KR100302539B1 - 염료의열에안정한결정변형체,그의제조방법및그것을사용하는소수성섬유의염색방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 염료로서 유용한 다음 구조식(1)의 화합물의 신규한 β형 결정에 관한 것이다:

본 발명의 β형 결정은 고온에서의 분산 안정성이 우수함을 특징으로 하고, 또한 X선 회절에 있어서 특정한 위치에 샤프한 피크를 갖는 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명은 종래의 열에 대하여 불안정한 α형 결정을 물, 수용성 유기용제 또는 음이온 또는 비이온 계면활성제를 함유하는 물로 구성되는 용매 중에서, 15℃ 이상, 바람직하게는 40℃ 이상의 온도로 가열처리함으로써 구성되는 β형 결정의 제조 방법에 관한 것이다.

또한, 본 발명은 상기의 β형 결정 또는 이를 함유하여 구성되는 염료 조성물, 및 그들을 사용한 염색 방법에 관한 것이다.

Description

염료의 열에 안정한 결정 변형체, 그의 제조 방법 및 그것을 사용하는 소수성 섬유의 염색 방법{Heat-stable crystal modification of dye, process for the preparation of the same, and process for dyeing hydrophobic fibers with the same}

종래의 기술

구조식(1)의 화합물은 염료로서 유용한 화합물로서 알려져 있다(일본국 특허 공고 소 45-12035 호):

상기 구조식(1)의 화합물을 함유하여 구성되는 염료는 합성섬유, 예를 들어 폴리에스테르 섬유를 진한 감색(紺色)으로 염색할 수 있음이 알려져 있다.

근래 염색업계에서는 염색 방법의 합리화, 에너지 절감 대책이 추진되고, 욕비의 감소가 꾀하여짐과 동시에, 오버마이어 염색, 치즈(cheese) 염색, 빔(beam) 염색, 액류 염색과 같은 피염물을 정지시키고, 염색 분산액을 강제적으로 순환하는 방법으로 염색하는 방법이 많이 채용되도록 되어 있고, 필터 효과에 의한 얼룩을 막기 위하여 고온에서의 분산 안정성이 우수한 염료가 강하게 요망되고 있다.

구조식(1)의 화합물은 예를 들어 도 3 에 나타내었듯이, Cu-Kα선 회절법에 있어서 완만한 기복의 피크를 가진 소위 무정형인 것이 알려져 있을 뿐이다. 이하, 본 명세서에서는 설명을 간략화하기 위하여 구조식(1)의 화합물의 공지의 무정형의 것을 「α형 결정」이라 하고, 본 발명의 신규한 결정 변형체를 「β형 결정」이라고 한다.

종래의 α형 결정의 화합물을 염료로서 사용할 경우에는, 통상의 제품화의 방법에 따라서 분산제, 예를 들어 나프탈렌설폰산 포르말린 축합물의 나트륨염 또는 리그닌설폰산 나트륨염 등과 함께, 샌드밀 등에 의해 기계적으로 미립자화한 후, 폴리에스테르 섬유 직물 또는 폴리에스테르 섬유와 아크릴 섬유 또는 면 등의 혼방직물의 염색에 제공되고 있었다. 그러나, 이 α형 결정이 열에 불안정하기 때문에, 폴리에스테르 섬유의 염색이 행해지는 95~135℃ 의 온도에서 분산 파괴가 일어나 염료 입자가 타르화하거나, 응집물이 생성되고 있었다. 이와 같은 타르화물이나 응집화된 염료 입자의 생성은 균일한 염착을 방해한다. 특히 오버마이어 염색, 치즈 염색, 빔 염색, 액류 염색 등에 있어서는 응집된 입자는 섬유층을 통과하는 것이 곤란하여 섬유 사이에 끼거나, 내부침투불량, 케이싱 스폿 등의 원인이 되어 균일한 염색물을 부여하지 않을 뿐만 아니라, 염색물의 견뢰도 저하 등의 부적당함을 초래하고 있었다.

