JPWO2010087117A1 - ジクロロピラジン誘導体の製造方法 - Google Patents

ジクロロピラジン誘導体の製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、式(III)(R2はニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表し、Mは塩を形成しうるカチオン種を表し、nはMの価数に対応する数を表す。)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤とを反応させて、式(I)(R1はハロゲン原子)で表されるヒドロキシピラジン誘導体を製造する方法;およびヒドロキシピラジン誘導体(I)と塩素化剤とを反応させることによって式(II)(R21はニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、もしくはカルボキシル基、またはR2の官能基が塩素化工程で変化した基を表す。)で表されるジクロロピラジン誘導体を製造する方法に関する。本発明によれば、ジクロロピラジン誘導体を安価に効率よく製造する方法およびジクロロピラジン誘導体の製造中間体であるヒドロキシピラジン誘導体を安価に効率よく製造することができる。【化12】

Description

本発明は、農医薬の中間体として有用なジクロロピラジン誘導体およびその製造中間体であるヒドロキシピラジン誘導体の製造方法に関する。
本願は、2009年1月28日に日本に出願された特願2009−016221号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
各種のウイルス、特にインフルエンザウイルスに卓効を示す化合物として式(IV)で表される化合物が知られている。
Figure 2010087117
(式中、R3は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、R4は、保護されていてもよい水酸基を表し、R5は、水素原子、アシル基、またはカルバモイルアルキル基を表す。)
中でも式(V)で表される6位フッ素置換のピラジンカルボキサミド誘導体(括弧内は互変異性体を示す。)は、抗インフルエンザ活性が強く、抗ウイルス剤として優れている(特許文献1を参照)。
Figure 2010087117
その製造方法は、特許文献1にいくつか記載されている。中でも下記反応工程で表される製造方法が比較的収率に優れたものである。
Figure 2010087117
WO01/60834
しかしながら、上記反応工程には、爆発の危険性があるニトロ化反応(式(VI)で表される化合物から式(VII)で表される化合物への反応)が含まれているため、工業的に製造するには防爆設備等を要し、安価に製造するには不向きである。
本発明の目的は、ニトロ化反応を経ないで式(VIII)で表される化合物に代表されるジクロロピラジン誘導体を安価に効率よく製造する方法を提供することである。
本発明の別の目的は、前記ジクロロピラジン誘導体の製造中間体であるヒドロキシピラジン誘導体を安価に効率よく製造する方法を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、化合物(VI)の塩を臭素化すると容易に臭素化体が得られ、この臭素化体を塩素化剤と反応させると、高収率で式(VIII)で表される化合物に変換できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は以下に記載する発明である。
〈1〉 式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体と塩素化剤とを反応させることを含む式(II)で表されるジクロロピラジン誘導体の製造方法。
Figure 2010087117
(式中、R1は、ハロゲン原子を表し、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表す。)
Figure 2010087117
(式中、R21は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、もしくはカルボキシル基、またはR2の官能基が塩素化工程で変化した基を表す。)
〈2〉 式(III)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤とを反応させることを含む式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体の製造方法。
Figure 2010087117
(式中、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表し、Mは、塩を形成しうるカチオン種を表し、nはMの価数に対応する数を表す。)
〈3〉 Mが、周期律表第I族、第IIa族または第IIIa族に属する金属元素から形成されたカチオン種である、前記〈2〉に記載のヒドロキシピラジン誘導体の製造方法。
〈4〉 式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体が、式(III)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤とを反応させることによって得られた化合物である、前記〈1〉に記載のジクロロピラジン誘導体の製造方法。
本発明の製造方法は、爆発の危険性があるニトロ化反応を含まないので、工業的な製造においても防爆設備等を要せずに行うことができる。本発明の製造方法によれば、抗ウイルス剤などの農医薬の中間体として有用なジクロロピラジン誘導体および該ジクロロピラジン誘導体の製造中間体であるヒドロキシピラジン誘導体を安価に容易に高収率で得ることができる。
以下に、本発明のジクロロピラジン誘導体の製造方法およびその製造中間体であるヒドロキシピラジン誘導体の製造方法を詳細に説明する。
〈ジクロロピラジン誘導体の製造方法〉
本発明のジクロロピラジン誘導体の製造方法は、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体と塩素化剤とを反応させることを含むものである。
