KR100589935B1 - 신규한 피라진 유도체 또는 그 염, 및 이를 함유하는 의약 조성물 - Google Patents

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KR100589935B1
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Abstract

일반식 [1]로 표시되는 피라진 유도체 또는 그 염은 우수한 항바이러스 활성을 가지며, 바이러스 감염 치료를 위한 치료제로서 유용하다.
Figure 112003015848485-pct00031
(식 중, 각 부호는 명세서에 정의되어 있다.)
피라진 유도체, 플루오르피라진-카르복사미드 유도체

Description

신규한 피라진 유도체 또는 그 염, 및 이를 함유하는 의약 조성물{Novel Pyrazine Derivatives or Salts Thereof, and Pharmaceutical Composition Containing the Same}
본 발명은 신규한 피라진 유도체 또는 그 염, 및 이를 함유하는 의약 조성물에 관한 것이다.
오늘날 임상적으로 사용되고 있는 항바이러스제로서, 헤르페스바이러스 (Herpesvirus) 억제를 위한 아시클로버(Acyclovir)와 비다라빈(Vidarabine), 사이토메갈로바이러스(Cytomegalovirus) 억제를 위한 간사이클로비르(Ganciclovir)와 포스카르넷(Foscarnet), 및 간염바이러스(Hepatitis virus)를 억제하기 위한 인터페론 등을 들 수 있다. 또한, 백신 사용에 의한 예방법은 인플루엔자 바이러스에 대항하기 위해 광범위하게 쓰이고 있으며, 아만타딘 염화수소(Amantadine hydrocloride) 및 리바비린(Rivavirin) 등의 낮은 분자화합물도 또한 이를 위해 사용되고 있다. 게다가, 자나미비르 또한 최근에 사용되고 있다.
반면, 염기로서 피라진환을 가지며 뉴클레오시드 유사체 또는 뉴클레오티드 유사체의 항바이러스 작용하는 것으로, 지금까지는 하기의 일반식의 화합물이 알려 져 있다.
Figure 112002026148771-pct00001
(식 중, 상기 R7은 수소 원자, 메틸기 또는 C10H21이며, 항바이러스 기능을 가진다.)
그러나, 이러한 형태의 화합물은 "비스나 바이러스 작용(Visna virus activity)" [뉴클레오시드&뉴클레오티드, Vol. 15, Nos. 11 and 12, Pages 1849∼1861 (1996)]을 보이지 않는다. 또한, 카르바모일기로 치환된 피라진환을 갖는 뉴클레오시드 유사체 및 뉴클레오티드 유사체는 아직까지 보고된 바가 없다.
아만타딘의 문제점으로는, 작용 메카니즘에 의해 A형 인플루엔자에 대해서는 효과적이나, B형 인플루엔자에 대해서는 효과적이지 않고, 그것의 내성 바이러스가 생겨날 수 있으며, 또한 신경장애를 유발한다는 점 등을 들 수 있다. 반면에, 리바비린은 중합효소-억제 작용(Polymerise-inhibitory activity)을 나타내고 A형 및 B형 인플루엔자에 효과적이지만, 경구로 사용될 때에는 임상적 효과가 충분하지 않다.
따라서, 다양한 바이러스, 특히 인플루엔자 바이러스에 대해 감염-예방 효과를 가지며 치료효과를 보이는 항바이러스제를 개발하는 것이 바람직하다.
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상기 언급된 문제점들을 해결하기 위해서, 본 발명자들은 다방면으로 연구하였다. 그 결과로, 하기의 일반식[1]으로 표시되는 피라진 유도체 또는 그 염은 우수한 항바이러스 활성을 가진다는 것이 판명되었다. 이러한 결과에 기초하여, 본 발명을 수행하였다.
Figure 112002026148771-pct00004
(식 중, R1은 수소원자 또는 할로겐원자; R2는 수소원자; R3 및 R5는 수소원자; R4 및 R6은 치환 혹은 비치환 수산기, 또는 보호 혹은 비보호 수산기; A는 산소원자; n은 0이며, 또한 Y는 산소원자이다.)
하기에, 본 발명을 상세하게 기재하였다.
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본 명세서에 사용된 다음 용어들의 의미는 달리 정의되지 않는 한, 하기와 같다. "할로겐원자"는 플루오린원자, 염소원자, 브롬원자 또는 요오드원자; "할로겐화 메틸기"는 플루오르메틸, 클로로메틸, 브로모메틸, 요오드메틸, 디클로로메틸, 트리플루오르메틸 및 트리클로로메틸 등의 모노-, 디-, 또는 트리-치환된 할로겐화 메틸기; "할로겐화 카르보닐기"는 플루오르카르보닐, 클로로카르보닐, 브로모카르보닐 또는 요오도카르보닐기; "저급 알킬기"는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸 및 펜틸 등의 C1-5 알킬기; "저급 알콕시기"는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시, tert-부톡시 및 펜틸옥시 등의 C1-5 알콕시기; "저급 알콕시카르보닐기"는 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, n-프로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, n-부톡시카르보닐, 이소부톡시카르보닐, sec-부톡시카르보닐, tert-부톡시카르보닐 및 펜틸옥시카르보닐 등의 C1-5 알콕시카르보닐기; "저급 알킬아미노기"는 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 디메틸아민, 디에틸아민 및 메틸에틸아민 등의 모노- 또는 디-C1-5 알킬아민기; "할로겐-저급 알킬기"는 플루오르메틸, 클로로메틸, 브로모메틸, 디클로로메틸, 트리플루오르메틸, 트리클로로메틸, 클로로에틸, 디클로로에틸, 트리클로로에틸 및 클로로프로필 등의 할로겐-C1-5 알킬기; "저급 알케닐기"는 비닐 및 알릴 등의 C2-5 알케닐기; "시클로알킬기"는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실 등의 C3-6 시클로알킬기; "아릴기"는 페닐기 및 나프틸기 등; 및 "헤테로고리기"는 아제티디닐, 티에닐, 퓨릴, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 퓨라자닐, 피롤리디닐, 피롤리닐, 이미다졸리디닐, 이미다졸리닐, 피라졸리디닐, 피라졸리닐, 1,3,4-옥사디아졸릴, 1,2,3-티아디아졸릴, 1,2,4-티아디아졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,2,3-티아졸릴, 1,2,4-티아졸릴, 티아트리아졸릴, 피리딜, 피라지닐, 필리미디닐, 피리다지닐, 피라닐, 모폴리닐, 1,2,4-트리아지닐, 벤조티에닐, 나프토티에닐, 벤조퓨릴, 이소벤조퓨릴, 크로메닐, 인돌리지닐, 이소인돌릴, 인돌릴, 인다졸릴, 퓨리닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 프탈라지닐, 나프틸리디닐, 퀴녹살리닐, 퀴나졸리닐, 시놀리닐, 프탈리디닐, 이소크로마닐, 크로마닐, 인돌리닐, 이소인돌리닐, 벤족사졸릴, 트리아졸로피리딜, 테트라졸로피리다지닐, 테트라졸로피리미디닐, 티아졸로피리다지닐, 티아디아졸로피리다지닐, 트리아졸로피리다지닐, 벤지미다졸릴, 벤즈티아졸릴, 1,2,3,4-테트라히드로퀴놀릴, 이미다조[1,2-b][1,2,4]-트리아지닐 및 퀴누클리디닐 등의 산소원자, 질소원자 및 황원자로부터 선택된 적어도 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 4∼6개의 헤테로고리기 또는 축합된 헤테로고리기를 나타낸다.
본 발명의 혼합물 및 그 제조 중간물이 하이드록실기, 메르캅토기, 아미노기, 카르바모일기 또는 카르복실기를 갖는 경우, 이들 치환기는 공지된 보호기로 보호될 수도 있다.
"일인산기", "이인산기" 및 "삼인산기"는 다음의 일반식으로 표시되는 기들 을 의미한다.
Figure 112002026148771-pct00006
(식 중, K는 각각 1, 2, 및 3 이다.)
일인산기, 이인산기 및 삼인산기의 보호기로는, 인산기의 보호를 위해 통상적으로 사용될 수 있는 모든 기들이 언급될 수 있다. 예를 들면, 메틸, 시클로프로필메틸, tert-부틸 및 에탄-1,2-디일 등의 저급 알킬기; 2,2,2-트리클로레틸, 2,2,2-트리클로로-1,1-디메틸에틸 및 2,2,2-트리브로메틸 등의 할로겐 저급 알킬기; 1-아세틸에틸 등의 아실 저급 알킬기; 2-시아노에틸 등의 시아노 저급 알킬기; 2-메틸술포닐에틸 등의 알킬술포닐 저급 알킬기; 2-페닐술포닐에틸 등의 아릴술포닐 저급 알킬기; 알릴 등의 알케닐기; 페닐, o-하이드록시페닐, o-클로로페닐, p-클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, p-니트로페닐, 2-디메틸아미노-4-니트로페닐, 2-tert-부틸페닐, 2-클로로메틸-4-니트로페닐 및 o-페닐렌 등의 아릴기; 벤질, o-니트로벤질 및 p-니트로페닐에틸 등의 ar-저급 알킬기; 8-퀴놀릴 및 5-클로로-8-퀴놀릴 등의 헤테로고리기를 들 수 있다. 상기 언급된 보호기들 중 하나 이상의 것이 상기 보호용으로 사용될 수 있다.
카르복실기의 보호기로는, 카르복실기의 보호를 위해 통상적으로 사용될 수 있는 모든 기들이 언급될 수있다. 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, 1,1-디메틸프로필, n-부틸 및 tert-부틸 등의 저급 알킬기; 페닐 및 나프틸 등의 아릴기; 벤질, 디페닐메틸, 트리틸, p-니트로벤질, p-메톡시벤질 및 비스(p-메톡시페닐)-메틸 등의 ar-저급 알킬기; 아세틸메틸, 벤조일메틸, p-니트로벤조일메틸, p-브로모벤조일메틸 및 p-메탄술포닐벤조일메틸 등의 아실-저급 알킬기; 2-테트라히드로피라닐 및 2-테트라히드로퓨라닐 등의 산소함유 헤테로고리기; 2,2,2-트리클로레틸 등의 할로겐-저급 알킬기; 2-(트리메틸실릴)에틸 등의 저급 알킬-실릴-알킬기; 아세톡시메틸, 프로피오닐옥시메틸 및 피바로일옥시메틸 등의 아실옥시알킬기; 프탈리미도메틸 및 숙시니미도메틸 등의 질소함유 헤테로고리 저급 알킬기; 시클로헥실 등의 시클로알킬기; 메톡시메틸, 메톡시에톡시메틸 및 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸 등의 저급 알콕시-저급 알킬기; 벤질옥시메틸 등의 ar-저급 알콕시-저급 알킬기; 메틸티오메틸 및 2-메틸티오에틸 등의 저급 알킬티오-저급 알킬기; 페닐티오메틸 등의 아릴티오-저급 알킬기; 1,1-디메틸-2-프로페닐, 3-메틸-3-부티닐 및 알릴 등의 저급 알케닐기; 및 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리이소프로필실릴, 디에틸이소프로필실릴, tert-부틸디메틸실릴, tert-부틸디페닐실릴, 디페닐메틸실릴, tert-부틸메톡시페닐실릴 등의 저급 알킬-치환된 실릴기를 들 수 있다.
