WO2020171004A1 - 硬化性樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents

硬化性樹脂組成物及び電子部品装置 Download PDF

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WO2020171004A1
WO2020171004A1 PCT/JP2020/005993 JP2020005993W WO2020171004A1 WO 2020171004 A1 WO2020171004 A1 WO 2020171004A1 JP 2020005993 W JP2020005993 W JP 2020005993W WO 2020171004 A1 WO2020171004 A1 WO 2020171004A1
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WO
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group
resin composition
curable resin
bonded
epoxy resin
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/005993
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English (en)
French (fr)
Inventor
高士 山本
道俊 荒田
勇磨 竹内
香澄 中村
Original Assignee
日立化成株式会社
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Publication date
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/44Amides
    • C08G59/46Amides together with other curing agents

Definitions

  • the present invention relates to a curable resin composition and an electronic component device.
  • the components mounted on the chip are also diversifying, and it is expected that the heat when curing the encapsulant may be affected depending on the type of the component (sensor, inductor, etc.). .. Therefore, it is desired to reduce the heating temperature when curing the sealing material.
  • Means for solving the above problems include the following embodiments.
  • An epoxy resin and a curing agent are included, the epoxy resin includes an epoxy resin having an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron donating group is not bonded, and the curing agent is bonded to an electron donating group.
  • a curable resin composition comprising a curing agent having a hydroxyl group bonded to an aromatic ring.
  • the electron donating group is at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an amino group and a methoxy group.
  • the curable resin composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the epoxy resin having an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron donating group is not bonded has a biphenyl structure.
  • the curing agent having a hydroxyl group bonded to the aromatic ring to which the electron donating group is bonded has a structure obtained by novolacizing the phenol compound bonded to the electron donating group.
  • the curing agent having a hydroxyl group bonded to the aromatic ring to which the electron donating group is bonded has a structure obtained by novolacizing a phenol compound having the electron donating group bonded to the ortho position, ⁇ 1> to ⁇ 4>
  • ⁇ 6> The curable resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, further containing an imidazole compound.
  • An electronic component device comprising: an element; and a cured product of the curable resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, which seals the element.
  • a curable resin composition having excellent curability at low temperature and an electronic component device obtained by using the same are provided.
  • the term “process” includes not only a process independent from other processes but also the process even if the process is not clearly distinguishable from other processes as long as the purpose of the process is achieved. ..
  • the numerical range indicated by using “to” includes the numerical values before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
  • the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another stepwise described numerical range. Further, in the numerical range described, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
  • the content rate or content of each component in the composition means that when there are a plurality of types of substances corresponding to each component in the composition, the plurality of types of substances present in the composition are used unless otherwise specified. Means the total content rate or content.
  • the particle size of each component in the composition is a plurality of types of particles corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified, with respect to a mixture of the plurality of types of particles present in the composition. Means the value of.
  • the curable resin composition of the present disclosure includes an epoxy resin and a curing agent, and the epoxy resin has an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron donating group is not bonded (hereinafter, also referred to as a specific epoxy resin. And a curing agent having a hydroxyl group bonded to an aromatic ring to which an electron-donating group is bonded (hereinafter, also referred to as a specific curing agent) is a curable resin composition.
  • the curable resin composition having the above structure is excellent in curability at low temperatures (for example, 150° C. or lower). Although the reason is not clear, the epoxy-containing group bonded to the aromatic ring to which the electron donating group is not bonded is reacted with the hydroxyl group bonded to the aromatic ring to which the electron donating group is bonded to react with the epoxy group. It is considered that the reactivity between the resin and the curing agent is improved and the curing at low temperature is promoted.
  • the curable resin composition of the present disclosure has excellent curability at low temperatures than conventional curable resin compositions, and thus is useful as, for example, an encapsulant for electronic component devices including components having poor heat resistance. .. In addition, the effect of suppressing the heat shrinkage during curing and reducing the warpage of the substrate can be expected.
  • the “electron donating group” means a substituent having a property of enhancing the activity of the aromatic ring to which it is bound, and the type thereof is not particularly limited. Examples thereof include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an amino group, a methoxy group and the like.
  • epoxy-containing groups or hydroxyl groups are not included in the "electron donating group".
  • the epoxy resin or the curing agent is a polymer, the structure corresponding to the main chain is not included in the substituent.
  • the “epoxy-containing group” means a substituent containing an epoxy group (ethylene oxide structure). Specifically, an epoxy group directly bonded to an aromatic ring, a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms (preferably a methylene group), a hydrocarbon oxy group having 1 to 3 carbon atoms (preferably a methylene group) to the aromatic ring. (Oxy group) or an epoxy group bonded via a hydrocarbon amino group having 1 to 3 carbon atoms.
  • examples of the “aromatic ring to which an epoxy-containing group is bonded” include a benzene ring and a condensed ring of two or more benzene rings (naphthalene etc.).
  • the benzene ring to which the epoxy-containing group is directly bonded is the aromatic ring to which the epoxy-containing group is bonded.
  • the epoxy resin contained in the curable resin composition is not particularly limited as long as it contains the specific epoxy resin, and can be selected according to desired characteristics of the curable resin composition.
  • the specific epoxy resin has only an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron-donating group is not bonded as an epoxy-containing group, an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron-donating group is not bonded is used. And an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron donating group is bonded.
  • the proportion of the specific epoxy resin in the epoxy resin is preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more of the total epoxy resin.
  • the upper limit of the proportion of the specific epoxy resin in the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of the properties of the cured product, the proportion of the specific epoxy resin in the epoxy resin may be 90% by mass or less, or 80% by mass or less, based on the whole epoxy resin.
  • the specific epoxy resin preferably has a structure in which two aromatic rings are bonded by a single bond or a divalent linking group, and the two aromatic rings are preferably a single bond or a divalent link. It is more preferable to have a structure bonded with a group (biphenyl structure), and it is further preferable to have a structure represented by the following general formula (A) as the biphenyl structure.
  • the specific epoxy resin having a biphenyl structure may further have a structure other than the biphenyl structure (triphenylmethane structure or the like).
  • * represents a bonding position with an adjacent atom, and at least one of * represents a bonding position with an epoxy-containing group.
  • the epoxy resin is at least one selected from the group consisting of phenol compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A and bisphenol F, and naphthol compounds such as ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol and dihydroxynaphthalene.
  • Novolak type epoxy resin phenol novolak type epoxy resin, which is obtained by epoxidizing a novolak resin obtained by condensing or co-condensing a certain phenolic compound and an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, and propionaldehyde under an acidic catalyst.
  • epoxy resins include biphenyl type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, diphenylmethane type epoxy resin, sulfur atom-containing epoxy resin, novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin.
  • An epoxy resin selected from the group consisting of a triphenylmethane type epoxy resin, a copolymer type epoxy resin and an aralkyl type epoxy resin is preferable.
  • biphenyl type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formula (II).
  • epoxy resins represented by the following general formula (II) when R 8 is substituted with oxygen atoms at positions 4 and 4′, 3,3′,5,5′ are methyl groups.
  • R 8 is a hydrogen atom
  • all the R 8 are hydrogen atoms 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl
  • R 8 s are hydrogen atoms
  • a mixed product such as YL-6121H (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name) is available as a commercial product.
  • R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic group having 4 to 18 carbon atoms (preferably a hydrogen atom in the case of the specific epoxy resin), and all of them are the same. It may be different.
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • stilbene type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formula (III).
  • R 9 and R 10 represent a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably a hydrogen atom in the case of the specific epoxy resin), and each of them may be the same or different.
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • diphenylmethane type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formula (IV).
  • epoxy resins represented by the following general formula (IV) all of R 11 are hydrogen atoms, and 3,3 when the positions where the oxygen atom in R 12 is substituted are 4 and 4′ positions.
