KR100314946B1 - 구멍이있는금속또는금속화된물건을선택적으로전기도금하는방법및장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 구멍이 있는 물건을 선택적으로 전기도금(electroplating)하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 물건은 의도하는 도금에 따라서 차단되고(masked) 이어서 물건을 전기도금하기 위하여 전해액(electrolyte)에 노출된다. 차단 목적을 위하여, 충분히 밀착된 광저항층이 전기영동에 의해 물건에 적용되며, 광저항층을 건조시킨 후 물건은 도금되는 위치에 따라서 광차단막(photomask)으로 씌워지며, 그러한 다음 노출(exposure)을 시킨다. 그 다음, 광저항층이 부분적으로 제거되는 한편, 광저항층이 남는 부분은 전기도금시 금속물건에 차단막으로 역할하도록, 물건에 남겨진다.

Description

구멍이 있는 금속 또는 금속 피복 물건을 선택적으로 전기도금하는 방법 및 장치

본 발명은 스탬핑 또는 엣칭에 의해 제조된 구멍이 있는 금속 또는 금속 피복물건(metallized products)를 선택적으로 전기도금하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 여기에서 광저항층(photoresist layer)이 전기영동에 의해 구멍이 있는 물건에 충분히 밀착되도록 적용되며, 상기 광저항층을 건조시킨 뒤, 상기 구멍이 있는 물건의 필요한 소정의 위치에 적어도 하나의 광차단막을 피복하고, 이 광차단막이피복된 물건을 노출시키고, 이러한 다음 현상공정(developing process)에 의해, 광차단막의 제거후에 전기도금되는 구멍이 있는 물건의 부분으로부터 광저항층을 제거하는 한편, 구멍이 있는 물건에서 광저항층이 남는 부분은, 광저항층이 제거된 구멍이 있는 물건을 전기도금할 때 차단막으로서 역할한다.

산업에 있어서, 기술적 또는 경제적 이유로 대부분 귀금속으로 선택적으로 전기도금을 해야만 하는 금속 또는 금속 피복된 물건을 자주 사용한다. 이에 따라 일반적으로, 예정되지 않은 부분의 도금은 물건이 사용될 때 오작동을 일으키거나 값비싼 도금 물질의 쓸데없는 낭비를 낳기 때문에 상기 도금은 예정된 위치에 가능한한 정확하게 수행되어야 하는 것이 요구된다.

제 1도는 연속된 리이드프레임 부품을 갖는, 소위 리이드프레임(1)으로 잘 알려진 금속 프레임 모양의, 위와 같은 물건의 전형적인 예를 보여준다. 그러한 리이드프레임은 일반적으로 금속 밴드 또는 스트립으로부터 스탬핑 또는 광화학적으르 엣칭되거나, 가소성 물질의 피막(film)에 적용된 금속 박막(metal foil)의 광화학적 엣칭에 의해 제조된다.

제 2도 및 제 3도는 마찬가지로 잘 알려진 이음매 없는 밴드 또는 스트립에서 상호연결된 물건을 보여주는 바, 제 2도는 트랜지스터에 사용되는 물건(2)의 예를 보여주고, 제 3도는 접촉체계(contact system)에 사용되는 물건(3)의 예를 보여준다.

제 1 - 3도에서 이러한 물건들은 금속으로 도금될 음영부분에 의해 나타내진 부분들을 갖는다. 또한 예를 들어 제 3도에서 검은 면으로 나타내진 부분과 같은표면의 좁은 부분만을 도금해야만 하는 것도 가능하다. 더욱이 이 물건들에는 금속으로 도금되어야 할 지역을 적어도 부분적으로 둘러싸고 있는 다수 또는 소수의 열린 구멍(4)이 있다.

제 2도 및 제 3도에서 보여지는 것과 같은 물건에 대하여 이하 기술하는 발명에 따르는 방법 및 장치를 이용하는 것이 또한 가능하지만, 본 발명은 특히, 일반적으로 훼손되기 쉬운, 복잡한 구조이고, 특히 예정된 위치에만 단독으로 금속 도금을 하는데 있었서 매우 엄밀한 요구가 있고, 도금 물질의 최소량만을 사용하는 소위 리이드프레임에 있어서의 적용에 대하여 설명할 것이다.

이미 언급했듯이, 처음부터 길다란 밴드 또는 스트립으로 상호연결되는 그러한 리이드프레임은 보통 엣칭이나 스탬핑에 의해 만들어진다. 가능한한 정확하게 그러한 금속의 도금을 수행할 수 있게 하기 위하여, 예를 들어 USP 3,746,730호, 3,819,502호, 3,855,108호, 4,376,017호 및 4,493,757호 및 또한 EPA No.0055130호 및 0382283호에서 기술된 바와 같이, 수년에 걸쳐 많은 진전이 있었다. 이들 공보로부터 명백하듯이, 밴드 또는 스트립은 계속적으로 또는 단속적으로 공정 장치를 통하여 이동되고, 이때 예정된 도금을 하는 동안, 물건과 함께 이동하는 가요성 물질의 벨트 또는 물건에 대하여 단속적으로 눌려지는 가요성 물질의 패드와 같은 기계적 차단막으로 도금되지 않아야 될 물건의 부분을 피복한다.

제 1도에서 보여지는 바의 리이드프레임(1)을 사용할 때, 침은 일반적으로 플래트폼(5)에 놓이고 금 또는 알루미늄 전선으로 상기 플래트폼 근처에 위치한 리이드(6)의 말단에 접속된다. 다음 플래트폼과 칩과 칩에 접속된 리이드(6)의 말단은 가소성 물질로 밀봉되고, 그 가소성 물질의 패키지 밖의 나머지 부분은 나타낸 리이드프레임으로부터 잘리는 한편, 그 가소성 물질의 패키지로부터 돌출된 리이드(6)의 부분은 예를 들어, 인쇄회로 등과 같은 전기회로에 접속되는 데 이용될 것이다.

제 1도에서 도식적으로 설명되고 있는 리이드프레임의 한 실시형태는 매우 간단한 구성이다. 실제로 200 리이드 이상을 갖는 리이드프레임이 종종 사용된다. 208 리이드를 갖는 리이드프레임(1a)의 일례가 제 4도에 보여진다. 일반적으로 매우 복잡한 구조를 갖고 다수의 리이드로 이루어지는 그러한 물건은 코일에 감기는 형태의 기다란 밴드 형태로 생산되지 않고, 길이 150 - 240㎜의 스트립 형태로 생산된다.

칩 수준에서 기능의 집적화가 증가할수록 그로부터 결과하는 칩당 리이드 수가 증가하여, 리이드프레임으로 사용되는 금속 및, 칩과 칩에 있는 리이드가 밀봉되는 위에서 언급한 가소성 물질의 패키지의 두께를 감소시키려는 경향이 있다. 이미 리이드프레임 물질의 두께를 통상의 0.25 - 0.35㎜로부터 0.08 - 0.15㎜로 감소시키려는 시도가 진행중인 한편, 지금까지 사용되던 3.0㎜의 패키지 대신에 약 1.2㎜의 패키지 두께를 얻는 것이 목표가 되고 있다.

이 축소화 경향은 계속될 것으로 전망된다.