이와 같이, 공지된 통상의 방법에 의해 제조된 상기 구조식(1)의 화합물의 α형 결정을 사용한 경우에는, 염욕 중의 염료 입자의 분산 상태가 저하되는 결점이 있고, 그 때문에 균일한 염색 농도의 염색물을 얻는 것이 어려웠다.

발명의 개시

본 발명자들은 이와 같은 결점을 개선하기 위하여 예의 연구를 거듭한 결과, 상기 구조식(1)의 화합물의 특정한 X선 회절도로 특징지울 수 있는 신규한 결정 변형체인 β형 결정이 고온에 있어서의 염색 안정성이 매우 우수함을 밝혀내고, 본 발명을 완성시켰다.

본 발명의 신규한 β형 결정은 합성섬유 등의 염색이 행해지는 95℃ 이상의 고온에 있어서도 타르화나 응집화가 발생하지 않는, 안정성이 우수함을 특징으로 하는 것이다. 그리고, 본 발명의 신규한 β형 결정은 분말 X선 회절법에 있어서 완만한 기복의 피크를 갖는 α형 결정(도 3 참조)과는 다르고, 복수개의 샤프(sharp)한 피크(peak)를 갖는 것을 특징으로 하는 것이다(도 1 및 도 2 참조). 특히, Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 23.2˚, 25.2˚의 세 곳에 샤프한 피크를 갖고 있음을 특징으로 하고 있다.

즉, 본 발명은 다음 구조식(1)의 화합물의 고온에서의 분산 안정성이 우수한β형 결정에 관한 것이다:

또한, 본 발명은 Cu-Kα선에 의한 분발 X선 회절법에 있어서, 복수개의 샤프한 피크를 갖는 상기 구조식(1)의 화합물의 β형 결정에 관한 것이다.

보다 상세하게는, 본 발명은 Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의, 적어도 회절각(2θ) 8.3˚, 23.2˚ 및 25.2˚의 세곳에 샤프한 피크를 갖는 상기 구조식(1)의 화합물의 β형 결정에 관한 것이다.

본 발명은 상기 구조식(1)의 화합물의 α형 결정을 물, 수용성 유기용매 또는 음이온 또는 비이온 계면활성제를 함유하는 물속에서, 15℃ 이상의 온도로 가열 처리함을 특징으로 하는 상기의 β형 결정의 제조 방법에 관한 것이다.

본 발명은 상기의 β형 결정의 화합물을 함유하여 구성되는 염료 조성물에 관한 것이다.

또한, 본 발명은 상기의 β형 결정을 사용함을 특징으로 하는 소수성 섬유의 염색 방법에 관한 것이다.

발명이 속하는 기술 분야

본 발명은 신규한 결정형을 갖는 화합물, 열에 안정한 분산 염료의 결정 변형체, 그의 제조 방법 및 그것을 사용하는 염색 방법에 관한 것이다.

도 1 및 도 2 는 본 발명의 열에 안정한 β형 결정의 X선 회절도를 나타낸 것이다. 도면 중의 횡축은 회절각 2θ를 나타내고, 종축은 회절강도를 나타내고 있다.

도 3 은 공지된 열에 불안정한 α형 결정(무정형)의 X선 회절도를 나타낸 것이다. 도면 중의 횡축은 회절각 2θ를 나타내고, 종축은 회절강도를 나타내고 있다.

본 발명의 고온에 있어서의 염색에 안정한 상기 구조식(1)의 화합물의 β형 결정은, 공지의 α형 결정의 습윤 케이크 또는 건조 케이크를, 물, 수용성 유기용매, 및 음이온계 계면활성제 또는 비이온계 계면활성제를 함유할 수 있는 물로 구성되는 그룹에서 선택되는 적어도 1 종의 용매 중에서 15℃ 이상, 바람직하게는 40 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 70℃ 이상의 온도로 가열함으로써 제조할 수 있다. 원료가 되는 α형 결정은 이것을 단독으로 사용할 수 있으나, 다음 구조식(2)의 화합물을 30 중량% 정도까지 함유한 상기 구조식(1)의 화합물과 하기 구조식(2)의 화합물의 염료 조성물을 사용할 수도 있다:

상기의 용매는 원료가 되는 α형 결정 1 중량부(건조 중량)에 대하여 5~100 중량부 사용하는 것이 바람직하다. 처리 시간은 필요에 따라서 길게 하거나 짧게 할 수 있다. 통상 15℃ 이상 200℃ 이하, 바람직하게는 40℃ 이상 200℃ 이하, 보다 바람직하게는 40℃ 이상 100℃ 이하, 더욱 바람직하게는 70℃ 이상 100℃ 이하에서 통상 1 시간에서 3 시간 정도 가열함으로써, α형 결정은 본 발명의 β형 결정으로 변환된다. 이때, 100℃ 이상으로 온도를 유지하거나, 처리 시간을 길게 하는 것은 아무런 지장이 없으나, 경제적으로 불리하다.

용매로서 사용될 수 있는 수용성 유기 용매의 예로는 메탄올, 에탄올, 이소프로필알콜, 부틸알콜 등의 저급알콜류, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르류, 에틸렌글리콜 등의 글리콜류, 아세톤, 메틸에틸케톤류의 케톤류, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 환상 에테르류를 들 수 있다.

또한, 사용될 수 있는 음이온계 계면활성제의 예로는 β-나프탈렌설폰산 포르말린 축합물의 나트륨염, 리그닌설폰산 나트륨염류 등을 들 수 있고, 또한 비이온계 계면활성제의 예로는 솔비탄지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌 솔비탄지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아민류 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합 사용할 수 있다.

α형 결정으로부터 β형 결정으로의 변환은 커플링 반응 후, 여과 수세하여 얻어지는 습윤 케이크, 또는 그것을 건조시킨 것을 사용하여 행하거나, 여과 공정을 거치지 않고 커플링 반응이 종료된 반응액을 그대로 또는 중화 후에 가열하거나, 또는 그 반응액에 필요량의 수용성 유기용매, 또는 음이온 또는 비이온계 계면활성제를 첨가한 후 가열함으로써 행할 수도 있다. 또한, 커플링 반응에 나쁜 영향을 미치지 않는 것이면 그들의 용매 또는 계면활성제를 커플링 반응에 앞서 가하여 두고, 커플링 반응 종료 후 열처리함으로써도 α형 결정으로부터 β형 결정으로의 변환이 가능하다.

수용성 유기용매는 통상 물에 대하여 5~50 중량%, 계면활성제는 물 또는 물과 유기용매의 혼합물에 대하여 0.1~50 중량% 첨가하여 사용된다.

상기의 방법에 있어서, β형 결정으로의 변환 : 완결되어 있는지 어떤지는 X선 회절 스펙트럼의 측정에 의해 용이하게 확인할 수 있다.

또한, 상기 구조식(1)의 화합물의 α형 결정은 공지된 방법에 따라서 제조할 수 있고, 예를 들어 6-브로모-2,4-디니트로아닐린을 디아조화하고, 산성매체중에서3-[N-(2-시아노에틸)-N-에틸아미노]-4-메톡시아세토아닐리드에 커플링시킴으로써 얻어진다. 원료로서 상기 구조식(1)의 화합물과 상기 구조식(2)의 화합물의 염료 조성물을 사용할 경우에는, 상기 구조식(1)의 커플링 성분인 3-[N-(2-시아노에틸)-N-에틸아미노]-4-메톡시아세토아닐리드에, 3-[N-(2-시아노에틸)아미노]-4 -메톡시아세토아닐리드를 30 중량% 정도까지 함유한 커플링화 물질을 사용하여 얻어진 것을 그대로 사용할 수도 있다.

본 발명의 β형 결정은 고온에서의 분산 안전성이 우수함을 특징으로 할 뿐만 아니라, 분말 X선 회절법에 있어서 복수개의 샤프한 피크를 갖는 것을 특징으로 하는 것이고, 보다 구체적으로는 예를 들어 Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 23.2˚ 및 25.2˚의 적어도 세곳에 샤프한 피크를 갖는 것이며, 더욱 구체적으로는 Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 9.0˚, 21.1˚, 22.9˚, 23.2˚, 24.2˚, 25.2˚및 26.1˚에 피크를 갖는 X선 회절도에 의해 특징지워지는 것(도 1 참조, 이하 이 결정형을 β-1형 결정이라고 한다), 또는 Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 10.4˚, 18.8˚, 23.2˚, 25.2˚ 및 28.2˚에 피크를 갖는 X선 회절도에 의해 특징지워지는 것(도 2 참조, 이하 이 결정형을 β-2형 결정이라고 한다)을 들 수 있다. 또한, 회절각의 측정치에 대해서는 통상의 오차 범위, 예를 들어 ±0.2 정도는 허용된다.

