JPH04206957A - リードフレームの製造方法 - Google Patents

リードフレームの製造方法

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JPH04206957A
JPH04206957A JP33904290A JP33904290A JPH04206957A JP H04206957 A JPH04206957 A JP H04206957A JP 33904290 A JP33904290 A JP 33904290A JP 33904290 A JP33904290 A JP 33904290A JP H04206957 A JPH04206957 A JP H04206957A
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JP
Japan
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lead frame
pattern
etching
photoresist
exposure
Prior art date
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Pending
Application number
JP33904290A
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English (en)
Inventor
Kazuyuki Horii
堀井 和之
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04206957A publication Critical patent/JPH04206957A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、集積回路などの精密電子部品の回路用リード
線として使用される多数本のり−F先端部を備えた超多
ビンリードフレームの製造方法に関する。
(従来の技術) 超多ピンリードフレームは、長巻状、枚葉状の鉄−ニッ
ケル合金製のリードフレーム用シート材料にフォトレジ
ストを塗布した後、シート材料を所定の焼付露光手段に
導入して該材料を両側押え仮などによって押さえて位置
決め固定して所定のり一トパターンを焼付露光していた
また、製造された後の超多ピンリードフレームにワイヤ
ーホンディングするときのワイヤーボンディング手段に
対するリードフレームの位置決めは、ボンディングすべ
きリードフレーJ1の各インナーリート1本毎に、所定
の検出器(認識手段)によって認識して位置決めを行な
いボンディングしていた。
しかしながら、上記製造方法において、特に超多ビンの
リードフレーム(例えば1辺2Cmの正方形状の1リー
ドフレームの1辺に40本、又は52本、又は64本の
り−ドビンを備えた高密度のリードフレーム)を製造す
る場合においては、リードフレームパターンの焼付露光
工程でのリードフレーム製造用シート材料に対する高度
な焼イ」位置精度が要求され、この焼付位置精度は、後
のパターンエツチング工程のパターン位置精度にも直接
的に影つされるため、上記押え方式による露光位置決め
固定方式では、十分な精度が得られず、−層緻密にして
高度な位置決め精度が必要となるものである。
また、製造後のり一トフレーム製品に対する」−記ワイ
ヤーボンディングにおける位置決め精度は、位置決めに
使用される検出手段の精度に影響され易ずく、露光工程
からエツチング工程まで、−貫した位置決め方式が望ま
れていた。
また、従来のリードフレームの幅方向両端には、該フレ
ームの位置決めガイドホールが孔設されているが、この
ガイl−ホールは、リードフレームのパターンエッチン
グと同時にエッチングによって孔設しているため、エツ
チングによるザイI〜エンチの発生する場合があり、従
ってガイドポールの内側口径ザイスが不正確になり、ソ
ーlζフレームの正確な送り動作、特に超多ビンリー1
’−フレーJ、の正確な送り動作には不適当であった。
(発明の目的) 本発明は、回路パターン焼付露光工程でのり一トフレー
ム、特に超多ピンリードフレームの位置決めにおいて、
緻密にして高度な位置決め精度を得るとともに、リード
フレーム製造後のボンディング加工においてリードフレ
ーム位置認、徴用の検出手段を使用せずにボンディング
力11工ができるようにすることを目的とするものであ
る。
(発明の構成) 本発明は、感光性フォトレジストの塗布された積巻状の
り一トフレーム用+A料を巻き出し、巻き出された前記
材料のフォトレジストにリードフレームパターンを焼付