式(I)において、R1は、ハロゲン原子である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、臭素原子または塩素原子などが好ましい。
式(I)において、R2は、ニトリル基(−CNで表される基)、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基である。これらのうち、N無置換もしくはN置換カルバモイル基が好ましい。
N無置換カルバモイル基とは−CONH2で表される基である。N置換カルバモイル基を構成するN置換基は、一つだけであってもよいし、二つであってもよい。すなわち、N置換カルバモイル基とは−CONHR31または−CONR31311で表される基である。−CONR31311で表される基のN置換基R31およびR311は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。N置換基R31またはR311としては、特に制限されないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル基; クロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロエチル基などのハロゲノアルキル基; ベンジル基、4−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、トリチル基、フェネチル基などのアラルキル基; メトキシメチル基などのアルコキシアルキル基; ベンジルオキシメチル基などのアラルキルオキシアルキル基; t−ブチルジメチルシロキシメチル基などの置換シロキシアルキル基; メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などのアルコキシ基; ベンジルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基、トリチルオキシ基などのアラルキルオキシ基; t−ブチルジメチルシリル基などの置換シリル基; フェニル基、ナフチル基、インダニル基、インデニル基、4−メトキシフェニル基、4−メトキシメチルフェニル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、2−ピリジル基などのアリール基; ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、エチルカルボニル基、トリクロロエトキシカルボニル基、トリフルオロアセチル基、t−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基などのアシル基などが挙げられる。また、R31およびR311は、任意に結合して、隣接するN原子とともに環を形成してもよい。
エステル基とは−COOR32で表される基である。置換基R32は、特に制限されないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル基;クロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロエチル基などのハロゲノアルキル基などが挙げられる。カルボキシル基はR32が水素原子となったものである。
式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体は、その製造方法によって特に限定されないが、後述する本発明のヒドロキシピラジン誘導体の製造方法によって得ることが好ましい。
塩素化剤としては、塩素の単体(塩素分子)、N−クロロスクシンイミド、五塩化リン、塩化ホスホリル、オキシ塩化リン、塩化チオニル、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン、次亜塩素酸塩、塩化シアヌル、1,3−ジアルキル−2−クロロイミダゾリニウムクロリド、2−クロロ−1,3−ジメチルベンズイミダゾリウム−クロリド等が挙げられる。これらのうち、オキシ塩化リン、塩化チオニル、ホスゲン、ジホスゲンまたはトリホスゲンなどの脱水塩素化剤が特に好ましい。
塩素化剤の使用量は、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体1モルに対して、通常2〜10モル、好ましくは2〜5モルである。
式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体と塩素化剤との反応は、通常、無溶媒もしくは溶媒中で行われる。
溶媒としては、塩素化反応に対して悪影響を及ぼさない不活性なものであれば、特に制限されない。例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチルなどのエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n−ヘプタンなどの飽和炭化水素系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含イオウ溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセタミド、ヘキサメチルホスホロアミドなどのアミド系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、モノクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は1種単独でもしくは2種以上を組み合わせて用いることができる。これら溶媒のうち、ニトリル系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒などが好ましい。
溶媒が用いられる場合の溶媒の使用量は、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体1質量部に対して、通常0.001〜100質量部である。
上記反応は、塩基の存在下で行うことが好ましい。