아미노 및 저급 알킬아미노기의 보호기로는, 아미노기의 보호에 통상적으로 사용될 수 있는 모든 기를 언급할 수 있다. 예를 들면, 트리클로로에톡시카르보닐, 트리브로모에톡시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, p-니트로벤질옥시카르보닐, o-브로모벤질옥시카르보닐, (모노-, 디- 및 트리-)클로로아세틸, 트리플루오르아세틸, 페닐아세틸, 포르밀, 아세틸, 벤조일, tert-아밀옥시카르보닐, tert-부톡시카르보닐, p-메톡시벤질옥시카르보닐, 3,4-디메톡시벤질옥시카르보닐, 4-(페닐아조)벤질옥시카르보닐, 2-푸르푸릴옥시카르보닐, 디페닐메톡시카르보닐, 1,1-디메틸프로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, 프탈로일, 숙시닐, 알라닐, 류실, 1-아다만틸옥시카르보닐 및 8-퀴놀릴옥시카르보닐 등의 아실기; 벤질, 디페닐메틸 및 트리틸 등의 ar-저급 알킬기; 2-니트로페닐티오 및 2,4-디니트로페닐티오 등의 아릴티오기; 메탄술포닐 및 p-톨루엔술포닐 등의 알칸- 또는 알렌-술포닐기; N,N-디메틸아미노메틸렌 등의 디-저급 알킬아미노-저급 알킬리딘기; 벤질리딘, 2-하이드록시벤질리딘, 2-하이드록시-5-클로로벤질리딘 및 2-하이드록시-1-나프틸메틸렌 등의 ar-저급 알킬리딘기; 3-하이드록시-4-피리딜메틸렌 등의 질소함유 헤테로고리 알킬리딘기; 시클로헥실리딘, 2-에톡시카르보닐시클로헥실리딘, 2-에톡시카르보닐시클로펜틸리딘, 2-아세틸시클로헥실리딘 및 3,3-디메틸-5-옥시클로헥실리딘 등의 시클로알킬리딘기; 디페닐 포스포릴 및 디벤질 포스포릴 등의 디-아릴 또는 디-ar-저급 알킬 포스포릴기; 5-메틸-2-옥소-2H-1,3-디옥솔-4-일메틸 등의 산소함유 헤테로고리 알킬기; 및 트리메틸실릴기 등의 저급 알킬-치환된 실릴기를 들 수 있다.
하이드록시기 및 메르캅토기의 보호기로는, 하이드록시기의 보호에 통용될 수 있는 모든 기가 언급될 수 있다. 예를 들면, 벤질옥시카르보닐, 4-니트로벤질옥시카르보닐, 4-브로모벤질옥시카르보닐, 4-메톡시벤질옥시카르보닐, 3,4-디메톡시벤질옥시카르보닐, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, tert-부톡시카르보닐, 1,1-디메틸프로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, 이소부틸옥시카르보닐, 디페닐메톡시카르보닐, 2,2,2-트리클로레톡시카르보닐, 2,2,2-트리브로메톡시카르보닐, 2-(트리메틸실릴)에톡시카르보닐, 2-(페닐술포닐)-에톡시카르보닐, 2-(트리페닐포스포니오)에톡시카르보닐, 2-푸르푸릴옥시카르보닐, 1-아다만틸옥시카르보닐, 비닐옥시카르보닐, 알릴옥시카르보닐, S-벤질티오카르보닐, 4-에톡시-1-나프틸옥시카르보닐, 8-퀴놀릴옥시카르보닐, 아세틸, 포르밀, 클로로아세틸, 디클로로아세틸, 트리클로로아세틸, 트리플루오르아세틸, 메톡시아세틸, 페녹시아세틸, 피바로일 및 벤조일 등의 아실기; 메틸, tert-부틸, 2,2,2-트리클로레틸 및 2-트리메틸실릴에틸 등과 같은 저급 알킬기; 아릴 등과 같은 저급 알케닐기; 벤질, p-메톡시벤질, 3,4-디메톡시벤질, 디페닐메틸, 및 트리틸 등과 같은 산소-함유 및 황-함유 헤티로고리기; 메톡시메틸, 메틸티오메틸, 벤질옥시메틸, 2-메톡시에톡시메틸, 2,2,2-트리클로레톡시메틸, 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸 및 1-에톡시에틸 등의 저급 알콕시- 및 저급 알킬티오-저급 알킬기; 메탄술포닐 및 p-톨루엔술포닐 등의 알칸- 또는 알렌-술포닐기; 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리이소프로필실릴, 디에틸이소프로필실릴, tert-부틸디메틸실릴, tert-부틸디페닐실릴, 디페닐메틸실릴 및 tert-부틸메톡시페닐실릴 등의 치환된 실릴기; 히드로퀴논 및 p-메톡시페놀 등의 치환된 아릴기; 및 (2-메틸-3-옥소-1-시클로펜텐-1-일) 등의 에놀-에테르기를 들 수 있다.
카르바모일기의 보호기로는, 카르바모일기의 보호에 통상적으로 사용되는 모든 기들이 언급될 수 있다. 예를 들면, 벤질, 4-메톡시벤질 및 2,4-디메톡시벤질 등의 ar-저급 알킬기; 메톡시메틸 등의 저급 알콕시알킬기; 벤질옥시메틸 등의 ar-저급 알콕시기; tert-부틸디메틸실옥시메틸 등의 치환된 실릴 저급 알콕시-저급 알킬기; 메톡시 등의 저급 알콕시기; 벤질옥시 등의 ar-저급 알콕시기; 메틸티오 및 트리페닐메틸티오 등의 저급 알킬티오기; 벤질티오 등의 ar-저급 알킬티오기; tert-부틸디메틸실릴 등의 치환된 실릴기; 4-메톡시메틸페닐, 4-메톡시메틸페닐 및 2-메톡시-1-나프틸 등의 아릴기; 및 트리클로로에톡시카르보닐, 트리플루오르아세틸 및 tert-부톡시카르보닐 등의 아실기 등을 들 수 있다.
치환될 수도 있는 R3, R4, R5, R6, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 표시되는 하이드록시기의 치환기로는, 보호 혹은 비보호 카르복실기, 저급 알킬기, 저급 알콕시카르보닐기, 아릴기, 시클로알킬기, 저급 알케닐기, 할로겐-저급 알킬기 및 헤테로고리기가 언급될 수 있다. 이들 치환기 중에서 선택된 하나 이상의 것이 상기 치환에 사용될 수 있다.
치환될 수도 있는 R3, R4, R5, R6, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 표시되는 아미노기의 치환기로는, 보호 혹은 비보호 카르복실기, 하이드록실기, 아미노기 및 저급 알킬아미노기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시카르보닐기, 아릴기, 시클로알킬기, 저급 알케닐기, 할로겐-저급 알킬기 및 헤테로고리기가 언급될 수 있다. 상기 언급된 치환기들 중에서 선택된 하나 이상의 치환기가 상기 치환에 사용될 수도 있다.
R22로 표시되는 페닐술파닐기, 페닐술피닐기 및 페닐술포닐기의 치환기로는, 메틸 및 에틸 등의 저급 알킬기가 언급될 수 있다.
삭제
일반식[1]의 화합물의 염으로는, 통상적으로 알려진 아미노기 등과 같이 염기성기에서의 염 및 하이드록실기, 포스포릴기 또는 카르복실기 등의 산성기에서의 염이 언급될 수 있다. 염기성기에서의 염으로는 염산, 브롬화수소산 및 황산 등의 무기산 염; 타르타르산, 포름산, 시트르산, 트리클로로초산 및 트리플루오르초산 등의 유기산 염; 및 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 메시틸렌술폰산 및 나프탈렌술폰산 등의 술폰산 염을 들 수 있다. 산성기에서의 염으로는, 나트륨 및 칼륨 등의 알칼리금속과 염; 칼슘 및 마그네슘 등을 함유하는 알칼리토금속과 염; 알루미늄염; 및 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 피리딘, N,N-디메틸아닐린, N-메틸피퍼리딘, N-메틸모르폴린, 디에틸아민, 디클로로헥실아민, 프로카인, 디벤질아민, N-벤질-β-페네틸아민, 1-에페나민 및 N,N'-디벤질에틸렌디아민 등의 질소함유 유기염기와 염 등을 들 수 있다.
상기 언급된 염들 중에서, 약리학적으로 허용가능한 염이 보다 바람직하다.
몇몇 경우에서, 상기 일반식[1]의 화합물 및 그 염은 광학이성체, 기하이성체 및 토우토머 등의 이성체를 갖는다. 그러한 경우에, 본 발명은 이들 이성체를 포함하며, 또한 용매화물, 수화물 및 다양한 결정체도 포함한다.
본 발명의 의약 조성물 중에서, 바람직한 것은 항바이러스제들이고, 보다 바람직한 것은 인플루엔자 바이러스, RS 바이러스, AIDS 바이러스, 유두종 바이러스, 아데노바이러스, A형 간염 바이러스, B형 간염 바이러스, C형 간염 바이러스, 폴리오바이러스, 에코 바이러스, 쿡사키 바이러스, 엔테로바이러스, 리노바이러스, 로타바이러스, 뉴캣슬병 바이러스, 이하선염 바이러스, 소수포성 구내염 바이러스, 및 일본뇌염 바이러스 등을 억제하는 항바이러스제들이다. 이들 중에서도, 보다 바람직한 항바이러스제로는, 로타바이러스, RS 바이러스 및 인플루엔자 바이러스를 억제하는 것들을 들 수 있다. 또한, 이들 중에서도, 더욱 바람직한 것 하나는, 인플루엔자 바이러스를 억제하는 항바이러스제를 들 수 있다.
본 발명의 화합물 중에, 바람직한 것은 R4 및 R6가 보호 혹은 비보호 하이드록실기인 화합물 및 그 염이다.
그중 보다 바람직한 화합물로는, R1이 수소원자, 염소원자 또는 불소원자인 화합물 또는 그 염을 들 수 있고; 가장 바람직한 화합물로는, R1이 수소원자 또는 불소원자인 화합물과 그 염을 들 수 있다.
본 발명의 화합물들 중에서, 전형적인 것으로 표 Ⅰ-1에 기재된 것들을 들 수 있으며, 여기서 "Bn"은 벤질기를 나타내고, "-"는 결합유니트를 나타낸다.
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Figure 112002026148771-pct00007
R1 R2 R3 R4 R5 R6 A n Y
H H H OH H OH O 0 O
H H H OH H OH O 0 NH
H H H OH H OH O 0 S
6-F H H OH H OH O 0 O
6-F H H OH H OH O 0 NH
6-Cl H H OH H OH O 0 O
6-F H H OH H H O 0 O
H H H OH H H O 0 O
H H H OH H F O 0 O
6-F H H OH H NH2 O 0 O
6-F H H NH2 H OH O 0 O
6-F H H OH OH H O 0 O
H H H OH H NH2 O 0 O
H H H NH2 H OH O 0 O
H H H OH OH H O 0 O
H H H OH F H O 0 O
H H H OH N3 H O 0 O
6-F H H N3 H H O 0 O
6-F H H H H H O 0 O
6-F (HO)2PO H OH H OH O 0 O
H H H N3 H H O 0 O
H H H H H H O 0 O
H (HO)2PO H OH H OH O 0 O
H (BnO)2PO H OH H OH O 0 O
6-F H H OH H OH CH2 0 O
H H H OH H OH CH2 0 O
H H H OH OH H CH2 0 O
H H H H H H CH2 0 O
H H H - H - CH2 0 O
H H H OH H H O 1 O
H H H OH H OH O 1 O
6-F H[OP(O)OH]3 H OH H OH O 0 O
H H[OP(O)OH]3 H OH H OH O 0 O
6-F [CH2=CHCH2O]P(O) H OH H OH O 0 O
H [CH2=CHCH2O]P(O) H OH H OH O 0 O
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이하에, 본 발명의 화합물의 제조방법을 기재한다.
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본 발명의 화합물은 하기의 제조방법 Ⅰ-1∼4에 제조될 수 있다.
