KR100244739B1 - 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
워크스테이션 및 워크스테이션의 작업매체의 온도를 소정의 온도에 조정하는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치다. 온도 제어장치는 열교환기 따위의 냉각수단, 냉각제 온도 센서와 제어장치, 매니폴드 따위의 유체 냉각제의 원천, 재순환 펌프, 유량 조절기와 히터를 함유하고 냉각제를 워크스테이션에 순환시키는 유로, 유량 조절기와 히터를 우회시키는 우회 밸브, 및 워크스테이션 온도 센서와 제어장치로 이루어져 있다. 워크스테이션 온도 제어장치는 냉각제의 온도가 워크스테이션에 대하여 희망온도 이하가 되게 히터와 우회 밸브의 작동을 제어하며, 따라서 과냉각을 피하는 한편 급속한 순간적 대응을 성취하는 것이다. 냉각제 온도 제어장치와 워크스테이션 온도 제어장치는 온도 제어 컴퓨터에 속해도 좋으며, 따라서 많은 수의 상이한 작동순서를 제공하는 것이다.
Description
제1도는 온도제어장치의 개략도이다.
제2도는 온도가 제어되는 하나의 가능적 워크스테이션(workstation)의 사시도이다.
제3도는 온도가 제어되는 제 2 의 가능적 워크스테이션의 사시도이다.
제4도는 온도가 제어되는 제 3 의 가능적 워크스테이션의 사시도이다.
제5도는 온도가 제어되는 제 4 의 가능적 워크스테이션의 사시도이다.
제6도는 워크스테이션의 온도제어를 나타내는 하나의 그래프이다.
제7도는 워크스테이션의 온도제어를 나타내는 제 2의 그래프이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
12 : 냉각수단(cooling vehicle) 14 : 주 냉각제 온도 센서
16 : 주 냉각제 온도 제어장치 20 : 제어장치 도선
22 : 프로그램 온도제어컴퓨터 24 : 원(源) 유체 냉각제(또는 매니폴드)
25 : 유체 냉각제 26, 26.1, 26.2 : 유로(flow line)
28, 28.1, 28.2 : 워크스테이션(workstation)
29.1 : 윗면 29.2 : 내부의 원통형 통로
29.3 : 내부 파이프 29.4 : 상측 구획실
29.5 : 아래측 구획실 29.6 : 냉각판
30 : 재순환 펌프 32 : 복귀로
34, 34.1, 34.2 : 유량 조절기 36, 36.1, 36.2 : 히터
38. 38.1, 38.2 : 작업매채(work medium) 또는 공작물(workpiece)
39 : 모터 축 40 : 워크스테이션 온도 센서
42 : 워크스테이션 온도 제어장치 48, 48.1, 48.2 : 우회 밸브
52 : 모터 56 : 회전 척(chuck)
본 발명은, 작업매체나 공작물이 있는 워크스테이션(workstation)을 설정온도로 신속하게 냉각하기 위한, 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치에 관한 것이다.
반도체용 실리콘 웨이퍼에 포토레지스터 등과 같은 약품처리를 할 때는 매우 정밀한 온도제어를 요한다. 그러한 정밀한 온도의 제어를 성취하는 데에, 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치가 이용되고 있다.
이러한 형식의 온도 제어장치는 실온 또는 실온부근의 온도 제어에, 물 따위의, 재순환 냉각제를 이용한다. 냉각제가, 제어되는 재료에 성취될 온도에 준비되고 설정점 가까이의 전열(heat transfer)이 매우 느리기 때문에, 대개의 그러한 온도 제어장치는 신속한 순간적 대응을 성취하기 위하여 많은 유량(flow rates)을 필요로 한다. 대개의 그러한 온도 제어장치는, 상이한 온도의 다수의 워크스테이션의 온도제어를 성취함에는 다수의 순환기가 또한 있어야 하는 것이다.
따라서, 본 발명의 목적은 우선, 최소한 유량으로 신속한 순간적 대응을 해내는 온도 제어장치를 제공함에 있다.
본 발명의 두번째 목적은 다수의 워크스테이션의 온도의 제어를 성취하는 데, 단지 하나의 순환기를 사용하는 온도 제어장치를 제공함에 있다.