  • YSLV-80XY Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., trade name in which the', 5, 5'position is a methyl group and the other R 12 is a hydrogen atom is commercially available.
  • R 11 is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms
  • R 12 is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (in the case of a specific epoxy resin, preferably Hydrogen atom), all of which may be the same or different.
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • the sulfur atom-containing epoxy resin include epoxy resins represented by the following general formula (V).
  • the epoxy resins represented by the following general formula (V) when the position where the oxygen atom is substituted in R 13 is 4 and 4′ positions, the 3,3′ positions are t-butyl groups, YSLV-120TE (Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., trade name) in which the 6,6′ position is a methyl group and the other R 13 is a hydrogen atom is commercially available.
  • R 13 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably a hydrogen atom in the case of the specific epoxy resin), and all may be the same or different.
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • the novolac type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formula (VI).
  • R 14 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably a hydrogen atom), and all may be the same or different.
  • R 15 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin).
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • dicyclopentadiene type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formula (VII).
  • R 16 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin).
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • triphenylmethane type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formula (VIII).
  • R 17 and R 18 represent a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin), and k independently represents an integer of 0 to 4 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin).
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • the copolymerization type epoxy resin obtained by epoxidizing a novolac resin obtained from a naphthol compound and a phenol compound, and an aldehyde compound include an epoxy resin represented by the following general formula (IX).
  • the epoxy resins represented by the following general formula (IX) NC-7300 (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name, in which R 21 is a methyl group, i is 1, j is 0, and k is 0) ) Etc. are commercially available.
  • R 19 to R 21 represent a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all of them may be the same or different.
  • i is an integer of 0 to 3 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin)
  • j is an integer of 0 to 2 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin)
  • k is 0 independently. It represents an integer of 4 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin).
  • Each of 1 and m is an average value and is a number of 0 to 10, and (l+m) is a number of 0 to 10.
  • the terminal of the epoxy resin represented by the formula (IX) is one of the following formulas (IX-1) and (IX-2).
  • R 19 to R 21 have the same definitions of i, j and k as R 19 to R 21 in formula (IX) have the same definition as i, j and k.
  • Is. n is 1 (when binding via a methylene group) or 0 (when not binding via a methylene group).
  • epoxy resin represented by the general formula (IX) a random copolymer containing 1 constitutional unit and m constitutional units at random, an alternating copolymer containing them alternately, a copolymer containing them regularly , Block copolymers contained in blocks, and the like. Any one of these may be used alone or in combination of two or more.
  • aralkyl type epoxy resin examples include epoxy resins represented by the following general formulas (X) and (XI).
  • the epoxy resins represented by the general formula (X) below NC-3000L (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name) in which i is 0 and R 38 is a hydrogen atom, i is 0, and R 38 is CER-3000 (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name), which is a mixture of an epoxy resin in which is a hydrogen atom and an epoxy resin of the general formula (II) in which all R 8 are hydrogen atoms in a mass ratio of 80:20, is commercially available. It is available as a product.
  • R 38 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all of them may be the same or different.
  • R 37 and R 39 to R 41 represent a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all may be the same or different.
  • i is independently an integer of 0 to 3 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin)
  • j is independently an integer of 0 to 2 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin)
  • k is Each independently represents an integer of 0 to 4 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin)
  • l independently represents an integer of 0 to 6 (preferably 0 in the case of a specific epoxy resin).
  • n is an average value and is independently a number of 0 to 10.
  • R 8 to R 21 and R 37 to R 41 in the above general formulas (II) to (XI) “all of them may be the same or different” means, for example, 8 to R in the formula (II). This means that all 88 R 8 s may be the same or different.
  • the other R 9 to R 21 and R 37 to R 41 also mean that the respective numbers included in the formula may be the same or different.
  • R 8 to R 21 and R 37 to R 41 may be the same or different.
  • all of R 9 and R 10 may be the same or different.
  • the organic group having 1 to 18 carbon atoms in the general formulas (III) to (XI) is preferably an alkyl group or an aryl group.
  • N in the above general formulas (II) to (XI) is an average value, and it is preferable that n is independently in the range of 0 to 10.
  • n is 10 or less, the melt viscosity of the resin component does not become too high, the viscosity of the curable resin composition at the time of melt molding lowers, filling failure, and deformation of the bonding wire (gold wire connecting the element and the lead). Occurrence of such a phenomenon tends to be suppressed. More preferably, n is set in the range of 0 to 4.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various characteristics such as moldability, reflow resistance and electrical reliability, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 100 g/eq to 1000 g/eq, and 150 g/eq to 500 g/eq. Is more preferable.
  • the temperature is preferably 50°C to 130°C.
  • the melting point of the epoxy resin shall be the value measured by differential scanning calorimetry (DSC), and the softening point of the epoxy resin shall be the value measured by the method (ring and ball method) according to JIS K 7234:1986.
  • the content of the epoxy resin in the curable resin composition is preferably 0.5% by mass to 50% by mass, from the viewpoint of strength, fluidity, heat resistance, moldability, etc., and 2% by mass to 30% by mass. Is more preferable.
  • the curing agent contained in the curable resin composition is not particularly limited as long as it contains the specific curing agent, and can be selected according to desired properties of the curable resin composition. Even if the specific curing agent has only a hydroxyl group bonded to the aromatic ring to which an electron donating group is bonded as a hydroxyl group, the hydroxyl group bonded to the aromatic ring to which the electron donating group is bonded and the electron donating group are It may have a hydroxyl group bonded to an aromatic ring which is not bonded.
  • the proportion of the specific curing agent in the curing agent is preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more of the entire curing agent.
  • the upper limit of the proportion of the specific curing agent fat in the curing agent is not particularly limited.
  • the proportion of the specific curing agent in the curing agent may be 90% by mass or less, or 80% by mass or less, based on the entire curing agent.
  • the specific curing agent preferably has a structure obtained by novolacizing a phenol compound having an electron donating group bonded thereto, and is obtained by novolaking a phenol compound having an electron donating group bonded at the ortho position. It is preferable that the structure has the following structure. Examples of the structure obtained by novolacizing a phenol compound having an electron-donating group bonded to the ortho position include a structure represented by the following general formula (B).
  • each R 1 independently represents an electron donating group, and n represents an integer of 0-10.
  • each R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and is preferably a methyl group (having an orthocresol novolac structure). More preferable.
  • the curing agent examples include phenol curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, blocked isocyanate curing agents, and the like. From the viewpoint of compatibility between curability and pot life, at least one selected from the group consisting of phenol curing agents, amine curing agents and acid anhydride curing agents is preferable, and phenol curing agents are more preferable from the viewpoint of electrical reliability. preferable.
  • the phenol curing agent examples include a phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule and a polyhydric phenol compound.
  • polyhydric phenol compounds such as resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, substituted or unsubstituted biphenol; phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol, etc.
  • Novolac-type phenol resin obtained by condensation or co-condensation under a catalyst; aralkyl-type phenol such as phenol aralkyl resin and naphthol aralkyl resin synthesized from the above-mentioned phenolic compound and dimethoxyparaxylene, bis(methoxymethyl)biphenyl, etc.
  • phenol curing agents from the viewpoint of reflow resistance, aralkyl type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, triphenylmethane type phenol resin, copolymer type phenol resin of benzaldehyde type phenol resin and aralkyl type phenol resin, and At least one selected from the group consisting of novolac type phenolic resins is preferable. From the viewpoint of low-temperature rapid curing property, a novolac type phenol resin is more preferable.
  • aralkyl type phenol resin examples include phenol resins represented by the following general formulas (XII) to (XIV).
  • R 23 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all of them may be the same or different.
  • R 22 , R 24 , R 25 and R 28 represent a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably an electron donating group in the case of a specific curing agent), and all of them may be the same or different.
  • R 26 and R 27 represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all of them may be the same or different.
  • n is an average value and is independently a number of 0 to 10.