(제조방법 Ⅰ-1)
Figure 112002026148771-pct00008
(식 중, R1, R3, R4, R5, R6, A, Y 및 n은 상기에 정의된 것과 동일하고; R8은 저급 알킬기; Z1은 수소원자 또는 하이드록시기의 보호기; Z2, Z3, Z 4 및 Z5는 동일하거나 또는 다를수 있고 수소원자, 할로겐원자, 아지도기, 보호된 하이드록시기 또는 아미노기를 나타내며; 또한 Z3 및 Z5는 서로 결합하여 결합유니트를 형성할 수 있다.)
(a) 일반식[1a]의 화합물 또는 그 염은 일반식[2a] 또는 그 염을 탈보호 반응(de-protecting reaction)에 적용시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는, 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 메탄올, 에탄올 및 프로판올 등의 알코올; 디메틸 술폭시화물 등의 술폭시화물; 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2개 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
탈보호제(de-protecting agent)로서, 하이드록실기, 아미노기 및 인산기의 탈보호에 일반적으로 사용되는 시약를 사용할 수 있다. 바람직하게는, 소디움 메톡시드, 수소가스, 암모니아가스, 암모니아수 및 부틸아민 등의 염기; 포름산, 수성초산, 수성트리플루오르초산 및 염산 등의 산; 테트라키스-트리페틸포스핀 팔라듐(O) 등의 팔라듐 촉매; 및 트리페닐포스핀 등의 포스핀이 사용된다. 이들 탈보호제들은 조합되어 사용될 수 있고, 또는 반응시스템 내에서 제조될 수도 있다. 상기 탈보호제는 일반식[2a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 0.01몰 이상의 양을 사용한다. 필요에 따라서는, 용매로서 상기 탈보호제를 사용할 수도 있다.
상기 탈보호 반응은 일반적으로 -50℃∼170℃, 바람직하게는 -20℃∼100℃의 온도에서 1분∼100시간, 바람직하게는 5분∼50시간 동안 행해진다.
(b) Y가 산소 원자인 일반식[1a]의 화합물 또는 그 염은 일반식[2b]의 화합물 또는 그 염을 촉매의 존재 또는 부재하에서 암모놀리시스 반응(ammonolysis reaction)에 적용시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 메탄올, 에탄올 및 프로판올 등의 알코올; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2이상의 혼합물로 사용될수 있다. 이 반응은 방향족 카르복시산에스테르의 암모놀리시스 반응에 통상적으로 사용되는 조건 하에서 상기 시약과 함께 수행될 수 있다. 그러나, 바람직하게는 암모니아가스, 액상 암모니아 또는 암모니아수를 사용한다. 이들 시약은 일반식[2b]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 0.5몰 이상의 양을 사용한다. 또한, 상기 시약이 용매로 사용될 수도 있다. 필요에 따라서, 본 반응에 사용하는 촉매로는 염화 암모늄 등의 암모늄산 염; 소디움 메톡시드 및 부틸리튬 등의 염기; 및 소디움 아미드 등의 알칼리 금속 아미드 등을 들 수 있다. 이들 사용되는 촉매의 양은 일반식[2b]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.01∼100몰, 바람직하게는 0.01∼20몰이다.
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상기 반응은 일반적으로 -100℃∼250℃, 바람직하게는 -78℃∼100℃의 온도에서, 1분∼72시간 동안, 바람직하게는 30분∼50시간 동안 행해진다.
(제조방법 Ⅰ-2)
Figure 112002026148771-pct00009
(식 중, R1, R3, R4, R5, R6, R8, Z2, Z3, Z4, Z5, A, n 및 Y는 상기에 정의된 것과 동일하고; R9는 보호 혹은 비보호 일인산기, 또는 보호 혹은 비보호 일인산 염화물; R12는 보호 혹은 비보호 이인산기, 또는 보호 혹은 비보호 삼인산기를 나타낸다.)
(a) 일반식[2c]의 화합물 또는 그 염은 일반식[2b]의 화합물 또는 그 염을 산성촉매 또는 염기의 존재 또는 부재하에서 시약을 사용하여 보호함으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 메탄올, 에탄올 및 프로판올 등의 알코올; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 아세톤 등의 케톤; 및 물을 들 수 있다. 상기 용매는 단독으로 또는 2이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
시약으로는, 일반적으로 하이드록시기 및 아미노기의 보호에 사용되는 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 2,2-디메톡시프로판, 아세틸 클로라이드 및 벤조일 클로라이드가 사용된다. 필요에 따라, 이들 시약은 반응시스템 내에서 제조될 수도 있다. 상기 시약의 양은 일반식[2b]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량(equimolar amount)이상, 바람직하게는 0.01∼10몰 이상으로 한다.
상기 반응에 사용되는 산성 촉매 또는 염기로는 p-톨루엔술폰산 및 트리에틸아민 등이 언급될 수 있다. 그 양은 일반식[2b]화합물 또는 그 염 1몰당 둘 다, 0.01∼10몰, 바람직하게는 0.05∼10몰로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 -50℃∼170℃, 바람직하게는 0℃∼150℃의 온도에서 1분∼24시간, 바람직하게는 5분∼10시간 동안 행해진다.
(b) 일반식[2d]의 화합물 또는 그 염은 일반식[2c]의 화합물 또는 그 염과 인산화제(phosphorylating agent)를 Jikken Kagaku Koza, 4판, Vol. 22, Pages 313∼438(Chemical Society Japan(사단법인) 편집, 1992년)에 기재된 방법에 따라 (1)첨가제의 존재 또는 부재하에 반응시키거나 (2) 그것이 인산화제와 반응시킨 후, 다시 산화제와 반응시켜 얻을 수 있다.
상기 방법(1)에서, 상기 반응에 사용되는 용매는, 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 디옥산, 테트로히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 및 피리딘 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 인산화제로서, 하이드록시기의 인산화반응에 일반적으로 이용되는 시약을 사용할 수 있다. 이러한 인산화제의 예로는 디벤질 포스페이트 등의 인산 디에스테르; 모노시클로헥실암모니움 S,S'-디페닐포스포로디티오에이트 등의 인산 디티오에스테르; 포스포릴 클로라이드 및 디알릴 클로로포스포네이트 등의 염화인산 등을 들 수 있다. 인산화제는 일반식[2c]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼5.0몰 이상의 양으로 사용한다. 첨가제로는 디에틸렌 아조디카르복실레이트 및 디이소프로필 아조디카르복실레이트 등의 아조화합물; 트리페닐포스핀 등의 포스핀; 2,4,6-트리이소프로필벤젠술폰산 클로라이드 등의 알렌술폰산 클로라이드; 및 피리딘 및 tert-부틸마그네슘 클로라이드 등의 염기가 언급될 수 있다. 필요에 따라서는, 이들 첨가제는 혼합되어 사용될 수 있다. 상기 첨가제는 일반식[2c] 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼5.0몰 이상의 양을 사용한다.
상기 반응은 일반적으로 -50℃∼170℃, 바람직하게는 0℃∼100℃의 온도에서 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼24시간 동안 행해진다.
상기 방법(2)에서, 상기 반응에 사용되는 용매는, 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디에틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 및 피리딘 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 아인산화제(phosphitizing agent)는, 하이드록시기의 인화 반응에 일반적으로 사용되는 시약을 사용할 수 있다. 이러한 인화제의 예로는, 디알릴 디이소프로필포스포로아미다이트 등의 포스포로아미다이트 및 디알릴 포스포로클로리다이트 등의 인산 클로라이드를 들 수 있다. 상기 인화제는 일반식[2c]의 화합물 및 그 염 1몰 당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼3.0몰 이상의 양을 사용한다. 첨가제로는 1H-테트라졸 등의 테트라졸 화합물 및 피리딘 및 콜리딘 등의 염기를 들 수 있고, 이들 첨가제는 경우에 따라 조합되어 사용될 수 있다. 상기 첨가제는 일반식[2c]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼5.0몰 이상의 양이 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 산화제(oxidant)로는 m-클로로퍼벤조산 및 tert-부틸 히드로과산화물 등의 과산화물 및 요오드 등의 할로겐화물을 들 수 있다. 상기 산화제는 일반식[2c]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼5.0몰 이상의 양이 사용될 수 있다.
상기 반응은 -78℃∼100℃, 바람직하게는 -50℃∼50℃의 온도에서 1분∼24시간, 바람직하게는 5분∼6시간동안 행해진다.
(c) 일반식[1b]의 화합물 및 그 염은 일반식[2d]의 화합물 및 그 염을 사용하여 제조방법Ⅰ-1(b)에 따르는 반응을 통해 얻을 수 있다.
(d) 일반식[1c]의 화합물 및 그 염은 일반식[1b]의 화합물 및 그 염을 사용하여 제조방법Ⅰ-1(a)에 따르는 반응을 통해 얻을 수 있다.
(e) 일반식[1b]의 화합물 및 그 염은 일반식[1d]의 화합물 및 그 염을 사용하여 제조방법Ⅰ-2(b)에 따르는 반응을 통해 얻을 수 있다.
(f) 일반식[1e]의 화합물 및 그 염은 일반식[1c]의 화합물 및 그 염을 [Chem. Rev., Vol. 100, Pages 2047∼2059, 2000년]에 기재된 방법에 따라 축합제(condensing agent)의 존재 또는 부재하에서 인산화제로 반응 시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에서 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디에틸아세트아미드 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 및 피리딘 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
본 반응에 사용되는 인산화제로는, 일인산기의 인산화반응에 일반적으로 사용되는 시약을 사용할 수 있다. 이러한 인산화제로는 트리-n-부틸암모늄 포스페이트 및 n-부틸암모늄 포스페이트 등의 인산염을 들 수 있고, 이들 인산화제는 경우에 따라 반응시스템내에서 합성될 수 있다. 상기 인산화제는 일반식[1c]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼10몰 이상의 양으로 사용된다. 상기 축합제로는 N,N-카르보닐디이미다졸 및 N,N-메틸이미다졸 등의 이미다졸, 및 모르폴린 및 디이소프로필아민 등의 아민이 사용될 수 있으며, 경우에 따라 상기 아민들은 혼합되어 사용될 수 있다. 상기 축합제는 일반식[1c]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼5.0몰 이상의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 -50℃∼100℃, 바람직하게는 0℃∼50℃의 온도에서 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼24시간 동안 수행될 수 있다.
(제조방법 Ⅰ-3)
Figure 112002026148771-pct00010
(식 중, R1, R8, A, n, Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5는 상기에 정의된 것과 동일하고; Y1은 산소원자 또는 NH기; R10은 할로겐 원자, 카르보닐옥시기 또는 술포닐옥시기를 나타낸다.)
(a) 일반식[2a]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염을 (1) 통상적으로 이용되는 실릴화법(silylation method)에 따라 첨가제의 존재 또는 부재하에서 일반식[3b]의 화합물 및 그 염으로 유도한 후, (2) 일반식[4a]의 화합물 및 그 염을 루이스산의 존재 또는 부재하에서 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 및 염화메틸렌, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 용매들은 단독으로 또는 2이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응(1)에 사용되는 실릴화제(Silylating agent)로는 카르보닐기의 실릴에놀에테르화에 일반적으로 사용되는 어떤 실릴화제도 사용될 수 있다. 이러한 실릴화제로는 1,1,1,3,3,3-헥사메틸디실라잔, N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드 및 트리메틸실릴 클로라이드 등을 들 수 있다. 상기 실릴화제는 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼10.0몰 이상의 양으로 사용된다.
필요에 따라서 본 반응에 사용될 수 있는 첨가제로는, 황산암모늄 등이 언급될 수 있다. 상기 첨가제의 일반식[3a] 또는 그 염 1몰당 0.01∼10.0몰, 바람직하게는 0.05∼5.0몰의 양을 사용한다.