본 발명의 특징은, 워크스테이션과 그 안의 고체 또는 유체의 작업매체를 소정의 온도가 되게 신속히 냉각해 내는, 즉, 신속한 순간적 대응, 즉, 워크스테이션을 그의 시초의 온도로부터 요구되는 온도에 아주 접근하는 온도로 냉각함에 필요한 시간을 달성하는 장치이다. 그러한 신속냉각은 소정의 온도보다 낮은 온도의 냉각제를 워크스테이션 안으로 이끌어 들임에 의하여, 그리고 워크스테이션의 온도가 희망하는 소정의 온도를 대략 흉내낼 정도로, 그의 유로의 냉각제에 열을 부가함에 의하여 달성된다.
본 발명의 또 다른 특징은, 워크스테이션의 온도를 조정하고, 따라서 워크스테이션의 온도를 주위온도 이하나, 주위온도 또는 주위온도 이상에 설정할 능력을 제공하는 장치이다.
본 발명의 또 다른 특징은, 단 하나의 순환기로 냉각제를 다수의 워크스테이션에 순환시키는 장치이다. 다수의 워크스테이션에 대해 단지 하나의 순환기를 가지어 신빙성이 증대하며 복합적 순환기 해결 방법에 비하여 비용이 줄어드는 것이다.
본 발명의 또 다른 특징은, 다수의 워크스테이션의 온도를 조정하는 장치이다. 이렇게 하여, 각 워크스테이션은 그의 주위온도 이하, 주위온도, 또는 주위온도 이상의 따로 따로의 설정점을 가져도 좋다.
게다가 본 발명의 또 다른 특징은 다수의 워크스테이션에 온도의 제어를 제공하는 방법이며, 신속한 순간적 대응이 워크스테이션에 비온난(unwarmed) 냉각제의 흐름을 순간적으로 이끌어 들임에 의해 달성되고, 단지 하나의 순환기가 사용되며, 냉각제 온도가 워크스테이션의 온도의 약간 아래이고, 각 워크스테이션에서 냉각제가 정밀하게 데워지는 것이다.
이하, 우선의 실시양태들을 상세히 설명한다.
본 발명의 한 실시양태를 제1도에 숫자 (10)으로 가리키고 있다. 본 실시양태는 첫째로 유체 냉각제의 원천(source)과, 그 유체 냉각제를 실온 또는 실온 부근의 소정의 온도 이하의 온도에 유지하는 수단으로 이루어져 있다.
본 발명은 유체 냉각제 온도를 ±5℃ 이내의 오차에 유지한다.
유체 냉각제를 소정의 온도 이하에 유지하는 수단은, 냉각수단(cooling vehicle) 및 관련 제어장치로 이루어져 있다. 열교환기 따위의 냉각수단(12)은, 유체 냉각제를 워크스테이션과 작업매체 또는 공작물에 대해 희망하는 온도 이하의 온도에 냉각한다. 주 냉각제 온도 센서(14)는 유체 냉각제의 온도를 검출한다. 유체 냉각제의 온도를 검출함에 있어서, 온도 센서(14)는 이 온도의 지시를, 전선이나 다른 전도의 수단 따위의 센서 도선(18)의 수단에 의하여 주 냉각제 온도 제어장치(16)에 제공한다. 주 냉각제 온도 제어장치(16)은, 조작자에 의해 제공되는 설정치 정보에 따라 동작하여, 전선 또는 다른 전도 매체이어도 좋은 제어장치 도선(20)의 수단에 의하여 냉각 비이클(12)에 신호하고, 유체 냉각제로부터 열을 충분히 제거하여 유체 냉각제의 온도를, 워크스테이션과 작업매체 또는 공작물에 기대하는 온도 이하인, 희망온도에 유지하게 한다. 주 냉각제 온도 제어장치(16)은 프로그램된 온도 제어 컴퓨터(22)에 속해도 좋다.
냉각 수단(12)으로 부터의 냉각제는, 파이프나 매니폴드(24) 따위의 유체 냉각제의 원천으로 들어간다. 이 실시양태에서, 위에 기술한 온도센서(14)는 매니폴드(24) 내에 있거나 또는 매니폴드(24)에 부착돼 있으며, 그런 까닭에 매니폴드(24)의 유체 냉각제의 온도를 감지하는 것이다.