  • phenolic resins represented by the general formula (XII), MEH-7851 (Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name) in which i is 0 and R 23 are all hydrogen atoms is commercially available. ..
  • dicyclopentadiene type phenol resin examples include a phenol resin represented by the following general formula (XV).
  • R 29 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably an electron donating group in the case of a specific curing agent), and all of them may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3.
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • triphenylmethane type phenol resin examples include a phenol resin represented by the following general formula (XVI).
  • R 30 and R 31 represent a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably an electron donating group in the case of a specific curing agent), and all of them may be the same or different.
  • i is independently an integer of 0 to 3
  • k is independently an integer of 0 to 4.
  • n is an average value and is a number from 0 to 10.
  • copolymerization type phenol resin of benzaldehyde type phenol resin and aralkyl type phenol resin include the phenol resin represented by the following general formula (XVII).
  • R 32 to R 34 represent a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (in the case of a specific curing agent, R 32 and R 34 are preferably electron donating groups), and even if all are the same, It may be different.
  • i is each independently an integer of 0 to 3
  • k is each independently an integer of 0 to 4
  • q is each independently an integer of 0 to 5.
  • l and m are average values, and are numbers 0 to 11 each independently. However, the sum of l and m is a number from 1 to 11.
  • novolac type phenol resin examples include a phenol resin represented by the following general formula (XVIII).
  • R 35 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably a hydrogen atom), and all may be the same or different.
  • R 36 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms (preferably an electron donating group in the case of a specific curing agent), and all may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3.
  • n is an average value and represents a number from 0 to 10.
  • R 22 to R 36 in the general formulas (XII) to (XVIII) means that, for example, all i R 22 's in the formula (XII) are the same. However, it means that they may be different from each other.
  • the other R 23 to R 36 also mean that all of the numbers included in the formula may be the same or different from each other.
  • R 22 to R 36 may be the same or different. For example, all of R 22 and R 23 may be the same or different, and all of R 30 and R 31 may be the same or different.
  • N in the above general formulas (XII) to (XVIII) is preferably in the range of 0 to 10. When it is 10 or less, the melt viscosity of the resin component does not become too high, and the viscosity of the curable resin composition during melt molding tends to be low.
  • the average n in one molecule is preferably set in the range of 0 to 4.
  • the functional group equivalent of the curing agent is not particularly limited. From the viewpoint of various characteristics balance such as moldability, reflow resistance, electrical reliability, etc., it is preferably 70 g/eq to 1000 g/eq, more preferably 80 g/eq to 500 g/eq. ⁇
  • the curing agent When the curing agent is solid, its softening point or melting point is not particularly limited. From the viewpoint of moldability and reflow resistance, it is preferably 40° C. to 180° C., and from the viewpoint of handleability during production of the encapsulating resin composition, it is more preferably 50° C. to 130° C. ..
  • the melting point or softening point of the curing agent shall be the value measured in the same way as the melting point or softening point of the epoxy resin.
  • the equivalent ratio of the epoxy resin and the curing agent that is, the ratio of the number of functional groups in the curing agent to the number of functional groups in the epoxy resin (the number of functional groups in the curing agent/the number of functional groups in the epoxy resin) is not particularly limited. From the viewpoint of suppressing the amount of each unreacted component, it is preferably set in the range of 0.5 to 2.0, and more preferably set in the range of 0.6 to 1.3. From the viewpoint of moldability and reflow resistance, it is more preferably set in the range of 0.8 to 1.2.
  • the curable resin composition may contain a curing accelerator.
  • the type of curing accelerator is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. For example, 1,8-diaza-bicyclo(5,4,0)undecene-7,1,5-diaza-bicyclo(4,3,0)nonene, 5,6-dibutylamino-1,8-diaza-bicyclo Cycloamidine compounds such as (5,4,0)undecene-7, tertiary amine compounds such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris(dimethylaminomethyl)phenol, and 2-methylimidazole , 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethyl
  • Examples include compounds having internal polarization, as well as derivatives thereof. Further, phenylboron salts such as 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, N-methylmorpholine tetraphenylborate and the like can be mentioned.
  • the curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.
  • the curable resin composition preferably contains an imidazole compound.
  • the curable resin composition contains a curing accelerator
  • its amount is preferably 0.1 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (the total of the epoxy resin and the curing agent). More preferably, it is from 15 parts by mass to 15 parts by mass.
  • the amount of the curing accelerator is 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, there is a tendency that the composition is cured well in a short time. If the amount of the curing accelerator is 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component, the curing speed will not be too fast, and a good molded article will tend to be obtained.
  • the curable resin composition may include an inorganic filler.
  • an inorganic filler when the curable resin composition is used as a sealing material for semiconductor packages, it is preferable to include an inorganic filler.
  • the type of inorganic filler is not particularly limited. Specifically, fused silica, crystalline silica, glass, alumina, calcium carbonate, zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite. Inorganic materials such as titania, talc, clay and mica can be mentioned. You may use the inorganic filler which has a flame retardant effect. Examples of the inorganic filler having a flame retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, complex metal hydroxides such as complex hydroxide of magnesium and zinc, and zinc borate.
  • fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient
  • alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity.
  • the inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. Examples of the state of the inorganic filler include non-powder, spherical beads, fibers, and the like.
  • the curable resin composition contains an inorganic filler
  • its content is not particularly limited. From the viewpoint of fluidity and strength, 30% by volume to 90% by volume of the entire curable resin composition is preferable, 35% by volume to 80% by volume is more preferable, and 40% by volume to 70% by volume. Is more preferable.
  • the content of the inorganic filler is 30% by volume or more of the entire curable resin composition, properties such as the thermal expansion coefficient, thermal conductivity and elastic modulus of the cured product tend to be further improved.
  • the content of the inorganic filler is 90% by volume or less of the entire curable resin composition, the increase in viscosity of the curable resin composition is suppressed, the fluidity is further improved, and the moldability tends to be better. It is in.
  • the average particle size of the inorganic filler is not particularly limited.
  • the volume average particle diameter is preferably 0.2 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the volume average particle diameter is 0.2 ⁇ m or more, increase in viscosity of the curable resin composition tends to be further suppressed.
  • the volume average particle diameter is 10 ⁇ m or less, the filling property into a narrow gap tends to be further improved.
  • the volume average particle diameter of the inorganic filler can be measured as a volume average particle diameter (D50) by a laser diffraction/scattering particle size distribution measuring device.
  • the volume average particle diameter of the curable resin composition or the inorganic filler in the cured product can be measured by a known method.
  • the inorganic filler is extracted from the curable resin composition or the cured product using an organic solvent, nitric acid, aqua regia, etc., and sufficiently dispersed with an ultrasonic disperser to prepare a dispersion liquid.
  • the volume average particle size of the inorganic filler can be measured from the volume-based particle size distribution measured by a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer.
  • measure the volume average particle size of the inorganic filler from the volume-based particle size distribution obtained by observing the cross section obtained by embedding the cured product in a transparent epoxy resin etc. and observing with a scanning electron microscope.
  • FIB device focused ion beam SEM
  • the particle shape of the inorganic filler is preferably spherical rather than square, and the particle size distribution of the inorganic filler is preferably widely distributed.
  • the curable resin composition may contain various additives such as a coupling agent, an ion exchanger, a release agent, a flame retardant, a colorant, and a stress relaxation agent, which are exemplified below, in addition to the above components.
  • the curable resin composition may contain various additives well known in the art, if necessary, in addition to the additives exemplified below.
  • a coupling agent may be included in order to enhance the adhesiveness between the resin component and the inorganic filler.
  • the coupling agent include known coupling agents such as epoxysilane, mercaptosilane, aminosilane, alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane, and other silane compounds, titanium compounds, aluminum chelate compounds, aluminum/zirconium compounds, and the like. ..
  • the amount of the coupling agent is preferably 0.05 parts by mass to 5 parts by mass, and 0.1 parts by mass to 100 parts by mass of the inorganic filler. It is more preferably 2.5 parts by mass.
  • the amount of the coupling agent is 0.05 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, the adhesiveness with the frame tends to be further improved.
  • the amount of the coupling agent is 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, the moldability of the package tends to be further improved.
  • the curable resin composition may include an ion exchanger.