또 칩이 설비된 그러한 리이드프레임이 사용되는 최종 물건의 신빙성을 위하여, 그 물건에 선택적으로 도금되는 금속의 형태 및 위치의 정확성이 더욱 엄밀히 요구된다.

최소한 물건과 접촉하는 부분에는 통상적으로 탄성 물질로 만들어지는 윗쪽 및/또는 아랫쪽 차단막이 사용되고, 더욱이 적어도 하나의 차단막은 물건에 수행되는 선택적 도금에 따라서 통로가 구비되는, 지금까지 사용되어 오던 기계적 차단막으로는 이러한 엄밀한 요구를 실현하는 것은 더이상 불가능하다.

그리하여 제 5도는 위에서 설명한 장치가 전기도금에 사용될 때 일반적인 바와같이, 윗쪽 차단막(7)과 아랫쪽 차단막(8) 사이에 고정된 다수의 리이드(6)의 단면도를 도식적으로 보여준다.

제 5도로부터 명백한 바, 홈(10)이 리이드의 절단 측면(9) 사이에 있으며, 예정된 전기도금을 하는 동안 그 안으로 전해질이 흐르므로, 리이드(6)의 예정된 부분(11)(제 6도)뿐만 아니라 제 6도에서 음영으로 나타내지는 절단 측면(9)의 12에도 금속으로 도금이 될 것이다.

제 6도는 또한 선 A-A 및 B-B로써, 위에서 언급한 가소성 물질의 패키지의 경계를 나타내준다. 실제로는 종종, 절단 측면(9)에 형성되는 바람직하지 못한, 보통 은으로 된 금속 피복이 엇갈린 음영 부분(13)으로 나타낸, 그러한 가소성 물질의 패키지를 벗어나서 연장되는 일이 일어난다. 도금 물질, 은이 가소성 물질의 패키지로부터 돌출된다는 사실은 가소성 물질의 표면 위로 은의 이동의 결과로, 리이드안에서 단락(short-circuit)의 위험을 수반한다.

더욱이 앞서의 패키지의 물질은 도금된 물질보다는 기제 물질에 더 잘 결합하므로, 또한 그 결합에서 보면, 비기능 위치에 도금 물질이 있다는 것은 이롭지가 못하다.

또한 플래트폼(5)(제 1도)에 칩이 설비되는 면에만 예정된 금속 피복을 해야 한다. 지금까지 사용되고 있는 기계적 차단 체계를 포함하는 기술을 사용할 때, 특히 지금까지 일반적인 차단 기술을 사용하여, 매우 얇은 물질로 만들어지는 복잡한 리이드프레임에서는, 전해질이 플래트폼의 절단 측면을 따라서, 칩이 설비되는 옆면으로부터 떨어져 마주하는 플래트폼의 옆면으로 스며서, 최종 물건에서는 또한 칩으로부터 떨어져 마주하는 플래트폼(5)의 옆면은 적어도 부분적으로 제 7도에서 음영된 부분으로 나타내진 바와 같이 금속으로 도금된다, 이미 앞서 언급했듯이, 이것은 칩과 함께 중앙 플래트폼을 밀봉하는 가소성 물질의 패키지의 결합에 역효과를 가지므로, 그러한 뒷면의 도금은 피하는 것이 바람직하다.

게다가 위에서 언급한 문제점 외에, 특히 위에서 설명한, 훼손되기 쉬운 리이드프레임을 가지고 지금까지 일반적인 기계적 차단 체계를 사용할 때, 플래트폼 및/또는 리이드 및 분할구멍(indexing hole)의 굽음과 같은 기계적 손상의 큰 위험이 있다. 이것은 이미 매우 얇은 물건에 대하여 필요한 힘으로 기계적 차단 체계(mechanical masking system)를 가압함에 의해 말미암고 있는 것이다. 더욱이 리이드프레임의 훼손되기 쉬운 부분은 기계적 차단 체계가 리이드프레임으로부터 바깥 방향으로 움직일 때 차단 체계에 달라붙으려 하는 결과로, 그 리이드프레임의 추가의 이동이 방해받고, 연속되는 물건이 서로 접촉할 것이다.

도금되는 금속 물건의 정확도에 관한 증가되는 엄밀한 요구를 충족시키기 위하여, 본 출원인은 금속 물건을 감광성 물질의 건조 피막으로 피복하고, 이어서 원하는 위치에서 다시 금속 물건을 벗기기 위하여, 도금을 수행하기 위한 목적으로현상 공정에 의해 예정된 도금에 따라서 그 피막을 부분적으로 노출시키는 것에 대하여 심사숙고해왔다. 그러한 피막이 구멍이 있는 물건의 양쪽 면에 적용될 때, 노출 및 현상후에 물건의 앞과 뒷면에 있는 피막은 구멍 사이에서 서로 적절히 접촉하지 못하여, 홈이 형성되는 결과를 낳고, 한편 또한 물건에 구비된 구멍의 절단측면은 노출과 현상에 의해 벗겨진 물건 표면에서 차단되지 않는다. 결과적으로 또한 벗겨진 표면에서 구멍의 절단측면 및 적어도 윗쪽 및 아랫쪽 피막의 사이에 있는 홈의 일부분은 제 5도 및 제 6도를 참고로 하여 설명한 바와 유사한 방식으로, 최종 도금 공정에서 바람직스럽지 못하게 도금이 된다.

더욱이 물건을 침지시키거나 또는 그것에 액체 감광성 물질을 분무하고 위에서 기술한 바와 유사한 방식으로 그 감광성 물질을 필요한 부분만 노출시키는 것도 심사숙고하였다. 그러나 거기서 감광성 층의 건조후 그 감광성 층은 날카로운 모서리 및 그 모서리에 생기기 쉬운 거스러미(burr)에서 매우 수축되고, 그 위치에 남겨진 감광성 층은 다공성이고 노출 및 현상 다음에 도금이 수행될 때 보호가 불충분기때문에 도금 또한 그러한 분충분하게 보호되는 모서리 및/또는 거스러미를 따라, 그에 수반되는 모든 단점들과 함께 바람직하지 못한 위치에서 수행된다는 것은 명백해졌다.

기계적 차단 체계 및 감광성 박막 또는 액체 광저항층의 사용으로부터 발생하는 단점들은 서론에서 언급한 방법을 사용하여 피할 수 있는 바, 여기에서는 EP-A-0507043호에서 기술되는 것처럼 광저항층이 전기영동방식으로 구멍이 있는 물건에 적용된다. EP-A-0507043호에서 기술되는 바와 같이, 구멍이 있는 물건은 그러한목적으로 광저항층 욕조에 침지되고, 이에 따라 사용되는 광저함층에 의존하여 물건은 양극 또는 음극으로 사용된다. 이때 물건은 욕조에서 원하는 광저항층이 물건 위에 생성될 때까지 침지되는데, 이 광저항층은 적용되는 전류가 0 또는 실질적으로 0이 될 때 가시화된다. 이때 만족할 만한 피복의 형성을 촉진하기 위하여 광저항층욕조를 진동시키는 것이 바람직하다. 적용된 전기영동에 의한 저항층은 충분히 날카로운 모서리를 포함하여 구멍이 뚫린 물건의 모든 부분을 둘러싼다.