냉각 수단(12)과 매니폴드(24)로부터의 냉각제는 유로(26), 복귀로(32) 및 재순환 펌프(30)으로 이루어지는 냉각제 순환 수단에 의하여, 워크스테이션(28)으로 그리고 워크스테이션(28)을 통하여 순환된다.
매니폴드(24)로부터의 유체 냉각제(25)는 유로(26)로 들어간다. 유로(26)는, 유로(26)를 통해 액체 냉각제의 희망유량을 유지하는 유량 조절기(34)를 바람직하게 함유하고 있다. 그러한 유량 조절기의 하나의 독특한 실시양태는 하나의 고정 오리피스이다. 유로(26)는, 워크스테이션(28)으로 흐르는 유체 냉각제의 온도를 조절하며, 또 계속적으로 흐르는 냉각제 유체에, 필요한 경우 계속적으로 열을 가하는, 전기저항 가열기와 같은 히터(36)을 또한 함유하고 있다.
유체 냉각제는 유로(26)로 부터 워크스테이션(28)으로 들어가고, 워크스테이션(28)을 통과하며, 워크스테이션(28)을 나가 유로(26)로 흐른다. 냉각제는 그 다음, 복귀로(32)에 따라 재순환 펌프(30)와 냉각 수단(12)으로 복귀한다. 매니폴드(24)로부터의 냉각제는 또한 복귀로(32)를 통해 직통으로 재순환 펌프(30)와 냉각 비이클에 복귀한다.
유체 냉각제가 워크스테이션(28)을 통과함에 따라, 유체 냉각제는 전열에 의해 워크스테이션(28)의 온도를 유체 냉각제의 온도에 조정한다. 유로(26)의 냉각제는 정상적으로는 워크스테이션(28) 보다 작지만, 유로(26)의 냉각제가 워크스테이션(28)의 온도보다 높은 온도에 또한 있을 수도 있다. 워크스테이션(28)은, 온도가 제어되게 되는 작업매체 또는 공작물(38)과 밀접하게 연합되며, 작업매체 또는 공작물의 온도는 그런 까닭에 워크스테이션의 온도에 가까워지는 것이다.
워크스테이션(28)은, 온도 센서(40)이 워크스테이션(28)의 온도를 검출하는 그런 방식의 워크스테이션 온도 센서(40)를 그와 연합하였다. 온도 센서(40)는 워크스테이션(28)의 온도 검출에 입각하여, 이 온도의 정보를, 전선 또는 다른 전달매체 따위의, 센서 도전(44)의 수단에 의해, 제어 수단인 워크스테이션 온도 제어장치(42)에 제공하는 것이다. 워크스테이션(28)에 유지되게 되는 설정온도는 조작자에 의해서 워크스테이션 온도 제어장치(42)에 주어진다. 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 프로그램된 온도 제어 컴퓨터에 속하여도 좋으며, 그런 까닭에 워크스테이션의 온도를 조절함에 있어 대단한 융통성과 정밀도를 제공하는 것이다. 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 워크스테이션 온도 센서(40)로부터의 온도지시치를 희망온도에 비교하고, 워크스테이션 온도를 희망온도에 조정함에 적절한 동작을 취한다.
워크스테이션 온도를 희망온도에 조정함에는, 워크스테이션 온도 제어장치(42)가 전선 또는 다른 전달 매체이어도 좋은 제어장치 도선(46)에 의해, 히터(36)에 신호하여 다소의 열을 제공하게 된다. 히터는, 냉각제 원천 전체라기 보다는, 워크스테이션(28)에의 유로(26)의 냉각제 흐름의 부분 만을 가열한다. 이는 워크스테이션의 온도의 정밀하고 급속한 조정에 대비하는 것이다.
유로는, 유량 조절기(34)와 히터(36)의 양자를 우회하는, 우회밸브(48)따위의 수단을 또한 함유하고 있다. 우회 밸브(48)가 열리는 경우, 비온난 냉각제의 흐름이 증대된 유량으로 워크스테이션(28)에 공급될 것이며, 따라서 워크스테이션(28)을 급속히 냉각할 것이라는 것을 이해할 것이다. 밸브(48)은, 전선 또는 다른 전달 매체이어도 좋은 제어장치 도선(50)의 수단에 의해서, 워크스테이션 온도 제어장치(42)에 의하여 제어된다.
