JPWO2019131096A1 - ボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂硬化物及び電子部品装置 - Google Patents

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Abstract

BGAパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、アルミナ粒子及びシリカ粒子を含む無機充填材と、を含有し、前記無機充填材の含有率が77体積%〜82体積%であり、前記アルミナ粒子及び前記シリカ粒子の合計量に対する前記シリカ粒子の割合が22質量%〜45質量%であり、前記シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm以上である。

Description

本開示は、ボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂硬化物及び電子部品装置に関する。
電子機器の小型化及び薄型化による高密度実装の要求が、近年、急激に増加している。このため、半導体パッケージは、従来のピン挿入型に代わり、高密度実装に適した表面実装型が主流になっている。表面実装型の半導体パッケージは、プリント基板等に直接はんだ付けすることにより実装される。一般的な実装方法としては、赤外線リフロー法、ベーパーフェーズリフロー法、はんだディップ法等により、半導体パッケージ全体を加熱して実装する方法が挙げられる。
近年、実装密度をより高めるため、表面実装型の半導体パッケージの中でも、ボールグリッドアレイ(Ball Grid Array、以下BGAともいう)等のエリア実装パッケージが広く用いられている。BGAパッケージは、基板の半導体素子搭載面が樹脂組成物で封止された片面樹脂封止型パッケージとなっている。封止用の樹脂組成物としては、成形性、電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性等の諸特性のバランスの観点から、エポキシ樹脂組成物が広く使用されている。
一方、近年、電子部品の分野では高速化及び高密度化が進んでおり、それに伴って、電子部品の発熱量が顕著に増大している。また、高温下で作動する電子部品に対する需要も増加している。そのため、電子部品に使用されるプラスチック、特にエポキシ樹脂の硬化物に対しては、熱伝導性の向上が求められている。特にBGAパッケージでは、小型化、高密度化の要求から封止用の樹脂組成物の高い熱伝導性が求められている。BGAパッケージ等において、エポキシ樹脂の硬化物の熱伝導性を向上する方法としては、アルミナ等の高熱伝導性の無機充填材を用いる方法、粘度の低い樹脂及び少量の微粒シリカを併用して当該無機充填材の充填量を増やす方法等が報告されている(例えば、特許文献1参照)。
特許第4188634号公報
片面樹脂封止型パッケージは、その形状が片面封止であるために、封止樹脂、基板等のパッケージ構成部材間の線膨張係数の差、弾性率の差などに起因して発生する熱応力により、成形後に常温にて反りが発生し、搬送性の問題、リフロー工程時の実装信頼性の低下等の問題を引き起こすことがある。特に、アルミナを高充填として熱伝導性の向上を図る場合、パッケージの反りを制御することが困難である。
また、アルミナを高充填として熱伝導性の向上を図る場合、流動性が低下して成形時にワイヤ流れが発生しやすいという課題がある。
特許文献1では、無機充填材の高充填化によって熱伝導性と共に熱膨張係数及び熱収縮を調整し、反りの低減を図っているが、この方法ではパッケージの反りの低減には限界がある。また、エポキシ樹脂組成物の優れた流動性も求められていた。
本開示は、上記事情に鑑みてなされたものであり、硬化したときの熱伝導性を維持しつつ、良好な流動性を有し、パッケージの反りを抑制することが可能なBGAパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物、前記エポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物、及び前記エポキシ樹脂硬化物によって封止された素子を備える電子部品装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するための手段には、以下の実施形態が含まれる。
<1> エポキシ樹脂と、硬化剤と、アルミナ粒子及びシリカ粒子を含む無機充填材と、を含有し、前記無機充填材の含有率が77体積%〜82体積%であり、前記アルミナ粒子及び前記シリカ粒子の合計量に対する前記シリカ粒子の割合が22質量%〜45質量%であり、前記シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm以上である、ボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
<2> 前記シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm〜80μmである、<1>に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
<3> 更に可塑剤を含有する、<1>又は<2>に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
<4> 更に、硬化促進剤を含有し、前記硬化促進剤が有機リン化合物を含む、<1>〜<3>のいずれか1項に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
<5> 前記エポキシ樹脂の全質量に対する1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の含有率が10質量%以下である、<4>に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
<6> <1>〜<5>のいずれか1項に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
<7> 素子と、前記素子を封止している<6>に記載のエポキシ樹脂硬化物と、を有し、ボールグリッドアレイパッケージの形態を有する、電子部品装置。
本開示によれば、硬化したときの熱伝導性を維持しつつ、良好な流動性を有し、パッケージの反りを抑制することが可能なBGAパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物、前記エポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物、及び前記エポキシ樹脂硬化物によって封止された素子を備える電子部品装置が提供される。
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。
本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
<BGAパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物>
本開示のBGAパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物(以下、単にエポキシ樹脂組成物ともいう)は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、アルミナ粒子及びシリカ粒子を含む無機充填材と、を含有し、前記無機充填材の含有率は77体積%〜82体積%であり、前記アルミナ粒子及び前記シリカ粒子の合計量に対する前記シリカ粒子の割合は22質量%〜45質量%であり、前記シリカ粒子の体積平均粒子径は4μm以上である。
本開示のエポキシ樹脂組成物は、硬化したときの熱伝導性を維持しつつ、良好な流動性を有し、パッケージの反りを抑制することができる。この理由は明らかではないが、以下のように考えることができる。本開示のエポキシ樹脂組成物はアルミナ粒子及びシリカ粒子を含む無機充填材を含有し、アルミナ粒子及びシリカ粒子の合計量に対するシリカ粒子の割合が22質量%〜45質量%であり、シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm以上である。シリカ粒子の熱膨張係数(CTE)はアルミナ粒子に比べて低く、シリカ粒子、中でも体積平均粒子径が4μm以上のシリカ粒子を上記割合で含有することで、硬化したときのパッケージ構成部材に対する応力を低減することができ、パッケージの反りが抑制されると考えられる。また、無機充填材としてアルミナ粒子にシリカ粒子を上記割合で併用することで、アルミナ粒子の粒子間の摩擦を低減することができ、樹脂組成物の流動性が向上すると考えられる。さらに、これにより、無機充填材を高充填とすることが可能になり、硬化したときに優れた熱伝導性を有すると考えられる。