물건을 침지시키는 것, 그 물건을 전원에 접속시키는것, 그 물건은 얼마동안 욕조에 침지시켜 유지하는 것 및 이어서 전원을 분리시키고 다시 욕조로부터 그것을 제거하는 것 모두는 이것이 매우 시간이 소요되는 방법이라는 사실을 더하고 있다.

본 발명에 따라서 구멍이 있는 물건은 작동중에 연속적으로 광저항층 욕조를 통하여 이동되고, 이때 상기 물건은 적어도 욕조에 진입하는 시간부터 그 욕조로부터 벗어나는 시간까지는 전원에 접속된다.

본 발명에 따르는 방법을 이용할 때, 욕조를 통하여 물건의 계속적인 이동의 결과로서 간단하고 신속한 광저항층이 구비된 물건의 생산이 가능해진다. 놀랍게도 본 발명에 의해 광저항층 욕조를 통하여 물건의 이동 전경로를 따라서 상기 물건위에 광저항층이 균일하게 생성된다는 것이 명확해졌는데, 이것은 예상했던 바와는 반대이다. 즉, 광저항층의 생성이 주로 욕조 안으로 물건이 진입하는 위치에서 일어나고, 한편 입구로부터 떨어진 위치에서는 생성이 실질적으로 없을 것이며, 그 결과 욕조를 통과하여 물건의 신속한 이동이 불가능하거나 매우 불규칙하고 충분히밀착되지 않은 광저항층이 물건에 형성될 것이라는 기대와는 반대되는 현상이다.

본 발명에 따르는 방법을 이용할 때, 더욱이 전기영동 욕조를 통하여 물건을 계속적으로 이동시키는 경우 충분히 밀착된 광저항층을 적용하는데 필요한 시간이 회분식 생산(batch production)에 비하여 상당히 감소되는 한편, 그에 더하여 상당히 낮은 욕조 전압을 사용할 수 있는 것으로 나타났다( 30 - 60초에서 5초로, 60 -125V에서 30 - 50V로 감소됨).

본 발명에 따라서, 광저항층을 적용하는 욕조, 그 광저항층을 노출시키는 수단 및 이 장치를 통하여 물건을 이동시키는 수단이 구비되는 한편, 물건 및 그 차단막에 있는 표식(mark)을 감지하는 장치의 영향을 받아서 물건에 대하여 수평 및 수직으로 조절할 수 있는 적어도 하나의 광차단막이 구비되는 특히 효과적인 장치를 제조할 수 있다. 그에 의해 상기 장치를 통하여 물건을 이동시키는 동안 물건에 대하여 차단막을 정확히 조절하는 것이 가능하다.

광저항층을 적용하는 동안 욕조에서 액체의 흐름의 효과적인 조절은, 일정한 간격으로 떨어져 있는 두 개의 롤러 쌍을 물건이 그 롤러쌍 사이에서 통과될 수 있도록하는 방식으로 욕조 안에 구비될 때 얻어진다. 그것에서 그 롤러쌍은 일종의 수문으로서 역할을 하고 적절한 수준에서 욕조의 액체의 수준을 유지시킨다.

바람직하게는 다수의 일정한 간격으로 떨어진 양극이 도금 욕조에서 예정된 이동방향으로 차례로 배치되는 한편, 가로지르도록 배치된 칸막이가 양극 사이에 배치되고, 양극이 전원에 선택적으로 접속되게 하는 추가의 수단이 설비된다. 장치의 작동의 시작 및 종료의 시간에 및 또한 장치의 작동중에 양극의 동력을 적절히조절함에 의해 예정된 위치에 일정한 도금이 이루어질 수 있다.

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 이하 더 상세히 설명된다.

제 1도는 소위 리이드프레임 형태의, 잘 알려진 금속 물건의 개략도이며,

제 2도는 밴드 또는 스트립에서 상호연결된 트랜지스터 형태의 다수의 물건의 개략도이며,

제 3도는 접속체계에서 사용되도록 만들어진, 밴드 또는 스트립에서 상호연결된 다수의 물건의 개략도이며,

제 4도는 다수의 리이드를 갖는 리이드프레임의 도면이며,

제 5도는 차단 수단 사이에 고정된 리이드프레임의 다수의 리이드의 단면도이며,

제 6도는 부분적으로 금속으로 도금된 리이드프레임의 리이드의 한 말단의 개략도이며,

제 7도는 리이드프레임의 플래트폼의 배면 개략도이며,

제 8도는 본 발명에 따르는 방법을 이용하여 금속으로 부분적으로 도금된 리이드 프레임의 리이드의 한 말단의 개략도이며,

제 9도는 도금되는 물건이 이동될 수 있는 연속 구간의 개략도이며,

제 10도는 스트립에 연결된 물건을 제조하는 장치의 개략적 사시도이며,

제 11 - 13도는 스트립에 연결된 물건을 순환컨베이어벨트에 접속시키는 즉각적으로 헹굼이 가능한 고정수단의 한 실시형태를 보여주며,

제 14 - 16도는 즉각적으로 헹굼이 가능한 고정수단의 또다른 실시형태를 보여주며,

제 17도는 물건에 감광성 저항층을 적용하기 위한 전기영동 욕조 및 전기영동 저항층 액에 있는 기포를 제거하는 설비의 한 실시형태의 개략도이며,

제 18도는 제 17도의 평면도이며,

제 19도는 제 17도에서 실질적으로 화살표 XIX에 따르는 수문을 형성하는 롤러의 입면도이며,

제 20도는 감광성 저항층을 적용하는 전기영동 욕조의 입구 및 출구의 확대도이며,

제 21도는 적용된 감광성 저항층의 건조가 수행되는 구간의 개략적 평면도이며,

제 22도는 노출구간 및 차단막의 위치결정의 개략도이며,

제 23도는 컨베이어벨트와 노출 설비 사이의 연결관계을 개략적으로 설명하는 도면이며,

제 24도는 고리모양의 금속 피복의 생성을 위한 광차단막의 선택적 실시형태를 보여주며,

제 25도는 반사경 및 열-소산 장치를 가지는 노출등의 배치를 보여주며,

제 26도는 전기도금 욕조의 바람직한 한 실시형태의 개략적 평면도이다.

통상적으로 길다란 밴드 또는 스트립에서 상호연결된, 도금되는 물건은 하나의 장치에서 다수의 공정을 수행하야 한다.

제 9도에서 개략적으로 나타냈듯이, 그러한 장치는 14 - 29의 다수의 공정구간을 포함한다.

구간 14에서 물건은 장치에 공급될 것이다.

구간 15에서 물건은 일반적인 방법으로 기름이 제거될 것이고, 한편, 구간 16에서는 그 물건은 예를 들어 산(acid) 욕조에서 활성화될 것이다. 그 다음 구간 18에서 광저항층의 전기영동식 적용이 수행된다.

구간 19에서는 회복 헹굼(rinsing)을 하고, 이어서 구간 20에서 광저항층을 건조시킨다. 다음 구간 21에서 필요한 차단막을 적용하고, 그러한 다음 물건을 노출시킨다.