기술분야에 숙련한 이들은 우회 밸브(48)와 히터(36)가 작동되는 순서는 필요한 순간적 대응의 신속성과, 그리고 워크스테이션(42)의 온도와 희망온도 간의 초기의 온도차에 좌우되리라는 것을 평가할 것이다. 한 극단의 5℃와 같은, 초기의 큰 온도차는 워크스테이션 온도 제어장치(42)로 하여금 시초에 우회 밸브(48)을 열게 한다. 타의 극단의, .5 내지 1.0℃ 와 같은, 초기의 작은 온도차는 온도 제어장치(42)로 하여금 우회 밸브(48)의 닫힘을 유지하게 한다. 온도 제어장치(42)는 온도 제어 컴퓨터 상태로 구체화될 수도 있는 고로, 많은 수의 상이한 작동 시퀀스가 그 컴퓨터에 프로그램될 수가 있어, 특정 상황에 대해 적절한 시퀀스가 선택되어 그 자신을 제공할 수가 있다.
예를 들면, 제6도는 시간 대 워크스테이션 온도의 그래프이다.
워크스테이션은 초기의 온도 T1, 예를 들면 22℃로부터, 19℃ 와 같은, 유체 냉각제의 온도 T3약간 위의 아마도 20℃의 희망온도 T2까지 냉각되게 된다ㅏ. 이 실시예에서 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 초기에 우회 밸브(48)를 닫고, 또 히터(36)를 끄게 된다. 워크스테이션 온도가 소정의 값 T4에 도달하는 때, 조작자에 의한 설정으로, 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 유로(26)에 열을 보급하기 시작하도록 히터(36)에 신호한다. 워크스테이션(28)의 온도는 이 때, 점 P1으로 나타낸 바와 같이 워크스테이션(28)의 온도가 희망온도 T2에 도달할 때 까지, 그래프 선 L1으로 나타낸 것 처럼, 보다 덜 급격하게 감소한다. 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 그 때, 희망온도 T2의 워크스테이션(28)의 온도를 유지하기 위하여, 히터(36)을 정밀하게 조절한다.
제7도는 제 2 의 실시예를 보이고 있다. 여기서 워크스테이션은, 아마도 25℃의, 더 높은 온도 T1에서 시작한다. 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 우회 밸브(48)을 열어, 차트 선 L1으로 나타낸 바와 같이, 워크스테이션(28)의 급격한 냉각을 마련하는 것이다. 워크스테이션 온도가, 19℃ 와 같은 유체 냉각제의 온도 T3이상의 어떤 희망온도 T2, 아마도 20℃ 에 접근하는 때, 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 우회 밸브(48)를 닫으며, 따라서 비가열 냉각제의 높은 유량을 끊는 것이다. 워크스테이션 온도 제어장치(42)는 이 때, 히터(36)를 정밀히 조절하여 워크스테이션(28)의 온도를 희망온도 T2에 유지하게 된다.
복수의 워크스테이션(28, 28.1, 28.2)은 유로들(26, 26.1, 26.2), 히터들(36, 36.1, 36.2), 유량 조절기들(34, 34.1, 34.2), 츨로 밸브들(48, 48.1, 48.2), 워크스테이션 온도 센서들(40, 40.1, 40.2) 및 워크스테이션 온도 제어장치들(42, 42.1, 42.2)를 통한 본 발명에 의해 조절될 수가 있는 것이다.
다수의 워크스테이션을 조절하는 하나의 온도 제어장치를 가지어 비용절감에 귀착할 수 있다. 동시에, 워크스테이션 온도와 유량 제어장치의 모사로 각 워크스테이션을, 그렇게 희망하는 경우, 독립의 소정 온도에 독립적으로 제어되게 하고 있다.
제 1 의 실시양태의 워크스테이션을 제2도에 보이고 있는데, 이 워크스테이션(28)은, 유로(26)으로부터 유체 냉각제가 통해 순환되는 냉판(chill plate)을 함유하고 있다. 냉판은 공작물(38)이 위에 놓이는 윗면(29.1)을 가지고 있다. 이 실시양태에서 그 공작물은 온도가 제어되게 되는 반도체 웨이퍼이어도 좋다.
