KR940018487A - 구멍이 있는 금속 또는 금속화된 물건을 선택적으로 전기도금하는 방법 및 장치 - Google Patents

구멍이 있는 금속 또는 금속화된 물건을 선택적으로 전기도금하는 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 구멍이 있는 물건을 선택적으로 전기도금(electroplating)하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 물건은 의도하는 도금에 따라서 차단되고(masked) 이어서 물건을 전기도금하기 위하여 전해액(electrolyte)에 노출된다. 차단 목적을 위하여, 충분히 밀착된 광저항층이 전기영동에 의해 물건에 적용되며, 광저항층을 건조시킨 후 물건을 도금되는 위치에 따라서 광차단막(photomask)으로 씌워지며, 그러한 다음 노출(exposure)을 시킨다. 그 다음, 광저항층이 부분적으로 제거되는 한편, 광저항층이 남는 부분은 전기도금시 금속물건에 차단막으로 역할하도록 물건에 남겨진다.

Description

구멍이 있는 금속 또는 금속화된 물건을 선택적으로 전기도금하는 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 소위 리이드프레임(leadframe) 형태의, 잘 알려진 금속 물건(metal product)의 개략도.
제 2 도는 띠(band) 또는 조각띠(strip)에서 상호연결된 트랜지스터(transistor) 형태의 다수의 물건의 개략도.
제 3 도는 접속체계(contact system)에서 사용되도록 만들어진, 띠 또는 조각띠에서 상호연결된 다수의 물건의 개략도.

Claims (19)