露光する露光工程、露光されたフォトレジスト の現像除去された部分をパターン状にエツチング除去す
るパターンエッチング工程、エツチング後のレジストを
薄膜する薄膜工程、薄膜後のエツチング材料を洗浄する
洗浄工程とからなるリードフレームの製造方法において
、前記露光工程前に、前記材料の幅方向両端部に位置決
め用ガイドホールをプレス方式にて穿孔し、該ガイドホ
ールを基準にして焼付露光手段に位置決めして焼伺露光
することを特徴とするリードフレームの製造方法である
本発明方法を第1図の実施例に従って詳細に説明すれば
、感光性フオl−レジスI・1aの塗布された長巻状の
リードフレーム用材料1を巻き出しつつ幅方向両端部に
位置決め用ガイドホール3aをプレス方式にて穿孔する
穿孔工程と、穿孔された該ガイドボール3aに所定速度
で回転するスプロケット4の送りビン4aを嵌合させて
リードフレーム用材料1を送行して焼イ」露光手段5に
位置決めし、その後に感光性フォトレジスト1aにリー
ドフレームパターンを焼付露光する露光工程、露光され
たフォトレジストを現像する現像工程、リードフレーム
用材料1の現像除去された部分をパターン状にエツチン
グ除去するパターンエッチング工程、エツチング後のエ
ツチング材料のレジストを薄膜する薄膜工程、薄膜後の
エツチング材料を洗浄する洗浄工程とからなるものであ
る。
第1図において、フットレジスト1aを塗布した長尺状
の鉄−ニッケル合金製のり一トフレーム用材料1.をイ
ンフィードローラー2によって巻き出し)般送し、穿孔
手段3によって材料1の幅方向両側端部にガイドボール
3aを孔設する。穿孔手段3は、プレス方式であり、刃
としてのパンチャー3bと受刃としてのパンチ型3cか
らなる。該材料1の搬送路幅方向両側には、所定速度に
て回転するスプロケンh4を設置する。穿孔されたガイ
ドホール3a内に、駆動回転するスプロケット4の凸部
4a(ガイドボール3aに嵌合できるザイズ)を嵌合さ
せて、該スプロケット4の回転・停止動作制御により材
料1を送行動作・停止動作制御する。前記スプロケット
4ば、装置本体動作と連動して回転し、制動機構付きの
サーボモーター、パルスモータ−などによって駆動させ
る。回転周期は、ロータリーエンコーダによって検出す
る。
また、材料lば、二ツブローラー9,9によっても、そ
の両側端部を挟持されて送行される。
本発明においては、スジ1コケノ1〜4とニップローラ
ー9,9の回転により送行する長尺状の材料1を、焼付
露光手段5の焼枠8,8の間に送り込み、材料送行方向
前後にあるスプロケンt・4.4及び前記ニップローラ
ー9,9の回転を停止することによって材料送行を停止
するとともに、その両側端部のガイドホール3aに嵌合
する前記スプロケッI・4゜4の突起部4aによって材
料1を規制して、焼枠8゜8間に位置決め固定する。そ
して位置決め固定された該材料1を、焼枠8に予め装着
されている超多ピンリードフレームパターン原版(ネガ
、又はポジタイプのガラス写真原版)7と一緒に、焼枠
8によって表裏両面より密着して押え付けながら、該露
光手段5の紫外線光源6を所定秒間だけ片面、若しくは
両面より照射して、材料1のフ第1・レジス14a(ネ
ガタイプ又はポジタイプの感光性樹脂材)に前記パター
ン原版7のパターンを焼付ける。
続いてパターン露光された後の材料1を、前記スプロケ
ット4及び後段のニップローラー9の送り込み動作によ
って現像手段10に送り込み、パターン焼付ピッチ分の
長さだけ送り込んだ段階でスプロケノl−4、4を再び
停止して+AAl1停止させ、所定分間現像を行う。現
像が行われている間、露光手段5に送り込まれている前
段の材料1を、露光手段5によって所定秒間パターン露
光する。続いて、所定分間の現像を終了した前記材料1
を、再度のスプロケット4、ニップローラー9による焼
付ピッチ分の送り込み・停止動作によって、次ぎの第1
水洗手段11に送り込み、表面に付着している現像液を
洗い流す。現像液が洗い流された材料1を、再度のスプ
ロケンI・4、ニップローラー9による焼付ピッチ分の
送り込め・停止動作によって、第1乾燥手段15に送り
込みながら乾燥して、次のエツチング手段12に送り込
み停止させ、所定分間、工ンチンダ液を材料1面に噴射
することによって、材料1のフォトレジスト付与領域以
外の領域をエッチングしてリードフレーム形状にパター
ンニツクスる。続いて、パターンエツチングされたり一
トフレームへ(ウェブ材料1)を、再度のスプロケット
4、ニップローラー9による焼付ピッチ分の送り込み・
停止動作によって、第2水洗手段13に送り込み、表面
に付着しているエンチンダ液を洗い流し、続い−ζ、再