本開示のエポキシ樹脂組成物は、BGAパッケージの封止に用いられる。BGAパッケージとは、パッケージの基板に複数の金属バンプが格子状に配列した半導体パッケージをいう。BGAパッケージは、裏面に金属バンプを形成した基板のおもて面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と基板に形成された配線を接続した後、素子を封止して作製する。外径寸法を素子の寸法と同程度にまで縮小化したCSP(Chip Size Package)等も、BGAパッケージの一形態である。
BGAパッケージとしては、パッケージの放熱特性を向上させる観点から、パッケージの上部に放熱板を備えるものが知られている。一方、軽量化、工程の簡略化、コストの低減等の観点から放熱板を備えないBGAパッケージの需要も高まっている。本開示のエポキシ樹脂組成物は、いずれのBGAパッケージの封止材料としても適用可能である。放熱板を備えないBGAパッケージは、各部材の線膨張係数の差による応力が開放されていることから、成形するときにパッケージの反りが発生しやすく、本開示のエポキシ樹脂は放熱板を備えないBGAパッケージにおいて特に有用である。
[エポキシ樹脂]
本開示のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含有する。エポキシ樹脂組成物は、好ましくは、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有する。エポキシ樹脂は特に制限されず、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物とを酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−5,5−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはシリコーン樹脂のエポキシ化物、アクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記エポキシ樹脂の中でも、耐リフロー性と流動性のバランスの観点から、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、共重合型エポキシ樹脂、及びアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選択されるいずれか少なくとも1つのエポキシ樹脂(これらを「特定エポキシ樹脂」と称する)が好ましい。特定エポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂が特定エポキシ樹脂を含む場合、特定エポキシ樹脂の性能を発揮する観点からは、特定エポキシ樹脂の含有率がエポキシ樹脂全体の30質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。
特定エポキシ樹脂の中でも、流動性の観点からは、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、及び硫黄原子含有エポキシ樹脂からなる群より選択されるいずれか少なくとも1つが好ましく、耐熱性の観点からは、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、及びアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選択されるいずれか少なくとも1つが好ましい。
以下、好ましいエポキシ樹脂の具体例を示す。
ビフェニル型エポキシ樹脂は、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(II)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(II)で表されるエポキシ樹脂の中でもRのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のRが水素原子であるYX−4000H(三菱ケミカル株式会社、商品名)、全てのRが水素原子である4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル、全てのRが水素原子の場合並びにRのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基でそれ以外のRが水素原子である場合の混合品であるYL−6121H(三菱ケミカル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(II)中、Rは水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数4〜18の芳香族基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0〜10の数を示す。
スチルベン型エポキシ樹脂は、スチルベン骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(III)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(III)で表されるエポキシ樹脂の中でも、Rのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のRが水素原子であり、R10の全てが水素原子である場合と、Rのうち3,3’,5,5’位のうちの3つがメチル基であり、1つがt−ブチル基であり、それ以外のRが水素原子であり、R10の全てが水素原子である場合との混合品であるESLV−210(住友化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(III)中、R及びR10は水素原子又は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0〜10の数を示す。
ジフェニルメタン型エポキシ樹脂は、ジフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(IV)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(IV)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R11の全てが水素原子であり、R12のうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のR12が水素原子であるYSLV−80XY(新日鐵住金化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(IV)中、R11及びR12は水素原子又は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0〜10の数を示す。
硫黄原子含有エポキシ樹脂は、硫黄原子を含有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(V)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(V)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R13のうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’位がt−ブチル基であり、6,6’位がメチル基であり、それ以外のR13が水素原子であるYSLV−120TE(新日鐵住金化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(V)中、R13は水素原子又は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0〜10の数を示す。
ノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂をエポキシ化して得られるエポキシ樹脂であれば、特に限定されない。例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂をグリシジルエーテル化等の手法を用いてエポキシ化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(VI)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。下記一般式(VI)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R14の全てが水素原子であり、R15がメチル基であり、i=1であるESCN−190、ESCN−195(住友化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(VI)中、R14は水素原子又は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R15は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0〜3の整数を示す。nは平均値であり、0〜10の数を示す。なお、式(VI)において、芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、ジシクロペンタジエン骨格を有する化合物を原料としてエポキシ化して得られるエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(VII)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(VII)で表されるエポキシ樹脂の中でも、i=0であるHP−7200(DIC株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(VII)中、R16は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0〜3の整数を示す。nは平均値であり、0〜10の数を示す。なお、式(VII)において、芳香環及び脂環上に存在する水素原子は非表示としている。
トリフェニルメタン型エポキシ樹脂は、トリフェニルメタン骨格を持つ化合物を原料とするエポキシ樹脂であれば特に制限されない。例えば、トリフェニルメタン骨格を持つ化合物とフェノール性水酸基を有する化合物とのノボラック型フェノール樹脂等のトリフェニルメタン型フェノール樹脂をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(VIII)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。下記一般式(VIII)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、kが0である1032H60(三菱ケミカル株式会社、商品名)、EPPN−502H(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(VIII)中、R17及びR18は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0〜3の整数、kは各々独立に0〜4の整数を示す。nは平均値であり、0〜10の数を示す。なお、式(VIII)において、芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。
ナフトール化合物及びフェノール化合物と、アルデヒド化合物とから得られるノボラック樹脂をエポキシ化した共重合型エポキシ樹脂は、ナフトール骨格を有する化合物及びフェノール骨格を有する化合物を原料とするエポキシ樹脂であれば、特に限定されない。例えば、ナフトール骨格を有する化合物及びフェノール骨格を有する化合物を用いたノボラック型フェノール樹脂をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。下記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R21がメチル基でiが1であり、jが0であり、kが0であるNC−7300(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(IX)中、R19〜R21は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0〜3の整数、jは各々独立に0〜2の整数、kは各々独立に0〜4の整数を示す。l及びmはそれぞれ平均値であり、0〜10の数であり、(l+m)は0〜10の数を示す。式(IX)で表されるエポキシ樹脂の末端は、下記式(IX−1)又は(IX−2)のいずれか一方である。式(IX−1)及び(IX−2)において、R19〜R21、i、j及びkの定義は式(IX)におけるR19〜R21、i、j及びkの定義と同じである。nは1(メチレン基を介して結合する場合)又は0(メチレン基を介して結合しない場合)である。なお、式(IX)、式(IX−1)、及び式(IX−2)において、芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。
上記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂としては、l個の構成単位及びm個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体等が挙げられる。これらのいずれか1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アラルキル型エポキシ樹脂は、フェノール、クレゾール等のフェノール化合物及びナフトール、ジメチルナフトール等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル又はこれらの誘導体から合成されるフェノール樹脂と、を原料とするエポキシ樹脂であれば、特に限定されない。例えば、フェノール、クレゾール等のフェノール化合物及びナフトール、ジメチルナフトール等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル又はこれらの誘導体とから合成されるフェノール樹脂をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(X)及び(XI)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。
下記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、R38が水素原子であるNC−3000S(日本化薬株式会社、商品名)、iが0であり、R38が水素原子であるエポキシ樹脂と一般式(II)の全てのRが水素原子であるエポキシ樹脂を質量比80:20で混合したCER−3000(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。また、下記一般式(XI)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、jが0であり、kが0であるESN−175(新日鐵住金化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(X)及び(XI)において、R38は水素原子又は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R37、R39〜R41は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0〜3の整数であり、jはそれぞれ独立に0〜2の整数であり、kはそれぞれ独立に0〜4の整数であり、lはそれぞれ独立に0〜4の整数を示す。nは平均値であり、それぞれ独立に0〜10の数である。なお、式(X)において、グリシジルオキシ基を有する芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。式(XI)において、芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。
上記一般式(II)〜(XI)中のR〜R21及びR37〜R41について、「それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい」とは、例えば、式(II)中の8〜88個のRの全てが同一でも異なっていてもよいことを意味している。他のR〜R21及びR37〜R41についても、式中に含まれるそれぞれの個数について全てが同一でも異なっていてもよいことを意味している。また、R〜R21及びR37〜R41はそれぞれが同一でも異なっていてもよい。例えば、RとR10の全てについて同一でも異なっていてもよい。
また、一般式(III)〜(XI)における炭素数1〜18の有機基はアルキル基又はアリール基であることが好ましい。
上記一般式(II)〜(XI)中のnは、平均値であり、それぞれ独立に0〜10の範囲であることが好ましい。nが10以下であると樹脂成分の溶融粘度が高くなりすぎず、エポキシ樹脂組成物の溶融成形時の粘度が低下し、充填不良、ボンディングワイヤ(素子とリードを接続する金線)の変形等の発生が抑制される傾向にある。nは0〜4の範囲に設定されることがより好ましい。
以上、エポキシ樹脂組成物に使用可能な好ましいエポキシ樹脂の具体例を上記一般式(II)〜(XI)に沿って説明したが、より具体的な好ましいエポキシ樹脂として、流動性及び耐リフロー性の観点からは、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルが挙げられ、流動性、成形性及び耐熱性の観点からは、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−ビフェニルが挙げられる。