塩基としては、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのアルキルアミン;アニリン、N,N−ジメチルアニリンなどのアリールアミン;ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)などの複素環状アミン;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基などが挙げられる。これらのうち、三級アルキルアミンまたは複素環状アミンが好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどが特に好ましい。
塩基の使用量は、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体1モルに対して、通常2〜10モル、好ましくは2〜5モルである。
反応温度は、通常0℃〜200℃の範囲、好ましくは50℃〜150℃である。反応時間は反応規模に応じて変わるが、通常5分間〜数日間である。
反応終了後は、通常の後処理操作または生成物の精製を行うことができる。精製手段は特に制限されず、蒸留、再結晶またはカラムクロマトグラフィー等の公知慣用の手段を用いることができる。
以上の方法によって、式(II)で表されるジクロロピラジン誘導体が得られる。なお、式(II)中のR21は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、もしくはカルボキシル基、またはR2の官能基が塩素化工程で変化したものである。例えば、官能基R2がカルバモイル基であるとき、前記の塩素化工程によって、R21としてニトリル基に変化することがある。
〈ヒドロキシピラジン誘導体の製造方法〉
本発明の製造方法の出発原料、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体は、以下の方法によって製造することが好ましい。
すなわち、本発明のヒドロキシピラジン誘導体の製造方法は、式(III)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤とを反応させることを含むものである。
式(III)において、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基である。式(III)中のR2は、目的とするヒドロキシピラジン誘導体を表す式(I)中のR2に対応するものの中から選択できる。
Mは、塩を形成しうるカチオン種である。nはMの価数に対応する数であり、通常、整数によって表すことができる。例えばMの価数が1のときは、nは1であり、Mの価数が2のときは、nは2である。
Mとしては、周期律表第I族に属する金属元素、第IIa族に属する金属元素、または第IIIa族に属する金属元素から形成されたカチオン種;鉄、銅等の遷移金属元素から形成されたカチオン種;アンモニウム塩;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフェナミン、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン、ヒドラジン等の有機塩基から形成されたカチオン種などが挙げられる。ここで、「から形成されたカチオン種」とは、前記金属元素または有機塩基がイオン化されたカチオン種を意味する。
これらのうち、周期律表第I族、第IIa族または第IIIa族に属する金属元素から形成されたカチオン種などが好ましい。
第I族に属する金属元素はアルカリ金属と呼ばれる金属元素(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウム)である。これらのうち、ナトリウムまたはカリウムなどが好ましい。
第IIa族に属する金属元素は、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウムである。これらのうち、マグネシウムまたはカルシウムなどが好ましい。
第IIIa族に属する金属元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウムであり、特にホウ素またはアルミニウムが好ましい。
これらのなかでも、Mとしては、アルカリ金属元素から形成されたカチオン種がより好ましく、ナトリウムまたはカリウムなどから形成されたカチオン種が特に好ましい。
ハロゲン化剤としては、塩素の単体(塩素分子)、臭素の単体(臭素分子)、ヨウ素の単体(ヨウ素分子)、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、五塩化リン、塩化ホスホリル、オキシ塩化リン、塩化チオニル、次亜塩素酸塩、次亜臭素酸塩、塩化シアヌル、ビス(2,4,6−トリメチルピリジン)ブロモニウム・ヘキサフルオロフォスフェート、ビス(2,4,6−トリメチルピリジン)イオドニウム・ヘキサフルオロフォスフェート、1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウムハロゲニド類、2−クロロ−1,3−ジメチルベンズイミダゾリウム−クロリドなどが挙げられる。これらのうち、塩素の単体または臭素の単体が好ましく、特に臭素が好ましい。
ハロゲン化剤の使用量は、式(III)で表されるピラジン誘導体1モルに対して、通常1〜5モル、好ましくは1.1〜2モルである。
式(III)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤との反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒としては、ハロゲン化反応に対して悪影響を及ぼさない不活性なものであれば、特に制限されない。例えば、水;酢酸;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチルなどのエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n−ヘプタンなどの飽和炭化水素系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含イオウ溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセタミド、ヘキサメチルホスホロアミドなどのアミド系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は1種単独でもしくは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これら溶媒のうち、アルコール系溶媒、エステル系溶媒およびニトリル系溶媒などが好ましく、式(III)で表されるピラジン誘導体の溶解度の観点からアルコール系溶媒を含む2種以上の混合溶媒が特に好ましい。