본 발명의 β형 결정을 갖는 염료에 의해 염색할 수 있는 섬유류로는 예를 들어 폴리에스테르 섬유, 트리아세테이트 섬유, 디아세테이트 섬유, 폴리아미드 섬유 및 이들끼리의 혼방품, 또는 이들과 레이온 등의 재생섬유 또는 목면, 견, 양모등의 천연섬유와의 혼방품, 혼직품 등을 들 수 있다. 본 발명의 상기 구조식(1)의 구조를 갖고 β형 결정을 갖는 염료를 사용하여 섬유의 염색을 행하는데는 통상, β-나프탈렌설폰산 포르말린 축합물의 나트륨염, 세파산과 포르말린의 축합물의 나트륨염, 알킬나프탈렌설폰산 포르말린 축합물의 나트륨염, 리그닌설폰산 나트륨염, 알킬나프탈렌설폰산의 나트륨염, 고급알콜황산에스테르, 고급알킬벤젠설폰산의 나트륨염 등의 분산제의 존재하(통상, 분산제는 염료원료 분말에 대하여 중량비로 1~5 배 사용된다.), 수성매체 중에서 염료 케이크를 뢰궤기(으깨는 기계), 샌드밀 또는 샌드그라인더 등을 사용하여 충분히 습식분쇄하여 그대로 페이스트로서, 또는 분무 건조 등으로 건조시켜 건조품의 미립자화 염료로 만들고, 염색욕 또는 날염호를 조제하여, 이것을 사용하여 침염 또는 날염처리를 행할 수 있다. 침염의 경우에는, 예를 들어 고온 염색법, 캐리어(carrier) 염색법, 또는 서모졸(thermosol) 염색법 등의 염색법을 적용할 수도 있다. 염색을 행하는데 있어서, 본 발명의 β형 결정의 상기 구조식(1)의 화합물을 함유하여 구성되는 염료와 다른 염료, 예를 들어 황색계 염료, 적색계 염료와 함께 흑색염료를 조제하여도 지장없고, 또한 여러 가지 배합제를 첨가하여도 된다.

실제의 염색법은 예를 들어 다음과 같이 하여 행해진다.

소수성 섬유를 침염법으로 염색하는데는, 섬유를 침지한 수성용매 중에서 가압하 105℃ 이상, 바람직하게는 110~140℃ 로 염색하는 것이 유리하다. 또한, 캐리어 염색법에 있어서는 o-페닐페놀이나 트리클로로벤젠 등의 캐리어의 존재하에 비교적 고온, 예를 들어 물의 비등상태에서 염색할 수도 있다. 또한 서모졸 염색법에서는 염료 분산액을 천에 패딩(padding)하고, 150~230℃, 30초~1분간의 건조처리를 행하는 소위 서모졸 방식에서의 염색도 가능하다. 날염법에 있어서는 분산화된 염료와 천연호제(예를 들어 로커스트빈검, 구아검 등), 가공호제(예를 들어 카복시메틸셀룰로즈 등의 셀룰로즈 유도체, 가공 로커스트빈검 등), 합성호제(예를 들어 폴리비닐알콜, 폴리비닐아세트산 등) 등과 함께 날염호를 조제하고, 천에 인날(印捺)한 후 스티밍 또는 서모졸 처리하는 날염법에 의한 염색을 행해도 된다.

본 발명의 β형 결정의 미립자화 염료를 사용하여 염색할 경우의 통상의 사용량은, 건조 상당분 환산으로 1~15% o. w. f. (대 섬유 중량)이다.