一実施形態において、エポキシ樹脂組成物は、成型時の流動性と硬化性を担保する観点から、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及びナフタレン型エポキシ樹脂からなる群より選択されるいずれか少なくとも1つを含有することが好ましく、これらのエポキシ樹脂からなる群より選択されるいずれか少なくとも2つを含有することがより好ましく、これらのエポキシ樹脂をいずれも含有することが更に好ましい。
エポキシ樹脂組成物がジフェニルメタン型エポキシ樹脂を含有する場合の一実施形態において、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂全量に対して20質量%〜80質量%であることが好ましく、30質量%〜70質量%であることがより好ましく、40質量%〜60質量%であることが更に好ましい。
エポキシ樹脂組成物がビフェニル型エポキシ樹脂を含有する場合の一実施形態において、ビフェニル型エポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂全量に対して5質量%〜65質量%であることが好ましく、15質量%〜55質量%であることがより好ましく、25質量%〜45質量%であることがさらに好ましい。
エポキシ樹脂組成物がナフタレン型エポキシ樹脂を含有する場合の一実施形態において、ナフタレン型エポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂全量に対して5質量%〜45質量%であることが好ましく、5質量%〜35質量%であることがより好ましく、5質量%〜25質量%であることが更に好ましい。
エポキシ樹脂組成物がジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及びナフタレン型エポキシ樹脂をいずれも含有する場合、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及びナフタレン型エポキシ樹脂の含有量は、上記含有量を組み合わせたものであることが好ましい。
エポキシ樹脂のエポキシ当量は特に制限されない。成形性、耐リフロー性及び電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、100g/eq〜1000g/eqであることが好ましく、150g/eq〜500g/eqであることがより好ましい。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。
エポキシ樹脂が固体である場合、その軟化点又は融点は特に制限されない。エポキシ樹脂の軟化点又は融点は、成形性と耐リフロー性の観点からは40℃〜180℃であることが好ましく、エポキシ樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点からは50℃〜130℃であることがより好ましい。エポキシ樹脂の融点は示差走査熱量測定(DSC)で測定される値とし、エポキシ樹脂の軟化点はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。
エポキシ樹脂組成物中のエポキシ樹脂の含有率は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%〜50質量%であることが好ましく、2質量%〜30質量%であることがより好ましい。
エポキシ樹脂は1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(多官能エポキシ樹脂ともいう)を含んでもよい。後述のように、エポキシ樹脂組成物が硬化促進剤として有機リン化合物を含有する場合、リフロー後のパッケージの反りの制御の観点から、エポキシ樹脂の全質量に対する多官能エポキシ樹脂の含有率は10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、1質量%以下であることが更に好ましく、実質的に0質量%であることが特に好ましい。「実質的に0質量%」の含有率とは、多官能エポキシ樹脂のリフロー後のパッケージの反りの制御に対する影響が観察されない程度の含有率をいう。
[硬化剤]
本開示のエポキシ樹脂組成物は、硬化剤を含有する。硬化剤は、エポキシ樹脂と反応しうるものであれば特に制限されない。耐熱性向上の観点から、硬化剤は、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する化合物(以下、フェノール硬化剤ともいう)が好ましい。フェノール硬化剤は、低分子のフェノール化合物であっても、低分子のフェノール化合物を高分子化したフェノール樹脂であってもよい。熱伝導性の観点からは、フェノール硬化剤はフェノール樹脂であることが好ましい。硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
フェノール硬化剤は、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール樹脂を含むことが好ましく、1分子中に3個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール樹脂(多官能フェノール樹脂ともいう)を含むことがより好ましい。
フェノール硬化剤が多官能フェノール樹脂を含む場合、フェノール硬化剤全量に対する多官能フェノール樹脂の含有量は、60質量%〜100質量%であることが好ましく、70質量%〜100質量%であることがより好ましく、80質量%〜100質量%であることが更に好ましい。
フェノール樹脂としては、特に制限されず、ビフェニレン型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、ベンズアルデヒド型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合樹脂、パラキシレン変性フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂等が挙げられる。中でも、成形性の観点からはトリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましい。流動性の観点からは、パラキシレン変性フェノール樹脂が好ましい。
パラキシレン変性フェノール樹脂としては、パラキシレン骨格を有する化合物を原料として得られるフェノール樹脂であれば特に制限されない。例えば、下記一般式(XV)で表されるフェノール樹脂であることが好ましい。
下記一般式(XV)で表されるフェノール樹脂の中でも、XL−225(三井化学株式会社、商品名)、XLC(三井化学株式会社、商品名)、MEH−7800(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(XV)中、R30は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0〜3の整数を示す。nは平均値であり、0〜10の数である。なお、式(XV)において、芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。
トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、トリフェニルメタン骨格を有する化合物を原料として得られるフェノール樹脂であれば特に制限されない。例えば、下記一般式(XVI)で表されるフェノール樹脂が好ましい。
下記一般式(XVI)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、kが0であるMEH−7500(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
式(XVI)中、R30及びR31は炭素数1〜18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0〜3の整数であり、kはそれぞれ独立に0〜4の整数である。nは平均値であり、0〜10の数である。なお、式(XVI)において、芳香環上に存在する水素原子は非表示としている。
硬化剤の水酸基当量は、特に制限されず、500g/eq以下であることが好ましく、400g/eq以下であることがより好ましく、300g/eq以下であることが更に好ましい。硬化剤の水酸基当量の下限は、50g/eq以上であることが好ましく、60g/eq以上であることがより好ましく、70g/eq以上であることが更に好ましい。硬化剤の水酸基当量の範囲は、50g/eq〜500g/eqであることが好ましく、50g/eq〜400g/eqであることがより好ましく、50g/eq〜300g/eqであることが更に好ましい。
フェノール硬化剤の水酸基当量は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