상기 반응은 일반적으로는 0∼200℃, 바람직하게는 0∼150℃의 온도에서 5분∼24시간, 바람직하게는 5분∼12시간 동안 행해진다.
상기 반응(2)에서, 일반식[4a]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.5∼10몰, 바람직하게는 0.5∼5몰의 양을 사용한다.
필요에 따라 본 반응에 사용될 수 있는 루이스산으로는, 트리메틸실릴트리플루오르메탄술폰산, 염화제이주석(IV), 염화티탄(IV) 및 염화아연 등이 언급될 수 있다. 상기 루이스산은 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 0.5몰이상, 바람직하게는 0.5∼10몰이상의 양을 사용한다.
상기 반응은 일반적으로 0∼100℃, 바람직하게는 0∼50℃의 온도로 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼24시간 동안 행해진다.
(b) 일반식[2a]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3a]화합물 또는 그 염을 첨가제의 존재 또는 부재하에서 탈산제(de-acidifying agent)인 염기를 사용하여, 일반식[4a]의 화합물 또는 그 염과 함께 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 염화메틸렌, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 및 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 염기로는 트리에틸아민, 포타슘 tert-부톡시드, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산세슘 및 수소화나트륨 등이 언급될 수 있다. 상기 반응에서, 일반식[4b]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.1∼5몰, 바람직하게는 0.2∼2몰의 양으로 사용된다. 또한 이 반응에서, 상기 염기는 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.1∼10몰, 바람직하게는 0.2∼10몰의 양으로 사용된다.
필요에 따라 상기 반응에 사용될 수 있는 첨가제로는, 테트라키스-트리페닐포스핀 팔라듐 등과 같은 팔라듐 촉매; 트리페닐포스핀 등의 포스핀; 및 18-크라운-6-에테르 등의 폴리에테르 등이 언급될 수 있다. 상기 첨가제는 일반식[3a]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.01∼10몰, 바람직하게는 0.03∼5.0몰의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 -50℃∼170℃, 바람직하게는 0℃∼120℃의 온도로 1분∼72시간, 바람직하게는 5∼24시간동안 행해진다.
(제조방법 Ⅰ-4)
Figure 112002026148771-pct00011
(식 중, R1, A, n, Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z 5는 상기의 것과 동일하다.)
일반식[2g]의 화합물 또는 그 염은 Shin Jikken Kagaku Koza, Vol. 14, Page 1819∼1831(Chemical Society Japan(사단법인) 편집, 1978년)의 명세서에 기재된 방법에 따라 일반식[2f]의 화합물 또는 그 염을 염기의 존재 또는 부재하에, 티온 화제(thionizing agent)와 함께 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는, 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 염화메틸렌, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 및 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 티온화제로는, 아미드산의 티온화 반응에 일반적으로 사용되는 시약을 사용할 수 있다. 그 예로는, 황화수소가스, 오황화이인 및 로슨시약 등을 들 수 있다. 상기 반응에 사용되는 티온화제의 양은 일반식[2f]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.1∼10몰, 바람직하게는 0.2∼5.0몰으로 사용된다.
상기 반응에 사용되는 염기로는 암모니아, 트리에틸아민, 모르폴린, 피리딘 및 4-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. 상기 반응에서, 염기의 양은 일반식[2f]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 0.01몰 이상으로 사용된다. 필요에 따라서 상기 염기는 용매로서 사용될 수 있다.
상기 반응은 일반적으로 -50℃∼170℃, 바람직하게는 0℃∼120℃의 온도에서 1분∼24시간, 바람직하게는 5분∼6시간동안 행해진다.
이하에, 본 발명의 화합물 제조에 필요한 원료인 일반식[2a], [2b],[3a'] 및 [3j]의 화합물 및 그 염의 제조방법이 기재되어 있다.
일반식[2a], [2b], [3a'] 및 [3j]의 화합물은 공지된 방법들 그대로, 또는 그 방법들을 적절하게 혼합하여 그에 따라 제조될 수 있다. 예를 들면, 이들 화합물은 다음의 제조방법 Ⅰ-A에 따라 제조될 수 있다.
(제조방법 Ⅰ-A)
Figure 112002026148771-pct00012
(식 중, R1, R3, R4, R5, R6,R8, A, n, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z10은 상기에 정의된 것과 같다.)
(a) 일반식[2e]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3c]의 화합물 및 그 염을 제조방법 I-3(a)에 따라 일반식[4a]의 화합물 및 그 염과 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
(b) 일반식[2e]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3c]의 화합물 및 그 염을 제조방법 I-3(b)에 따라 일반식[4b]의 화합물 및 그 염과 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
(c) 일반식[2b]의 화합물 또는 그 염은 일반식[2e]의 화합물 및 그 염을 제조방법 I-1(a)에 따라 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기에 언급된 반응 원료 중에서, 일반식[3c]의 화합물 또는 그 염은 J. Heterocyclic Chem., Vol. 34, No. 1, Pages 27∼32 (1997) 또는 J. Med. Chem., Vol. 12, No. 2, Pages 285∼287 (1969년)에 따라 제조될 수 있고; 일반식[4a]의 화합물 또는 그 염은 J. Med. Chem., Vol. 28, No. 7, Pages 904∼910 (1985년)에 따라 제조될 수 있으며, 또한 일반식[4b]의 화합물 또는 그 염은 J. Chem. Soc. PERKIN TRANS.1, Pages 2419∼2425 (1992년), J. Med. Chem., Vol. 36, No. 14, Pages 2033∼2040 (1993년) 또는 Bio. Med. Chem. Lett., Vol. 6, No. 13, Pages 1457∼1460 (1996년)에 따라 제조될 수 있다.
(제조방법 Ⅰ-B)
Figure 112002026148771-pct00013
(식 중, R8은 상기에 정의된 것과 동일하고; R1a는 할로겐 원소; R11은 히드록실기의 보호기; 및 X는 불소원자 이외의 할로겐 원자를 나타낸다.)
(a) 일반식[3f]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3e]의 화합물 또는 그 염을 디아조화제(diazotizing) 또는 알코올을 사용하여 반응시킴으로서 얻을 수있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 황산, 염산 및 질산 등의 무기산; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 디클로로메탄, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린 및 피리딘-N-옥시드 등의 아민 또는 산화아민; 아세톤 등의 케톤; 메탄올 및 에탄올 등의 알코올; 및 물 등을 들 수 있다. 필요한 경우, 이들 용매는 혼합물로서 사용될 수 있다. 본 발명에 사용되는 디아조화제는 통상적으로 방향족 아미노 화합물의 디아조화반응에 사용되는 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 그러나, 아질산나트륨 등의 알칼리 토금속의 아질산염을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 디아조화제는 일반식[3e]의 화합물 또는 그 염 1몰당, 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼5.0몰 이상의 양으로 사용된다.
상기 반응에 사용되는 알코올로는 메탄올 등이 언급될 수 있다. 상기 알코올은 일반식[3e]의 화합물 또는 그 염에 적어도 동일 당량 이상 사용된다. 또한, 필요에 따라서는, 상기 알코올을 용매로서도 사용할 수 있다.
상기 발명은 -70℃∼200℃, 바람직하게는 -50℃∼100℃의 온도에서 1분∼24시간, 바람직하게는 30분∼10시간동안 행해진다.
(b) 일반식[3g]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3f]의 화합물 또는 그 염을 문헌[Tetrahedron Letters, Vol 38, No. 36, Pages 6367∼6370 (1997)]에 기재된 방법에 따라 (1)촉매의 존재하, 염기를 탈산제로 사용하여 이민과 함께 반응시킨 후, (2)첨가제의 존재 하에서 가수분해 시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응(1)에서, 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 그 예로는, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 및 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다.
상기 반응 사용되는 촉매로는 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트 및 트리(디벤질리딘-아세톤)디팔라듐 등의 팔라듐 촉매, 비스(1,5-시클로옥타디엔)-니켈(O) 등의 니켈 촉매, 및 1,1'-비스(디페닐포스피노)-훼로센 또는 (s)-(-)-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 등의 포스핀 배위자를 조합한 것으로부터 선택되어질 수 있다. 상기 촉매의 양은 일반식[3f]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.001∼1.0몰, 바람직하게는 0.002∼0.5몰로 사용된다.
상기 반응에 사용되는 염기로는 소디움 tert-부톡시드 및 탄산세슘 등과 같은 알칼리금속염이 언급될 수 있다. 상기 염기의 양은 일반식[3f]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼3.0몰 이상으로 사용된다.
상기 반응에 사용되는 이민으로는 벤조페논이민 등이 언급될 수 있다. 상기 이민은 일반식[3f]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼3.0몰 이상의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 0℃∼120℃, 바람직하게는 5℃∼100℃의 온도에서 1분∼48시간, 바람직하게는 5분∼24시간 동안 행해진다.
(2) 상기 반응(2)에서, 상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 사용 가능한 용매로는 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 메탄올 및 에탈올 등의 알코올; 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독 으로 사용되거나 또는 2 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 첨가제로는 초산나트륨, 히드록실아민염산염, 포름산암모늄 등의 유기 또는 무기산염; 염산 등의 무기산; 팔라듐-탄소 등의 팔라듐 촉매 등이 언급될 수 있다. 필요에 따라, 이들 첨가제는 혼합되어 사용할 수 있다. 상기 첨가제는 일반식[3f]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.01∼50몰, 바람직하게는 0.1∼20몰의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 0℃∼120℃, 바람직하게는 5℃∼100℃의 온도에서 1분∼48시간, 바람직하게는 3분∼24시간 동안 행해진다.
(c) 일반식[3h]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3g]의 화합물 및 그 염을 제조방법 Ⅰ-1(b)에 따라 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
(d) 일반식[3i]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3g]의 화합물 및 그 염을 Fusso Kagaku Nyumon, Pages 219∼230 (Nippon Gakujutsu Shinkokai, 155 Fluorine Chemistry Comittee 편집, 1997년)에 기재된 방법에 따라 산의 존재하, 첨가제의 존재 또는 부재하에서, 아미노기를 디아조화제를 사용하여 탈아미노화반응(de-amination), 및 그 후에 그것의 불소화반응(fluorination reaction)을 첨가함으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 사용 가능한 용매로는 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 디클로로메탄, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 아세톤니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 피리딘, 피리딘-N-옥시드 등의 아민 및 산화아민; 아세톤 등의 케톤; 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 경우에 따라서는 혼합물로 사용될 수 있다.
본 반응에 사용되는 디아조화제는 방향족 아미노 화합물의 디아조화 반응에 통상적으로 사용되는 어느 시약일 수 있다. 보다 바람직한 디아조화제로는 아질산나트륨 등의 아질산의 알칼리 금속염을 들 수 있다. 상기 디아조화제는 일반식[3h]의 화합물 또는 그 염 1몰당 동일 당량, 바람직하게는 1.0∼5.0몰, 및 보다 바람직하게는 1.0∼1.5몰의 양으로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 산은 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 그 예로는 염산, 붕불화수소산, 불화수소 등의 산; 피리딘 내의 불화수소용액 등의 염기 내의 불화수소용액 등을 들 수 있다. 필요에 따라, 이들 산은 혼합물로 사용될 수도 있다.
상기 반응에서, 산의 사용량은 일반식[3h]의 화합물 또는 그 염(g)에 대해 중량용량비(㎖/g)로 적어도 1㎖이상, 바람직하게는 1∼50㎖의 양으로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 첨가제로는 붕불화수소, 사불화나트륨 및 붕불화수소암모늄 등을 들 수 있다. 상기의 산의 양은 일반식[3h]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 동일 당량 이상, 바람직하게는 1.0∼20.0몰 이상으로 사용된다.