그 다음, 금속으로 도금이 될 부분으로부터 차단막을 제거할 목적으로 구간 22에서는 현상공정이 수행되고, 구간 23에서는 그 부분을 부드럽게 엣칭하여 활성화시킨다. 구간 24 및 구간 25는 통상의 방법으로 예정된 도금을 하는데 이용되고, 그러한 다음, 구간 26에서는 필요하다면 현상후에 남은 광저항층을 물건으로부터 제거한다. 구간 27에서는 마무리 세척 처리가 수행되고, 필요하다면 구간 28에서 물건을 건조시키는 것이 뒤따른다. 구간 29에서는 도금된 물건이 장치로부터 배출된다.

본 발명에 따르는 방법을 수행할 수 있도록 스트립 또는 길다란 밴드로 상호연결된 물건을 가공하기 위한 특히 적절한 장치(30)는 동일한 원리에 따라서 그 내용이 여기에 관련되는 것으로 보이는 EU-A-0382283호에서 기술되는 장치와 같이 고안될 수 있으므로, 여기에서 그 장치의 구성과 작동을 상세히 기술할 필요는 없을 것이다.

제 10도에서 개략적으로 나타나는 바, 길다란 밴드(31) 또는 짧은 스트립(32)에서 상호연결되는 물건은 장치의 공급구간(14) 가까이에서 장치(30)에 공급되고, 그 다음 컨베이어벨트(34)에 의해 장치(30)를 형성하는 공정부분(33)를 통하여 이동되고, 거기에 상기 공정들(15 - 28)이 배열된다. 처리된 물건은 이어서 하역구간(29)에서 방출된다).

(제 10도에 나타내지 않은) 고정수단의 설계는 매우 중요하다. 고정수단이 편평한 순환 컨베이어벨트에 대하여 편평한 접속 스트립(connecting strip)과 함께 길다란 밴드 또는 짧은 스트립에서 상호연결된 물건을 압박할 때, 미세한 공간이 컨베이어벨트와 접속 스트립 사이에 형성되어 그안에 나머지 공정 액체가 남게 된다. 그러한 남는 액체는 물건이 장치로부터 방출된 후 최종 물건을 오염시킬 수 있다.

제 11 - 13도는 물건과 컨베이어벨트 사이에 있는 열린 공간(-A-)을 갖는 고정수단의 한 실시형태를 보여준다. 이 공간은 컨베이어벨트(34)의 밑에 설비된 각 홈(37)의 한 측면의 작은 넓이를 수직으로 플랜지하여 얻어진다. 컨베이어벨트(34)에 고정된 고정수단(35)은 때때로 컨베이어벨트의 플랜지 측면(36)에 대해 밴드(31) 또는 스트립(32)의 부분을 압박한다.

제 14 - 16도는 고정수단의 또다른 실시형태를 보여준다. 이 실시형태에서는 컨베이어벨트(34)에서 홈(37)의 양측(36') 모두가 수직으로 플랜징된다. 이에 더하여 고정수단(35)의 고정 밑받침에는 이 실시형태에 수용홈(38)이 설비되는 결과로 컨베이어벨트(34)에 고정된 물건(32)의 헹굼이 더욱 쉬워진다.

EU-A-0507043호에서 기술되는 바와 같이 감광성층의 전기영동 적용을 하는 동안, 바람직하게는 적어도 분당 3,000진동의 진동수로 물건을 진동시키는 것이 요구된다. 이것은 전기영동 저항층 욕조에서 거품이 생기는데서 기인하는 불규칙한 피복을 막기 위한 것이다. 그러한 물건의 진동은 순환 컨베이어벨트를 경유하여 전체장치로 전파되어, 아마 다양한 다른 공정 단계에 역효과를 줄 수 있으므로, 본 발명에 따르는 장치에서는 적절하지 않다.

제 17 - 20도는 제 9도에서 나타나는 구간 18의 한 실시형태를 개략적으로 설명하고 있는데, 거기에서 전기영동 액체의 탈기는 다른 방식으로 수행된다. 각각 길다란 밴드 또는 스트립에 상호연결된 물건(31) 및 물건(32)은 감광성 저항층을 전기영동으로 적용하기 위하여 욕조(39)를 통하여 컨베이어벨트(34)에 의해 이동된다. 저항층 액은 펌프(40)에 의해 처리욕조(39)로 공급되고, 그곳으로부터 그 액체는 수문을 형성하는 경사진 롤러를 경유하여 격실(42) 안으로 넘쳐흐르고, 그곳으로부터 관(43)을 통하여 수직 부유탑(44)으로 넘쳐흐른다(제 17도). 격실(42) 안의 저항층 액의 수준은 탑(44) 안에 위치하는 수직 조절 부표(45)에 의해 조절될 수 있다. 잉여의 저항층 액체는 탑으로부터 부표(45)에 접속된 부표-조절 밸브(46) 및 부유탑의 거의 밑면에 설비된 구멍(47)을 경유하여 격실(48)로 흐를 수 있다. 격실(48) 안에서는 미리 결정된 액체 수준이 유지된다. 격실(48)이 가득 찼을 때, 잉여의 액체는 안내홈을 경유하여 욕조(50)로 흐를 것이고, 그곳으로부터 액체는 펌프(40)에 의해 다시 재순환될 수 있다.

제 19도는 개략적으로 롤러(41)에 의해 형성된 수문을 설명한다. 욕조(39)에있는 액체는 제 19도에서 화살표로 나타내는 바와 같이 롤러(41)에 압력을 가한다. 롤러 수문의 롤러(41) 사이에 물건이 없으면, 그 롤러는 격실 또는 욕조(39)를 실질적으로 완전히 닫는다. 롤러(41)를 통하여 물건이 이동될 동안, 적은 양의 액체가 롤러 수문을 통과하여 격실(42)로 흐른다. 남아있는 잉여의 저항층 액체도 마찬가지로 롤러 수문 옆에 배치된 넘침수로(51)을 통하여 격실(42) 안으로 되흘러간다(제 17도 및 제 20도).

롤러(41)의 경사진 위치 및 경사진 넘침수로(51)으로 인하여, 액체가 순환되는 결과로 거품이 저항층 액체에 포함되는 것을 방지한다.

제 17 - 19도에서 개략적으로 설명되는 바와 같이, 서로 연결된 물건에 감광성저항층을 적용하는 전기영동 욕조에서 다양한 부분과 부착물을 배치하여 전기영동액체가 공기와 혼합되지 않게 하고, 한편 전기영동 처리 동안 형성된 거품은 격실(42)에서, 부유탑(44)에서 및 최종적으로 활강로(49)에서 액체로부터 제거될 수 있고, 그 위에서 액체는 매우 얇은 막에서 저장 용기(50) 안으로 되흘러들어갈 수 있도록 한다.

