JPWO2010038514A1 - 表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 - Google Patents
表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2010038514A1 JPWO2010038514A1 JP2010531773A JP2010531773A JPWO2010038514A1 JP WO2010038514 A1 JPWO2010038514 A1 JP WO2010038514A1 JP 2010531773 A JP2010531773 A JP 2010531773A JP 2010531773 A JP2010531773 A JP 2010531773A JP WO2010038514 A1 JPWO2010038514 A1 JP WO2010038514A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- display device
- insulating film
- film
- liquid crystal
- device substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 338
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 252
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 207
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 207
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 152
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 71
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 70
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 67
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 21
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 16
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 12
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 28
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1013
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 285
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 143
- 230000008569 process Effects 0.000 description 68
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 59
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 59
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 50
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 39
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 34
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 22
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 19
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 19
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 18
- 239000002585 base Substances 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 230000006870 function Effects 0.000 description 17
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 15
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 12
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 11
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 7
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 5
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 4
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910016048 MoW Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- MGRWKWACZDFZJT-UHFFFAOYSA-N molybdenum tungsten Chemical compound [Mo].[W] MGRWKWACZDFZJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 2
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8426—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/124—Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/501—Blocking layers, e.g. against migration of ions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/841—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
- H10K50/8445—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
- H10K59/8722—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
- H10K59/8731—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
図1は、実施形態1の液晶表示装置の画素領域における断面模式図である。本実施形態の液晶表示装置700は、透過型の液晶表示装置であり、図1、37に示すように、表示装置用基板であるTFT基板15と、TFT基板15に対向配置されたCF基板90とを有し、更に、両基板15、90の周囲に設けられたシール材39により両基板15、90間に液晶材料が封止されることによって液晶層10が形成されている。
まず、絶縁基板21に対して、前処理として、洗浄とプレアニールとを行う。絶縁基板21としては特に限定されないが、コスト等の観点からは、ガラス基板、樹脂基板等が好適である。次に、以下(1)〜(14)の工程を行う。
絶縁基板21上に、プラズマ化学気相成長(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition:PECVD)法により膜厚50nmのSiON膜と、膜厚100nmのSiOx膜とをこの順に成膜し、ベースコート膜22を形成する。SiON膜形成のための原料ガスとしては、モノシラン(SiH4)、亜酸化窒素ガス(N2O)及びアンモニア(NH3)の混合ガス等が挙げられる。なお、SiOx膜は、原料ガスとして正珪酸四エチル(Tetra Ethyl Ortho Silicate:TEOS)ガスを用いて形成されることが好ましい。また、ベースコート膜22は、原料ガスとしてモノシラン(SiH4)及びアンモニア(NH3)の混合ガス等を用いて形成された窒化シリコン(SiNx)膜を含んでもよい。
PECVD法により、膜厚50nmのアモルファスシリコン(a−Si)膜を形成する。a−Si膜形成のための原料ガスとしては、例えば、SiH4、ジシラン(Si2H6)等が挙げられる。PECVD法により形成したa−Si膜には水素が含まれているため、約500℃でa−Si膜中の水素濃度を低減する処理(脱水素処理)を行う。続いて、レーザアニールを行い、a−Si膜を溶融、冷却及び結晶化させることにより、p−Si膜を形成する。レーザアニールには、例えば、エキシマレーザを用いる。p−Si膜の形成には、レーザアニールの前処理として、(連続粒界結晶シリコン(CG−シリコン)化するため)、脱水素処理せずニッケル等の金属触媒を塗布して、熱処理による固相成長を行ってもよい。また、a−Si膜の結晶化としては、熱処理による固相成長のみを行ってもよい。次に、四フッ化炭素(CF4)及び酸素(O2)の混合ガスによるドライエッチングを行い、p−Si膜をパターニングし、半導体層23を形成する。
次に、原料ガスとしてTEOSガスを用いて、膜厚45nmの酸化シリコンからなるゲート絶縁膜24を形成する。ゲート絶縁膜24の材質としては特に限定されず、SiNx膜、SiON膜等を用いてもよい。SiNx膜及びSiON膜形成のための原料ガスとしては、ベースコート膜の形成工程で述べたものと同様の原料ガスが挙げられる。また、ゲート絶縁膜24は、上記複数の材料からなる積層体でもよい。
TFT29の閾値を制御するために、イオンドーピング法、イオン注入法等により、半導体層23に対してボロン等の不純物をドーピングする。より具体的には、Nチャネル型TFT又はPチャネル型TFTとなる半導体層に対してボロン等の不純物をドーピングした後(第一のドーピング工程)、Pチャネル型TFTとなる半導体層をレジストによりマスクした状態で、Nチャネル型となる半導体層に対して更にボロン等の不純物をドーピングする(第二のドーピング工程)。なお、Pチャネル型TFTの閾値制御が必要でない場合は、第一のドーピング工程は行わなくてもよい。