본 발명에 의하면 80℃ 이상, 바람직하게는 95℃ 이상, 보다 바람직하게는 95~230℃ 의 고온에서의 안정성이 우수한 분산액이 얻어지고, 또한 상기 구조식(1)의 화합물의 염료로서의 본래의 염색 특성(색상, 빌드업(build-up)성, 컬러 밸류) 및 견뢰도 특성을 유지하면서도 케이싱 스폿이 없는 균일한 염색물을 부여한다. 즉, 본 발명의 상기 구조식(1)의 화합물의 β형 결정을 함유하여 구성되는 염료는, 종래의 α형 결정에 비하여 고온에서의 분산 안정성이 우수한 것이다.

이하 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명이 이들 실시예만으로 한정되는 것은 아니다.

또한, 실시예 중에서 사용하는 % 및 부는 중량 기준이다.

실시예 1

진한 황산 18.5부 및 40% 니트로실황산 16.2부 중에 2,4-디니트로-6-브로모아닐린 13.1부를 가하고, 45~50℃ 에서 2 시간 교반하여 2,4-디니트로-6-브로모아닐린의 디아조액을 얻었다.

한편, 5% 황산 수용액 110부 중에 3-[N-(2-시아노에틸)-N-에틸아민]-4-메톡시아세토아닐리드 13.1 부를 용해시키고, 계속하여 0~5℃에서 상기 디아조액을 적가하여, 커플링을 행하였다. 이 사이, 25% 수산화나트륨 수용액을 적당히 적가하여 커플링 반응액의 pH 를 3-4 로 유지하였다. 온도는 얼음을 가하여 0~5℃ 로 유지하였다.

반응 종료 후, 여과 수세하여 염료 케이크 25.7부(건조 상당분)를 얻었다. 이 케이크의 일부를 취해 X선 회절을 행한 바, X선 회절도는 도 3 에 나타낸 것과 같은 무정형의 α형 결정이었다.

계속하여 이 염료 케이크를 물 500부 중에 분산시키고, 교반하 75~85℃에서 1 시간 가열처리를 행하였다. 처리 후, 케이크를 여과하고, 이 일부를 X선 회절법에 의해 분석한 결과, 도 2 에 나타내는 것과 같은 X선 회절도를 갖는 β형 결정(β-2)이었다.

실시예 2

실시예 1 과 동일한 방법으로 얻은 α형 결정의 습윤 케이크 21부(건조 상당분)와 데몰N(상품명, 음이온계 계면활성제, 화왕(花王)(주)제) 21부, 데몰C(상품명, 음이온계 계면활성제, 화왕(주)제) 28부 및 물 300부의 혼합물을 70℃~75℃로 1시간 가열하고, 그 일부를 여과, 수세 후 감압으로 건조시켰다. 얻어진 결정의 X선 회절도는 도 2 와 거의 동일하고 β형 결정(β-2)이었다.

상기 열처리액을 샌드밀로 마쇄한 후, 분무 건조시킨 염료 조성물 3부를 물 3000부에 분산시키고, 아세트산-아세트산 나트륨으로 pH 4.5 로 조정한 염욕 중에 폴리에스테르 백포 100부를 침지하여 130℃, 60분간 염색하였다. 소핑, 수세, 및 건조를 행한 바, 균일하게 염착된 진한 감색의 염포가 얻어졌다.

실시예 3

실시예 1 과 동일한 방법으로 얻은 α형 결정의 습윤 케이크 21부(건조 상당분)와 데몰N 24부, 팔렉스DP(상품명, 음이온계 계면활성제, 일본제지(주)제) 24부 및 물 300부의 혼합물을 70℃~75℃ 로 1 시간 가열하고, 그 일부를 여과, 수세 후 감압으로 건조시켰다. 얻어진 염료 결정의 X선 회절도는 도 1 에 나타낸 것과 같은 β형 결정(β-1)이었다.

상기 열처리액을 샌드밀로 마쇄한 후, 분무 건조시킨 염료 조성물 3부를 물 3000부에 분산시키고, 아세트산-아세트산 나트륨으로 pH 4.5 로 조정한 염욕 중에 폴리에스테르 백포 100부를 침지하여 130℃, 60분간 염색하였다. 소핑, 수세, 및건조를 행한 바, 균일하게 염착된 진한 감색의 염포가 얻어졌다.