제 2 의 실시양태의 워크스테이션을 제3도에 보이고 있는데, 그 워크스테이션(28)은 작업매체(38.1)가 통해 연장하는 내부의 원통형 통로(29.2)를 가진 원통형 칼러로 이루어져 있다. 이 실시양태에서, 작업매체(38.1)은 전동 모터(52)의 축이어도 좋다. 유체 냉각로는 유로(26)으로부터 워크스테이션(28)의 안팎으로 순환한다. 그에 의해 워크스테이션(28)은 축의 온도를 조절하며, 따라서, 모터(52)로부터의 열을 축의 끝의 회전 척(56)에 지지된, 웨이퍼일 수도 있는 공작물(54)에 도달하지 않게 예방하는 것이다.
제 3 의 실시양태의 워크스테이션을 제4도 보이고 있으며, 워크스테이션(28)은, 냉각될 액체 작업 매체가 통해 흐르는, 내부의 파이프(29.3)을 가진, 액체 대 액체 열교환기를 함유하고 있다. 유체 냉각제는 유로(26)으로부터 워크스테이션(28)의 안팎으로 순환하며, 그에 의해 액체 작업매체(38.2)의 온도를 조절하는 것이다.
제 4 의 실시양태의 워크스테이션을 제5도에 보이고 있으며, 워크스테이션(28)은, 냉각판(29.6)에 의해 격리된 윗구획실(29.4)과 아랫구획실(29.5)를 가진 모듈로 이루어져 있다. 유체 냉각제는 유로(26)으로부터 냉각판(29.6)의 안팎으로 순환하며, 그에 의해 윗구획실(29.4)와 아랫구획실(29.5)의 진행들 간의 열적 상호작용을 예방하는 것이다.
재순환 냉각제와 신속한 순간적 대응으로 된 온도 제어장치를 기술하였음을 알 것이다. 작업 매체를 소정의 온도에 정확히 냉각하는 방법 또한 기술하였다.
본 발명은 그의 정신이나 필수의 속성을 일탈함이 없이 타의 특정형태에 구체화될 수도 있으므로, 예증의 실시양태는 모든점에서 설명을 위한 것이고 한정하는 것이 아닌 것으로 고려되어야 하며, 본 발명의 범위를 지적함에는 앞의 설명보다 첨부의 청구의 범위를 함조하는 것이 바람직하다.
Claims (10)
- 워크스테이션 및 워크스테이션의 작업매체의 온도를 소정의 온도에 조정하는 온도 제어장치로서, 유체 냉각제의 원천, 냉각수단, 주 냉각제 온도 센서 그리고 유체 냉각제의 온도를 검출하여 상기 소정의 온도 이하의 온도에 유체 냉각제를 유지하는 주 냉각제 온도 제어장치, 유로, 복귀로, 그리고 유체 냉각제의 상기 원천으로부터 유체 냉각제를 받아들이어 워크스테이션에 유체 냉각제를 제공하며 워크스테이션 및 그 안의 작업매체의 냉각을 야기하는 재순환 펌프, 워크스테이션의 온도를 감지하여 조절하는 워크스테이션 온도 센서와 워크스테이션 온도 제어장치, 워크스테이션과 작업매체를 소정의 온도에 유지하도록, 워크스테이션에 공급되는 냉각제를 소정의 온도와 거의 같은 온도에 가열하기 위하여, 워크스테이션 온도 제어장치에 응답하는, 유로의 냉각제 히터, 히터와 그의 가열 조절을 제어하고, 워크스테이션과 소정의 온도 간에 사실상의 차가 존재하는 한 히터에 의한 가열을 감소시키며, 또 차가 감소하는데 따라 그리고 워크스테이션 온도가 소정의 온도를 거의 성취하는데 따라 히터에 의한 가열을 증대시키는 제어수단, 워크스테이션과 소정의 온도 간에 사실상의 차가 존재하는 한 히터에 의한 가열을 감소시키며, 또 차가 감소하는데 따라 그리고 워크스테이션 온도가 소정의 온도를 거의 성취하는데 따라 히터에 의 한 가열을 증대시키는, 워크스테이션 온도 제어장치, 유로를 통해 냉각제의 희망유량을 유지하는 유로의 유량 조절기, 및 히터와 유량 조절기 양자를 측통시키어, 비온난 냉각제의 흐름을 증대된 유량으로 워크스테이션에 제공하며, 워크스테이션 온도 조정장치에 응답하는 우회 밸브, 로 이루어지는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제1항에 있어서, 주 냉각제 온도 제어장치와 워크스테이션 온도 조정장치가 온도 제어 컴퓨터인 