  • an ion exchanger when the curable resin composition is used as a molding material for encapsulation, it is preferable to include an ion exchanger from the viewpoint of improving the moisture resistance and the high-temperature storage property of the electronic component device including the element to be encapsulated. ..
  • the ion exchanger is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Specific examples thereof include hydrotalcite compounds, and hydrous oxides of at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth.
  • the ion exchangers may be used alone or in combination of two or more. Among them, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferable.
  • the curable resin composition contains an ion exchanger
  • its content is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to trap ions such as halogen ions.
  • it is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 1 part by mass to 15 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin component.
  • the curable resin composition may include a mold release agent from the viewpoint of obtaining good mold releasability from the mold during molding.
  • the release agent is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Specific examples thereof include higher fatty acids such as carnauba wax, montanic acid and stearic acid, higher fatty acid metal salts, ester waxes such as montanic acid esters, and polyolefin waxes such as oxidized polyethylene and non-oxidized polyethylene.
  • the release agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount thereof is preferably 0.01 part by mass to 15 parts by mass, more preferably 0.1 part by mass to 10 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin component.
  • the amount of the releasing agent is 0.01 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, the releasing property tends to be sufficiently obtained.
  • the amount is 15 parts by mass or less, better adhesiveness tends to be obtained.
  • the curable resin composition may include a flame retardant.
  • the flame retardant is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Specific examples include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms or phosphorus atoms, metal hydroxides and the like.
  • the flame retardants may be used alone or in combination of two or more.
  • the curable resin composition contains a flame retardant
  • its amount is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to obtain a desired flame retardant effect.
  • it is preferably 1 part by mass to 300 parts by mass, more preferably 2 parts by mass to 150 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin component.
  • the curable resin composition may further include a colorant.
  • a colorant include known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, red lead and red iron oxide.
  • the content of the colorant can be appropriately selected according to the purpose and the like.
  • the colorants may be used alone or in combination of two or more.
  • the curable resin composition may contain a stress relaxation agent such as silicone oil or silicone rubber particles.
  • a stress relaxation agent such as silicone oil or silicone rubber particles.
  • the warp deformation of the package and the occurrence of package cracks can be further reduced.
  • the stress relaxation agent include known stress relaxation agents (flexible agents) that are generally used.
  • thermoplastic elastomers such as silicone-based, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyether-based, polyamide-based, polybutadiene-based, NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), acrylic Rubber particles such as rubber, urethane rubber and silicone powder, core-shell such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, methyl methacrylate-butyl acrylate copolymer Examples thereof include rubber particles having a structure.
  • the stress relaxation agent may be used alone or in combination of two or more. Of these, silicone-based stress relaxation agents are preferable. Examples of the silicone-based stress relaxation agent include those having an epoxy group, those having an amino group, those modified with polyether, and the like.
  • the method for preparing the curable resin composition is not particularly limited.
  • a general method there can be mentioned a method in which predetermined components are sufficiently mixed with a mixer or the like, then melt-kneaded with a mixing roll, an extruder or the like, cooled, and pulverized. More specifically, for example, a method of uniformly stirring and mixing predetermined amounts of the above-mentioned components, kneading with a kneader, roll, extruder or the like preheated to 70°C to 140°C, cooling, and pulverizing. Can be mentioned.
  • the curable resin composition is preferably solid at room temperature and normal pressure (for example, 25° C. and atmospheric pressure).
  • the shape of the curable resin composition when it is solid is not particularly limited, and examples thereof include powder, granules, and tablets.
  • the curable resin composition is in the form of a tablet, it is preferable from the viewpoint of handleability that the dimensions and weight be such that the molding conditions of the package are met.
  • An electronic component device includes an element and a cured product of the above-mentioned curable resin composition that seals the element.
  • elements semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors, etc.
  • a passive element such as a coil
  • the element is fixed on a lead frame, and the terminal portion of the element such as a bonding pad and the lead portion are connected by wire bonding, bumps or the like, and then transfer molding or the like using a curable resin composition.
  • DIP Device Inline Package
  • PLCC Physical Leaded Chip Carrier
  • QFP Quad Flat Package
  • SOP Small Outer Line Package
  • SOJ Small Outlet Line
  • TCP Tepe Carrier Package having a structure in which an element connected to a tape carrier by a bump is encapsulated with a curable resin composition
  • a COB Chip On Board
  • hybrid IC hybrid integrated circuit
  • multi-chip module etc., which has a structure in which an element, which is connected to wiring formed on a member by wire bonding, flip chip bonding, solder, etc., is sealed with a curable resin composition.
  • An element is mounted on the surface of a supporting member having terminals for connecting a wiring board formed on the back surface, the element is connected to the wiring formed on the supporting member by bumps or wire bonding, and then the element is formed with a curable resin composition.
  • BGA Bit Grid Array
  • CSP Chip Size Package
  • MCP Multi Chip Package
  • the curable resin composition can also be suitably used in a printed wiring board.
  • Examples of the method of sealing the electronic component device with the curable resin composition include a low pressure transfer molding method, an injection molding method, and a compression molding method.
  • the low pressure transfer molding method is general.
  • a method called Molded Underfill (MUF) may be mentioned.
  • Mold underfill is a method in which the gap between a semiconductor chip and a substrate is sealed (underfill) and the upper part of the semiconductor chip is sealed (overmold).
  • the curable resin composition was prepared by mixing the following materials with the composition (parts by mass) shown in Table 1 and performing roll kneading at a kneading temperature of 80° C. and a kneading time of 15 minutes.
  • Epoxy resin 1 triphenylmethane type epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "EPPN-501HY”) in which an epoxy-containing group is bonded to an aromatic ring to which an electron donor group (methyl group) is bonded, epoxy Equivalent weight 196g/eq, melting point 106°C
  • Epoxy resin 2 Biphenyl type epoxy resin in which an epoxy-containing group is bonded to an aromatic ring to which an electron-donating group (methyl group) is bonded (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "YX-4000H”), epoxy equivalent 196 g/ eq, melting point 106° C.
  • Epoxy resin 3 Epoxy resin having a biphenyl structure (25 mass%) in which an electron donating group is not bonded to an aromatic ring and a triphenylmethane structure (75 mass%) in which an electron donating group is not bonded to an aromatic ring ( Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "YL6677”), epoxy equivalent 155 to 170 g/eq, softening point 60°C to 100°C
  • Epoxy resin 4 4,4'-biphenyldiylbis(glycidyl ether) and 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-bis(glycidyloxy)-1,1'-biphenyl Mixture (mass ratio 1:1) (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "YL6121”), epoxy equivalent 170-180 g/eq, softening point 105°C
  • Curing agent 1 triphenylmethane type phenol resin in which an electron-donating group is not bonded to an aromatic ring to which an epoxy-containing group is bonded (Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name "MEH7500-3S"), hydroxyl equivalent 103 g/eq, Softening point 83°C
  • Curing agent 2 Ortho-cresol novolac resin (Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name "MEH5100-5S”), hydroxyl group equivalent 116 g/eq, softening point 64°C.
  • Curing agent 3 Phenol novolac resin having no electron donating group bonded to the aromatic ring (Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name "HP-850N”), hydroxyl equivalent 106g/eq, softening point 83°C
  • Curing accelerator 1 Addition product of tributylphosphine and benzoquinone Curing accelerator 2: 2-phenyl-4-methylimidazole Coupling agent 1: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane Coupling agent 2: N-phenyl-3- Aminopropyltrimethoxysilane Release agent 1: Montanic acid ester Colorant 1: Carbon black
  • Stress relaxation agent 1 Styrene-indene copolymer resin
  • Stress relaxation agent 2 Liquid silicone having an epoxy group and a polyether group in the side chain
  • Inorganic filler 1 Spherical fused silica (volume average particle diameter 5 ⁇ m)
  • Inorganic filler 2 Fine spherical fused silica (volume average particle size 0.5 ⁇ m)
  • A The curability of the surface of the molded product on the substrate is sufficient, and there is no swelling in the cull portion.
  • C An uncured portion is generated.
  • an epoxy resin having an epoxy-containing group bonded to an aromatic ring to which an electron donating group is not bonded epoxy resin 3 and a part of the epoxy resin 4
  • an aromatic compound having an electron donating group bonded thereto The curable resin composition of the example using the curing agent having a hydroxyl group bonded to the ring (curing agent 2) was less curable at low temperature than the curable resin composition of the comparative example which did not satisfy these conditions. Was good. Further, the curable resin compositions of Examples 3 and 4 using the imidazole compound as the curing accelerator are lower in temperature than the curable resin compositions of Examples 1 and 2 using the curing accelerator different from the imidazole compound. Was more curable.