  1. 충분히 밀착된(closed) 광저항층(photoresist layer)이 전기영동에 의해 구멍이 있는 물건에 적용되고, 그 광저항층을 건조시킨 뒤, 구멍이 있는 물건은 필요한 위치에 적어도 하나의 광차단막(photomask)이 씌워지고, 이어서 이 광차단막이 씌워진 물건을 노출시키고, 이러한 다음 광차단막의 제거후에 전기도금 되는 구멍이 있는 물건의 부분으로부터, 현상공정(developing process)에 의해, 광저항층을 제거하는 한편, 구멍이 있는 물건에서 광저항층이 남는 부분은 광저항층이 제거된 구멍이 있는 물건의 부분을 전기도금할 때 금속물건에 대한 차단막으로 역할하는 스탬핑(stamping) 또는 엣칭(etching)에 의해 제조된 구멍이 있는(apertured) 금속 또는 금속화된 물건(metallized products)을 선택적으로 전기도금(electroplating)하는 방법에 있어서, 상기 구멍이 있는 물건이 작동 중에 광저항층 욕조를 통하여 계속적으로 이동되는 한편, 상기 물건이 적어도, 욕조에 진입하는 시간부터 그 욕조로부터 벗어나는 때까지 전원(power source)에 접속되는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 광저항층을 적용하기 위하여 음극방법(cathodic process)을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에서, 은(silver)을 도금하기 위하여 pH 2-9.5의 전해욕조(electrolysis bath)를 이용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 3 항에서, pH 8-8.5이고, 온도 30-40℃인 욕조를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 상기항 중의 어느 하나의 항에서, 물건의 노출을 위하여, 유리 차단 수단(glass masking means) 또는 그 위에 겹쳐진(laminated) 피막 물질(film material)을 갖는 유리 차단 수단을 이용하여, 그 차단 수단은 필요한 위치가 불투명이고(opaque) 노출하는 동안 물건과 평행하게 움직일 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 상기항 중의 어느 하나의 항에서, 물건을 1-2.5초간 노출시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 장치에 광저항층을 적용하는 욕조, 그 광저항층을 노출시키는 수단 및 물건을 상기 장치를 통하여 이동시키는 수단이 설비되며, 한편, 물건 및 차단막(mask)에 있는 표식(mark)을 감지하는(detect) 장치의 작용(influence)에 따라서 물건에 대하여 수평 및 수직으로 조절가능한 적어도 하나의 광차단막(photomask)이 설비되며, 한편, 상기 차단막을 수평 및 수직으로 이동시키는 수단뿐만 아니라 그 차단막 및 상기 표식을 감지하는 장치를 차단막을 조절(adjustment)하는 동안 및 노출시키는 동안, 물건을 따라서 이동시킬 수 있으며, 노출후, 물건의 이동 방향의 반대방향으로 이동시킬 수 있는 수단이 설비되는 것을 특징으로 하는 상기항 중의 어느 하나의 항에 따르는 방법에 의한 장치.
  8. 제 7 항에서, 상기 차단막이 필요한 위치가 불투명하게 만들어진 유리판 또는 그 위에 박막 물질이 겹쳐진 유리판인 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에서, 두개의 광 - 투과 평판(light - transmitting plate)이 상기 차단막과 물건을 노출시키는 광원(light source)의 사이에 배치되며, 한편, 상기 평판 사이의 냉각액(cooling liquid)을 이동시키는 수단이 설비되는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 상기 제1 - 6항의 어느 하나의 항에 따르는 방법을 수행하는 장치에서, 그 장치에 그 욕조를 통하여 이동되는 물건에 상기 광저항층을 적용하는 욕조가 설비되고, 그것에서 두개의 서로 일정한 간격으로 마주하는(spaced-apart) 롤러 쌍(pairs of rollers)이 물건이 그 롤러 사이를 통과할 수 있는 방식으로 설비되는 것을 특징으로 하는 상기제1 - 6항의 어느 하나의 항에 따르는 방법을 수행하는 장치.
  11. 제10항에 있어서, 두 롤러 쌍의 한 롤러 쌍의 회전축(axes of rotation)이 다른 롤러 쌍의 회전축의 방향에서 상향으로(upward) 경사(slope)지고, 이 후자의 회전축은 상기 제 1 롤러 쌍의 회전축의 방향에 대해 상향으로 경사지는 방식으로 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에서, 상기 롤로 쌍의 옆에 배수로(overflow)가 설비되고, 그 배수로에는 흘러넘치는(overflowing) 액체를 위한 비스듬히(obliquely) 배치된 평판이 설비되는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제10 - 12항의 어느 하나의 항에서, 욕조로부터의 액체의 흐름을 조절하기 위하여 조정용 밸브(adjustable valve)가 설비되고, 그 밸브는 흘러넘치는 액체를 저장탱크(storage tank)로 이동시키기 위한 비스듬히 배치된 평판을 갖는 배수로가 설치된 액체 완충저장소(buffer reservoir)에 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 제7 - 13항의 어느 하나의 항에서, 상기 장치에 건조구간(drying station), 응결단면(coagulation)을 위해 설비된 공간 및 그것에 역방향으로(upstream) 배치된 전건조단면(predrying section)이 설비되며, 한편, 그 응결단면에 뜨거운 공기를 공급하고 그 공기가 상기 전건조단면을 통과하도록 하기 위하여 그 뜨거운 공기를 전환시키는(diverting) 수단이 설비되는 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 상기 제1 - 6항의 어느 하나의 항에 따르는 방법을 수행하는 장치에서, 상기 장치에 그 욕조를 통하여 이동되는 물건을 금속으로 도금하는 욕조가 설비되고, 그에 따라 그 욕조에 다수의 일정한 간격으로 떨어진(spaced-apart) 양극(anode)이 차례로, 물건의 예정된 이동방향에 따라 배열되고, 간막이(partition)가 그 양극들의 사이에 배치되며, 한편, 그에 더하여 상기 양극이 선택적으로 전원(pover source)에 접속될 수 있게 하는 수단이 설비되는 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제15항에서, 양극의 에너지공급(energizing)을 조절하는 수단이 상기 양극이 욕조를 통하여 물건이 이동하는 것에 따라서, 연속적으로 접속되도록 하는 방식으로 설비되는 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제15항 또는 제16항에서, 금속으로 도금되는 물건이 욕조에 존재하는가의 여부를 감지하는 수단이 설비되고, 그 수단은 물건이 양극의 반대에 위치하는 가의 여부에 의존하여 전류를 갖는 양극이 설비되거나 설비되지 않는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 충분히 밀착된 광저항층이 전기영동에 의해 물건에 적용되고, 광저항층을 건조시킨 뒤, 물건은 필요한 위치에 적어도 하나의 광차단막(photomask)이 씌워지고, 이어서 이 광차단막이 씌워진 물건을 노출시키고, 이러한 다음 광차단막의 제거후 현상공정에 의해 구멍(aperture)이 설비된 물건의 부분으로부터 광저항층을 제어하는 한편, 광저항층의 남는 부분은 금속 물건에 대한 차단막으로 역할하도록 물건에 남겨지고, 그러한 다음 광저항층이 제거된 물건의 부분으로부터 금속을 제거하기 위해 물건에 화학적 또는 전기화학적 엣칭공정을 가하는 공정에 의해 금속 또는 금속화된 물건에 선택적으로 구멍을 설비하는 방법.
  19. 제18항에서, 물건이 작동중에 광저항층 욕조를 통하여 계속적으로 이동되며, 한편, 그 물건은 적어도 그것이 욕조에 진입하는 때부터 그것이 그 욕조로부터 벗어나는 때까지 전원에 접속되는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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