次に、スパッタリング法を用いて、膜厚30nmの窒化タンタル(TaN)膜と膜厚370nmのタングステン(W)膜とをこの順に成膜し、続いて、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、アルゴン(Ar)、六フッ化硫黄(SF6)、四フッ化炭素(CF4)、酸素(O2)、塩素(Cl2)等の混合ガス分量を調整したエッチングガスを用いてドライエッチングを行い、ゲート電極25を形成する。ゲート電極25の材料としては、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、モリブデンタングステン(MoW)等の表面が平坦で特性の安定した高融点金属や、アルミニウム(Al)等の低抵抗金属が挙げられる。また、ゲート電極25は、上記複数の材料からなる積層体であってもよい。
次に、TFT29のソース・ドレイン領域を形成するため、ゲート電極25をマスクとして、半導体層23に対して、Nチャネル型TFTではリン等の不純物を、Pチャネル型TFTではボロン等の不純物をイオンドーピング法、イオン注入法等により高濃度にドーピングする。このとき、必要に応じて、LDD(Lightly Doped Drain)領域を形成してもよい。続いて、半導体層23中に存在している不純物イオンを活性化させるために、約700℃、6時間の熱活性化処理を行う。これにより、ソース・ドレイン領域の電気伝導性を向上させることができる。なお、活性化の方法としては、エキシマレーザを照射する方法等も挙げられる。
次に、絶縁基板21全面にPECVD法により、膜厚100〜400nm(好適には、200〜300nm)のSiNx膜と、膜厚500〜1000nm(好適には、600〜800nm)のTEOS膜とを成膜することによって、無機絶縁膜41を形成する。無機絶縁膜41としては、SiON膜等を用いてもよい。また、トランジェント劣化(ホットキャリアによる劣化)等によりTFT特性が低下するのを抑制するとともに、TFT29の電気特性を安定化するため、無機絶縁膜41の下層には50nm程度の薄いキャップ膜(例えば、TEOS膜等)を形成してもよい。
次に、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、フッ酸系のエッチング溶液を用いてゲート絶縁膜24及び無機絶縁膜41のウェットエッチングを行い、コンタクトホール31fを形成する。なお、エッチングには、ドライエッチングを用いてもよい。この後、無機絶縁膜41のSiNx膜から供給される水素によって結晶Siの欠陥補正を行うため、約400℃で1時間、熱処理を行う。
次に、スパッタ法等で、膜厚100nmのチタン(Ti)膜と、膜厚500nmのアルミニウム(Al)膜と、膜厚100nmのTi膜とをこの順で成膜する。次に、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、ドライエッチングによりTi/Al/Tiの金属積層膜をパターニングし、第一配線層61を形成する。これにより、ソース電極34及びドレイン電極35が形成される。なお、第一配線層61を構成する金属としては、Alに代えてAl−Si合金等を用いてもよい。なお、ここでは、配線の低抵抗化のためにAlを用いたが、高耐熱性が必要であり、かつ抵抗値のある程度の増加が許される場合(例えば、短い配線構造にする場合)は、第一配線層61を構成する金属として、上述したゲート電極材料(Ta、Mo、MoW、W、TaN等)を用いてもよい。
次に、基板21全面にスピンコート法等により、膜厚1〜5μm(好適には、2〜3μm)の感光性アクリル樹脂、例えばナフトキノンジアジド系の紫外線硬化型樹脂を塗布することによって、感光性樹脂膜52を形成する。感光性樹脂膜52の材料としては、感光性のポリアルキルシロキサン系の樹脂を用いてもよい。続いて、所望の形状の遮光パターンが形成されたフォトマスクを通して感光性樹脂膜52を感光(露光)した後、エッチング(現像処理)を行うことによってコンタクトホール31gとなる領域の感光性樹脂膜52を除去する。続いて、感光性樹脂膜52のベーク工程(例えば、200℃、30分間)を行う。これにより、感光性樹脂膜52の開口部(孔部)の形状がなだらかとなり、コンタクトホール31gのアスペクト比を低減することができる。また、感光性樹脂膜52のコンタクト部(コンタクトホール31gとなる部分)を最初に除去する際、アッシング(剥離)工程が不要になる。
次に、スパッタリング法等によって、膜厚50〜200nm(好適には、100〜150nm)のITO膜やIZO膜を形成した後、フォトリソグラフィ法によって所望の形状にパターニングし、画素電極36を形成する。その後、少なくとも画素領域を覆うように、配向膜37として例えば印刷法によりポリイミド膜を画素電極36上に塗布するとともに、配向膜37の配向処理を行うことにより、TFT基板15が完成する。