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Abstract

エポキシ樹脂と硬化剤とを含み、前記エポキシ樹脂は電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂を含み、前記硬化剤は電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤を含む、硬化性樹脂組成物。

Description

硬化性樹脂組成物及び電子部品装置
 本発明は、硬化性樹脂組成物及び電子部品装置に関する。
 電子機器の小型化、軽量化、高性能化等に伴い、実装の高密度化が進んでいる。これにより、電子部品装置の主流は従来のピン挿入型のパッケージから、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Intergration)等の表面実装型のパッケージへと変化しつつある。さらに、SiP(System in a Package)、一括封止など、封止技術の多様化が進展している(例えば、特許文献1参照)。
   
特開2018-107416号公報
 封止技術の多様化に伴い、チップに搭載される部品も多様化しつつあり、部品の種類(センサー、インダクター等)によっては封止材を硬化させる際の熱に影響を受ける場合が想定される。このため、封止材を硬化させる際の加熱温度の低減が望まれている。
 本発明は上記事情に鑑み、低温での硬化性に優れる硬化性樹脂組成物、及びこれを用いて得られる電子部品装置を提供することを課題とする。 
 上記課題を解決するための手段には、以下の実施態様が含まれる。
<1> エポキシ樹脂と硬化剤とを含み、前記エポキシ樹脂は電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂を含み、前記硬化剤は電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤を含む、硬化性樹脂組成物。
<2> 前記電子供与基は炭素数1~6のアルキル基、アミノ基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1つである、<1>に記載の硬化性樹脂組成物。
<3> 前記電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂はビフェニル構造を有する、<1>又は<2>に記載の硬化性樹脂組成物。
<4> 前記電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤は前記電子供与基が結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造を有する、<1>~<3>のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<5> 前記電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤は前記電子供与基がオルト位に結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造を有する、<1>~<4>のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<6> イミダゾール化合物をさらに含む、<1>~<5>のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<7> 電子部品装置の封止材として用いるための、<1>~<6>のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<8> 素子と、前記素子を封止する<1>~<7>のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物と、を備える電子部品装置。
 本発明によれば、低温での硬化性に優れる硬化性樹脂組成物、及びこれを用いて得られる電子部品装置が提供される。
 以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。
 本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
 本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
 本開示において段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
 本開示において組成物中の各成分の含有率又は含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
 本開示において組成物中の各成分の粒子径は、組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
<硬化性樹脂組成物>
 本開示の硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と硬化剤とを含み、前記エポキシ樹脂は電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂(以下、特定エポキシ樹脂ともいう)を含み、前記硬化剤は電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤(以下、特定硬化剤ともいう)を含む、硬化性樹脂組成物である。
 上記構成を有する硬化性樹脂組成物は、低温(例えば、150℃以下)での硬化性に優れている。その理由は必ずしも明らかではないが、電子供与基が結合していない芳香環に結合しているエポキシ含有基と、電子供与基が結合した芳香環に結合している水酸基とを反応させることでエポキシ樹脂と硬化剤の反応性が向上し、低温での硬化が促進されることが考えられる。
 本開示の硬化性樹脂組成物は、従来の硬化性樹脂組成物よりも低温での硬化性に優れているため、例えば、耐熱性に劣る部品を含む電子部品装置の封止材として有用である。また、硬化時の熱収縮が抑えられて基板の反りが低減する効果が期待できる。
 本開示において「電子供与基」とは、これが結合している芳香環の活性を高める性質を有する置換基を意味し、その種類は特に制限されない。例えば、炭素数1~6のアルキル基、アミノ基、メトキシ基等が挙げられる。
 本開示において、エポキシ含有基又は水酸基は「電子供与基」に含まないものとする。また、エポキシ樹脂又は硬化剤が重合体である場合、主鎖に該当する構造は置換基には含まないものとする。
 本開示において「エポキシ含有基」とは、エポキシ基(エチレンオキシド構造)を含む置換基を意味する。具体的には、芳香環に直接結合しているエポキシ基、及び芳香環に炭素数1~3の炭化水素基(好ましくはメチレン基)、炭素数1~3の炭化水素オキシ基(好ましくはメチレンオキシ基)又は炭素数1~3の炭化水素アミノ基を介して結合しているエポキシ基が挙げられる。
 本開示において「エポキシ含有基が結合している芳香環」としては、ベンゼン環及び2つ以上のベンゼン環の縮合環(ナフタレン等)が挙げられる。2つ以上のベンゼン環が単結合等で連結した構造(ビフェニル構造等)の場合、エポキシ含有基が直接結合しているベンゼン環をエポキシ含有基が結合している芳香環とする。
(エポキシ樹脂)
 硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂は、特定エポキシ樹脂を含むものであれば特に制限されず、硬化性樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
 特定エポキシ樹脂は、エポキシ含有基として電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基のみを有するものであっても、電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基と、電子供与基が結合している芳香環に結合したエポキシ含有基とを有するものであってもよい。
 低温での硬化性の観点からは、エポキシ樹脂に占める特定エポキシ樹脂の割合は、エポキシ樹脂全体の20質量%以上であることが好ましく、30質量%以上であることがより好ましい。エポキシ樹脂に占める特定エポキシ樹脂の割合の上限は特に制限されない。硬化物の特性のバランスの観点からは、エポキシ樹脂に占める特定エポキシ樹脂の割合は、エポキシ樹脂全体の90質量%以下であってもよく、80質量%以下であってもよい。
 低温での反応性の観点からは、特定エポキシ樹脂は、2つの芳香環が単結合又は2価の連結基で結合した構造を有することが好ましく、2つの芳香環が単結合又は2価の連結基で結合した構造(ビフェニル構造)を有することがより好ましく、ビフェニル構造として下記一般式(A)で表される構造を有することがさらに好ましい。ビフェニル構造を有する特定エポキシ樹脂は、ビフェニル構造以外の構造(トリフェニルメタン構造等)をさらに有していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

 
 一般式(A)において、*は隣接する原子との結合位置を表し、*の少なくとも一方はエポキシ含有基との結合位置を表す。
 エポキシ樹脂として具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物とを酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはシリコーン樹脂のエポキシ化物、アクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 耐リフロー性と流動性のバランスの観点から、エポキシ樹脂としては、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、共重合型エポキシ樹脂及びアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選ばれるエポキシ樹脂が好ましい。
 ビフェニル型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(II)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(II)で表されるエポキシ樹脂の中でもRのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のRが水素原子であるYX-4000H(三菱ケミカル株式会社、商品名)、全てのRが水素原子である4,4’-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)ビフェニル、全てのRが水素原子の場合及びRのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基でそれ以外のRが水素原子である場合の混合品であるYL-6121H(三菱ケミカル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式(II)中、Rは水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数4~18の芳香族基(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは水素原子)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 スチルベン型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(III)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

 
 式(III)中、R及びR10は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは水素原子)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ジフェニルメタン型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(IV)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(IV)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R11の全てが水素原子であり、R12のうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のR12が水素原子であるYSLV-80XY(新日鉄住金化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

 
 式(IV)中、R11は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基、R12は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは水素原子)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 硫黄原子含有型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(V)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(V)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R13のうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’位がt-ブチル基であり、6,6’位がメチル基であり、それ以外のR13が水素原子であるYSLV-120TE(新日鉄住金化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

 
 式(V)中、R13は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは水素原子)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ノボラック型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(VI)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(VI)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R14の全てが水素原子であり、R15がメチル基であり、i=1であるESCN-190、ESCN-195(住友化学株式会社、商品名)、R14の全てが水素原子であり、i=0であるN-770、N-775(DIC株式会社、商品名)、R14の全てが水素原子であり、i=0である部分とi=1であり、R15が-CH(CH)-Phである部分を有するスチレン変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂であるYDAN-1000-10C(新日鉄住金化学株式会社、商品名)、R14の全てが水素原子であり、i=1であり、R15がメチル基である部分とi=2であり、R15のうち一つがメチル基で一つがベンジル基である部分を有するベンジル基変性クレゾールノボラック型エポキシ樹脂であるHP-5600(DIC株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

 
 式(VI)中、R14は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基(好ましくは水素原子)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R15は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(VII)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(VII)で表されるエポキシ樹脂の中でも、i=0であるHP-7200(DIC株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