실시예 4

실시예 3 에 있어서의 결정 변환을 위한 계면활성제(분산제) 대신에 레오도르TWO-120(상품명, 폴리옥시에틸렌솔비탄계 비이온 계면활성제, 화왕(주)제) 7.5부를 사용하여 실시예 3 과 동일한 조작을 행하고, 구조식(1)의 화합물의 β형 결정(β-1)을 얻었다.

실시예 5

실시예 3 에 있어서의 결정 변환을 위한 계면활성제(분산제) 대신에 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 30부를 사용하여 실시예 3 과 동일한 처리를 행하고, 구조식(1)의 화합물의 β형 결정(β-1)을 얻었다.

실시예 6

실시예 1 과 동일하게 하여 커플링을 행하고, 그 후 계속해서 커플링액을 70~75℃ 로 1 시간 가열 교반하였다. 여과, 수세에 의해 얻어진 구조식(1)의 화합물의 결정은 β형 결정(β-2)을 나타냈다.

실시예 7

실시예 1 과 동일하게 디아조액을 조제하고 소정의 커플링화 물질을 5% 황산 수용액에 용해시킨 후, 추가로 레오도르TWO-120 1.25부를 가하고, 0~5℃ 에서 디아조액을 적가하여 커플링을 행하였다. 이 사이, 커플링 반응액에 25% 수산화나트륨 수용액을 적가하여 pH 3~4 로 유지하였다. 반응 후, 추가로 15~25℃ 로 1 시간 유지하고 여과, 수세하였다. 얻어진 구조식(1)의 화합물의 결정은 β형 결정(β-2)을나타냈다.

실시예 8

실시예 1 과 동일하게 디아조액을 조제하였다. 한편, 커플링화 물질의 목적 성분인 3-[N-(2-시아노에틸)-N-에틸아민]-4-메톡시아세토아닐리드 85%, 커플링화 물질 합성시의 미반응분인 3-[N-(2-시아노에틸)아민]-4-메톡시아세토아닐리드 13%(고속 액체크로마토그래피-(HPLC, 검출기;UV-254nm)로 분석, 면적비%)의 혼합물을 5% 황산수용액에 용해시키고, 계속하여 반응 온도를 0~5℃ 로 유지하면서 상기 디아조액을 적가하여, 커플링 반응을 행하였다. 이때, 25% 수산화나트륨 수용액을 적당히 적가하여 커플링 반응액을 pH 3~4 로 유지하였다. 2 시간 실온에서 교반을 행하고 그 후, 75~80℃ 로 승온시키고 약 1 시간 동안 동일 온도에서 교반하였다. 통상, 수세에 의해 얻어진 염료 혼합물 결정의 X선 회절도는 도 2 와 동일하고 β형 결정 변형체(β-2)이었다.

이 염료 혼합물은 HPLC 분석의 결과, 주성분으로 2'-(2-브로모-4,6- 디니트로페닐아조)-5'-[N-(2-시아노에틸)-N-에틸아미노]-4'-메톡시아세토아닐리드79.7%, 부성분으로 2'-(2-브로모-4,6-디니트로페닐아조)-5'-[N-(2-시아노에틸)아미노]-4'-메톡시아세토아닐리드 19.4% 로 구성되어 있다(검출기; vis-590nm, 면적비 %).

비교시험

α형 결정 또는 β형 결정을 나타내는 구조식(1)의 염료를 각각 21부, 데몰N 21부, 데몰C 28부와 함께 샌드밀로 습식 분쇄시킨 후, 감압 건조시켜 각각의 분산화 염료 조성물을 조제하였다. 얻어진 각 염료 조성물의 열에 대한 안정성을 비교하기 위해, (1) 열응집성 시험, 및 (2) 케이싱 스폿 시험을 이하에 기술하는 방법으로 행하였다. 시험 결과를 다음의 표 1 에 나타내듯이, 본 발명의 β형 결정을 사용한 경우에는 열응집성 시험에 있어서 응집물이 약간 확인되는 정도(3급)인 것에 대하여, α형 결정을 사용한 경우에는 응집물이 매우 현저하고(1급), 또한 케이싱 스폿 시험에 있어서는 스폿의 발생이 조금(4급)이었던 것에 대하여, α형 결정을 사용한 경우에는 매우 현저하였다(1급).