溶媒の使用量は、式(III)で表されるピラジン誘導体1質量部に対して、通常0.001〜100質量部である。
反応温度は、通常−20℃〜100℃の範囲、好ましくは0℃〜50℃である。反応時間は反応規模に応じて変わるが、通常5分間〜数日間である。
反応終了後は、通常の後処理操作または生成物の精製を行うことができる。精製手段は特に制限されず、蒸留、再結晶またはカラムクロマトグラフィー等の公知慣用の手段を用いることができる。
以上のように、本発明によれば、式(III)で表されるピラジン誘導体、すなわち、カチオン種Mを有する塩としてのピラジン誘導体(III)とハロゲン化剤とを反応させることによって、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体を効率よく製造できる。さらに、式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体と塩素化剤とを反応させることによって、抗ウイルス剤等の製造中間体として有用な式(II)で表されるジクロロピラジン誘導体が得られる。
本発明の製造方法で得られる式(II)で表されるジクロロピラジン誘導体を、フッ素化することによって、例えば、式(IX)で表される化合物に代表されるフッ素化化合物を得ることができる。そして前記フッ素化化合物をヒドロキシル化し、さらに、例えば、R21に相当する基がニトリル基であるときは、前記ニトリル基をアミド化することによって、式(XI)で表される化合物に代表される化合物等を得ることができる。
式(III)で表されるピラジン誘導体は、公知の方法、実施例に記載する方法もしくはこれらに準じる方法により、またはこれらを適宜組み合わせることにより、容易に入手することができる。
以下に、実施例を示して、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は実施例に限定されるものではない。
実施例において行った、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分析および1H−NMR測定に使用した機器は次の通りである。
〔HPLC分析〕 ポンプ:LC−10ATvp、検知器:SPD−10Avp、恒温槽:CTO−10ACvp、クロマトパック:CR−8A、島津製作所社製;
1H−NMR測定〕 FT−NMR、 JNM−AL400、日本電子社製
実施例1
6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの合成(1)
工程1:ナトリウム 2−カルバモイルピラジン−3−ヒドロキシレートの合成
18%水酸化ナトリウム水溶液231.5gを−10℃に冷却し、それに2−アミノマロン酸ジアミド97.3gを懸濁させた。次いで、40%グリオキサール水溶液148.4gを40分間掛けて滴下した。滴下終了後、該反応混合物を−5℃で1時間撹拌し、22℃に加温してさらに3時間撹拌した。5℃以下に冷却して固体生成物を濾取し、80%アセトニトリル水溶液166mlで洗浄し、次いでアセトニトリル166mlで洗浄し、ナトリウム 2−カルバモイルピラジン−3−ヒドロキシレート149.0g(収率92.0%)を得た。
工程2:6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの合成
メタノール153mlとアセトニトリル612mlの混合液に、上記工程1で得られたナトリウム 2−カルバモイルピラジン−3−ヒドロキシレート149.0gを懸濁させた。次いで、15〜24℃で臭素152.8gを8分間掛けて滴下し、20〜24℃で1時間撹拌した。0℃に冷却して、水1529mlを滴下し、滴下終了後0℃にて1時間撹拌した。固体生成物を濾取して水765mlで洗浄し、6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミド126.0g(収率75.6%)を得た。
実施例2
6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの合成(2)
メタノール20mlと酢酸エチル80mlの混合液に、ナトリウム 2−カルバモイルピラジン−3−ヒドロキシレート1.62gを懸濁させた。次いで、16〜17℃で臭素2.16gを10分間掛けて滴下し、18〜19℃で1時間撹拌した。水20mlを添加して、さらに15分間撹拌した。次いで40℃で、残液の重量が16.8gになるまで減圧濃縮した。5℃に冷却し、固体生成物を濾取した。水40mlで洗浄し、6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミド1.64g(収率75.2%)を得た。
比較例1
6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの合成(3)
アセトニトリル10mlに3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミド139mgを懸濁させた。0℃に冷却し、臭素0.28gを添加して、0℃で2時間撹拌し、室温で2.5時間撹拌し、そして40℃で1.5時間撹拌した。反応液をHPLCで分析したところ、6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドと3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの総面積比は1:10.5であった。
実施例3
3,6−ジクロロピラジン−2−カルボニトリルの合成