본 반응은 일반적으로 -70℃∼100℃, 바람직하게는 -60℃∼30℃의 온도로 50 분∼24시간, 바람직하게는 1시간∼10시간 동안 행해진다.
(e) 일반식[3i]의 화합물 또는 그 염은 일반식 [3f]의 화합물 또는 그 염을 제조방법 Ⅰ-1(b)에 따라 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
(f) 일반식[3a']의 화합물 또는 그 염은 일반식[3i]의 화합물 및 그 염을 탈보호제를 사용하여 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는, 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 그 예로 물; 메탄올, 에탄올 및 프로판올 등의 알코올; 에탄티올 및 티오페놀 등의 티오알코올; 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 염화메틸렌, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 디메틸 설파이드 등의 티오 에테르; 아세톤 및 메틸 에틸 케톤 등의 케톤; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 황산 및 염산 등의 무기산; 초산 및 트리플루오르초산 등의 카르복시산; 트리플루오르메탄술폰산 등의 술폰산; 피리딘 및 트리에틸아민 등의 유기염기; 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용매들은 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 탈보호제로는 보호된 방향족 알코올의 탈보호에 일반적으로 사용되는 시약을 사용할 수 있다. 바람직한 것으로는, 요오드화 트리메틸실릴 등을 들 수 있다. 반응시스템 내에서 탈보호제를 생성하는 것도 무방하다. 탈보호제의 양은 일반식[3i]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.01∼50몰, 바람직하게는 0.1∼30몰로 사용된 다.
상기 반응은 일반적으로 -80℃∼200℃, 바람직하게는 0℃∼160℃의 온도로 1분∼48시간, 바람직하게는 5분∼20시간동안 행해진다.
상기 언급된 반응의 시작물질인 일반식[3e]의 화합물 또는 그 염은 J. Am. Chem. Soc., Vol. 71, Pages 2798∼2800 (1949)에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다.
(제조방법 Ⅰ-C)
Figure 112002026148771-pct00014
(식 중, R1은 상기에서 정의한 것과 동일하고, R13은 저급 알콕시기 또는 아릴옥시기를 나타낸다.)
(a) 일반식[3k]의 화합물 또는 그 염은 Shin Jikken Kagaku Koza, Vol. 14, Pages 1599∼1622 (Chemical Society Japan(사단법인) 편집, 1978년)에 기재된 제조방법에 따라 일반식[3l]의 화합물 또는 그 염을 산성촉매 또는 염기의 존재 또는 부재하에서 알코올로 반응시켜 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 염화메틸렌, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 및 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
본 반응에 사용되는 알코올로는 메탄올, 에탄올 및 페놀 등이 언급될 수 있다. 상기 알코올은 일반식[3l]의 화합물 또는 그 염에 기초하여 적어도 동일 당량 이상으로 사용될 수 있다. 필요에 따라, 상기 알코올을 용매로 사용하여도 무방하다.
상기 반응에 사용되는 산성촉매로는 니트릴의 이미드화반응에 일반적으로 사용되는 시약을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 목적을 위해서는 염화수소 등이 사용될 수 있다. 상기 산성촉매는 일반식[3l]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 0.1몰 이상의 양으로 사용된다.
상기 반응에 사용되는 염기로는, 소디움 메톡시드, 소디움 에톡시드 및 소디움 페녹시드 등의 금속알콕시드를 들 수 있다. 필요에 따라서, 이들 염기는 반응시스템 내에서 제조되어도 무방하다. 본 반응에서, 상기 염기는 일반식[3l]의 화합물 또는 그 염 1몰당 적어도 0.01몰, 바람직하게는 0.01몰∼5.0몰 이상의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 -78℃∼170℃, 바람직하게는 -40℃∼120℃의 온도에서 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼24시간 동안 행해진다.
(b) 일반식[3j]의 화합물 또는 그 염은 Shin Jikken Kagaku Koza, Vol. 14, Pages 1614∼1617 (Chemical Society Japan(사단법인) 편집, 1978년)에 기재된 제조과정에 따라 일반식[3k]의 화합물 또는 그 염을 시약과 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 반응에 사용된 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 그 예로는, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 염화메틸렌, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드; 및 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 시약은 이미데이트의 아미드화 반응(amidination)에 일반적으로 사용되는 시약을 사용할 수 있다. 상기 시약의 예를 들면, 암모니아가스, 암모니아성 알코올용액, 암모니아수 및 염화암모늄 등의 산 암모늄염을 들 수 있다. 상기 시약은 일반식[3k]의 화합물 또는 그 염을 기준으로 적어도 동일 당량 이상으로 사용된다. 필요에 따라, 상기 시약을 용매로 사용하여도 무방하다.
상기 반응은 일반적으로 -78℃∼170℃, 바람직하게는 0℃∼120℃의 온도로 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼24시간동안 행해진다.
(제조방법 Ⅰ-D)
Figure 112002026148771-pct00015
(식 중, R1a는 상기에 정의된 것과 같다.)
(a) 일반식[3m]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3n]의 화합물 및 그 염을 Shin Jikken Kagaku Koza, Vol 14, Pages 537∼538 (the Chemical Society Japan(사단법인) 편집, 1977년)에 기재된 제조과정을 따라, 첨가제의 존재 또는 부재하에서 디아조화제(diazotizing agent) 및 수산화제(hydroxylating agent)를 사용하여 반응시킴으로서 제조될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 황산, 염산 및 질산 등의 유기산; 디옥산, 테트라히드로퓨란, 아니솔, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 디클로로메탄, 클로로포름 및 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄산수소; 아세토니트릴 등의 니트릴; N,N-디메틸포름아미드 및 N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드; 디메틸 술폭시드 등의 술폭시드; 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린 및 피리딘-N-옥시드 등의 아민 및 산화아민; 아세톤 등의 케톤; 및 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 디아조화제는 통상적으로 방향족 아미노 화합물의 탈 아미노수산화 반응에 사용되는 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 그러나, 아질산 나트륨 등의 아질산 알칼리 금속을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 디아조화제는 일반식[3n]의 화합물 1몰당 적어도 동일 당량, 바람직하게는 1.0∼5.0몰, 보다 바람직하게는 1.0∼2.0몰 이상의 양으로 사용된다.
상기 반응에 사용되는 수산화제로는 물 등이 언급될 수 있다. 상기 수산화제의 양은 필요에 따라 일반식[3n]의 화합물에 대해 동일 당량 이상일 수 있으며, 용매로서 사용할 수도 있다.
상기 반응에 사용되는 첨가제로는 황산구리 등의 구리염; 및 수산화나트륨 및 탄산나트륨 등의 무기염기 등이 언급될 수 있다. 이들 첨가제는 일반식[3n]의 화합물 1몰당 0.01∼100몰, 바람직하게는 0.1∼50몰의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 -70℃∼200℃, 바람직하게는 -50℃∼100℃의 온도로 1분∼24시간, 바람직하게는 30분∼10시간 동안 행해진다.
(b) 일반식[3n]의 화합물 또는 그 염은 일반식[3o]의 화합물 또는 그 염을 (1)Fusso no Kagaku, Pages 28∼37 (Kodansha Scientific 편집, 1993년)에 기재된 제조과정에 따라, 첨가제의 존재 또는 부재하에서 친전자성 불소화제 (electrophilic fluorinating agent)로 반응시키거나 또는 (2)Shin Jikken Kagaku Koza, Vol. 14, Pages 354∼360 (the Chemical Society Japan(사단법인) 편집, 1977년)에 기재된 제조과정에 따라, 첨가제의 존재 또는 부재하에서 할로겐화제(halogenating agent)와 함께 반응시킴으로서 얻을 수 있다.
상기 방법(1)에서, 반응에 사용되는 용매는 본 반응에 어떤 부작용을 야기하 지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 염화메틸렌, 클로로포름, 플루오르트리클로로메탄 및 1,1,2-트리클로로트리플루오르에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디에틸 에테르, 테트라히드로퓨란, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 메탄올 등의 알코올; 아세토니트릴 등의 니트릴; 초산, 포름산 및 트리플루오르초산 등의 유기산; 불화수소산 및 황산 등의 무기산; 및 물 등을 들 수 있다. 상기 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 친전자성 불소화제는, 탄소-탄소의 다중결합에 불소원자의 첨가반응에 통상적으로 사용되는 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 상기 친전자성 불소화제의 바람직한 예로는, 불소가스, 트리플루오르메틸 히포플루오라이트, 에틸 히포플루오라이트, 이불화제논, 불화 과클로릴, 황산 세슘 플루오라이트, N-플루오로피리디늄 트리플레이트, N-플루오르-N-알킬알렌술폰아미드, N-플루오르사카린 술탐, N-플루오르비스(트리플루오르메탄술폰)-이미드, N-플루오르비스-(벤젠술폰)-이미드 및 N-플루오르-O-벤젠디술폰이미드 등을 들 수 있다. 상기 친전자성 불소화제 중에서 불소가스가 보다 바람직하다. 상기 친전자성 불소화제는 일반식[3o]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.05∼50몰, 바람직하게는 0.1∼20몰의 양으로 사용된다.
필요에 따라 본 반응에 사용될 수 있는 첨가제는 친전자성 불소화반응에 통상적으로 사용되는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 예로는, 삼불화붕소 및 불화수소산 등의 산성촉매; 트리에틸아민 및 불화나트륨 등의 유기 및 무기염기; 및 염소, 브롬 및 요오드 등의 할로겐 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는 단독 으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 상기 반응에서, 첨가제는 식[3o]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.01∼10몰, 바람직하게는 0.1∼10몰의 양으로 사용된다.
상기 반응은 일반적으로 -80℃∼170℃, 바람직하게는 -80℃∼100℃의 온도에서 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼48시간 동안 행해진다.
상기 방법(2)에서 본 반응에 사용되는 용매는 반응 내에서 어떤 부작용을 야기하지 않는다면, 특별히 한정되지 않는다. 이들 용매로는 염화메틸렌, 클로로포름, 플루오르트리클로로메탄 및 1,1,2-트리클로로트리플루오르에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 디에틸 에테르, 테트라히드로퓨란, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르 및 디메틸 셀로솔브 등의 에테르; 메탄올 등의 알코올; 아세토니트릴 등의 니트릴; 초산, 포름산 및 트리플루오르초산 등의 유기산; 황산 등의 무기산; 및 물 등을 들 수 있다. 상기 용매는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용될 수 있다.
상기 반응에 사용되는 할로겐화제는 통상적으로 방향족 화합물의 할로겐화 반응(halogenation)에 사용되는 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 상기 할로겐화제의 바람직한 예로는 브롬, 염소, 염화술포릴, N-브로모숙신이미드 및 N-클로로숙신이미드 등을 들 수 있다. 상기 할로겐화제는 일반식[3o]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.05∼50몰, 바람직하게는 0.1∼20몰의 양으로 사용된다.
필요에 따라, 상기 반응에 사용되는 첨가제로는 통상적으로 방향족 화합물의 할로겐화 반응에 사용되는 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 상기 첨가제의 바람직한 예로는 브롬화 나트륨, 사초산납, 염화티탄(Ⅳ), 염화알미늄 및 황산은 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는 단독으로 또는 2 이상의 혼합물로 사용된다. 상기 반응 에서, 첨가제는 일반식[3o]의 화합물 또는 그 염 1몰당 0.01∼10몰, 바람직하게는 0.1∼10몰의 양으로 사용된다.
상기 반응은 통상적으로 -80℃∼170℃, 바람직하게는 -80℃∼100℃의 온도에서 1분∼72시간, 바람직하게는 5분∼48시간 동안 행해진다.
