JP2013529388A5 - ウエハ状物品を処理するための装置 - Google Patents

Description

本発明にしたがうと、半導体ウエハなどのウエハ状物品を密閉プロセスチャンバ内において保持するための装置は、２つ又は３つ以上の個別の流体コレクタを備えており、これらのウエハサポート及び流体コレクタは、ウエハ表面から放射されるプロセス流体を所定の流体出口に選択的に方向付けられるように、密閉プロセスチャンバの外側から作動される磁気結合を通じて互いに相対的に移動可能である。
（１）本発明の第１の形態は、ウエハ状物品を処理するための装置であって、
密閉プロセスチャンバと、
前記密閉プロセスチャンバ内に位置付けられたリングチャックと、
前記密閉プロセスチャンバの底壁を通じて前記密閉プロセスチャンバの外側と流体連通している少なくとも１つのプロセス流体コレクタと、
を備え、
前記リングチャックは、物理的な接触を伴わずに磁気軸受けを通じて駆動されるように構成され、
前記リングチャック及び前記少なくとも１つのプロセス流体コレクタは、互いに相対的に垂直移動可能であり、
前記少なくとも１つのプロセス流体コレクタは、垂直移動可能な跳ねよけを含む、装置である。
本発明は、以下の適用例としても実現可能である。
［適用例１］
ウエハ状物品を処理するための装置であって、
密閉プロセスチャンバと、
前記密閉プロセスチャンバ内に位置付けられたリングチャックと、
前記密閉プロセスチャンバの底壁を通じて前記密閉プロセスチャンバの外側と流体連通している少なくとも１つのプロセス流体コレクタと、
を備え、
前記リングチャックは、物理的な接触を伴わずに磁気軸受けを通じて駆動されるように構成され、
前記リングチャック及び前記少なくとも１つの流体コレクタは、互いに相対的に垂直移動可能である、装置。
［適用例２］
適用例１に記載の装置であって、
前記リングチャックは、垂直方向に固定され、前記少なくとも１つのプロセス流体コレクタは、垂直移動可能な跳ねよけを含む、装置。
［適用例３］
適用例２に記載の装置であって、
垂直移動可能な跳ねよけをそれぞれ含む複数の流体コレクタを備える装置。
［適用例４］
適用例３に記載の装置であって、
各垂直移動可能な跳ねよけは、前記密閉プロセスチャンバの外側から、事前に定められた垂直位置に選択的に駆動される、装置。
［適用例５］
適用例４に記載の装置であって、
各垂直移動可能な跳ねよけは、前記リングチャックによって運ばれているスピンしているウエハから放射される事前に選択されたプロセス流体を捕えられるように、選択的に位置決め可能である、装置。
［適用例６］
適用例５に記載の装置であって、更に、
各垂直移動可能な跳ねよけに動作式に関係付けられた垂直移動アクチュエータを備える装置。
［適用例７］
適用例６に記載の装置であって、
前記アクチュエータは、前記垂直移動可能な跳ねよけに磁気結合を通じて動作式に関係付けられている、装置。
［適用例８］
適用例１に記載の装置であって、
前記少なくとも１つのプロセス流体コレクタは、垂直方向に固定され、前記リングチャックは、垂直移動可能な能動型磁気軸受けを含む、装置。
［適用例９］
適用例８に記載の装置であって、
複数の流体コレクタを備え、
前記垂直移動可能な能動型磁気軸受けは、前記密閉プロセスチャンバの外側に位置付けられた垂直移動可能なステータを含む、装置。
［適用例１０］
適用例９に記載の装置であって、
前記垂直移動可能な能動型磁気軸受けは、前記リングチャックによって運ばれているスピンしているウエハから放射される事前に選択されたプロセス流体が事前に選択された流体コレクタに方向付けられるように、選択的に位置決め可能である、装置。
［適用例１１］
適用例１０に記載の装置であって、更に、
前記ステータに動作式に関係付けられた垂直移動アクチュエータを備える装置。
［適用例１２］
適用例１１に記載の装置であって、
前記垂直移動アクチュエータは、磁気結合を通じて前記ステータに動作式に関係付けられている、装置。
［適用例１３］
適用例１に記載の装置であって、
前記磁気軸受けは、能動型磁気軸受けである、装置。

Claims (13)

1. ウエハ状物品を処理するための装置であって、
   密閉プロセスチャンバと、
   前記密閉プロセスチャンバ内に位置付けられたリングチャックと、
   前記密閉プロセスチャンバの底壁を通じて前記密閉プロセスチャンバの外側と流体連通している少なくとも１つのプロセス流体コレクタと、
   を備え、
   前記リングチャックは、物理的な接触を伴わずに磁気軸受けを通じて駆動されるように構成され、
   前記リングチャック及び前記少なくとも１つのプロセス流体コレクタは、互いに相対的に垂直移動可能であり、
   前記少なくとも１つのプロセス流体コレクタは、垂直移動可能な跳ねよけを含む、装置。
2. 請求項１に記載の装置であって、
   前記リングチャックは、垂直方向に固定されている、装置。
3. 請求項２に記載の装置であって、
   垂直移動可能な跳ねよけをそれぞれ含む複数のプロセス流体コレクタを備える装置。
4. 請求項３に記載の装置であって、更に、
   前記密閉プロセスチャンバの外側に設けられた持ち上げメカニズムを備え、前記持ち上げメカニズムは、各垂直移動可能な跳ねよけを事前に定められた垂直位置に選択的に駆動させるように構成されている、装置。
5. 請求項４に記載の装置であって、
   各垂直移動可能な跳ねよけは、前記リングチャックによって運ばれているスピンしているウエハから放射される事前に選択されたプロセス流体を逸らせるように、選択的に位置決め可能である、装置。
6. 請求項５に記載の装置であって、更に、
   各垂直移動可能な跳ねよけに動作式に関係付けられた垂直移動アクチュエータを備える装置。
7. 請求項６に記載の装置であって、
   前記アクチュエータは、前記垂直移動可能な跳ねよけに磁気結合を通じて動作式に関係付けられている、装置。
8. 請求項１に記載の装置であって、
   前記磁気軸受けは、能動型磁気軸受けである、装置。
9. 請求項１に記載の装置であって、
   前記密閉プロセスチャンバは、前記リングチャックの垂直位置よりも低い垂直位置において前記密閉プロセスチャンバの側壁に設けられたウエハ装填／非装填アクセスドアを備える、装置。
10. 請求項３に記載の装置であって、
    前記複数のプロセス流体コレクタは、環状の内側跳ねよけと、前記環状内側跳ねよけと同心円状の径方向外側跳ねよけと、を備える、装置。
11. 請求項３に記載の装置であって、
    前記複数のプロセス流体コレクタは、内側跳ねよけを有する内側プロセス流体コレクタと、外側跳ねよけを有する外側プロセス流体コレクタと、を備え、
    前記外側跳ねよけは、前記内側跳ねよけが上昇したときに前記内側跳ねよけの上縁と重なって係合する内向きに広がる上側表面を有することにより、前記内側プロセス流体コレクタが使用されているときに前記外側プロセス流体コレクタを前記内側跳ねよけによって密閉する、装置。
12. 請求項１に記載の装置であって、
    前記垂直移動可能な跳ねよけは、前記垂直移動可能な跳ねよけの最上方位置において前記密閉プロセスチャンバの内部表面に当接する内向きの上方へりを備える、装置。
13. 請求項１に記載の装置であって、
    前記垂直移動可能な跳ねよけは、前記垂直移動可能な跳ねよけの最上方位置において前記リングチャックの後縁に当接する内向きの上方へりを備える、装置。