각 시험 방법의 상세는 다음과 같다.

(1) 열응집성 시험

분산화 염료 조성물 0.5부를 물 100부 중에 분산시키고, 아세트산과 아세트산 나트륨에 의해 pH4.5 로 조정한 염욕을, 섬유를 침지하지 않고(=블랭크욕), 60℃ 에서 40 분에 걸쳐서 130℃ 로 하여, 동일 온도로 10 분 유지한 후, 5분 동안에 95℃ 로 냉각하고, 정량 여과지(동양 여과지 No. 5A)를 사용하여 흡인 여과하여 여과지상의 잔사의 양과 상태로 판정하였다. 이하의 5 급~1 급의 5 단계 표시에 의한다.

5 급 : 여과지상에 응집물 없음

4 급 : 여과지상에 응집물이 조금 확인됨

3 급 : 여과지상에 약간 응집물이 확인됨

2 급 : 여과지상에 상당한 응집물이 확인됨

1 급 : 여과지상에 응집물이 매우 현저함

(2) 케이싱 스폿 시험

분산화 염료 조성물 0.25부를 물 180부에 분산시키고, 아세트산, 아세트산 나트륨으로 pH 4.5 로 조정한 염욕 중에, 테트론 저지 10부를 침지하여 60℃ 에서 40 분에 걸쳐서(컬러 패트 염색기를 사용) 130℃ 로 하고, 동일 온도로 10 분 유지한 후, 60℃ 까지 냉각하여, 피염물이 피염물 홀더에 내접하는 부분에 부착한 응집물의 상태로 판정하였다. 이하의 5 급~1 급의 5 단계 표시에 의한다.

5 급 : 스폿의 발생 없음

4 급 : 스폿이 조금 발생

3 급 : 스폿이 약간 발생

2 급 : 스폿이 상당량 발생

1 급 : 스폿의 발생이 매우 현저함

Claims (10)

1. 다음 구조식(1)로 표시되는 화합물의 고온 안정성이 우수한 β형 결정:

   
2. 제 1 항에 있어서, 95~135℃ 에서 안정한 β형 결정.
3. 제 1 항 또는 2 항에 있어서, Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 23.2˚ 및 25.2˚에 샤프한 피크를 갖는 β형 결정.
4. 제 3 항에 있어서, Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 9.0˚, 21.1˚, 22.9˚, 23.2˚, 24.2˚, 25.2˚ 및 26.1˚ 에 피크를 갖는 β형 결정.
5. 제 3 항에 있어서, Cu-Kα선에 의한 분말 X선 회절법의 회절각(2θ) 8.3˚, 10.4˚, 18.8˚, 23.2˚, 25.2˚ 및 28.2˚ 에 피크를 갖는 β형 결정.
6. 다음 구조식(1)의 화합물의 무정형을 물속, 수용성 유기용매 또는 음이온 또는 비이온 계면활성제를 함유하는 물속에서 15℃ 이상의 온도로 가열처리함을 특징으로 하는 제 1 항 내지 5 항중 어느 한 항에 기재된 β형 결정의 제조방법 :

   
7. 제 1 항 내지 5 항중 어느 한 항에 기재된 β형 결정의 화합물을 함유하여 구성되는 염료 조성물.
8. 제 7 항에 있어서, 다음 구조식(2)의 화합물을 30% 이하의 비율로 함유하여 구성되는 염료 조성물:

   
9. 제 1 항 내지 5 항중 어느 한 항에 기재된 β형 결정을 사용함을 특징으로 하는 소수성 섬유의 염색 방법.
10. 제 7 항 내지 8 항중 어느 한 항에 기제된 조성물을 사용함을 특징으로 하는 소수성 섬유의 염색 방법.

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