상기 언급된 제조과정에서, 모든 화합물은 그 염의 형태로 사용될 수 있다. 상기 염으로는, 일반식[1]의 화합물의 염으로 설명된 것과 동일한 것들이 사용될 수 있다. 필요에 따라, 이들 반응은 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기 하에서 실시할 수 있다. 상기에 언급된 방법으로 얻어지는 일반식[1]의 화합물 또는 그 염은 산화, 환원, 전위, 치환, 할로겐화, 탈수, 가수분해반응 및 상기 반응들의 적절한 혼합반응 같은 공지된 반응에 의해 일반식[1]의 다른화합물 또는 그 염으로 전환될 수 있다.
상기 제조과정에 언급된 화합물 중의 일부는 광학이성체, 기하이성체, 호변이성체 등의 이성체를 가질 수 있다. 그러한 경우, 이들 이성체도 본 발명에서 사용할 수 없으며, 또한 용매화물, 가수물 및 다양한 형태의 결정들도 사용할 수 없다. 반응이 완료된 후에, 본 반응의 목적 화합물은 경우에 따라, 분리 없이 반응의 다음 단계로 넘어갈 수 있다.
상기 제조과정에 언급된 화합물 중 일부는 아미노기, 히드록시기 또는 카르복시기를 가질 수 있다. 경우에 따라, 이들은 통상의 보호기에 의해 보호되고, 반응 후에 잘 알려진 방법에 의해 보호기가 탈리될 수 있다.
일반식[1]의 화합물 또는 그 염은 적출, 결정 및/또는 컬럼 크로마토그래피 등의 통상의 방법에 의하여 분리되고, 정화되거나 또는 재결정될 수 있다.
본 발명의 화합물은 부형제, 결합제, 붕해제, 붕해억제제, 항블록킹 및 부착방지제, 윤활제, 흡수-흡착담체, 용매, 증량제, 등장화제, 용해보조제, 유화제, 현탁화제, 농화제, 피복제, 흡착촉진제, 겔화-응고촉진제, 광안정화제, 보존제, 방습제, 유화-현탁-분산안정화제, 착색방지제, 탈산소-산화방지제, 감미제, 착색제, 기포제, 소포제, 진통제, 대전방지제, 완충제 및 pH 조절제 등의 다양한 의약품첨가물을 배합하여, 경구제(정제, 캡슐제, 파우더, 과립제, 세립제, 알약 및 현택제, 유제, 용제 및 시럽), 주사제, 좌약, 외용제(연고, 고약 등) 및 에어로졸 등의 의약 조성물을 형성할 수 있다.
상기 언급된 공식들은 통상의 방법에 따라 제제할 수 있다.
정제, 분말, 과립제 등의 경구용 고형제제는 통상의 방법에 따라 유당, 자당, 염화나트륨, 포도당, 전분, 탄산칼슘, 카올린, 결정성 셀룰로오스, 무수 제2차 인산칼슘, 부분적으로 예비겔라틴화된 전분, 옥수수전분, 알긴산 등의 약제 첨가물; 단미시럽(simple syrup), 포도당용액, 전분용액, 겔라틴용액, 폴리비닐알코올, 폴리비닐에테르, 폴리비닐피롤리돈, 카르복시메틸셀룰로오스, 셀락, 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 알긴산나트륨, 아라비아고무, 히드록시프로필메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 물 및 에탄올 등의 결합제; 건조전분, 알긴산, 가루한천(agar powder), 전분, 가교결합된 폴리비닐피롤리돈, 가교결합된 소디움카르복시메틸셀룰로오스, 칼슘 카르복시메틸셀룰로오스 및 소디움 스타치 글라이콜레이트 등의 붕해제; 스테아릴알코올, 스테아르산, 카카오버터 및 수산화 지방 등의 붕해 억제제; 알루미늄 실리케이트, 칼슘 히드로겐 포스페이트, 산화마그네슘, 탈석, 무수규산 등의 고결방지 및 부착방지제; 카노바왁스(carnauba wax), 경질무수규산, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 경화유, 식물성 경화유 유도체, 참기름, 표백정제품(bleached bees wax), 산화티탄, 건조수산화알루미늄겔, 스테아릭산, 스테아릭산 칼슘, 스테아릭산 마그네슘, 활석, 인산수소칼슘, 라우릴 황산 나트륨 및 폴리에틸렌 글리콜 등의 윤활제; 제4 암모늄염, 소디움 황산 라우릴, 요소 및 효소 등의 흡수촉진제; 전분, 유당, 카올린, 벤토나이트, 무수규산, 함수이산화규산, 마그네슘 메타실리케이트-알루미네이트, 콜로이드질 규산 등의 흡수-흡착 운반제 등의 고형제제화용 의약용 첨가물을 사용하여 통상의 사용법에 따라 제조된다.
또한, 필요에 따라서, 상기 정제는 설탕으로 피막된 정제(sugar-skin tablet), 젤라틴으로 피막돤 정제(gelatin-coated tablet), 위에서 가용성인 물질로 피막된 정제(stomach-soluble coated tablet), 장에서 가용성인 물질로 피막된 정제(intestine-soluble coated tablet) 또는 수용성 필름으로 피막된 정제(water-soluble film coated tablet) 등의 통상의 피막 정제(skin-covered tablets)로 제조될 수 있다.
캡슐제는 상기 언급된 의약품 성분들을 서로 혼합하고, 상기 혼합물을 충진하여 딱딱한 젤라틴 캡슐, 부드러운 캡슐 등을 얻음으로서 제조될 수 있다.
또한, 용제, 증량제, 등장화제, 유화제, 현탁화제, 농화제 등의 상기에 언급된 액체 제제화용 첨가물을 사용하여, 통상의 방법에 따라, 수성 및 유성 현탁액, 용액, 시럽 및 엘릭시르(elixir)로 제조될 수도 있다.
좌제는 폴리에틸렌 글리콜, 카카오버터, 라놀린, 고급알코올, 고급알코올에스테르, 젤라틴, 반합성 글리세리드 및 위텝솔(witepsol) 등의 흡수촉진제를 첨가하고, 의약 조성물들과 함께 혼합하여 좌약으로 성형함으로서 제조될 수 있다.
주사제은 물, 에틸알코올, 매크로골(macrogol), 프로필렌 글리콜, 구연산, 초산, 포스포린산, 젖산, 젖산나트륨, 황산, 수산화나트륨 등의 희석제; 구연산나트륨, 초산나트륨 및 인산나트륨 등의 pH 조절제 및 완충제; 피로아황산나트륨, 에틸렌디아민-사초산, 티오글리콜릭산, 티오젖산 등의 안정화제; 염화나트륨, 포도당, 만니톨 및 글리세린 등의 등장제; 소디움 카르복시메틸 셀룰로오스, 프로필렌 글리콜, 소디움 벤조에이트, 벤질 벤조에이트, 우레탄, 에탄올아민 및 글리세린 등의 용해보조제; 칼슘 글루코테이트, 클로로부탄올, 포도당, 벤질 알코올 등의 진통제; 및 국부마취제 등의 액체 제제화용 의약품 첨가물을 혼합하고, 통상의 방법에 따라 성형함으로서 제조할 수 있다.
페이스트, 크림 또는 젤 형의 연고는 통상의 방법에 따라 의약 조성물과 백색 바세린, 폴리에틸렌, 파리핀, 글리세린, 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌 글리콜, 실리콘 및 벤토나이트 등의 염기; 메틸 파라옥시벤조에이트, 에틸 파라옥시벤조에이트, 프로필 파라옥시벤조에이트, 에틸 파라옥시벤조에이트 및 프로필 파라옥시벤조에이트 등의 보존제; 안정제; 및 습윤제 등과 함께 성형하고, 그 혼합물을 연고로 만들어 제조될 수 있다.
플라스터(plaster)는 통상의 방법을 사용하여 통상의 지지대에 상기 언급된 연고, 크림, 젤 및 페이스트를 바름으로서 제조될 수 있다. 상기 지지대는, 면, 스 테이플파이버(staple fiber) 또는 화학섬유로 제조된 짜여진 또는 짜지 않은 직물 및 필름, 또는 순한(soft) 비닐 클로라이드, 폴리에틸렌 및 폴리우레탄 등의 발포시트(foamed sheet) 등이 사용될 수 있다.
상기에 언급된 의약 조성물을 투여하는 방법은 특별히 규정된 것은 없으며, 환자의 조제 형태, 나이, 성별 및 다른 사항들, 또한 환자 증상의 정도에 따라 적절한 방법을 결정할 수 있다.
본 발명의 의약 조성물에 의한 활성성분의 복용량은 그 혼합물, 환자의 나이나 성별, 질병의 형태 및 다른 사항에 따라 적절하게 결정한다. 그러나, 활성성분의 조건에 따른 상기 혼합물은 성인의 경우 0.1∼100㎎/㎏/day의 복용량으로 한번 또는 몇몇 부위에 투약되는 것이 일반적이다.
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하기에, 본 발명의 일반식[1]의 화합물 및 그 염으로 표시되는 피라진 유도체의 항바이러스성 및 세포독성 작용에 대해 기재할 것이다.
시료: 일반식[1] 또는 그 염으로 표시되는 피라진 유도체를 디메틸 술폭시드에 용해시켜 농도가 10㎎/㎖인 용액을 제조하였다. 사용할 때에, 상기 용액을 배지에 적절한 농도로 희석시켜 사용하였다.
배양액: MDCK 세포(개의 위장에서 유래), MA-104 세포(원숭이의 위장에서 유래) 및 HEp-2 세포(인간의 후두암세포에서 유래)를 증식할때 및 세포독성 시험에 실시할때 10%의 우태아혈청이 첨가된 E'-MEM을 사용하였다.
또한 인플루엔자 바이러스의 숙주세포로서 세포독성 시험시에 MDCK 세포를 사용하였다. MA-104세포는 로타바이러스(rotavirus)의 숙주세포로 사용하였고, HEp-2 세포는 RS 바이러스의 숙주세포로 사용하였다.
(시험예 1 [항-인플루엔자 바이러스 작용])
MDCK 세포를 6-웰 플레이트(CORNING사 제조)에 5 ×105 cells/well로 평판배양하고, 5%의 이산화탄소 조건 하에서 35℃로 밤새 배양하였다. 인플루엔자 바이러스(A/PR/8/34 종)을 혈청 비첨가 배양액(serum-free culture medium)에 200 PFU/㎖로 희석시키고, 0.5㎖/well의 비율로 1시간 동안 간염 및 흡수시켰다. 완전히 간염 및 흡수된 후에, 미리 결정된 농도의 시험 화합물과 함께 0.6% 아가노블(agar noble), 1%의 우혈청 알부민 및 3㎍/㎖의 아세트화 트립신을 함유한 E'-MEM 배지에 첨가하였다. 충분한 응고 후에, 상기 플레이트를 뒤집고 배지를 3일간 두었다. 상기 배지가 완성된 후에, 1%의 뉴우트랄 레드(Neutral Red)로 살아있는 세포를 염색하고, 상기 세포를 10%의 포르말린으로 고정한 후, 아가배지를 흐르는 물로 제거하여음, 플라그의 수를 세었다. 상기 플라그-억제율은 시험 화합물이 함유되지 않은 조절 샘플에 대한 백분율로 표시하였다.
상기의 결과를 표 Ⅰ-2에 표시하였다. 여기서, 시험 화합물의 수는 샘플의 것과 동일하였다.