감광성 저항층의 적용후에 물건은 헹굼구간(19)을 경유하여 구간(20)으로 도입되고(제 9도), 그 구간(20) 안에서 저항층 피막의 건조가 수행된다. 제 21도에서 보여지는 바, 상기 구간에는 진입구간(52)과 응결구간(53)이 구비된다. 진입문(54)을 경유하여, 뜨거운 공기가 구간(53)으로 도입되고, 그 안에서 저항층 피막의 응결이 수행된다. 뜨거운 공기의 흐름 방식은 제 21도에서 화살표로 나타내진다. 최초로 뜨거운 공기의 부분은 물건의 이동 방향으로 응결단면을 통하여 흐르고, 장치의 끝에서 건조구간의 상류 방향으로 전환되고, 그곳에서 진입문으로부터 물건의 이동 방향에 대하여, 역류 방향으로 응결구간(53)을 통하여 흐른 공급 공기의 일부와 합쳐진다. 다음, 응결단면에서 약간 냉각된 공기는 진입단면(52)으로 흐르고, 거기서 저항층 및 그 위에 있는 나머지 물이 효과적으로 증발된다.

건조후, 물건은 노출구간(21)(제 9도)으로 이동되고, 거기서 뒤이어 금속이 선택적으로 도금될 때 도금되지 않아야 하는 물건의 부분을 차단하기 위해서 현상하는 공정 동안 저항층이 남아야 하는 물건의 부분을 노출시킨다.

위의 설명은 음의 광저항층(negative photoresist)의 사용을 근거로 한다. 그러나 또한 양의 광저항층을 사용하는 것도 가능하다.

음의 광저항층이 사용될 때, 노출되지 않은 광저항층은 노출에 뒤따르는 광저항층의 현상공정 동안 물건의 노출되지 않은 부분으로부터 제거되고, 한편, 현상후 적용된 광저항층은 물건의 노출된 부분에 남는다. 특히 리이드프레임과 같은 물건은 일반적으로 한쪽만 도금되는 한편, 다른 면 및 물건에 형성된 구멍의 절단측면의 도금은 반드시 피해야만 한다. 이에 기초하여, 노출시 물건의 도금되야 하는 부분만이 차단되고, 도금물질이 석출되는 것을 막기 위하여 현상할 때 광저항층이 그 절단측면에 남도록하는 두 측면에서 적절한 방법으로 차단된 물건을 노출시킴에 의해 광저항층이 절단측면에도 얻어지는 음의 광저항층법을 사용하는 것이 바람직하다.

그러나 본 발명의 사상 및 범위 안에서 양의 광저항층법을 사용하는 것이 가능한데, 그러한 양의 광저항층법이 사용될 때 노출에 이어서 현상이 수행될 때 물건으로부터 제거되는 부분은 정확하게 노출된 부분이다. 결과적으로 도금이 되지 않아야 하는 물건의 모든 부분은 그러므로 양의 광저항층법이 사용될 때 노출되는 동안 덮어씌워져야 한다. 여기에서 물건에 설비된 구멍의 절단측면에 만족할만큼 광저항층을 씌우는 것은 특히 어려운 일이다.

더욱이 전기영동 감광성 저항층은 음극 또는 양극 모두에서 석출이 될 수 있다. 본 발명에 따르는 방법 및 장치가 두 체계 모두에 사용될 수는 있지만, 양극 작용체계(anodically operating system)로는 가공되는 물건으로부터 금속으로 저항층 욕조가 오염될 위험이 있기 때문에 음극 작용 체계(cathodically operating system)를 이용하는 것이 바람직하다.

제 22도는 광저항층이 씌워진 물건에 대한 차단막의 위치결정 및 이어지는 노출에 대한 구간(21)의 단순화된 개략적 배열을 보여준다.

그 실시형태에서 구간(21)은 설치평판 즉 선반받이(55)를 가지며, 그 위에 고정배치된 봉(57)을 미끄럼운동할 수 있는 안내블록(56)이 구비된다. 간단히, 두개의 봉(57) 및 그와 공조하는 블록(56)의 하나만이 도면에 보여진다. 더욱이 서로를 향한 양방향으로 멀리 가까이 움직일 수 있는 고정쇠(58)가 설치평판(55)에 설치된다. 또한 위치결정 사진기(59) 및 그것에 접속된 차단막(61)이 설치평판에 결합된다. 고정 배치된 노출광원의 하우징(60)이 개략적으로 보여진다.

이것이 제 23도에서 도면으로 설명되며, 거기서 -M-은 원동기를 가리키며, P는 차단막(62)의 정확한 위치결정을 돕는 보조기구를 가리킨다. 도면은 구간(21)에서 물건(31 또는 32),특히 컨베이어벨트(34)가 설치평판(55)에 고정되어 설치된 부분에 대하여 고정된 위치를 갖는 것을 보여줄 것이다.

상호연결된 물건의 스트립 도는 길다란 밴드에서 상호연결된 물건의 일부가 도착하면, 제 22도의 노출구간(21)에서 일련의 단계는 다음과 같다.

a) 고정쇠(58)는 봉(57)을 따라서 미끄럼 운동을 하는 설치평판(55) 및 그위에 설치된 부분을 계속적으로 이동시키는 컨베이어벨트(34)에 접속한다.

b) 물건(31 또는 32)에 가까이 있는 대략적으로 위치결정된 차단막(61)이 사진기(59)에 의해 노출되는 물건(32)의 기준구멍(64)(제 1도 및 제 22도) 및 차단막 밑면에 설비된 차단막 표면(62)의 기준구멍(63)(제 22도)에 대해 예정된 정확한 위치로 위치결정 원동기(M)(제 23도)에 의해 이동한다.

c) 그 다음, 차단막(61)은 공기력 수단(도면에 나타나지 않음)에 의해 물건(32)에 대하여 압착된다.

d) 노출광원을 가리는 셔터판(나타내지 않음)의 제거후, 하우징(60) 안에 있는 강력한 광원에 의해 1 - 2.5초간 노출이 수행된다.

e) 노출이 종료된 후 셔터판이 다시 닫히고, 고정장치(58)가 열리고, 그러한 후(도면에는 나타내지 않은) 이송수단이 설치평판 및 그 위에 장착된 부품을 벨트(34)의 이동 방향에 반대로 출발 위치로 되돌려보낸다.

제 22도는 일례로서, UV광에 불투명하게 만들어지고, 밴드(31) 또는 스트립(32)에서 상호연결된 물건의 대응 표면(66)의 노출을 방지하며 현상공정에서 감광성층이 물건의 이러한 부분으로부터 제거될 수 있고, 이를 이어 그 부분이 금속으로 도금될 수 있는 차단막의 표면(65)을 보여준다(제 9도).

제 24도는 중앙 광선-투과 구멍이 구비된 직사각형의 차단 표면(65)이 구비된 차단막(61)의 또다른 실시형태를 보여준다, 이것은 플래트폼(5) 가까이 위치한 리이드(6)의 부분만을 차단할 수 있게 하여, 그러한 결과로 금속으로된 리이드의 말단만을 뒤이은 노출과 현상으로 도금시킬 수 있게 한다. 차단막(62)에 있는 작은 화살표(67)는 제 22도의 노출장치에서 빠르고 정확하게 차단막을 설비하기 위해 이용된다.