モノクロロベンゼン10mlに6−ブロモ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミド2.18gを懸濁させ、オキシ塩化リン6.13gを添加した。60℃に加温し、60℃で30分間撹拌した。次いでジイソプロピルエチルアミン3.88gを10分間掛けて滴下した。90〜100℃でさらに2.5時間撹拌した。室温に冷まし、反応混合物にトルエン20mlを添加し、減圧留去した。留出物が留出しなくなるまで濃縮し、残液にトルエン20mlと水10mlを添加して、40℃で2.5時間撹拌し、次いで分液を行った。有機層を、水で洗浄し、5%炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、次いで10%食塩水で洗浄して、3,6−ジクロロピラジン−2−カルボニトリルのトルエン溶液を得た。HPLCを用いた定量分析によると、3,6−ジクロロピラジン−2−カルボニトリルの純分収量は1.44g(収率83.0%)であった。
参考例
6−フルオロ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの合成
工程1:3,6−ジフルオロピラジン−2−カルボニトリルの合成
トルエン40mlとジメチルスルホキシド20mlの混合液に、フッ化カリウム3.49gとテトラブチルアンモニウムブロマイド1.33gを懸濁させた。常圧でトルエンを留去した。次いでトルエン40mlを添加し、再度留去することによって系中の水分を除去した。濃度24.7%の3,6−ジクロロピラジン−2−カルボニトリルのトルエン溶液14.08gを添加し、60℃で2.5時間撹拌した。次いでトルエン20mlと水30mlを添加し、分液した。有機層を水20mlで洗浄し、水20mlと濃塩酸を添加してpHを1.6に調整し、分液した。5%食塩水20mlで洗浄した。得られた有機層をHPLCで定量分析したところ、3,6−ジフルオロピラジン−2−カルボニトリルの純分収量は2.60g(収率92.3%)であった。
工程2:6−フルオロ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボニトリルの合成
濃度12.7%の3,6−ジフルオロピラジン−2−カルボニトリルのトルエン溶液19.92gにジメチルスルホキシド18ml、水9ml、および酢酸ナトリウム2.95gを順次添加した。この混合物を50℃に加温し、7時間撹拌した。次いで室温に冷まし、水9mlと濃塩酸を添加してpHを2.5に調整した。酢酸エチル54mlを添加して分液した。取り出した有機層を水18mlで洗浄し、次いで10%食塩水で洗浄した。各水層を酢酸エチル18mlで抽出して得た有機層を、最初の有機層と合わせ、酢酸エチルを減圧留去し、オイル状の6−フルオロ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボニトリル3.45gを得た。
工程3:6−フルオロ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミドの合成
6−フルオロ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボニトリルのオイル3.45gに濃硫酸14.39gを添加し、50℃で4時間撹拌した。3℃に冷却した水44.5mlに前記反応混合物を20分間掛けて滴下した。滴下終了後、10℃以下で20分間撹拌した。濃度28%の水酸化ナトリウム水溶液10.17gを15分間掛けて滴下した。滴下終了後、同温度で30分間撹拌した。固体生成物を濾取し、水18mlで洗浄して、6−フルオロ−3−ヒドロキシピラジン−2−カルボキサミド2.22g(収率92.3%)を得た。
本発明の製造方法は、爆発の危険性があるニトロ化反応が含まれていないので、工業的な製造においても防爆設備等を要せずに行うことができる。本発明の製造方法によれば、抗ウイルス剤などの農医薬の中間体として有用なジクロロピラジン誘導体および該ジクロロピラジン誘導体の中間体であるヒドロキシピラジン誘導体を安価に容易に高収率で得ることができる。

Claims (4)

  1. 式(I)
    Figure 2010087117
    (式中、R1は、ハロゲン原子を表し、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表す。)で表されるヒドロキシピラジン誘導体と塩素化剤とを反応させることを含む
    式(II)
    Figure 2010087117
    (式中、R21は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、もしくはカルボキシル基、またはR2の官能基が塩素化工程で変化した基を表す。)で表されるジクロロピラジン誘導体の製造方法。
  2. 式(III)
    Figure 2010087117
    (式中、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表し、Mは、塩を形成しうるカチオン種を表し、nはMの価数に対応する数を表す。)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤とを反応させることを含む式(I)
    Figure 2010087117
    (式中、R1は、ハロゲン原子を表し、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表す。)で表されるヒドロキシピラジン誘導体の製造方法。
  3. Mが、周期律表第I族、第IIa族または第IIIa族に属する金属元素から形成されたカチオン種である、請求項2に記載のヒドロキシピラジン誘導体の製造方法。
  4. 式(I)で表されるヒドロキシピラジン誘導体が、
    式(III)
    Figure 2010087117
    (式中、R2は、ニトリル基、N無置換もしくはN置換カルバモイル基、エステル基、またはカルボキシル基を表し、Mは、塩を形成しうるカチオン種を表し、nはMの価数に対応する数を表す。)で表されるピラジン誘導体とハロゲン化剤とを反応させることによって得られた化合物である、請求項1に記載のジクロロピラジン誘導体の製造方法。
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