 
 式(VII)中、R16は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 トリフェニルメタン型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(VIII)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(VIII)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、kが0である1032H60(三菱ケミカル株式会社、商品名)、EPPN-502H(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

 
 式(VIII)中、R17及びR18は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)、kは各々独立に0~4の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ナフトール化合物及びフェノール化合物と、アルデヒド化合物とから得られるノボラック樹脂をエポキシ化した共重合型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R21がメチル基でiが1であり、jが0であり、kが0であるNC-7300(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

 
 式(IX)中、R19~R21は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)、jは各々独立に0~2の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)、kは各々独立に0~4の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)を示す。l及びmはそれぞれ平均値であり、0~10の数であり、(l+m)は0~10の数を示す。式(IX)で表されるエポキシ樹脂の末端は、下記式(IX-1)又は(IX-2)のいずれか一方である。式(IX-1)及び(IX-2)において、R19~R21は、i、j及びkの定義は式(IX)におけるR19~R21は、i、j及びkの定義と同じである。nは1(メチレン基を介して結合する場合)又は0(メチレン基を介して結合しない場合)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010

 
 上記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂としては、l個の構成単位及びm個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体等が挙げられる。これらのいずれか1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 アラルキル型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(X)及び(XI)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、R38が水素原子であるNC-3000L(日本化薬株式会社、商品名)、iが0であり、R38が水素原子であるエポキシ樹脂と一般式(II)の全てのRが水素原子であるエポキシ樹脂を質量比80:20で混合したCER-3000(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。また、下記一般式(XI)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、jが0であり、kが0であるESN-175(新日鉄住金化学株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011

 
 式(X)及び(XI)において、R38は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R37、R39~R41は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)であり、jはそれぞれ独立に0~2の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)であり、lはそれぞれ独立に0~6の整数(特定エポキシ樹脂の場合、好ましくは0)を示す。nは平均値であり、それぞれ独立に0~10の数である。
 上記一般式(II)~(XI)中のR~R21及びR37~R41について、「それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい」とは、例えば、式(II)中の8~88個のRの全てが同一でも異なっていてもよいことを意味している。他のR~R21及びR37~R41についても、式中に含まれるそれぞれの個数について全てが同一でも異なっていてもよいことを意味している。また、R~R21及びR37~R41はそれぞれが同一でも異なっていてもよい。例えば、RとR10の全てについて同一でも異なっていてもよい。
 また、一般式(III)~(XI)における炭素数1~18の有機基はアルキル基又はアリール基であることが好ましい。
 上記一般式(II)~(XI)中のnは、平均値であり、それぞれ独立に0~10の範囲であることが好ましい。nが10以下であると樹脂成分の溶融粘度が高くなりすぎず、硬化性樹脂組成物の溶融成形時の粘度が低下し、充填不良、ボンディングワイヤ(素子とリードを接続する金線)の変形等の発生が抑制される傾向にある。nは0~4の範囲に設定されることがより好ましい。
 エポキシ樹脂のエポキシ当量は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性及び電気的信頼等の各種特性バランスの観点からは、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、100g/eq~1000g/eqであることが好ましく、150g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
 エポキシ樹脂が固体である場合、その軟化点又は融点は特に制限されない。硬化性樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点からは、50℃~130℃であることが好ましい。
 エポキシ樹脂の融点は示差走査熱量測定(DSC)で測定される値とし、エポキシ樹脂の軟化点はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。
 硬化性樹脂組成物中のエポキシ樹脂の含有率は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%~50質量%であることが好ましく、2質量%~30質量%であることがより好ましい。
(硬化剤)
 硬化性樹脂組成物に含まれる硬化剤は、特定硬化剤を含むものであれば特に制限されず、硬化性樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
 特定硬化剤は、水酸基として電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基のみを有するものであっても、電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基と、電子供与基が結合していない芳香環に結合した水酸基とを有するものであってもよい。
 低温での硬化性の観点からは、硬化剤に占める特定硬化剤の割合は、硬化剤全体の20質量%以上であることが好ましく、30質量%以上であることがより好ましい。硬化剤に占める特定硬化剤脂の割合の上限は特に制限されない。硬化物の特性のバランスの観点からは、硬化剤に占める特定硬化剤の割合は、硬化剤全体の90質量%以下であってもよく、80質量%以下であってもよい。
 低温速硬化性の観点からは、特定硬化剤は電子供与基が結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造を有することが好ましく、電子供与基がオルト位に結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造を有することが好ましい。電子供与基がオルト位に結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造としては、下記一般式(B)で表される構造が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012

 
 一般式(B)において、Rはそれぞれ独立に電子供与基を表し、nは0~10の整数を示す。一般式(B)において、Rはそれぞれ独立に炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のアルコキシ基であることが好ましく、メチル基である(オルトクレゾールノボラック構造である)ことがより好ましい。
 硬化剤として具体的には、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。硬化性及びポットライフの両立の観点からはフェノール硬化剤、アミン硬化剤及び酸無水物硬化剤からなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、電気的信頼性の観点からはフェノール硬化剤がより好ましい。
 フェノール硬化剤としては、例えば、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール樹脂及び多価フェノール化合物が挙げられる。具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等とから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン及び/又はメタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンとから共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。これらのフェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 フェノール硬化剤の中でも、耐リフロー性の観点からはアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ベンズアルデヒド型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂、及びノボラック型フェノール樹脂からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。低温速硬化性の観点からは、ノボラック型フェノール樹脂であることがより好ましい。
 アラルキル型フェノール樹脂の具体例としては、下記一般式(XII)~(XIV)で表されるフェノール樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013

 
 式(XII)~(XIV)において、R23は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R22、R24、R25及びR28は炭素数1~18の1価の有機基(特定硬化剤の場合、好ましくは電子供与基)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R26及びR27は水酸基又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、jはそれぞれ独立に0~2の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数であり、pはそれぞれ独立に0~4の整数である。nは平均値であり、それぞれ独立に0~10の数である。
 上記一般式(XII)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、R23が全て水素原子であるMEH-7851(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
 ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂の具体例としては、下記一般式(XV)で表されるフェノール樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014

 
 式(XV)中、R29は炭素数1~18の1価の有機基(特定硬化剤の場合、好ましくは電子供与基)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 トリフェニルメタン型フェノール樹脂の具体例としては、下記一般式(XVI)で表されるフェノール樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

 
 式(XVI)中、R30及びR31は炭素数1~18の1価の有機基(特定硬化剤の場合、好ましくは電子供与基)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数である。nは平均値であり、0~10の数である。
 ベンズアルデヒド型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂の具体例としては、下記一般式(XVII)で表されるフェノール樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016

 
 式(XVII)中、R32~R34は炭素数1~18の1価の有機基(特定硬化剤の場合、R32及びR34は好ましくは電子供与基)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数であり、qはそれぞれ独立に0~5の整数である。l及びmはそれぞれ平均値であり、それぞれ独立に0~11の数である。ただし、lとmの合計は1~11の数である。
 ノボラック型フェノール樹脂の具体例としては、下記一般式(XVIII)で表されるフェノール樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