제 25도는 개략적으로 반사물질이 내부에 설비되는 하우징(60) 안의 강력한 노출광원(68)의 배열을 설명한다. 대개의 감광성 저항층의 특이한 특징은 겉으로 보기에는 그것은 건조한 것으로 보이지만 시간 및/또는 온도의 영향 아래에서는 그것은 고착화되는 경향을 보이는 것이다. 노출 시간이 매우 짧아도, 매우 강력한 노출광원(66)을 사용하는 이유로, 그만큼의 시간에서도 공급되는 열에너지는 매우 높아서 물건(31 또는 32)이 노출되지 않은 부분(66)의 저항층(제 22도)이 당연히 바람직하지 않게, 접촉하는 차단막(61)에 고착화되는 위험이 있다. 이러한 고착의 위험을 막기 위하여, 밀착된 공간(71)을 형성하는 두 개의 유리판(69 및 70)이 광원(68)과 차단막(61) 사이에 구비되어, 그에 의해 물이 화살표 D 및 E로 나타내지는 바처럼 (보이지 않는) 펌프에 의해 상기 공간(71)을 통하여 순환한다. 그에 의해 광원(68)에서 방출되는 적외선 방사의 열에너지의 99%는 순환하는 물에 의해 소산되고, 한편 노출에 요구되는 자외선은 실질적으로 방해받지 않고 유리판(69 및 70) 및 공간(71)의 수막을 통과할 수 있다. 물의 순환체계에 (나타내지 않은) 냉각 장치를 도입함에 의해 물의 온도를 적절한 수준으로 조절할 수 있다.

제 25도에서, 또한 화살표 C는 광원(68)에서 방사되는 선(C)을 나타낸다. 적절히 선택된 하우징(60)의 한 구성에서는 방사선(C)의 분산을 제공하여, 그 결과로 구멍이 있는 물건의 절단측면에 또한 만족할만한 노출이 주어진다.

도금될 필요가 없는, 차단막으로부터 벗어나 있는 물건의 측면의 노출은 동시에 수행되거나, 물건의 전면의 노출에 대하여 시간이 변경될 수 있다. 노출의 강도와 지속시간을 적절히 조절하여 또한 물건의 절단측면에도 광저항층의 완전한 처리가 가능하다.

그렇게 노출된 물건은 다음, 금속으로 도금될 표면으로부터 광저항층을 제거할 목적으로, 현상 욕조를 통하여 이동되며, 그러한 다음 물건은 욕조를 통하여 적절한 금속을 통상적인 방법으로 전기도금하기 위하여 이동된다.

음의 광저항층법이 사용될 때, 현상단계에서 예를 들어, 젖산(lactic acid)과 같은 유기산의 염기와 약산성 현상액을 사용하는 것이 바람직하다.

그 다음, 도금하기 위하여, 상기 물건의 피복되지 않은 부분을 통상적으로 구간(23)에서 깨끗한 표면을 얻기 위하여 약하게 엣칭, 즉, 물건의 기제 물질이 구리일 때, 암모니움 퍼설페이트 용액 또는 하이드로젠 퍼옥사이드와 묽은 황산의 용액에 침지시킨다. 물건이 니켈-철 합금으로 만들어졌을 때는 물건을 부드럽게 엣칭하기 위하여 옥살릭 애시드 및 하이드로젠 퍼옥사이드 용액에 침지시킬 수 있다.

물건 위에 광저항층의 존재와 관련하여, pH 2 - 9.5의 범위의 전해욕조가 구간(24 및 25)에서 물건을 예정된 선택적인 전기도금을 하는데 적절하다(제 9도).

제 26도는 도식적으로 전기도금 욕조의 바람직한 배열의 평면도를 보여준다.그 도면은 고정쇠(35)와 함께 물건(31 및 32) 및 컨베이어벨트(34)를 보여주는 한편, 참조숫자(72)는 양극을 가리킨다. 각각의 양극(72)은 가소성 물질의 칸막이(73)에 의해 서로 분리되어 배치되며, 그러한 결과로 DC 전원의 양의 리이드(positive lead)에 접속된 양극의 직류전류는 대체로 각각의 양극의 반대쪽에 위치하는 음극을 형성하는 물건 또는 물건의 부분에 평행한 방식으로 통과된다.

도금 구간의 출발 또는 멈춤시, 또는 제 26도에서 74로 나타내지는 바와 같이 부정확한 부하가 걸린 경우 하나 또는 그 이상의 물건 스트립을 놓쳤을 때, 과도한 금속 피복이 생성될 수 있고, 그 결과로 물건이 제척될 수 있다.

제조하는 물건이 제척되는 것을 막기 위하여, 한편으로 칸막이(73)가 설비되고 또다른 한편으로 양극(72)이 계전기(75)를 경유하여 양(positive)의 전력 공급원에 접속된다.

시동, 생산의 종료 또는 부정확한 부하에 대한 장치의 부하 정보(loading information)는 조절컴퓨터에 저장되고 이어서 계전기(75)를 조절하는데 이용된다.

시동시 제 1의 격실의 계전기만이, 제 1의 물건 스트립이 장치에 진입할 때, 접속되어, 제 1 양극만이 전류가 흐른다. 계속되는 도금욕조로의 부하시 뒤따르는 양극들이 연속적으로 접속된다.

제 26도에서 74로 지시되는 바와 같이, 물건 스트립을 놓칠 때, 열린 위치의 반대편에 위치하는 각 양극의 전류 공급은 예를 들어, 계전기(75') 및 계전기(75")를 작동시킴에 의해 제 26도의 위치에서 연속적으로 차단된다.

이러한 방식으로, 열린 위치(74)에 근접한 스트립 물건이, 지나치게 두껍거나 태워진 금속 피복이 되어 제척되도록 하는 과도한 양의 전류를 받는 것을 방지한다. 칸막이(73)의 배열 및, 계전기(75)에 의해 컴퓨터조절되는 양극(72)의 접속 및 단절은 거의 물건의 100%가 품질을 만족시킬 수 있게 보증한다.

의도된 도금이 수행된 다음, 남은 광저항층은 구간(26)에서 제거되고(제 9도), 이 목적을 위하여 산 또는 알칼리의 수용액이 30 - 65℃의 온도에서 효과적으로 사용된다. 이때 일반적으로 용액의 강한 교반이 요구된다. 알칼리 제거기는 대개 환경-비친화성 용매를 함유하므로 저항층을 제거하는데 산성 용액을 사용하는 것이 바람직하다.

그 다음, 구간(27)에서 알칼리 전해 기름제거 욕조에 의해 마지막 세척을 수행한다.

이어서 물건을 헹구고 말린다.

본 발명에 따르는 방법 및 장치는 또한 은 이외에도, 예를 들어 금 또는, 니켈과 금의 합금과 같은 다른 금속의 도금에도 효과적으로 사용될 수 있음이 명백하다.

예를 들어, 제 3도는 컴퓨터 자판에 사용되는 누름접촉을 위한, 밴드에 결합된 다수의 접촉수단을 보여준다. "4"로 지시되는 표면은 그러한 접촉수단의 기계력 강도를 위하여 예를 들어, 직경 4㎜의 일정한 치수를 갖지만, 제 3도에서 검게 표시된 부분은 예를 들어, 2㎜의 직경을 갖는다. 그러한 선택적 금도금은 본 발명의 방법을 이용하여 고도로 효율적으로 실현될 수 있으며, 그에 의해 많은 경우에 75% 이상의 귀금속의 절약을 얻는다. 이에 대해 언급한 예에서, 일백만개의 접촉수단에대한 금의 절약은 보잘것없는 막 두께 2㎛를 갖고서, 약 3.75㎏, 결과적으로 약 50,000미국달러에 해당하는 양이었으며, 한편 매년 그러한 수백만개의 접촉수단이 생산된다.