度のスプロケノ]・4、二ツブローラー91こよる焼(
=Jピノ千分の送り込み・停止動作によって、リードフ
レーJ・八を薄膜手段14に送り込の、該フレーム八表
面のフォトレジスト て、再度のスプロケット4、二ツブローラー9による焼
付ピンチ分の送り込み・停止動作によって、洗浄手段1
6に送り込み、該フレームへの表面にイ」着している薄
膜液を水洗により洗い流す。そして、続いて該フレーム
八を、再度のスプロケソ1へ4、ニップローラー9によ
る焼付ピッチ分の送り込み・停止動作によって第2乾燥
手段17に送り込みながら水分を乾燥させる。そして、
再度のスプロケット4、ニップローラー9による焼付ピ
ッチ分の送り込み・停止動作によって、リードフレーム
八をシートカンティグ手段に送り込み、カンクー188
によってカッテングして、第3図に示すような枚葉状の
リードフレームFを製造するものである。
なお、本発明は、例えば、シー1−カッティング手段1
8の手前で、長尺状に排出されるりートフレームFを巻
き取り状の間紙と重ね合わせながら1m −ル状に巻き
取り排出することも可能である。
本発明方法の」二足第1図の工程において、穿孔手段3
は、露光手段5以隆とは切り離して設置してもよい。こ
の場合は、穿孔手段の直後に巻き取り手段、あるいはシ
ートカンティング手段を設置するものである。
または、現像手段10以降を露光手段5以前とは切り離
して設置することでもよい。また、現像手段10(第1
水洗手段11を含む)とエッチング手段12(第2水洗
手段13を含む)とを切り離して設置することでもよい
また、インフィートローラー2と穿孔手段3との間、露
光手段5と現像手段10との間、現像手段10とエツチ
ング手段12との間などに、材料1のバッファ機構とし
て、ダンサ−ローラーなどを設置することができる。
上記製造工程において使用するり一ドフレーム用材料1
としては、鉄−ニソケル合金の薄板であり、フォトレジ
スト1aとしては、水性溶剤型、有m?g剤型いずれも
使用でき、ネガタイプとして、KPR(Kodak製)
 、FSR,FUR(富士薬品製) 、TPR(東京応
化製)があり、ポジタイプとして、0f(PR(東京応
化製)などがある。レジスI−露光後の現像は、水、ア
ルカリ溶液、アルコール類などの水系現像処理で行う。
また、エツチング液としては、塩化第二鉄液を使用する
。また、エツチング後のレジスト薄膜処理液としては、
水性溶剤型レジストの場合は、アルコール類、キシレン
、トルエンなどの有機溶剤にて薄膜処理し、有機溶剤型
レジストの場合は、そのレジスト溶媒であるキシレン、
トルエン、ケトン、メチルエチルケトンナE 有aン容
剤を使用する。
第2図(a)は、本発明方法において、フメトレジス1
−の塗布されたリードフレーム用材料1に、ガイドボー
ル3aを幅方向両側に穿孔した焼付露光前の材料1の平
面図であり、両側のガイドホール3aの穿孔位置は、互
いに相対する位置でも、ポール3aの間の空間部に相対
する位置でもよい。 第2図(b)は、その側断面図で
あり、1aはフォトレジストである。
第3図は、ガイドホール3aを基準にして位置合わせを
行い、材料lのフォ)・レンスliaに焼イ]n光、パ
ターンエツチングを行ってリードフレームエツチングパ
ターンI7を形成したり−FフレームFの平面図である
第4図は、長巻状リードフレーム用材料1にフォトレシ
ス11.aを塗布する工程の説明図であり、巻き取りロ
ール八、よりり一トフレーム用祠1をインフィードロー
ラー19と、アウl−フィート゛ローラー21にて巻き
出し送行させ、該ローラー19.21の間に、フォトレ
ジスI−塗布手段20を設置する。
材料]の片面のみにフォトレジスト]aを塗布する場合
は、ガイドローラー20a と20clに直線的に材料
1を案内して、該ガイドローラー20aに対向する塗布
ローラー20eの塗布手段20によって、フォI・レジ
ス1−1aを材料1の表面に塗布するものである。また
、材料の両面にフオトレジスl□1aを塗布する場合は
、材料1を塗布手段20のガイドローラー20aから下
方のガイ[゛ローラー20b、20c及び上方のガイド
ローラー20dによって、)第1−レジス1−1aを充
填した塗布槽2Of内に浸漬して材料lの両面に塗布す
るものである。続いて、乾燥手段22でフォトレジスト りロール八。として巻き取るものである。
このようにしてフォトレジスト た巻き取りロールA2を、第1図のウェブ+A料1 と
して使用することができる。
(発明の作用) 本発明方法は、リードフレームパターンをり−トフレー
ム材料に焼付露光する前に、リードフレーム材料の幅方
向両端にガイドホールを穿孔するようにしたので、穿孔
した前記ガイドホールを基準のビン孔として、ガイドホ
