つの官能基を有する有機化合物であることが好ましく、カルボキシル基、アルコール性ヒドロキシル基、及びエステル基からなる群から選択される少なくとも1つの官能基を有する化合物であることがより好ましい。また、テルペン化合物は炭素数10〜30の該有機化合物であることが特に好ましい。また、テルペン化合物が鎖状テルペンであることが好ましい。さらに、テルペン化合物が、シトロネリル酸及びリナロールからなる群から選択されるいずれか1つの化合物と、アルコール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びエステル基からなる群から選択されるいずれか1つの官能基を有する化合物とを含む少なくとも2種類の化合物の混合物であることが最も好ましい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物には、必要に応じて、ポジ型感光性樹脂組成物の添加剤として知られているフェノール化合物、染料、界面活性剤、安定剤、及び/又はシリコンウエハーとの密着性を高めるための接着助剤等を添加することも可能である。
次に、本発明の硬化レリーフパターンの製造方法について、以下具体的に説明する。
〔参考例1〕
容量2lのセパラブルフラスコ中で、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサフルオロプロパン197.8g(0.54mol)、ピリジン75.9g(0.96mol)、DMAc692gを室温(25℃)で混合攪拌し溶解させた。得られた混合物に、別途DMDG88g中に5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物19.7g(0.12mol)を溶解させた混合溶液を、滴下ロートより滴下した。滴下に要した時間は40分、反応液温は最大で28℃であった。
次に該フラスコを水浴により8℃に冷却し、別途DMDG398g中に4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸ジクロライド142.3g(0.48mol)を溶解させた混合溶液を、滴下ロートより滴下した。滴下に要した時間は80分、反応液温は最大で12℃であった。滴下終了から3時間後、上記反応液を12lの水に高速攪拌下で滴下し重合体を分散析出させた。この精製沈殿物を回収し、適宜水洗、脱水の後に真空乾燥を施し、ヒドロキシポリアミド(P−1)を得た。このようにして合成されたヒドロキシポリアミドのゲル透過クロマトグラフィー(GPC)による重量平均分子量は、ポリスチレン換算で14000であった。GPCの分析条件を以下に記す。
カラム:昭和電工社製 商標名 Shodex 805/804/803直列
容離液:テトラヒドロフラン 40℃
流速 :1.0ml/分
検出器:昭和電工製 商標名 Shodex RI SE−61
<光酸発生剤の合成>
〔参考例2〕
容量1lのセパラブルフラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサフルオロプロパン109.9g(0.3mol)、テトラヒドロフラン(THF)330g、ピリジン47.5g(0.6mol)を入れ、これに室温下で5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物98.5g(0.6mol)を粉体のまま加えた。そのまま室温で3日間撹拌反応を行ったあと、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)にて反応を確認したところ、原料は全く検出されず、生成物が単一ピークとして純度99%で検出された。この反応液をそのまま1lのイオン交換水中に撹拌下で滴下し、析出物を濾別した後、これにTHF500mlを加え撹拌溶解した。得られた均一溶液を陽イオン交換樹脂:アンバーリスト15(オルガノ社製)100gが充填されたガラスカラムを通し残存するピリジンを除去した。次にこの溶液を3lのイオン交換水中に高速撹拌下で滴下することにより生成物を析出させ、これを濾別した後、真空乾燥した。
[実施例1〜31、比較例1]
上記参考例1にて得られたヒドロキシポリアミド(P−1)100質量部に対して、上記参考例2にて得られた感光性ジアゾキノン化合物(Q−1)、及び下記C−1からC−29のテルペン化合物(実施例1〜31)の所定の質量部を、GBL170質量部に溶解した後、細孔が0.2μmのフィルターで濾過して、表1に記載した実施例1〜31、及び比較例1のポジ型感光性樹脂組成物を調製した。
(C−1)ゲラニオール
(C−2)ネロール
(C−3)シトロネロール
(C−4)リナロール
(C−5)メントール
(C−6)テルピネオール
(C−7)酢酸ゲラニオール
(C−8)酢酸ネロール
(C−9)酢酸シトロネロール
(C−10)酢酸リナリール
(C−11)酢酸メントール
(C−12)酢酸イソボルニル
(C−13)シトロネリル酸
(C−14)リナロールオキシド
(C−15)ネロリドール
(C−16)テルピネン
(C−17)イオノン
(C−18)シトロネリル酸+リナロール
(C−19)シトロネリル酸+酢酸リナリール
(C−20)シトロネリル酸+ネロール
(C−21)シトロネリル酸+ゲラニオール
(C−22)シトロネリル酸+ネロリドール
(C−23)シトロネリル酸+リナロールオキシド
(C−24)シトロネリル酸+シトロネロール
(C−25)シトロネリル酸+テルピネン−4−オール
(C−26)シトロネリル酸+メントール
(C−27)リナロール+リナロールオキシド
(C−28)リナロール+ネロリドール
(C−29)リナロールオキシド+ネロリドール
<ポジ型感光性樹脂組成物の評価>
(1)パターニング特性評価
上記実施例、及び比較例で得られたポジ型感光性樹脂組成物をスピンコーター(大日本スクリーン製造社製:Dspin636、商品名)にて、5インチシリコンウエハーにスピン塗布し、ホットプレートにて120℃、180秒間プリベークを行い、膜厚11.5μmの塗膜を形成した。膜厚は膜厚測定装置(大日本スクリーン製造社製:ラムダエース)にて測定した。
上記現像時間において、塗膜の露光部を完全に溶解除去しうる最小露光量。
上記露光量での最小解像パターン寸法。
上記露光量での10μmパターンの剥がれがあるかどうか。
Claims (8)
- テルペン化合物がアルコール性ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル基、及びエーテル基からなる群から選択される少なくとも1つの官能基を有する化合物であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- テルペン化合物がアルコール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びエステル基からなる群から選択される少なくとも1つの官能基を有する化合物であることを特徴とする請求項2に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- テルペン化合物が鎖状テルペンであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- テルペン化合物がシトロネリル酸及びリナロールからなる群から選択されるいずれか1つの化合物と、アルコール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びエステル基からなる群から選択されるいずれか1つの官能基を有する化合物とを含む少なくとも2種類の化合物の混合物であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 光酸発生剤がナフトキノンジアジド構造を有する化合物であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- (1)請求項1〜6のいずれか1項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を層またはフィルムの形で基板上に形成し、(2)該基板に対し、マスクを介して化学線で露光するか、光線、電子線またはイオン線を直接照射し、(3)露光部または照射部を現像液で溶出除去し、(4)得られたレリーフパターンを加熱処理することを特徴とする硬化レリーフパターンの製造方法。
- 請求項7に記載の製造方法により得られる硬化レリーフパターン層を有してなることを特徴とする半導体装置。
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