CF基板90については、初めに絶縁基板21と同様の絶縁基板91を用意する。そして、遮光膜をスパッタリング法により成膜し、その膜をパターニングして、ブラックマトリクス92を形成する。次に、赤の顔料が分散された樹脂フィルム(ドライフィルム)を画素領域全面にラミネートし、露光、現像及びベーク(熱処理)を行って、赤のカラーフィルタ93を形成する。次に、赤のカラーフィルタ93に重ねて、緑色の顔料が分散された樹脂フィルムを画素領域全面にラミネートし、露光、現像及びベーク(熱処理)を行って、緑のカラーフィルタ93を形成する。同様に、青のカラーフィルタ93を形成する。またこのとき、画素開口部以外の遮光領域に、上記遮光膜及び上記樹脂フィルムの積層体からなる柱状スペーサ(図示せず)が形成される。次に、カラーフィルタ93の上層にITOを蒸着して共通電極94を形成する。次に、少なくとも画素領域を覆うように、配向膜95として例えば印刷法によりポリイミド膜を共通電極94上に塗布するとともに、配向膜95の配向処理を行うことにより、CF基板90が完成する。なお、カラーフィルタ93は、カラーレジストを用いたフォトリソグラフィ法によって形成してもよい。また、CF基板90には、カラーレジストを用いたフォトリソグラフィ法によってフォトスペーサを形成してもよい。更に、ブラックマトリクス92を形成せず、TFT基板15のソースラインやCSライン等の配線で代用してもよい。
次に、TFT基板15の画素領域の外周にシール材39を塗布した後、ディスペンサ等を用いて、負の誘電率を有する液晶分子に重合性成分を添加した液晶材料をシール材39の内側に滴下する。重合性成分として使用できる材料は特に限定されず、例えば、光重合性モノマーや光重合性オリゴマーを用いることができる。次に、液晶材料が滴下されたTFT基板15にCF基板90を貼り合わせる。ここまでの工程は真空中で行われる。次に、貼り合わせた両基板15、90を大気中に戻すと、貼り合わされた両基板11、90間を液晶材料が大気圧により拡散する。次に、シール材39の塗布領域に沿ってUV光源を移動させながらUV光をシール材39に照射し、シール材39を硬化させる。このようにして、拡散した液晶材料が2枚の基板11、90間に封止されて液晶層10が形成される。
次に、TFT29がオンとなる電圧をゲート電極25に印加した状態でソース電極34と共通電極94との間に交流電圧を印加し、液晶分子をチルトさせながら液晶層10にTFT基板15側からUV光(図1中の白抜き矢印)を照射する。これにより、液晶材料に添加された光重合性モノマーが重合され、配向膜37、95の液晶層10側の表面に液晶分子のプレチルト角を規定する重合体が形成される。
本実施形態においては、画素電極36及び無機絶縁膜41aをこの順に形成し、ガスバリア絶縁膜として機能する無機絶縁膜41aを画素電極36よりも上層側、具体的には直上に形成してもよく、この場合も気泡による不良の発生を抑制することができる。しかしながら、画素電極36の全てを無機絶縁膜41aで覆ってしまうと、ガスバリア絶縁膜の容量成分で電圧降下が生じるおそれがあるので、図3に示すように、無機絶縁膜41aを画素電極36がない領域に選択的に形成することが好ましい。すなわち、無機絶縁膜41aは、画素電極36の外縁部に重なるとともに、画素電極36上に開口部を有することが好ましく、感光性樹脂膜52の上面の画素電極36で覆われていない領域を選択的に覆うことが好ましく、互いに間隔を有して設けられた画素電極36間の隙間に選択的に設けられることが好ましい。これにより、ガスバリア絶縁膜の容量成分で電圧降下が生じるのを抑制しつつ、気泡による不良の発生を抑制することができる。なお、感光性樹脂膜52の側面(例えば、額縁領域に位置する感光性樹脂膜52の外縁部)に画素電極36で覆われていない領域がある場合には、無機絶縁膜41aによりこの領域も選択的に覆うことが好ましい。また、ガスバリア絶縁膜を画素電極36にどの程度重ねるかについては、電圧降下の許容範囲内であれば、パターニング精度やガスバリア絶縁膜の材質に応じて適宜設定することができる。
図4は、実施形態2の有機ELディスプレイの画素領域における断面模式図である。なお、本実施形態と実施形態1とで重複する内容についての説明は省略する。
まず、絶縁基板21に対して、前処理として、洗浄とプレアニールとを行う。絶縁基板21としては特に限定されないが、コスト等の観点からは、ガラス基板、樹脂基板、金属基板等が好適である。
次に、スパッタリング法等によって、膜厚50〜200nm(好適には、100〜150nm)のITO膜やIZO膜を形成した後、フォトリソグラフィ法によって所望の形状にパターニングし、各画素にアノードとして機能する画素電極36を形成する。
基板21全面にスピンコート法等により、膜厚1〜4μm(好適には、2〜3μm)の感光性アクリル樹脂、例えばナフトキノンジアジド系の紫外線硬化型樹脂を塗布することによって、感光性樹脂膜を形成する。感光性樹脂膜の材料としては、感光性のポリアルキルシロキサン系の樹脂を用いてもよい。続いて、所望の形状の遮光パターンが形成されたフォトマスクを通して感光性樹脂膜を感光(露光)した後、エッチング(現像処理)を行うことによって各画素に開口を形成する。これにより、画素電極36が露出する。続いて、感光性樹脂膜のベーク工程(例えば、200℃、30分間)を行うことによって、バンク73が形成される。なお、バンク73形成前に、発光領域に開口部を有する厚さ50〜100nm程度のTEOS等の無機材料からなるバンクを先に形成してもよい。
次に、バンク73の開口内に、ポリエチレンジオキシチオフェン(Polyethylenedioxythiophene:PEDOT)とポリスチレンスルホン酸(Polystylenesulfonic acid:PSS)とを含む混合水溶液をインクジェット装置によってパターン塗布した後、加熱乾燥処理を行う。この加熱乾燥処理により、PEDOT及びPSSが分散していた溶媒が除去されて、膜厚20〜70nm(好適には、40〜60nm)の電荷注入輸送層が形成される。その後、ポリフルオレン化合物等の赤色、青色及び緑色の高分子発光材料をキシレン等の非極性溶媒にそれぞれ溶解させた3色の液状材料を、バンク73の開口内の電荷注入輸送層上にインクジェット装置を用いてパターン塗布する。パターン塗布の後、溶媒を除去することによって膜厚50〜150nm(好適には、80〜120nm)の発光層が形成される。このように、本実施形態の有機ELディスプレイ800のカラー表示方式は、3色方式である。