 
 式(XVIII)中、R35は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基(好ましくは水素原子)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R36は炭素数1~18の1価の有機基(特定硬化剤の場合、好ましくは電子供与基)を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 上記一般式(XII)~(XVIII)におけるR22~R36について記載した「それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい」は、例えば、式(XII)中のi個のR22の全てが同一でも相互に異なっていてもよいことを意味している。他のR23~R36についても、式中に含まれるそれぞれの個数について全てが同一でも相互に異なっていてもよいことを意味している。また、R22~R36は、それぞれが同一でも異なっていてもよい。例えば、R22及びR23の全てについて同一でも異なっていてもよく、R30及びR31の全てについて同一でも異なっていてもよい。
 上記一般式(XII)~(XVIII)におけるnは、0~10の範囲であることが好ましい。10以下であると樹脂成分の溶融粘度が高くなりすぎず、硬化性樹脂組成物の溶融成形時の粘度が低くなる傾向にある。1分子中の平均nは、0~4の範囲に設定されることが好ましい。
 硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、70g/eq~1000g/eqであることが好ましく、80g/eq~500g/eqであることがより好ましい。  
 硬化剤が固体である場合、その軟化点又は融点は、特に制限されない。成形性と耐リフロー性の観点からは、40℃~180℃であることが好ましく、封止用樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点からは、50℃~130℃であることがより好ましい。
 硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。
 エポキシ樹脂と硬化剤との当量比、すなわちエポキシ樹脂中の官能基数に対する硬化剤中の官能基数の比(硬化剤中の官能基数/エポキシ樹脂中の官能基数)は、特に制限されない。それぞれの未反応分を少なく抑える関連からは、0.5~2.0の範囲に設定されることが好ましく、0.6~1.3の範囲に設定されることがより好ましい。成形性と耐リフロー性の観点からは、0.8~1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。
(硬化促進剤)
 硬化性樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、1,8-ジアザ-ビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7、1,5-ジアザ-ビシクロ(4,3,0)ノネン、5,6-ジブチルアミノ-1,8-ジアザ-ビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7等のシクロアミジン化合物、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物、及び2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジルー2-フェニルイミダゾール、1-ベンジルー2-メチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2,4-ジアミノ-6-(2'-メチルイミダゾリル-(1'))-エチル-s-トリアジン、2-ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トリアルキルホスフィン(トリブチルホスフィン等)、ジアルキルアリールホスフィン(ジメチルフェニルホスフィン等)、アルキルジアリールホスフィン(メチルジフェニルホスフィン等)、トリフェニルホスフィン、アルキル基置換トリフェニルホスフィンなどの有機ホスフィン化合物、及びこれらの有機リン化合物に無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、並びにこれらの誘導体が挙げられる。さらには、2-エチル-4-メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N-メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のフェニルボロン塩が挙げられる。硬化促進剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 エポキシ樹脂と硬化剤との低温での反応を促進する観点からは、硬化性樹脂組成物はイミダゾール化合物を含むことが好ましい。
 硬化性樹脂組成物が硬化促進剤を含む場合、その量は、樹脂成分(エポキシ樹脂及び硬化剤の合計)100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~15質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.1質量部以上であると、短時間で良好に硬化する傾向にある。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して30質量部以下であると、硬化速度が速すぎず良好な成形品が得られる傾向にある。
(無機充填材)
 硬化性樹脂組成物は、無機充填材を含んでもよい。特に、硬化性樹脂組成物を半導体パッケージの封止材として用いる場合には、無機充填材を含むことが好ましい。
 無機充填材の種類は、特に制限されない。具体的には、溶融シリカ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。中でも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが好ましく、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。無機充填材は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。無機充填材の状態としては粉未、粉末を球形化したビーズ、繊維等が挙げられる。
 硬化性樹脂組成物が無機充填材を含む場合、その含有率は特に制限されない。流動性及び強度の観点からは、硬化性樹脂組成物全体の30体積%~90体積%であることが好ましく、35体積%~80体積%であることがより好ましく、40体積%~70体積%であることがさらに好ましい。無機充填材の含有率が硬化性樹脂組成物全体の30体積%以上であると、硬化物の熱膨張係数、熱伝導率、弾性率等の特性がより向上する傾向にある。無機充填材の含有率が硬化性樹脂組成物全体の90体積%以下であると、硬化性樹脂組成物の粘度の上昇が抑制され、流動性がより向上して成形性がより良好になる傾向にある。
 無機充填材の平均粒子径は、特に制限されない。例えば、体積平均粒子径が0.2μm~10μmであることが好ましく、0.5μm~5μmであることがより好ましい。体積平均粒子径が0.2μm以上であると、硬化性樹脂組成物の粘度の上昇がより抑制される傾向がある。体積平均粒子径が10μm以下であると、狭い隙間への充填性がより向上する傾向にある。無機充填材の体積平均粒子径は、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により、体積平均粒径(D50)として測定することができる。
 硬化性樹脂組成物又はその硬化物中の無機充填材の体積平均粒子径は、公知の方法によって測定することができる。例えば、有機溶剤、硝酸、王水等を用いて、硬化性樹脂組成物又は硬化物から無機充填材を抽出し、超音波分散機などで充分に分散して分散液を調製する。この分散液を用いて、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により測定される体積基準の粒度分布から、無機充填材の体積平均粒径を測定することができる。あるいは、硬化物を透明なエポキシ樹脂等に埋め込み、研磨して得られる断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる体積基準の粒度分布から、無機充填材の体積平均粒径を測定することができる。更には、FIB装置(集束イオンビームSEM)などを用いて、硬化物の二次元の断面観察を連続的に行い、三次元構造解析を行なうことで測定することもできる。
 硬化性樹脂組成物の流動性の観点からは、無機充填材の粒子形状は角形よりも球形が好ましく、また無機充填材の粒度分布は広範囲に分布したものが好ましい。
[各種添加剤]
 硬化性樹脂組成物は、上述の成分に加えて、以下に例示するカップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤、応力緩和剤等の各種添加剤を含んでもよい。硬化性樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含んでもよい。
(カップリング剤)
 硬化性樹脂組成物が無機充填材を含む場合は、樹脂成分と無機充填材との接着性を高めるために、カップリング剤を含んでもよい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等のシラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
 硬化性樹脂組成物がカップリング剤を含む場合、カップリング剤の量は、無機充填材100質量部に対して0.05質量部~5質量部であることが好ましく、0.1質量部~2.5質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して0.05質量部以上であると、フレームとの接着性がより向上する傾向にある。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して5質量部以下であると、パッケージの成形性がより向上する傾向にある。
(イオン交換体)
 硬化性樹脂組成物は、イオン交換体を含んでもよい。特に、硬化性樹脂組成物を封止用成形材料として用いる場合には、封止される素子を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含むことが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
  Mg(1-X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
  (0<X≦0.5、mは正の数)
 硬化性樹脂組成物がイオン交換体を含む場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに充分な量であれば特に制限はない。例えば、樹脂成分100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~15質量部であることがより好ましい。
(離型剤)
 硬化性樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含んでもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 硬化性樹脂組成物が離型剤を含む場合、その量は樹脂成分100質量部に対して0.01質量部~15質量部が好ましく、0.1質量部~10質量部がより好ましい。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が充分に得られる傾向にある。15質量部以下であると、より良好な接着性が得られる傾向にある。
(難燃剤)
 硬化性樹脂組成物は、難燃剤を含んでもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 硬化性樹脂組成物が難燃剤を含む場合、その量は、所望の難燃効果を得るのに充分な量であれば特に制限されない。例えば、樹脂成分100質量部に対して1質量部~300質量部であることが好ましく、2質量部~150質量部であることがより好ましい。
(着色剤)
 硬化性樹脂組成物は、着色剤をさらに含んでもよい。着色剤としてはカーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(応力緩和剤)
 硬化性樹脂組成物は、シリコーンオイル、シリコーンゴム粒子等の応力緩和剤を含んでもよい。応力緩和剤を含むことにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、シリコーン系応力緩和剤が好ましい。シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられる。
(硬化性樹脂組成物の調製方法)
 硬化性樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を均一に撹拌及び混合し、予め70℃~140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
 硬化性樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であることが好ましい。硬化性樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉状、粒状、タブレット状等が挙げられる。硬化性樹脂組成物がタブレット状である場合の寸法及び質量は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量となるようにすることが取り扱い性の観点から好ましい。
<電子部品装置>
 本開示の一実施形態である電子部品装置は、素子と、前記素子を封止する上述の硬化性樹脂組成物の硬化物と、を備える。
 電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、素子(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子など)を搭載して得られた素子部を硬化性樹脂組成物で封止したものが挙げられる。
 より具体的には、リードフレーム上に素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部とをワイヤボンディング、バンプ等で接続した後、硬化性樹脂組成物を用いてトランスファ成形等によって封止した構造を有するDIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC;テープキャリアにバンプで接続した素子を硬化性樹脂組成物で封止した構造を有するTCP(Tape Carrier Package);支持部材上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した素子を、硬化性樹脂組成物で封止した構造を有するCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール等;裏面に配線板接続用の端子を形成した支持部材の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と支持部材に形成された配線とを接続した後、硬化性樹脂組成物で素子を封止した構造を有するBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)などが挙げられる。また、プリント配線板においても硬化性樹脂組成物を好適に使用することができる。
 硬化性樹脂組成物を用いて電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法等が挙げられる。これらの中では、低圧トランスファ成形法が一般的である。
 さらには、モールドアンダーフィル(Molded Underfill;MUF)と呼ばれる方法が挙げられる。モールドアンダーフィルとは、半導体チップと基板の間のギャップの封止(アンダーフィル)と半導体チップ上部の封止(オーバーモールド)とを一括して行う方法である。
 以下、上記実施形態を実施例により具体的に説明するが、上記実施形態の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
〔硬化性樹脂組成物の調製〕
 下記の材料を表1に記載の組成(質量部)で混合し、混練温度80℃、混練時間15分の条件でロール混練を行うことによって、硬化性樹脂組成物を調製した。
 エポキシ樹脂1:電子供与基(メチル基)が結合している芳香環にエポキシ含有基が結合しているトリフェニルメタン型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社、商品名「EPPN-501HY」)、エポキシ当量196g/eq、融点106℃
 エポキシ樹脂2:電子供与基(メチル基)が結合している芳香環にエポキシ含有基が結合しているビフェニル型エポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社、商品名「YX-4000H」)、エポキシ当量196g/eq、融点106℃
 エポキシ樹脂3:芳香環に電子供与基が結合していないビフェニル構造(25質量%)と、芳香環に電子供与基が結合していないトリフェニルメタン構造(75質量%)とを有するエポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社、商品名「YL6677」)、エポキシ当量155~170g/eq、軟化点60℃~100℃
 エポキシ樹脂4:4,4’-ビフェニルジイルビス(グリシジルエーテル)と、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ビス(グリシジルオキシ)-1,1’-ビフェニルとの混合物(質量比1:1)(三菱ケミカル株式会社、商品名「YL6121」)、エポキシ当量170~180g/eq、軟化点105℃
 硬化剤1:エポキシ含有基が結合している芳香環に電子供与基が結合していないトリフェニルメタン型フェノール樹脂(明和化成株式会社、商品名「MEH7500-3S」)、水酸基当量103g/eq、軟化点83℃
 硬化剤2:オルトクレゾールノボラック樹脂(明和化成株式会社、商品名「MEH5100-5S」)、水酸基当量116g/eq、軟化点64℃
 硬化剤3:芳香環に電子供与基が結合していないフェノールノボラック樹脂(日立化成株式会社、商品名「HP-850N」)、水酸基当量106g/eq、軟化点83℃
 硬化促進剤1:トリブチルホスフィンとベンゾキノンとの付加物
 硬化促進剤2:2-フェニル-4-メチルイミダゾール
 カップリング剤1:3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
 カップリング剤2:N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン
 離型剤1:モンタン酸エステル
 着色剤1:カーボンブラック
 応力緩和剤1:スチレン・インデン共重合体レジン
 応力緩和剤2:エポキシ基とポリエーテル基を側鎖に有する液状シリコーン
 無機充填材1:球状溶融シリカ(体積平均粒子径5μm)
 無機充填材2:微細球溶融シリカ(体積平均粒子径0.5μm)
[流動性の評価]
 流動性の評価の指標として、スパイラルフロー試験を行った。具体的には、EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、成形圧力6.9MPaにて、硬化時間120秒/175℃及び硬化時間600秒/130℃における硬化性樹脂組成物の流動距離(cm)を求めた。結果を表1に示す。
[ゲルタイムの評価]
 硬化性樹脂組成物3gに対し、JSRトレーディング株式会社のキュラストメータを用いた測定を温度175℃及び130℃で実施し、トルク曲線の立ち上がりまでの時間をゲルタイム(秒)とした。結果を表1に示す。
[低温での硬化性の評価]
 アピックG-Line(MZ674-1)トランスファ成形機を用いて、240mm×74mm四方のCu板に対し、硬化性樹脂組成物の成形厚み500μmとして、表1に示す温度及び時間にてモールドアレイパッケージ(MAP)成形を実施した(成形圧力3MPa)。成形後のストリップ表面及びカル部分の外観状況を確認し、下記基準に従って低温での硬化性を評価した。結果を表1に示す。
 A:基板上の成形物表面の硬化性が充分であり、カル部分に膨れ等がない。
 B:基板上の成形物表面の硬化性は充分であるが、カル部分に膨れ等がある。
 C:未硬化部分が発生する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018

