JPWO2021014657A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102478833B1 (ko) * 2021-09-29 2022-12-16 에스케이씨솔믹스 주식회사 서셉터 샤프트 가공 지그
CN116024653A (zh) * 2023-02-28 2023-04-28 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 升降装置和外延反应设备

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6113702A (en) * 1995-09-01 2000-09-05 Asm America, Inc. Wafer support system
US5879128A (en) * 1996-07-24 1999-03-09 Applied Materials, Inc. Lift pin and support pin apparatus for a processing chamber
US6120609A (en) * 1996-10-25 2000-09-19 Applied Materials, Inc. Self-aligning lift mechanism
JP2001024047A (ja) * 1999-07-07 2001-01-26 Applied Materials Inc 基板支持装置
DE10051125A1 (de) * 2000-10-16 2002-05-02 Steag Rtp Systems Gmbh Vorrichtung zum thermischen Behandeln von Substraten
JP4477784B2 (ja) * 2001-02-02 2010-06-09 東京エレクトロン株式会社 被処理体の載置機構
JP2003124287A (ja) * 2001-10-19 2003-04-25 Komatsu Electronic Metals Co Ltd エピタキシャルウェハ製造装置及びウェハ製造方法
US20040177813A1 (en) * 2003-03-12 2004-09-16 Applied Materials, Inc. Substrate support lift mechanism
US20060005770A1 (en) * 2004-07-09 2006-01-12 Robin Tiner Independently moving substrate supports
JP4687534B2 (ja) * 2005-09-30 2011-05-25 東京エレクトロン株式会社 基板の載置機構及び基板処理装置
JP4957622B2 (ja) * 2008-03-31 2012-06-20 富士通セミコンダクター株式会社 基板支持装置
US20140007808A1 (en) * 2011-07-05 2014-01-09 Epicrew Corporation Susceptor Device And Deposition Apparatus Having The Same
JP5386046B1 (ja) * 2013-03-27 2014-01-15 エピクルー株式会社 サセプタ支持部およびこのサセプタ支持部を備えるエピタキシャル成長装置
JP6068255B2 (ja) 2013-05-13 2017-01-25 大陽日酸株式会社 気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法
JP6428358B2 (ja) * 2015-02-20 2018-11-28 株式会社Sumco エピタキシャル成長装置及びサセプタサポートシャフト
TWI615917B (zh) * 2015-04-27 2018-02-21 Ｓｕｍｃｏ股份有限公司 承托器及磊晶生長裝置
JP6424726B2 (ja) * 2015-04-27 2018-11-21 株式会社Sumco サセプタ及びエピタキシャル成長装置
US9892956B1 (en) * 2016-10-12 2018-02-13 Lam Research Corporation Wafer positioning pedestal for semiconductor processing
WO2019004201A1 (ja) * 2017-06-26 2019-01-03 エピクルー ユーエスエー インコーポレイテッド プロセスチャンバ

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