フェノール硬化剤が固体である場合、その融点又は軟化点は特に制限されない。フェノール硬化剤の融点又は軟化点は、50℃〜250℃であることが好ましく、65℃〜200℃であることがより好ましく、80℃〜170℃であることが更に好ましい。
特定フェノール硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。
エポキシ樹脂組成物における、エポキシ樹脂と硬化剤との含有比率は、エポキシ樹脂のエポキシ基の当量数に対する硬化剤の官能基の当量数の比率(硬化剤の官能基の当量数/エポキシ基の当量数)が0.5〜2.0の範囲となるように設定されることが好ましく、0.7〜1.5となるように設定されることがより好ましく、0.8〜1.3となるように設定されることが更に好ましい。前記比率が0.5以上であると、エポキシ樹脂の硬化が充分となり、硬化物の耐熱性、耐湿性、及び電気特性に優れる傾向にある。また、前記比率が2.0以下であると、硬化樹脂中に残存する硬化剤の官能基の量が抑えられ、電気特性及び耐湿性に優れる傾向にある。
[無機充填材]
本開示のエポキシ樹脂組成物は、アルミナ粒子及びシリカ粒子を含む無機充填材を含有する。無機充填材の含有率は組成物の全体積に対して77体積%〜82体積%であり、アルミナ粒子及びシリカ粒子の合計量に対するシリカ粒子の割合は、22質量%〜45質量%であり、シリカ粒子の体積平均粒子径は4μm以上である。無機充填材は、アルミナ粒子とシリカ粒子以外の無機充填材を含んでもよく、無機充填材はアルミナ粒子とシリカ粒子からなることが好ましい。シリカ粒子としては、球状シリカ、結晶シリカ等が挙げられる。
シリカ粒子の体積平均粒子径は、4μm以上であり、4μm〜80μmであることが好ましく、8μm〜60μmであることがより好ましく、10μm〜40μmであることが更に好ましい。シリカ粒子の体積平均粒子径が80μm以下であると、線膨張係数を抑えることができ、硬化したときのパッケージの反りをより抑制できる傾向にある。また、シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm以上であると、硬化性が向上し、反りが抑制されやすい傾向にある。
シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm以上である限り、無機充填材全体としての体積平均粒子径は、特に制限されない。無機充填材の体積平均粒子径は、例えば、0.1μm〜80μmであることが好ましく、0.3μm〜50μmであることがより好ましい。無機充填材の体積平均粒子径が0.1μm以上であると、エポキシ樹脂組成物の粘度の上昇を抑えやすい傾向にある。無機充填材の体積平均粒子径が80μm以下であると、エポキシ樹脂組成物と無機充填材との混合性が向上し、硬化によって得られるパッケージの状態がより均質化して特性のばらつきが抑えられる傾向にあり、更に狭い領域への充填性が向上する傾向にある。なお、無機充填材の粒子径の分布は、0.1μm〜80μmの範囲内に最大値を有することが好ましい。
中でも、アルミナ粒子の体積平均粒子径は、例えば、0.1μm〜80μmであることが好ましく、0.3μm〜50μmであることがより好ましい。アルミナ粒子の体積平均粒子径が0.1μm以上であると、エポキシ樹脂組成物の粘度の上昇を抑えやすい傾向にある。アルミナ粒子の体積平均粒子径が80μm以下であると、エポキシ樹脂組成物とアルミナ粒子との混合性が向上し、硬化によって得られるパッケージの状態がより均質化して特性のばらつきが抑えられる傾向にあり、更に狭い領域への充填性が向上する傾向にある。
本開示において無機充填材の体積平均粒子径は、乾式の粒度分布計を使用して、又は、水若しくは有機溶媒中に無機充填材を分散したスラリーの状態で湿式の粒度分布測定装置を使用して測定できる。特に1μm以下の粒子を含む場合は、湿式の粒度分布計を使用して測定することが好ましい。具体的には、無機充填材の濃度を約0.01質量%に調整した水スラリーをバス式超音波洗浄機で5分間処理し、レーザー回折式粒度測定装置(LA−960、株式会社堀場製作所)を用いて検出された全粒子の平均値より求めることができる。本開示において体積平均粒子径とは、体積基準の粒度分布において小径側からの累積が50%となるときの粒子径(D50)を表す。
エポキシ樹脂組成物の流動性の観点から、無機充填材の粒子形状は球形が好ましく、無機充填材の粒度分布は広範囲に分布したものが好ましい。例えば、無機充填材の70質量%以上を球状粒子とし、この球状粒子の粒子径は0.1μm〜80μmという広範囲に分布したものとすることが好ましい。このような無機充填材は、大きさが異なる粒子が混在することで最密充填構造を形成しやすいため、無機充填材の含有率を増加させてもエポキシ樹脂組成物の粘度上昇が抑えられ、流動性に優れるエポキシ樹脂組成物が得られる傾向にある。
無機充填材の含有率は、組成物の全体積に対して77体積%〜82体積%であり、熱伝導性、流動性等の特性バランスの観点から、78体積%〜81体積%であることが好ましく、79体積%〜80体積%であることがより好ましい。
また、無機充填材の含有率は、熱伝導性、流動性等の特性バランスの観点から、組成物の全質量に対して、88質量%〜94質量%であることが好ましく、89質量%〜93量%であることがより好ましく、90質量%〜92質量%であることが更に好ましい。
エポキシ樹脂組成物中、アルミナ粒子及びシリカ粒子の合計量に対するシリカ粒子の割合は、22質量%〜45質量%であり、熱伝導性、流動性等の特性バランスの観点から、23質量%〜40質量%であることがより好ましく、25質量%〜35質量%であることが更に好ましい。
アルミナ粒子とシリカ粒子以外の無機充填材としては、特に制限されず、ガラス、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、酸化マグネシウム、ケイ酸カルシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、工業用ダイヤモンド、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機物の粒子、これらの粒子を球形化したビーズなどが挙げられる。その他、難燃効果のある無機充填材を使用してもよい。難燃効果のある無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛との複合水酸化物等の複合金属水酸化物、ホウ酸亜鉛などの粒子が挙げられる。アルミナ粒子とシリカ粒子以外の無機充填材は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
無機充填材の全体積に対するアルミナ粒子とシリカ粒子の合計の含有率は、80体積%以上であることが好ましく、90体積%以上であることがより好ましく、95体積%以上であることが更に好ましく、98体積%以上であることが特に好ましい。
[硬化促進剤]
本開示のエポキシ樹脂組成物は、必要に応じて硬化促進剤を含有してもよい。硬化促進剤としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に用いられるものを適宜選択して使用することができる。硬化促進剤としては、例えば、有機リン化合物、イミダゾール化合物、第3級アミン、及び第4級アンモニウム塩が挙げられる。中でも、有機リン化合物が好ましい。硬化促進剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
有機リン化合物としては、トリブチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリパラトリルホスフィン等の有機ホスフィン類、及びこれらのホスフィン類に無水マレイン酸、ベンゾキノン、ジアゾフェニルメタン等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物(例えば、トリフェニルホスフィンとベンゾキノンの付加物、及びトリパラトリルホスフィンとベンゾキノンの付加物);テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、トリフェニルホスホニウム−トリフェニルボランなどが挙げられる。硬化促進剤として有機リン化合物を用いると、エポキシ樹脂組成物を用いて封止された電子部品装置において高い信頼性が得られる傾向にある。この理由は明らかではないが、以下のように考えることができる。一般的に、エポキシ樹脂組成物がアルミナ粒子を含有する場合、硬化性が低下することから、硬化促進剤の使用量を増やす傾向にある。しかしながら、硬化促進剤を増量すると、エポキシ樹脂の原料であるエピクロロヒドリンに由来する塩素と硬化促進剤との反応により発生する塩素イオンの量が増加し、電子部品装置の信頼性を低下させる場合がある。一方、有機リン化合物は反応性が高すぎないことから、硬化促進剤として有機リン化合物を使用すると、塩素との反応が抑えられるため、塩素イオンの発生も抑えられ、信頼性の低下を抑制することができると考えられる。