ールに露光手段側に設置した材料送り用のスプロケット
の送りビンを嵌合させ、該スプロケットの回転■朋の制
御(エンコーダ及び制動機構付きパルスモータ−、ナー
ホモーターなどによる制御)乙こよって、前記材料を焼
付露光工程へ正確な所定の焼付露光ピッチで、繰り返し
、送り込め制御することができる。
従って、露光手段(焼(=Jパターン原版)に対するリ
ードフレーム材料の正確な位置決めができ、フレームパ
ターンを決められた一定な位置に焼付露光し、パターン
エツチングすることが可能となり、精緻なパターン位置
精度の要求される超多ピンリードフレームの製造に最適
である。
また、本発明方法により製造されたリードフレームの幅
方向両端には、カイFホールが穿孔されているため、製
造後のリードフレームに対する半田付け、金線付けなど
のボンディング工程におけるリードフレームとボンディ
ング手段のアクチュエーターとの間の位置決めにおいて
は、前記ガイドホールを基準孔とするビンによる位置決
めが可能になる。
従って、従来のような、光学的検出器()第1・センサ
ー、CCD)などによってリードフレーム本体を確認し
て位置の設定を行う場合における、超多ビンリードフレ
ームの微細なり一ト端子部分の検出が不正確になり易い
不都合を解消でき、ガイドポールと、スプロケットの送
りピンとの嵌合送り込み方式によって正確に実施できる
ものである。
(発明の効果) 本発明は、超多ビンリードフレームの寸法精度向上のた
め、位置決め用ガイI・ホールを穿孔してリードフレー
ムを製造する方法であり、通常のリードフレームは勿論
のこと、微細且つ細線の超多ピンリードフレームの製造
に顕著な効果を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を説明するり一ドフレーム製造工程
の側面図、第2図(a)は本発明方法における焼付露光
前の穿孔されたリードフレーム材料の平面図、第2図(
b)は本発明方法における焼付露光前の穿孔されたり−
トフレーム材料の側断面図、第3図は本発明方法により
製造されたり一トフレームの平面図、第4図は本発明方
法に使用されるリードフレーム材料にフォトレジストを
塗布する工程を説明する側面図である。 1 ・・・リードフレーム用材料 1a・・・フォトレ
ジスト ・・穿孔手段 3a・・・ガイドボール 4 ・・・ス
プロケット 5 ・・・露光手段 6 ・・・光源7 
・・・パターン原版 8 ・・・焼枠 9 ・・・アウ
トフィートローラー 11・・・第1水洗手段12・・
・エツチング手段 13・・・第2水洗手段14・・・
薄膜手段 15・・・第1乾燥手段 16・・・洗浄手
段 17・・・第2乾燥手段 18・・・シートカッテ
ィング手段 19・・・インフィーI・ローラー 20
・・・塗布手段 20e  ・・・塗布ローラー 20
f  ・・・塗布槽 21・・・アウI−フィートロー
ラー 22・ ・ ・乾燥手段 A、、 A、・ ・・
ウェブ材料

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 感光性フォトレジストの塗布された長巻状のリードフレ
    ーム用材料を巻き出し、巻き出された前記材料のフォト
    レジストにリードフレームパターンを焼付露光する露光
    工程、露光されたフォトレジストを現像する現像工程、
    前記材料の現像除去された部分をパターン状にエッチン
    グ除去するパターンエッチング工程、エッチング後のレ
    ジストを薄膜する薄膜工程、薄膜後のエッチング材料を
    洗浄する洗浄工程とからなるリードフレームの製造方法
    において、前記露光工程前に、前記材料の幅方向両端部
    に位置決め用ガイドホールをプレス方式にて穿孔し、該
    ガイドホールを基準にして焼付露光手段に位置決めして
    焼付露光することを特徴とするリードフレームの製造方
    法。
JP33904290A 1990-11-30 1990-11-30 リードフレームの製造方法 Pending JPH04206957A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774300A (ja) * 1993-01-28 1995-03-17 Meco Equip Eng Bv 孔あきの金属製品又は金属被覆製品を選択的に電気メッキする方法及び装置
JP2009267193A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd リードフレームの製造方法

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