 
 表1に示すように、電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂(エポキシ樹脂3及びエポキシ樹脂4の一部)と、電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤(硬化剤2)とを用いた実施例の硬化性樹脂組成物は、これらの条件を満たさない比較例の硬化性樹脂組成物に比べて低温での硬化性が良好であった。
 さらに、硬化促進剤としてイミダゾール化合物を用いた実施例3、4の硬化性樹脂組成物は、イミダゾール化合物と異なる硬化促進剤を用いた実施例1、2の硬化性樹脂組成物に比べて低温での硬化性がより良好であった。

Claims (8)

  1.  エポキシ樹脂と硬化剤とを含み、前記エポキシ樹脂は電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂を含み、前記硬化剤は電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤を含む、硬化性樹脂組成物。
  2.  前記電子供与基は炭素数1~6のアルキル基、アミノ基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。
  3.  前記電子供与基が結合していない芳香環に結合したエポキシ含有基を有するエポキシ樹脂はビフェニル構造を有する、請求項1又は請求項2に記載の硬化性樹脂組成物。
  4.  前記電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤は前記電子供与基が結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造を有する、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
  5.  前記電子供与基が結合している芳香環に結合した水酸基を有する硬化剤は前記電子供与基がオルト位に結合したフェノール化合物をノボラック化して得られる構造を有する、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
  6.  イミダゾール化合物をさらに含む、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
  7.  電子部品装置の封止材として用いるための、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
  8.  素子と、前記素子を封止する請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物と、を備える電子部品装置。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61268721A (ja) * 1985-05-24 1986-11-28 Asahi Chem Ind Co Ltd エポキシ樹脂硬化剤
JP2006002139A (ja) * 2004-05-20 2006-01-05 Nippon Kayaku Co Ltd フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびその硬化物
JP2008063555A (ja) * 2006-09-04 2008-03-21 Chang Chun Plastics Co Ltd 難燃性樹脂組成物
JP2008231239A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、その硬化物、新規フェノール樹脂及びその製造方法
JP2009179764A (ja) * 2008-02-01 2009-08-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置
JP2009231605A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Sekisui Chem Co Ltd 接着剤及び接合体の製造方法
JP2011068713A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Namics Corp カバーレイフィルム
WO2011052157A1 (ja) * 2009-10-26 2011-05-05 住友ベークライト株式会社 半導体封止用樹脂組成物およびこれを用いた半導体装置
JP2012088459A (ja) * 2010-10-18 2012-05-10 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法
WO2012165439A1 (ja) * 2011-05-31 2012-12-06 日立化成工業株式会社 めっきプロセス用プライマー層、配線板用積層板及びその製造方法、多層配線板及びその製造方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61268721A (ja) * 1985-05-24 1986-11-28 Asahi Chem Ind Co Ltd エポキシ樹脂硬化剤
JP2006002139A (ja) * 2004-05-20 2006-01-05 Nippon Kayaku Co Ltd フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびその硬化物
JP2008063555A (ja) * 2006-09-04 2008-03-21 Chang Chun Plastics Co Ltd 難燃性樹脂組成物
JP2008231239A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、その硬化物、新規フェノール樹脂及びその製造方法
JP2009179764A (ja) * 2008-02-01 2009-08-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置
JP2009231605A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Sekisui Chem Co Ltd 接着剤及び接合体の製造方法
JP2011068713A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Namics Corp カバーレイフィルム
WO2011052157A1 (ja) * 2009-10-26 2011-05-05 住友ベークライト株式会社 半導体封止用樹脂組成物およびこれを用いた半導体装置
JP2012088459A (ja) * 2010-10-18 2012-05-10 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法
WO2012165439A1 (ja) * 2011-05-31 2012-12-06 日立化成工業株式会社 めっきプロセス用プライマー層、配線板用積層板及びその製造方法、多層配線板及びその製造方法

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