エポキシ樹脂組成物が硬化促進剤を含有する場合、硬化促進剤の含有率は特に制限されず、例えば、エポキシ樹脂及び硬化剤の総量に対して1.0質量%〜10質量%であることが好ましく、1.5質量%〜7質量%であることがより好ましく、2.0質量%〜6質量%であることが更に好ましい。
[有機溶剤]
本開示のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤を含有してもよい。エポキシ樹脂組成物が有機溶剤を含有すると、組成物の粘度が低下し、混練性及び流動性が向上する傾向にある。有機溶剤は特に制限されず、例えば、沸点が50℃〜100℃である有機溶剤(以下、特定有機溶剤ともいう)を含有してもよい。
特定有機溶剤は特に制限されず、例えば、沸点が50℃〜100℃であり、好ましくはエポキシ樹脂組成物中の成分と非反応性のものを適宜選択して使用することができる。特定有機溶剤としては、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。中でもアルコール系溶剤が好ましく、メタノール(沸点64.7℃)、エタノール(沸点78.37℃)、プロパノール(沸点97℃)及びイソプロパノール(沸点82.6℃)がより好ましい。特定有機溶剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、特定有機溶剤としては、エポキシ樹脂組成物を調製する際に添加されるものであってもよく、エポキシ樹脂組成物を調製する際の混練過程の反応で発生するものであってもよい。なお、本開示において特定有機溶剤の沸点は、常圧にて測定される特定有機溶剤の沸点を指す。
エポキシ樹脂組成物中の特定有機溶剤の含有率は、特に制限されない。特定有機溶剤の含有率は、例えば、エポキシ樹脂組成物の全質量に対して0.1質量%〜10質量%であることが好ましく、熱伝導性をより向上させる観点から、0.3質量%〜4.0質量%であることがより好ましく、0.3質量%〜3.0質量%であることが更に好ましく、0.3質量%〜2.5質量%であることが特に好ましい。特定有機溶剤の含有率が0.3質量%以上であると、流動性の向上効果がより高まる傾向にある。特定有機溶剤の含有率が3.0質量%以下であると、エポキシ樹脂組成物中のエポキシ樹脂を硬化するときにボイドの発生がより抑制され、絶縁信頼性の低下がより抑制される傾向にある。
特定有機溶剤中のアルコール系溶剤の含有率は、特に限定されない。アルコール系溶剤の含有率は、例えば、特定有機溶剤の全質量に対して50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが更に好ましく、95質量%以上であることが特に好ましい。また、エポキシ樹脂組成物は、アルコール系溶剤以外の特定有機溶剤を実質的に含有していなくてもよい。
[添加剤]
エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて陰イオン交換体、離型剤、難燃剤、カップリング剤、応力緩和剤、可塑剤、着色剤等の添加剤を含有してもよい。
(陰イオン交換体)
エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて陰イオン交換体を含有してもよい。特に、エポキシ樹脂組成物を封止材料として用いる場合には、封止される素子を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、陰イオン交換体を含有することが好ましい。
陰イオン交換体は特に制限されず、従来から当該技術分野において一般的に使用されるものから選択できる。例えば、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスから選ばれる元素の含水酸化物が挙げられる。
陰イオン交換体は特に制限されず、従来から当該技術分野において一般に使用されるものから選択できる。陰イオン交換体としては、例えば、下記式(I)で示される組成のハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス及びアンチモンからなる群より選ばれる元素の含水酸化物が挙げられる。陰イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Mg1−xAl(OH)(COx/2・mHO (I)
(0<X≦0.5、mは正の数)
ハイドロタルサイト化合物は、ハロゲンイオン等の陰イオンを構造中のCO3と置換することで捕捉し、結晶構造の中に取り込まれたハロゲンイオンは約350℃以上で結晶構造が破壊するまで脱離しない性質を持つ化合物である。この様な性質を有するハイドロタルサイトとしては、天然物として産出されるMgAl(OH)16CO・4HO、合成品としてMg4.3Al(OH)12.6CO・mHO等が挙げられる。
エポキシ樹脂組成物が硬化剤としてフェノール硬化剤を含有する場合、フェノール硬化剤の影響でエポキシ樹脂組成物は酸性を示す(例えば、純水を使用した硬化物の抽出液がpH3〜5となる)。この場合、例えば、両性金属であるアルミニウムは、エポキシ樹脂組成物によって腐食されやすい環境となるが、酸を吸着する作用も持つハイドロタルサイト化合物をエポキシ樹脂組成物が含有することで、アルミニウムの腐食が抑制される傾向にある。
また、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス及びアンチモンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物も、ハロゲンイオン等の陰イオンを水酸化物イオンと置換することで捕捉することができる。更にこれらのイオン交換体は酸性側で優れたイオン交換能を示す。従って、これらのイオン交換体をエポキシ樹脂組成物が含有することで、ハイドロタルサイト化合物を含有する場合と同様に、アルミニウムの腐食が抑制される傾向にある。含水酸化物としては、MgO・nHO、Al・nHO、ZrO・HO、Bi・HO、Sb・nHO等が挙げられる。
エポキシ樹脂組成物が陰イオン交換体を含有する場合、陰イオン交換体の含有率は、ハロゲンイオン等の陰イオンを捕捉できる充分な量であれば特に制限はない。エポキシ樹脂組成物が陰イオン交換体を含有する場合、陰イオン交換体の含有率は、例えば、0.1質量%〜30質量%であることが好ましく、1.0質量%〜5質量%であることがより好ましい。
(離型剤)
エポキシ樹脂組成物は、成形工程において金型に対する良好な離型性を発揮させる観点から、必要に応じて離型剤を含有してもよい。離型剤の種類は特に制限されず、当該技術分野において公知の離型剤が挙げられる。具体的に、離型剤としては、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。中でも、カルナバワックス及びポリオレフィン系ワックスが好ましい。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ポリオレフィン系ワックスとしては、市販品を用いてもよく、例えば、ヘキスト社のH4、PE、PEDシリーズ等の数平均分子量が500〜10000程度の低分子量ポリエチレンなどが挙げられる。
エポキシ樹脂組成物がポリオレフィン系ワックスを含有する場合、ポリオレフィン系ワックスの含有率は、エポキシ樹脂に対して0.01質量%〜10質量%であることが好ましく、0.10質量%〜5質量%であることがより好ましい。ポリオレフィン系ワックスの含有率が0.01質量%以上であると充分な離型性が得られる傾向にあり、10質量%以下であると充分な接着性が得られる傾向にある。
また、エポキシ樹脂組成物がポリオレフィン系ワックス以外のその他の離型剤を含有する場合、又はエポキシ樹脂組成物がポリオレフィン系ワックス及びその他の離型剤を含有する場合、ポリオレフィン系ワックス以外のその他の離型剤の含有率は、エポキシ樹脂に対して0.1質量%〜10質量%であることが好ましく、0.5質量%〜3質量%であることがより好ましい。
(難燃剤)
エポキシ樹脂組成物は、難燃性を付与する観点から、必要に応じて難燃剤を含有してもよい。難燃剤は特に制限されず、例えば、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む公知の有機化合物及び無機化合物、金属水酸化物、並びにアセナフチレンが挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物が難燃剤を含有する場合、難燃剤の含有率は、難燃効果が得られる量であれば特に制限はない。エポキシ樹脂組成物が難燃剤を含有する場合、難燃剤の含有率は、エポキシ樹脂に対して、1質量%〜30質量%であることが好ましく、2質量%〜15質量%であることがより好ましい。
(カップリング剤)
エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて、樹脂成分と無機充填材との接着性を高める観点から、カップリング剤を含有してもよい。カップリング剤の種類は、特に制限されない。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、メタクリルシラン、アクリルシラン、ビニルシラン等の各種シラン化合物、チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウム及びジルコニウム含有化合物などが挙げられる。カップリング剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物がカップリング剤を含有する場合、カップリング剤の含有率は、無機充填材に対して0.05質量%〜5.0質量%であることが好ましく、0.10質量%〜2.5質量%であることがより好ましい。カップリング剤の含有率が0.05質量%以上であるとフレームとの接着性が向上する傾向にあり、5.0質量%以下であるとパッケージの成形性に優れる傾向にある。
(応力緩和剤)
エポキシ樹脂組成物は、パッケージの反り変形量及びパッケージクラックを低減させる観点から、必要に応じて、シリコーンオイル、シリコーンゴム粒子等の応力緩和剤を含有してもよい。使用可能な応力緩和剤としては、当該技術分野で一般に用いられる公知の可とう剤(応力緩和剤)を適宜選択して使用することができる。
応力緩和剤として具体的には、シリコーン、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリブタジエン等の熱可塑性エラストマー;NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子;メタクリル酸メチル−スチレン−ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル−シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸ブチル共重合体等のコア−シェル構造を有するゴム粒子;などが挙げられる。中でも、シリコーンを含有するシリコーン系応力緩和剤が好ましい。シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。
(可塑剤)
エポキシ樹脂組成物は、可塑剤を含有していてもよい。エポキシ樹脂組成物が可塑剤を含有すると、パッケージの反りをより抑制できる傾向にある。この理由は、高温弾性率の低下に起因するものと推測される。可塑剤としては、トリフェニルホスフィンオキシド、リン酸エステル等の有機リン化合物、シリコーンなどが挙げられる。可塑剤の含有率は、エポキシ樹脂に対して、0.001質量%〜20質量%であることが好ましく、10質量%〜20質量%であることがより好ましい。可塑剤は1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。
(着色剤)
エポキシ樹脂組成物は、カーボンブラック、繊維状カーボン、有機染料、有機着色剤、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の着色剤を含有してもよい。エポキシ樹脂組成物が着色剤を含有する場合、着色剤の含有率は、無機充填材に対して0.05質量%〜5.0質量%であることが好ましく、0.10質量%〜2.5質量%であることがより好ましい。
[エポキシ樹脂組成物の調製方法]
エポキシ樹脂組成物の調製には、各種成分を分散混合できるのであれば、いずれの手法を用いてもよい。一般的な手法として、各種成分をミキサー等によって充分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、エポキシ樹脂組成物は、例えば、上述した成分を混合して攪拌し、予め70℃〜140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練した後、冷却し、粉砕する等の方法によって得ることができる。エポキシ樹脂組成物は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化してもよい。エポキシ樹脂組成物をタブレット化することで、取り扱いが容易になる。
[エポキシ樹脂組成物の流動性]
本開示のエポキシ樹脂組成物は、以下の方法で流動性を測定したときに、160cm以上の流動距離を示すことが好ましい。EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いてエポキシ樹脂組成物を成形し、エポキシ樹脂組成物の成形物の流動距離(cm)を測定する。エポキシ樹脂組成物の成形は、トランスファー成形機を用い、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件下で行うものとする。
<エポキシ樹脂硬化物>
本開示のエポキシ樹脂硬化物は、上述したエポキシ樹脂組成物を硬化してなる。本開示のエポキシ樹脂硬化物は、上述したエポキシ樹脂組成物を硬化して得られることから、熱伝導性に優れ、反りが抑制されている傾向にある。
[エポキシ樹脂硬化物の熱伝導率]
エポキシ樹脂硬化物の熱伝導率は特に制限されず、2.5W/(m・K)以上であることが好ましい。本開示においてエポキシ樹脂硬化物の熱伝導率は以下のように測定したときの値とする。エポキシ樹脂組成物を用いて、金型温度180℃、成形圧力7MPa、硬化時間300秒間の条件でトランスファー成形を行い、金型形状のエポキシ樹脂硬化物を得る。得られたエポキシ樹脂硬化物の比重をアルキメデス法により測定し、比熱をDSC(例えば、Perkin Elmer社、DSC Pyris1)で測定する。また、得られた硬化物の熱拡散率を、熱拡散率測定装置(例えば、NETZSCH社、LFA467)を用いてレーザーフラッシュ法により測定する。得られた比重、比熱、及び熱拡散率を用いてエポキシ樹脂硬化物の熱伝導率を算出する。
[パッケージの反り]
本開示のエポキシ樹脂組成物を用いて以下の条件で硬化させてパッケージを作製したとき、パッケージの反りが抑制されていることが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂組成物を用いて、金型温度180℃、成形圧力7MPa、硬化時間300秒間の条件でトランスファー成形を行い、40mm四方のパッケージを得る。レーザー変位系を用いて、得られたパッケージにおける室温(25℃)と高温(260℃)の反り量を測定する。このとき、反り量は室温、高温のそれぞれにおいて400μm以下であることが好ましく、350μm以下であることがより好ましい。
<電子部品装置>
本開示の電子部品装置は、素子と、前記素子を封止している本開示のエポキシ樹脂組成物の硬化物と、を有し、BGAパッケージの形態を有する。BGAパッケージは、裏面に金属バンプを形成した基板のおもて面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と基板に形成された配線を接続した後、素子を封止して作製される。基板としては、ガラス−エポキシプリント配線板等が挙げられる。素子としては、能動素子、受動素子等が挙げられる。能動素子としては、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等が挙げられる。受動素子としては、コンデンサ、抵抗体、コイル等が挙げられる。
本開示の電子部品装置において、素子をエポキシ樹脂硬化物で封止する方法は、特に制限されず、当技術分野において公知の方法を適用することが可能である。例えば、低圧トランスファー成形法が一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。
以下、上記実施形態の一例を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(樹脂組成物の調製)
下記に示す成分を表1に示す配合割合(質量部)で混合し、実施例と比較例の樹脂組成物を調製した。表1中、「−」は成分が配合されていないことを示す。
・エポキシ樹脂1…ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、新日鐵住金化学株式会社、商品名「YSLV−80XY」
・エポキシ樹脂2…ビフェニル型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社、商品名「YX−4000」
・エポキシ樹脂3…ナフタレン型エポキシ樹脂、DIC株式会社、商品名「HP−4032D」
・硬化剤1…多官能フェノール樹脂、エア・ウォーター株式会社、商品名「HE910」
・硬化剤2…多官能フェノール樹脂、三菱ケミカル株式会社、商品名「SN−485」
・硬化促進剤1…リン系硬化促進剤
無機充填材として、以下を用意した。
・無機充填材1:シリカ、アルミナ混合フィラー(シリカ10質量%含有)、体積平均粒子径:10μm(アルミナ粒子の体積平均粒子径:14.5μm、シリカ粒子の体積平均粒子径:0.2μm)
・無機充填材2:シリカフィラー、体積平均粒子径:10μm