샘플 No. 첨가된 시험 화합물 농도 (㎎/㎖) 억제율(%)
Ⅰ-2 10 95
Ⅰ-6 10 47
Ⅰ-7 100 42

또한, 본 발명의 화합물로부터 분리될 수 있는 일반식[23]으로 표시되는 질소함유 헤테로고리 카르바모일 유도체의 항-인플루엔자 바이러스 작용은 시험예 1과 같은 방법으로 구할 수 있다. 상기 시험 화합물로서, 6-플루오르-3-히드록시-2-피라진카르복시아미드를 디메틸술폭시드에 용해시켜 10㎎/㎖의 배지를 제조하여 사용하였으며, 이를 사용하기 직전에 미리 결정한 농도로 배지 용액에 희석시켰다. 그 결과, 항-인플루엔자 바이러스 작용이 1㎍/㎖의 시험 화합물 농도에서, 플라그 억제율로 볼때 100% 인것으로 판명되었고, 항-바이러스제로서 시험화합물의 우수성을 입증하였다.
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(시험예 2 [항-로타바이러스 작용])
MA-104 세포를 6-웰 플레이트(CORNING사 제조)에 5 ×105cell/well의 밀도로 평판배양하고, 5%의 이산화탄소 하에 37℃로 밤새 배양하였다. 30분동안 10㎍/㎖의 아세틸화 트립신으로 활성화시킨 로타바이러스(Ku 종)을 무혈청배지에 140 PFU/㎖로 희석하고 1시간동안 0.5㎖/well의 비율로 간염 및 흡수시켰다. 완전히 간염 및 흡수시킨 후에, 상기 간염된 배지를 제거하고, 30㎍/㎖의 시험 화합물이 함유된 E'MEM 배지, 5㎍/㎖의 트립신 및 1.4%의 아가로우스(agarose)를 첨가하였다. 로타바이러스에 감염된 MA-104 세포를 5%의 이산화탄소하에서 37℃로 3일동안 배양하고, 그 후 0.005%의 뉴우트랄 레드가 함유된 아가로우스를 겹쳐 둔 다음, 상기 배지를 상기와 동일한 조건 하에서 하루 더 두었다. 배지가 완성된 후, 시험 플레이트를 3%의 포름알데히드 용액으로 고정하고, 아가로 응고시킨 시험 배지를 제거한 다음, 플라그의 수를 세었다. 로타바이러스에 대한 억제율은 화합물-처리될 수 있는 기에서 플라그의 수로부터 계산되었다.
그 결과로, 실시예 Ⅰ-1의 화합물이 항-로타바이러스 작용을 갖는다는 것이 판명되었다.
(시험예 3 [항-RS 바이러스(호흡기세포융합바이러스, respiratory syncytial virus) 작용])
HEp-2 세포를 6-웰 플레이트(CORNING사 제조)에 5 ×105 cells/well의 밀도로 뿌리고, 5%의 이산화탄소 하에서 37℃로 밤새 배양하였다. RS 바이러스(A-2 종)을 무혈청배지에 140 PFU/㎖로 희석하고, 0.5㎖/hole의 비율로 한시간 동안 간염 및 흡수시켰다. 완전히 간염 및 흡수된 후, 간염된 배지를 제거하고, 30㎍/㎖의 시험 화합물, 0.12%의 글루타민, 2%의 우태아혈청 및 1%의 메틸 셀룰로오스가 함유된 E'MEM 배지에 첨가하였다. RH 바이러스에 감염된 HEp-2 세포를 5%의 이산화탄소 하에서 35℃로 3일간 배양하였다. 배지가 완성된 후에, 상기 시험 플레이트를 3%의 포름알데히드 용액으로 고정시키고, 메틸셀룰로오스가 함유된 시험 배지를 제거하였다. 그 후, 상기 시험 플레이트를 5%의 김자 용액(Giemza Solution)으로 염색한 후, 플라그의 수를 세었다. 상기 RS 바이러스에 대한 억제율은 화합물 처리된 기 및 처리되지 않은 기에서의 플라그 수로부터 계산하였다.
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(시험예 4 [세포독성 작용])
미리 결정된 농도로 시험화합물을 함유한 배지를 100㎕/well의 양으로 96-웰 플레이트(CORNING사 제조)에 첨가하였다. 연속해서, MDCK 세포를 배지에 2 ×104 cells/㎕의 농도를 갖는 분산액으로 제조하여, 100㎕/hole의 비율로 뿌린 후, 5%의 이산화탄소 하에서 37℃로 3일동안 배양하였다. 상기 배지가 완성되었을 때, XTT 방법(CANCER RESEARCH, Vol. 48, Pages 4,827∼4,833 (1988), 등)에 따라 살아있는 세포의 수를 세었다.
그 결과, 표 Ⅰ-2에 기재된 모든 화합물이 100㎍/㎖ 또는 그 이상의 50%세포성장억제 농도(IC50)를 나타내는 것이 판명되었다.
하기에, 본 발명의 화합물 및 본 발명의 제조 중간물을 참고예 및 실시예를 들어 설명하였다. 본 발명은 여기에만 한정되는 것은 아니다.
하기의 실시예에서, 용리액 내에서의 혼합비율은 모두 "용량비"를 의미하는 것이다. 컬럼 크로마토그래피용 운반물은 실리카겔 BW-127ZH(Fuji Silysia Chemical CO. 제조); 역상 크로마토그래피용 운반물은 YMC·GEL ODS-AM 120-S50(YMC Co., Ltd. 제조); 및 이온교환 컬럼 크로마토그래피용 운반물은 DEAE 셀룰로오스(Wako Pure Chemical Industries 제조)이다.
참고예 및 실시예에서 사용된 표시는 하기를 의미한다.
DMSO-d6: 중수화 디메틸 술폭시드(Deuterated dimethyl sulfoxide)
(참고예 Ⅰ-1)
농축된 황산 100㎖에 메틸 3-아미노-6-브로모-2-피라진카르복실레이트 17.0g를 용해시켰다. 빙냉하에서, 아질산나트륨 10.1g을 첨가하고, 30분간 교반하였다. 반응혼합물을 920㎖의 메탄올에 넣은 후, 환류하에서 5시간 동안 가열하였다. 상기 반응혼합물을 냉각시킨 후, 혼합물을 감압하에서 농축하고, 수득된 잔류물을 500㎖의 빙수와 600㎖의 클로로포름의 혼합물에 첨가한 후, 얻어진 혼합물을 층상으로 분리하였다. 유기층을 탄산수소나트륨 포화수용액, 물 및 염화나트륨 포화수용액에 연속해서 수세하고, 상기 용매를 감압하에서 제거하였다. 그 결과, 담황색 유상물(light yellow oily product)인 메틸-6-브로모-3-메톡시-2-피라진카르복실레이트 6.30g을 얻었다.
IR (KBr) ㎝-1: 1735
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.97(3H,s), 4.06(3H,s), 8.37(1H,s)
(참고예 Ⅰ-2)
질소가스분위기하에서, 메틸 6-브로모-3-메톡시-2-피라진카르복실레이트 11.4g을 톨루엔 227㎖에 용해시키고, 벤조페논이민 10.3g, 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 0.42g, (s)-(-)-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프틸 0.86g 및 소디움 tert-부톡시드 6.20g을 연속해서 첨가하였다. 수득된 혼합물을 80℃에서 1시간동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 냉각한 후, 여과시켰다. 상기 여과물을 컬럼크로마토그래피[용리액; 톨루엔:에틸아세테이트=20:1]로 정제하였다. 수득된 유지제품을 테트라히드로퓨란 140㎖에 용해시키고, 2몰/ℓ의 염산 7㎖를 첨가한 후, 수득된 혼합물을 실온에서 15분간 교반하였다. 클로로포름 20㎖와 물 50㎖의 혼합물을 반응혼합물에 첨가한 후, 상기 혼합물을 알칼리화하기 위해 수산화나트륨 1몰/ℓ를 첨가하였고, 유기층을 분리하였다. 수득된 유기층을 염화나트륨 포화수용액에 수세하고, 황산 마그네슘 무수물로 건조시킨 다음, 감압하에서 용매를 제거하였다. 잔류물을 컬럼크로마토그래피[용리액; 톨루엔:에틸아세테이트=1:1]로 정제하여 황색유상물인 메틸 6-아미노-3-메톡시-2-피라진카르복실레이트 3.64g을 얻었다.
IR (KBr) ㎝-1: 1716, 1670
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.80(3H,s), 3.82(3H,s), 7.20(2H,brs), 7.77(1H,s)
(참고예 Ⅰ-3)
메탄올 70㎖에 메틸 6-아미노-3-메톡시-2-피라진카르복실레이트 3.5g를 용해시켰다. 상기 용액에 암모니아가스를 주입시켜 포화용액을 제조한 후, 상기 용액을 실온에서 14시간동안 교반하였다. 감압하에서, 상기 반응용액으로부터 용매를 제거함으로서, 고형물인 6-아미노-3-메톡시-2-피라진카르복사미드 3.1g을 얻었다.
IR (KBr) ㎝-1: 1684
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.79(3H,s), 5.87(2H,brs), 7.30-7.75(3H,m)
(참고예 Ⅰ-4)
질소가스분위기하에서, 6-아미노-3-메톡시-2-피라진카르복사미드 1.50g을 빙냉하에서 70%의 히드로겐 플루오라이드-피리딘 용액 12㎖에 용해시켰다. 그 후, -50℃에서 아질산나트륨을 첨가하고, 수득된 혼합물을 10℃에서 1시간 동안 교반하였다. 상기 혼합물을 추가로 1시간 더 교반한 후에, 빙수 50㎖와 클로로포름 100㎖의 혼합물을 첨가하고, 수득된 혼합물을 층상으로 분리하였다. 수득된 유기층을 염화나트륨 포화수용액으로 수세하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시킨 다음, 감압하에서 용매를 제거하였다. 그 결과, 고형물인 6-플루오르-3-메톡시-피라진카르복사미드 1.29g을 얻었다.
IR (KBr) ㎝-1: 1707
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.95(3H,s), 7.55∼8.15(2H,m), 8.39(1H,d,J=8.3Hz)
(참고예 Ⅰ-5)
질소가스분위기하에서, 요오드화나트륨 1.51g을 아세토니트릴 22㎖에 용해시켰다. 트리메틸실릴 클로라이드 1.10g을 첨가한 후, 수득된 혼합물을 실온에서 20분간 교반하였다. 그 후, 6-플루오르-3-메톡시-2-피라진카르복사미드 0.43g을 첨가하고, 얻어진 혼합물을 상기와 동일한 온도에서 18시간 동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 물 10㎖와 클로로포름 20㎖의 혼합물에 첨가하여, 층상으로 분리하였다. 수득된 유기층을 티오황산나트륨의 5% 수용액 및 염화나트륨 포화수용액에 연속해서 수세하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 잔류물을 컬럼크로마토그래피[용리액; 헥산:에틸아세테이트=2:1]로 정제하여 백색 고형물인 6-플루오르-3-히드록시-2-피라진카르복사미드 0.06g을 얻었다.
IR (KBr) ㎝-1: 1685, 1658
1H-NMR (CDCl3) δ: 5.40∼7.80(2H,m), 8.31(1H,d,J=7.8Hz), 12.33(1H,s)
(참고예 Ⅰ-6)
디클로로에탄 40㎖에 6-클로로-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복실레이트 1.0g를 용해시켰다. 질소가스분위기 하에서, 1,1,1,3,3,3-헥사메틸디실라잔 1.0㎖ 및 클로로트리메틸실란 0.54㎖를 연속해서 첨가하고, 90℃로 2시간 동안 가열하였다. 상기 혼합물을 냉각하고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 잔류물을 디클로로에탄 30㎖에 용해시키고, β-D-리보퓨라노스-1-아세테이트-2,3,5-트리벤조에이트 2.68g 및 염화주석(Ⅳ) 1,24㎖을 연속해서 첨가한 후, 얻어진 혼합물을 실온에서 16시간동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 빙수 30㎖에 첨가하고, 탄산수소나트륨 포화수용액으로 pH를 8로 조절하여, 층상으로 분리하였다. 수득된 유기층을 물 및 염화나트륨 포화수용액으로 연속해서 수세한 후, 무수황산마그네슘으로 건조시키고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 수득된 잔류물을 컬럼크로마토그래피[용리액; 헥산:에틸아세테이트=4:1]로 정제하여 황색 유상물인 4-{(2R,3R,4R,5R)-3,4-비스(벤조일록시)-5-[(벤조일록시)메틸]테트라히드로-2-퓨라닐}-6-클로로-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복실레이트 1.76g을 얻었다.