마지막으로, 본 발명에 의한 방법 및 장치가 금속의 도금에만 적용되는 것이 아니라, 또한 리이드프레임, 인쇄회로 등과 같은 물건의 광화학적 엣칭에도 적용된다는 것은 이 분야 통상의 지식을 가진 자에게는 명백할 것이다. 그 경우, 구간(24) 및 구간(25)에서 화학적 또는 전기화학적 엣칭 공정이 수행된다. 그러므로 그 구간에서는 예를 들어, 스트립 모양의 바탕 물건으로부터 잉여의 물질이 엣칭된다.

제 1도는 소위 리이드프레임 형태의, 잘 알려진 금속 물건의 개략도이며,

제 2도는 밴드 또는 스트립에서 상호연결된 트랜지스터 형태의 다수의 물건의 개략도이며,

제 3도는 접속체계에서 사용되도록 만들어진, 밴드 또는 스트립에서 상호연결된 다수의 물건의 개략도이며,

제 4도는 다수의 리이드를 갖는 리이드프레임의 도면이며,

제 5도는 차단 수단 사이에 고정된 리이드프레임의 다수의 리이드의 단면도이며,

제 6도는 부분적으로 도금된 리이드프레임의 리이드의 한 말단의 개략도이며,

제 7도는 리이드프레임의 플래트폼의 배면의 개략도이며,

제 8도는 본 발명에 따르는 방법을 이용하여 금속으로 부분적으로 도금된 리이드프레임의 리이드의 한 말단의 개략도이며,

제 9도는 도금되는 물건이 이동될 수 있는 연속 구간의 개략도이며,

제 10도는 스트립에 연결된 물건을 제조하는 장치의 개략적 사시도이며,

제 11 - 13도는 스트립에 연결된 물건을 순환컨베이어벨트에 접속시키는 즉각적으로 헹굼이 가능한 고정수단의 한 실시형태를 보여주며,

제 14 - 16도는 즉각적으로 헹굼이 가능한 고정수단의 또다른 실시형태를 보여주며,

제 17도는 물건에 감광성 저항층을 적용하기 위한 전기영동 목조 및 전기영동 저항층 액에 있는 기포를 제거하는 설비의 한 실시형태의 개략도이며,

제 18도는 제 17도의 평면도이며,

제 19도는 제 17도에서 실질적으로 화살표 XIX에 따르는 수문(sluice)를 형성하는 롤러의 입면도이며,

제 20도는 감광성 저항층을 적용하는 전기영동 욕조의 입구 및 출구의 확대도이며,

제 21도는 적용된 감광성 저항층을 건조하는 구간의 개략적 평면도이며,

제 22도는 노출구간 및 차단막의 위치조정의 개략도이며,

제 23도는 컨베이어벨트와 노출 설비 사이의 연결관계을 개략적으로 설명하는 도면이며,

제 24도는 고리모양의 금속 피복의 생성을 위한 광차단막의 선택적 실시형태를 보여주며,

제 25도는 반사경 및 열-소산 장치를 가지는 노출등의 배치를 보여주며,

제 26도는 전기도금 욕조의 바람직한 한 실시형태의 개략적 평면도이며,

상기 도면들에 있어서, 부호 1은 리이드프레임, 2 및 3은 일례의 물건, 4는구멍(aperture), 5는 플래트폼, 6은 리이드, 7은 윗쪽 차단막, 8은 아랫쪽 차단막, 9는 절단측면, 10은 홈, 11은 도금 예정부분, 12는 절단측면의 부분, 13은 교차음영 부분, 14 - 29는 일련의 구간, 30은 장치, 31은 밴드, 32는 스트립, 33은 공정부, 34는 컨베이어벨트, 35는 고정수단, 36은 플랜지, 37은 홈(slot), 38은 수용홈(recess), 39는 욕조, 40은 펌프, 41은 롤러, 42는 격실, 43은 관, 44는 수직 부유탑, 45는 부표, 46은 부표 조절 밸브, 47은 열린 구멍, 48은 격실, 49는 안내홈, 50은 저장용기, 51은 넘침수로, 52는 진입구간, 53은 응결 구간, 54는 진입출구, 55는 설치 평판, 56은 안내블록, 57은 봉(rod), 58은 고정쇠, 59는 위치결정 사진기, 60은 노출광원의 하우징, 61 및 62는 차단막, 63은 기준 구멍, 64는 기준구멍, 65는 차단막의 표면, 66은 물건의 표면, 67은 화살표, 68은 노출광원, 69 및 70은 유리판, 71은 밀착 공간, 72는 양극(anode), 73은 칸막이, 74는 부정확한 부하, 75는 계전기를 가리킨다.

Claims (17)

1. 구멍이 있는 물건에 전기영동법으로 광저항층을 밀착되도록 적용하고, 상기 광저항층을 건조시킨 후, 상기 구멍이 있는 물건의 소정 위치에 광차단막을 피복하고, 상기 광차단막이 피복된 물건을 노출시키고 상기 광차단막을 제거한 후, 현상공정에 의해 상기 구멍이 있는 물건으로부터 광저항층을 제거함으로써 상기 구멍이 있는 물건에서 광저항층이 제거된 부분을 전기도금할 때 상기 구멍이 있는 물건에서 광저항층이 잔류하는 부분은 전기 도금에 대한 차단막으로 역할을 하도록 하는 방식의 스탬핑 또는 엣칭에 의해 제조된 구멍이 있는 금속 또는 금속 피복 물건을 선택적으로 전기도금하는 방법에 있어서,

   상기 구멍이 있는 물건이 작동 중에 광저항층 욕조를 통하여 연속적으로 이동되는 한편, 상기 물건이 적어도 욕조에 집입하는 시간부터 그 욕조로부터 벗어나는 때까지 전원에 접속되며,

   상기 물건을 노출시킬 때 유리 차단 수단 또는 피막물질이 라미네이트된 유리 차단 수단을 이용하며, 상기 차단 수단은 필요한 소정 위치가 불투명이고 노출하는 동안 상기 물건과 평행하게 이동하도록 하며,

   두 개의 광-투과 평판이 상기 차단막과 상기 물건을 노출시키는 광원의 사이에 배치되며, 한편, 상기 평판 사이에 냉각액이 통과하도록 하는 것을 특징으로 하는 구멍이 있는 금속 또는 금속 피복된 물건을 선택적으로 전기 도금하는 방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 광저항층을 적용할 때 음극방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 은도금을 할 때 pH 2 - 9.5의 전해욕조를 이용하는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제 3항에 있어서, pH 8 - 8.5이고, 온도 30 - 40℃인 욕조를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제 1항에 있어서, 상기 물건을 1 - 2.5초간 노출시키는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 구멍이 있는 물건에 전기영동법으로 광저항층을 밀착되도록 적용하고, 상기 광저항층을 건조시킨 후, 상기 구멍이 있는 물건의 소정 위치에 광차단막을 피복하고, 상기 광차단막이 피복된 물건을 노출시키고 상기 광차단막을 제거한 후, 현상공정에 의해 상기 구멍이 있는 물건으로부터 광저항층을 제거함으로써 상기 구멍이 있는 물건에서 광저항층이 제거된 부분을 전기도금할 때 상기 구멍이 있는 물건에서 광저항층이 잔류하는 부분은 전기 도금에 대한 차단막으로 역할을 하도록 하는 방식의 스탬핑 또는 엣칭에 의해 제조된 구멍이 있는 금속 또는 금속 피복 물건을 선택적으로 전기도금하는 장치에 있어서,