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제1항에 있어서, 온도 제어장치가 복수의 워크스테이션 및 그 안의 작업매체의 온도를 제어하는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 워크스테이션 및 워크스테이션의 작업매체의 온도를 소정의 온도에 조정하는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치로서, 워크스테이션, 유체 냉각제의 원천, 냉각수단, 주 냉각제 온도 센서 그리고 유체 냉각제의 온도를 검출하여 소정의 온도 이하의 온도에 유체 냉각제를 유지하는 주 냉각제 온도 제어장치, 유로, 복귀로, 그리고 유체 냉각제의 원천으로부터 유체 냉각제를 받아들이어 워크스테이션에 유체 냉각제를 제공하며 워크스테이션 및 그 안의 작업매체의 냉각을 야기하는 재순환 펌프, 워크스테이션의 온도를 감지하여 조절하는 워크스테이션 온도 센서와 워크스테이션 온도 제어장치, 워크스테이션과 작업매체를 소정의 온도에 유지하도록, 워크스테이션에 공급되는 냉각제를 소정의 온도와 거의 같은 온도에 가열하기 위하여, 워크스테이션 온도 제어장치에 응답하는, 유로의 냉각제 히터, 히터와 그의 가열 조절을 제어하고, 워크스테이션과 소정의 온도간에 사실상의 차가 존재하는 한 워크스테이션 히터에 의한 가열을 감소시키며, 차가 감소하는데 따라 그리고 워크스테이션 온도가 소정의 온도를 거의 성취하는데 따라 히터에 의한 가열을 증대시키는 제어수단, 워크스테이션과 소정의 온도 간에 사실상의 차가 존재하는 한 히터에 의한 가열을 감소시키며, 또 차가 감소하는데 따라 그리고 워크스테이션 온도가 소정의 온도를 거의 성취하는데 따라 히터에 의한 가열을 증대시키는, 워크스테이션 온도 제어장치, 유로를 통해 냉각제의 희망유량을 유지하는, 워크스테이션 유로의 유량 조절기, 및 히터와 유량 조절기 양자를 측통시키어, 비온난 냉각제의 흐름을 증대된 유량으로 워크스테이션에 제공하며, 워크스테이션 온도 조정장치에 응답하는 우회 밸브, 로 이루어지는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제4항에 있어서, 워크스테이션이, 온도가 조절되게 될 웨이퍼를 지지하는 냉각판을 함유하는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제4항에 있어서, 워크스테이션이, 냉각시켜질 한 축을 둘러싸는 원통형 칼러로 이루어져 있고, 축은 일단이 전동 모터에 접속돼 있으며, 축이 모터로부터의 축 말단의 단에 척을 가지고 있어, 척은 온도가 조정되게 될 웨이퍼를 지지하는, 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제4항에 있어서, 워크스테이션이, 통과하는 유체의 온도를 조절하는 액체 대 액체의 열교환기로 이루어져 있는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제4항에 있어서, 워크스테이션이, 상측 구획실, 아래측 구획실, 및 상측 구획실을 상기 아래측 구획실과 격리하는 냉각판을 가진 모듈로 이루어지고, 모듈이 상측 구획실과 아래측 구획실에 있는 재료의 온도를 조절하는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제4항에 있어서, 주 냉각제 온도 제어장치와 워크스테이션 온도 제어장치가 온도 제어 컴퓨터인 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
- 제4항에 있어서, 온도 제어장치가 복수의 워크스테이션 및 그 안의 작업매체의 온도를 제어하는 재순환 냉각제를 사용하는 온도 제어장치.
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