IR (neat) ㎝-1: 1728
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.94(3H,s), 4.5∼4.9(3H,m), 5.6∼6.0(2H,m), 6.3∼6.5(1H,m), 7.1∼8.2(16H,m)
(참고예 Ⅰ-7)
메탄올 16㎖에 메틸-4-{(2R,3R,4R,5R)-3,4-비스(벤조일록시)-5-[(벤조일록시)메틸]테트라히드로-2-퓨라닐}-6-클로로-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복실레이트 0.80g을 현탁시켰다. 상기 현탁물을 빙냉하에서, 소디움 메톡사이드의 28% 메탄올 용액 0.73g을 첨가하고, 수득된 혼합물을 상기와 동일한 온도에서 1시간 동안 교반하였다. 실온에서 상기 혼합물을 추가 3시간 동안 더 교반한 후, 6몰/ℓ의 염산으로 pH를 7로 조절하고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 잔류물을 컬럼크로마토그래피[용리액; 클로로포름:메탄올=10:1]로 정제하여 황색 유상물인 메틸 6-클로로-4-[(2R,3R,4S,5R)-3,4-디히드록시-5-(히드록시메틸)테트라히드로-2-퓨라닐]-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복실레이트 0.29g을 얻었다.
IR (neat) ㎝-1: 1728
1H-NMR (CDCl3+DMSO-d6) δ: 3.6∼5.6(11H,m), 5.99(1H,s), 8.67(1H,s)
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(실시예 Ⅰ-1)
1,1,1,3,3,3-헥사메틸디실라잔 5.0㎖에 3-피드록시-2-피라진카르복사미드 1.0g을 현탁시켰다. 상기 현탁물을 환류하에서 30분간 가열하고, 냉각한 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 상기 잔류물을 질소가스 분위기 하에서 디클로로에탄 5.0㎖에 용해시키고, β-D-리보퓨라노스-1-아세테이트-2,3,5-트리벤조에이트 3.11g 및 염화주석(Ⅳ) 0.50㎖를 연속해서 첨가한 후, 수득된 혼합물을 실온에서 22시간 동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 에틸아세테이트 30㎖ 및 물 20㎖로 희석하고, 탄산수소나트륨 포화수용액으로 pH를 8로 조절한 후, 침전물을 걸러내고, 유기층은 분리하였다. 수득된 유기층을 물 및 염화나트륨 포화수용액에 연속해서 수세하고, 무수황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 상기 잔류물은 컬럼크로마토그래피[용리액; 에틸아세테이트:메탄올=10:1]를 통해 걸러내고, 이소프로필 에테르를 첨가한 후, 고체물질은 여과를 통해 취하였다. 이로서, 백색 고형물인 [(2R,3R,4R,5R)-5-[3-(아미노카르보닐)-2-옥소-1(2H)-피라지닐]-3,4-비스(벤조일록시)테트라히드로-2-퓨라닐]메틸 벤조에이트 0.41g을 얻었다.
IR (KBr) cm-1: 1734, 1685
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.6∼5.1(3H,m), 5.8∼6.2(3H,m), 6.39(1H,d,J=2.5Hz), 7.2∼8.2(17H,m), 8.95(1h,brs)
(실시예 Ⅰ-2)
메탄올 4㎖에 [(2R,3R,4R,5R)-5-[3-(아미노카르보닐)-2-옥소-1(2H)-피라지닐]-3,4-비스(벤조일록시)테트라히드로-2-퓨라닐]메틸 벤조에이트 0.37g을 용해하였다. 상기 용액을 빙냉하에서 냉각하면서, 암모니아 가스를 포화상태까지 주입하였다. 상기 반응용액을 실온에서 15시간 동안 교반하고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 메탄올을 상기 잔류물에 첨가하고, 침전물을 여과를 통해 취함으로서 담갈색 고형물인 4-[(2R,3R,4S,5R)-3,4-디히드록시-5-(히드록시메틸)테트라히드로-2-퓨라닐]-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복사미드 0.12g을 얻었다.
IR (KBr) cm-1: 1654
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.73(2H,dd,J=5.4,5.4Hz), 3.8∼4.2(3H,m), 5.08(1H,brs), 5.24(1H,t,J=5.4Hz), 5.61(1H,brs), 5.92(1H,s), 7.54(1H,d,J=4.2Hz), 7.71(1H,brs), 8.27(1H,d,J=4.2Hz), 8.30(1H,brs)
(실시예 Ⅰ-3)
6-플루오르-3-히드록시-2-피라진카르복사미드를 실시예 Ⅰ-1과 동일한 방법으로 처리하여 [(2R,3R,4R,5R)-5-[3-(아미노카르보닐)-5-플루오르-2-옥소-1(2H)-피라지닐]-3,4-비스(벤조일록시)테트라히드로-2-퓨라닐]메틸 벤조에이트를 얻었다.
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IR (KBr) cm-1: 1726, 1690
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.6∼5.0(3H,m), 5.9∼6.1(2H,m), 6.33(1H,s), 7.3∼8.2(17H,m), 8.53(1H,brs)
(실시예 Ⅰ-4)
메탄올 2.0㎖에 [(2R,3R,4R,5R)-5-[3-(아미노카르보닐)-5-플루오르-2-옥소-1(2H)-피라지닐]-3,4-비스(벤조일록시)테트라히드로-2-퓨라닐]메틸 벤조에이트 0.15g을 용해하였다. 그 후, 소디움 메톡시드의 28%의 메탄올용액 0.14g을 첨가하여 빙냉하에서 20분, 실온에서 30분간 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 1몰/ℓ의 염산 0.75㎖로 산성화하고 감압하에서 용매를 제거하였다. 잔류물은 컬럼크로마토그래피[용리액; 클로로포름:메탄올=5:1]로 정제한 후, 이소프로판올 및 디에틸 에테르를 첨가하여, 고형물을 여과를 통해 취하여 4-[(2R,3R,4S,5R)-3,4-디히드록시-5-(히드록시메틸)테트라히드로-2-퓨라닐]-6-플루오르-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복사미드 40㎎을 얻었다.
IR (KBr) cm-1: 1686
(실시예 Ⅰ-5)
메탄올 4㎖에 메틸 6-클로로-4-[(2R,3R,4S,5S)-3,4-디히드록시-5-(히드록시메틸)테트라히드로-2-퓨라닐]-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복실레이트 0.26g을 용해하였다. 상기 용액을 빙냉하에서 냉각하면서, 암모니아 가스를 포화상태까지 주입하였다. 상기 반응 혼합물을 빙냉하에서 1시간 동안 교반한 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 수득된 잔류물은 컬럼크로마토그래피[용리액; 클로로포름:메탄올=7:1]로 정제함으로서, 담황색 고형물인 6-클로로-4-[(2R,3R,4S,5R)-3,4-디히드록시-5-(히드록시메틸)테트라히드로-2-퓨라닐]-3-옥소-3,4-디히드로-2-피라진카르복사미드 0.06g을 얻었다.
IR (KBr) cm-1: 1693
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(실시예 Ⅰ-6)
질소가스 기류하에서, 6-플루오르-3-히드록시-2-피라진카르복사미드 5.3g을 아세토니트릴 53㎖에 현탁시켰다. 여기에, N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드 8.4㎖를 빙냉하에서 첨가하고, 수득된 혼합물을 실온에서 1.5시간 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 빙냉하에서 냉각하면서, 아세토니트릴 53㎖ 및 염화주석(Ⅳ) 7.2㎖에서 Carbohydr. Res., Vol. 203, No. 9, Pages 324∼329 (1990)에 언급된 제조방법에 따라 제조된 (2R,3R,4R)-4,5-비스(아세틸록시)-2-(히드록시메틸)-테트라히드로-3-퓨라닐 아세테이트를 연속해서 상기 반응 혼합물에 첨가하고, 수득된 혼합물을 실온에서 20분 동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 에틸아세테이트 700㎖와 탄산수소나트륨 포화수용액 300㎖의 혼합물 100㎖에 부어 넣어, 유기 층이 분리되었고, 수성층을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 모든 유기층을 결합시키고, 무수황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 잔류물은 메탄올 200㎖에 용해시키고, 여기에 80%의 초산 수용액 100㎖를 첨가한 후, 수득된 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 감압 하에서 용매를 제거하고, 잔류물은 실리카겔 컬럼 크로마토그래피[용리액; 클로로포름:메탄올=40:1]로 정제한 다. 여기에, 클로로프름 및 이소프로필 에테르를 첨가한 후, 여과를 통해 고형물을 취하여 담황색 고형물인 (2R,3R,4R,5R)-4-(아세틸록시)-2-[3-(아미노카르보닐)-5-플루오르-2-옥소-1(2H)-피라지닐]-5-(히드록시메틸)테트라히드로-3-퓨라닐 아세테이트 9.3g을 얻었다.
IR (KBr) cm-1: 3411, 1752, 1686
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 2.04(3H,s), 2.10(3H,s), 3.64(1H,ddd,J=2.5,5.0,13Hz), 3.86(1H,ddd,J=2.5,5.0,13Hz), 4.29(1H,d,J=6.0Hz), 5.35(1H,t,J=6.0Hz), 5.49(1H,dd,J=3.0,5.0Hz), 5.65(1H,t,J=5.0Hz), 6.11(1H,d,J=3.0Hz), 7.96(1H,brs), 8.42(1H,d,J=5.0Hz), 8.49(1H,brs)
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본 발명의 피라진 유도체 또는 그 염, 즉 본 발명의 화합물은 우수한 항바이러스 작용을 가지며, 조제약으로서도 유용하다.

Claims (16)

  1. 하기의 일반식으로 표시되는 피라진 유도체 또는 그 염.
    Figure 112003015848485-pct00029
    (식 중, R1은 수소원자 또는 할로겐 원자; R2는 수소원자; R3 및 R5는 수소원자; R4 및 R6은 치환 혹은 비치환 하이드록시기, 또는 보호 혹은 비보호 하이드록시기; A는 산소원자; n은 0; 및 Y는 산소원자를 나타낸다.)
  2. 제1항에 있어서, 상기 R4 및 R6은 하이드록시기를 나타내는 것을 특징으로 하는 피라진 유도체 또는 그 염.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 R1은 수소원자 또는 불소원자를 나타내는 것을 특징으로 하는 피라진 유도체 또는 그 염.
  4. 삭제
  5. 제1항의 화합물 또는 그 염을 함유하는 항바이러스제.
  6. 제5항에 있어서, 상기 바이러스는 인플루엔자바이러스, RS 바이러스, AIDS바이러스, 유두종바이러스, 아데노바이러스, A형간염바이러스, B형간염바이러스, C형간염바이러스, 소아마비바이러스, 에코바이러스, 쿡사키바이러스, 장내바이러스, 리노바이러스, 로터바이러스, 뉴캐슬병바이러스, 이하선염바이러스, 수포성구내염 바이러스 또는 일본뇌염바이러스인 것을 특징으로 하는 항바이러스제.
  7. 제6항에 있어서, 상기 바이러스는 인플루엔자바이러스인 것을 특징으로 하는 항바이러스제.
  8. 제6항에 있어서, 상기 바이러스는 C형간염바이러스인 것을 특징으로 하는 항바이러스제.
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