   상기 장치를 통하여 상기 물건을 연속적으로 이송하는 수단에 상기 물건을 적재시키는 적재구간,

   상기 물건을 세척하는 전처리 구간,

   상기 욕조를 통하여 이송되는 상기 물건에 전기영동식으로 광저항층을 적용하는 욕조,

   상기 욕조를 통하여 광저항을 적용하는 공정에 필요한 전류를 공급하는 직류전원,

   상기 물건의 광저항층을 건조시키는 수단,

   상기 광저항층을 노출시키는 수단,

   적어도 하나의 광차단막과 상기 광차단막을 상기 물건 및 광차단막에 있는 표식을 감지하는 소정 장치의 작용에 따라서 상기 물건에 대하여 수평 및 수직으로 조절가하는 수단,

   상기 차단막, 상기 표식을 감지하는 장치와 및 상기 차단막을 수평 및 수직으로 이동시키는 수단을 상기 차단막을 조절하는 동안 및 노출시키는 동안에 상기 물건을 따라서 이동시키며 노출후, 상기 물건의 이동 방향의 반대방향으로 이동시킬 수 있는 수단,

   금속 도금을 할 부분으로부터 광저항층을 제거하기 위하여 노출된 광저항층을 현상시키는 수단,

   상기 금속 도금이 필요한 부분을 세척하고 활성화시키는 수단,

   상기 부분에 금속 피복을 전기도금하는 욕조,

   잔류 전해액을 제거하기 위하여 상기 물건을 세척하는 수단,

   전기 도금 공정중 차단막으로 역할을 한 노출된 광저항층을 제거하는 수단,

   상기 물건을 최종 세척 및 건조하는 수단,

   상기 이송수단으로부터 상기 물건을 하적하는 수단, 및

   상기 이송수단을 연속식으로 구동하는 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구멍이 있는 금속 또는 금속 피복 물건을 선택적으로 전기도금하는 장치
7. 제 6항에 있어서, 상기 차단막이 요구되는 소정 위치가 불투명하게 만들어진 유리판 또는 그 위에 피막물질이 라미네이트된 유리판인 것을 특징으로 하는 장치.
8. 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 두 개의 광-투과 평판이 상기 차단막과 상기 물건을 노출시키는 광원의 사이에 배치되며, 한편, 상기 평판 사이에 냉각액을 이동시키는 수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 장치.
9. 제 6항에 있어서, 상기 장치에 욕조를 통하여 이송되는 물건에 광저항층을 적용하는 욕조 내에 두 개의 서로 일정한 간격으로 마주하는 롤러 쌍이 구비되어 상기 물건이 상기 롤러 사이를 통과하도록 하는 방식으로 구비되는 것을 특징으로 하는 장치.
10. 제 9항에 있어서, 두 롤러 쌍의 롤러가, 한쪽 롤러 쌍의 롤러의 회전축선이다른쪽 롤러 쌍의 회전축선의 방향에 대하여 서로 상향으로 교차하는 방식으로 배치되는 것을 특징으로 하는 장치,
11. 제 10항에 있어서, 상기 롤러 쌍의 측면에 배수로가 구비되고, 상기 배수로에는 흘러넘치는 액체를 받는 비스듬히 배치된 평판이 구비되는 것을 특징으로 하는 장치.
12. 제 9, 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 욕조의 액체의 흐름을 조절하기 위한 조절밸브가 구비되고, 상기 밸브는 액체 완충 저장소에 배지되며 상기 완충 저장소는 흘러넘치는 액체를 저장탱크로 이동시키기 위한 비스듬히 배치된 평판을 갖는 배수로가 장치되는 것을 특징으로 하는 장치.
13. 제 6항에 있어서, 상기 장치에 건조 구간, 응결 구간으로 제공되는 공간 및 그 상부에 배치된 전건조 구간이 구비되는 한편, 상기 응결 구간에 뜨거운 공기를 공급하고 상기 뜨거운 공기를 상기 전건조 구간을 통과하도록 방향을 전환시키는 수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 장치.
14. 제 6항에 있어서, 상기 욕조를 통하여 이동되는 물건을 금속으로 도금하는 욕조에 상기 물건의 예정된 이동방향에 따라 차례로 배열된 다수의 일정한 간격으로 떨어져 있는 양극이 구비되고, 상기 양극들 사이에 칸막이가 배치되며, 한편,상기 양극이 선택적으로 전원에 접속될 수 있도록 하는 수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 장치.
15. 제 14항에 있어서, 상기 양극의 에너지공급을 조절하는 수단이, 상기 양극이 욕조를 통하여 물건이 이동하는 것에 따라서 연속적으로 접속되도록하는 방식으로 구비되는 것을 특징으로 하는 장치.
16. 제 14항 또는 제 15항에 있어서, 도금되는 물건이 욕조에 존재하는가의 여부를 감지하는 수단이 구비되고, 상기 수단은 상기 물건이 상기 양극의 반대에 위치하는 가의 여부에 따라서 양극에 전류를 공급하거나 공급을 차단하는 것을 특징으로 하는 장치.
17. 구멍이 있는 금속 또는 금속 피복 물건에 선택적으로 구멍을 전기도금하는 방법에 있어서,

    상기 장치를 통하여 상기 물건을 연속적으로 이송하는 수단에 상기 물건을 적재시키는 적재공정,

    상기 물건을 세척하는 전처리 공정,

    상기 욕조를 통하여 이송되는 상기 물건에 전기영동식 광저항층을 적용하는 욕조에서 광저항층을 적용하는 공정,

    상기 물건의 광저항층을 세척 및 건조시키는 공정,

    상기 물건의 소정 위치에 광차단막을 피복하는 공정,

    상기 광차단막으로 피복된 물건을 노출시키는 공정,

    상기 광차단막을 제거한 후, 현상공정에 의해 구멍이 제공되어야 할 상기 물건의 부분으로부터 광저항층을 제거하여 상기 물건에서 광저항층이 잔류하는 부분은 상기 금속 물건에 대한 차단막으로 작용하도록 하는 구멍이 제공되는 부분의 광저항층을 제거하는 공정, 및

    상기 물건의 광저항층이 제거된 부분에서 금속을 제거하는 화학적 또는 전기화학적 에칭 공정으로 이루어지며,

    상기 물건이 작동중 광저항층 욕조를 통하여 계속적으로 이동되며, 한편, 상기 물건은 적어도 욕조에 진입하는 때부터 욕조로부터 벗어나는 때까지 전원에 접속되는 것을 특징으로 하는

    구멍이 있는 금속 또는 금속 피복 물건에 선택적으로 구멍을 전기도금하는 방법.