・無機充填材3:シリカフィラー、体積平均粒子径:1μm
その他、各種添加剤として、以下を用意した。
・カップリング剤:メタクリルシラン(3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)(信越化学工業株式会社:商品名KBM−503)
・着色剤:カーボンブラック(三菱ケミカル株式会社、商品名MA−100)
・離型剤:モンタン酸エステル(株式会社セラリカNODA)
・応力緩和剤:シリコーン
・可塑剤:有機リン化合物
なお、各実施例及び比較例における、無機充填材全体におけるシリカ粒子の体積平均粒子径を以下に示す。無機充填材全体におけるシリカ粒子の体積平均粒子径は湿式の粒度分布計によって得られる。
実施例1:4.3μm
実施例2:14.5μm
実施例3:4.3μm
実施例4:14.6μm
実施例5:4.3μm
実施例6:14.6μm
実施例7:14.6μm
比較例1:4.3μm
比較例2:9.9μm
比較例3:0.5μm
(流動性の評価)
エポキシ樹脂組成物の流動性の評価は、スパイラルフロー試験により行った。具体的には、EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いてエポキシ樹脂組成物を成形し、エポキシ樹脂組成物の成形物の流動距離(cm)を測定した。エポキシ樹脂組成物の成形は、トランスファー成形機を用い、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件下で行った。流動性は160cm以上をAとし、160cm未満をBとした。
(熱伝導率の評価)
エポキシ樹脂組成物を硬化したときの熱伝導率の評価は、下記により行った。具体的には、調製したエポキシ樹脂組成物を用いて、金型温度180℃、成形圧力7MPa、硬化時間300秒間の条件でトランスファー成形を行い、金型形状の硬化物を得た。得られた硬化物をアルキメデス法により測定した比重は3.00であった。得られた硬化物の比熱をDSC(Perkin Elmer社、DSC Pyris1)で測定した。また硬化物の熱拡散率を熱拡散率測定装置(NETZSCH社、LFA467)を用いてレーザーフラッシュ法により測定した。得られた比重、比熱、及び熱拡散率を用いてエポキシ樹脂硬化物の熱伝導率を算出した。熱伝導率は2.5W/(m・K)以上をAとし、2.5W/(m・K)未満をBとした。
(反りの評価方法)
エポキシ樹脂組成物の反りの評価は、下記により行った。具体的には、調製したエポキシ樹脂組成物を用いて、金型温度180℃、成形圧力7MPa、硬化時間300秒間の条件でトランスファー成形を行い、40mm四方のパッケージを得た。レーザー変位系を用いて、得られたパッケージにおける室温(25℃)と高温(260℃)の反り量を測定した。また、反り量が室温、高温とも350μm以下の場合をAA、350μm超400μm以下の場合をA、400μm超の場合をBとした。
各評価結果を図2に示す。
表2に示されるように、実施例のエポキシ樹脂組成物は流動性、熱伝導性、及び反りのいずれの評価も良好であった。
日本国特許出願第2017−254881号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に援用されて取り込まれる。

Claims (7)

  1. エポキシ樹脂と、硬化剤と、アルミナ粒子及びシリカ粒子を含む無機充填材と、を含有し、
    前記無機充填材の含有率が77体積%〜82体積%であり、
    前記アルミナ粒子及び前記シリカ粒子の合計量に対する前記シリカ粒子の割合が22質量%〜45質量%であり、
    前記シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm以上である、ボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
  2. 前記シリカ粒子の体積平均粒子径が4μm〜80μmである、請求項1に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
  3. 更に可塑剤を含有する、請求項1又は請求項2に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
  4. 更に、硬化促進剤を含有し、前記硬化促進剤が有機リン化合物を含む、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
  5. 前記エポキシ樹脂の全質量に対する1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の含有率が10質量%以下である、請求項4に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物。
  6. 請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のボールグリッドアレイパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
  7. 素子と、前記素子を封止している請求項6に記載のエポキシ樹脂硬化物と、を有し、ボールグリッドアレイパッケージの形態を有する、電子部品装置。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114921057B (zh) * 2022-06-02 2023-06-13 江苏长电科技股份有限公司 一种环氧塑封料组合物、制备方法及应用
CN115805714A (zh) * 2022-12-16 2023-03-17 毫厘机电(苏州)有限公司 一种消除多材料结合热膨胀的工艺方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006241281A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2008106181A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物と半導体装置
JP2012224758A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Panasonic Corp エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10182947A (ja) * 1996-12-24 1998-07-07 Matsushita Electric Works Ltd 封止材用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置
JP4188634B2 (ja) 2001-07-30 2008-11-26 スミトモ ベークライト シンガポール プライベート リミテッド エポキシ樹脂組成物
JP5906673B2 (ja) * 2010-11-26 2016-04-20 日立化成株式会社 封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこの成形材料で封止した素子を備えた電子部品装置
JP6282390B2 (ja) * 2010-12-16 2018-02-21 日立化成株式会社 封止用エポキシ樹脂成形材料及びこれを用いた半導体装置
JP5630652B2 (ja) * 2011-01-06 2014-11-26 日立化成株式会社 封止用エポキシ樹脂成形材料および電子部品装置
CN103517948A (zh) * 2011-05-13 2014-01-15 日立化成株式会社 密封用环氧树脂成形材料及电子部件装置
KR102072060B1 (ko) * 2013-08-05 2020-01-31 히타치가세이가부시끼가이샤 에폭시 수지 조성물 및 전자 부품 장치
JP6763391B2 (ja) * 2015-09-02 2020-09-30 日立化成株式会社 樹脂組成物、硬化物、封止用フィルム及び封止構造体
JP6712895B2 (ja) * 2016-04-15 2020-06-24 京セラ株式会社 粉粒状半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006241281A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2008106181A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物と半導体装置
JP2012224758A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Panasonic Corp エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

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