次に、膜厚5〜30nm(好適には、10〜20nm)のカルシウムと、膜厚100〜400nm(好適には、200〜300nm)のアルミニウムとをこの順に発光層上に蒸着し、カソードとして機能する上電極75を形成する。
次に、EL膜74を全て覆うように、上電極75上に紫外線硬化型接着剤76を塗布した後、窒素(N2)ガス、ドライエア等の不活性ガスが導入された減圧又は真空環境下で、ガラス基板、樹脂基板等の平らな封止用基板72とTFT基板16とを紫外線硬化型接着剤76を介して貼り合わせる。
図5は、実施形態3の液晶表示装置の額縁領域における断面模式図であり、(a)は、端子部を示し、(b)は、周辺回路領域を示す。図6は、実施形態3の液晶表示装置の画素領域における断面模式図である。本実施形態の液晶表示装置100は、図5(a)に示すように、表示装置用基板であるTFT基板11と、他の回路基板であるFPC基板70とが端子部においてACF80により接続された構造を有する。
まず、絶縁基板21に対して、前処理として、洗浄とプレアニールとを行う。絶縁基板21としては特に限定されないが、コスト等の観点からは、ガラス基板、樹脂基板等が好適である。次に、以下(1)〜(17)の工程を行う。
絶縁基板21上に、プラズマ化学気相成長(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition:PECVD)法により膜厚50nmのSiON膜と、膜厚100nmのSiOx膜とをこの順に成膜し、ベースコート膜22を形成する。SiON膜形成のための原料ガスとしては、モノシラン(SiH4)、亜酸化窒素ガス(N2O)及びアンモニア(NH3)の混合ガス等が挙げられる。なお、SiOx膜は、原料ガスとして正珪酸四エチル(Tetra Ethyl Ortho Silicate:TEOS)ガスを用いて形成されることが好ましい。また、ベースコート膜22は、原料ガスとしてモノシラン(SiH4)及びアンモニア(NH3)の混合ガス等を用いて形成された窒化シリコン(SiNx)膜を含んでもよい。
PECVD法により、膜厚50nmのアモルファスシリコン(a−Si)膜を形成する。a−Si膜形成のための原料ガスとしては、例えば、SiH4、ジシラン(Si2H6)等が挙げられる。PECVD法により形成したa−Si膜には水素が含まれているため、約500℃でa−Si膜中の水素濃度を低減する処理(脱水素処理)を行う。続いて、レーザアニールを行い、a−Si膜を溶融、冷却及び結晶化させることにより、p−Si膜を形成する。レーザアニールには、例えば、エキシマレーザを用いる。p−Si膜の形成には、レーザアニールの前処理として、(連続粒界結晶シリコン(CG−シリコン)化するため)、脱水素処理せずニッケル等の金属触媒を塗布して、熱処理による固相成長を行ってもよい。また、a−Si膜の結晶化としては、熱処理による固相成長のみを行ってもよい。次に、四フッ化炭素(CF4)及び酸素(O2)の混合ガスによるドライエッチングを行い、p−Si膜をパターニングし、半導体層23を形成する。
次に、原料ガスとしてTEOSガスを用いて、膜厚45nmの酸化シリコンからなるゲート絶縁膜24を形成する。ゲート絶縁膜24の材質としては特に限定されず、SiNx膜、SiON膜等を用いてもよい。SiNx膜及びSiON膜形成のための原料ガスとしては、ベースコート膜の形成工程で述べたものと同様の原料ガスが挙げられる。また、ゲート絶縁膜24は、上記複数の材料からなる積層体でもよい。
TFT29の閾値を制御するために、イオンドーピング法、イオン注入法等により、半導体層23に対してボロン等の不純物をドーピングする。より具体的には、Nチャネル型TFT及びPチャネル型TFTとなる半導体層に対してボロン等の不純物をドーピングした後(第一のドーピング工程)、Pチャネル型TFTとなる半導体層をレジストによりマスクした状態で、Nチャネル型となる半導体層に対して更にボロン等の不純物をドーピングする(第二のドーピング工程)。なお、Pチャネル型TFTの閾値制御が必要でない場合は、第一のドーピング工程は行わなくてもよい。
次に、スパッタリング法を用いて、膜厚30nmの窒化タンタル(TaN)膜と膜厚370nmのタングステン(W)膜とをこの順に成膜し、続いて、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、アルゴン(Ar)、六フッ化硫黄(SF6)、四フッ化炭素(CF4)、酸素(O2)、塩素(Cl2)等の混合ガス分量を調整したエッチングガスを用いてドライエッチングを行い、ゲート電極25及び補助容量上電極66aを形成する。ゲート電極25及び補助容量上電極66aの材料としては、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、モリブデンタングステン(MoW)等の表面が平坦で特性の安定した高融点金属や、アルミニウム(Al)等の低抵抗金属が挙げられる。また、ゲート電極25及び補助容量上電極66aは、上記複数の材料からなる積層体であってもよい。
次に、TFT29のソース・ドレイン領域を形成するため、ゲート電極25をマスクとして、半導体層23に対して、Nチャネル型TFTではリン等の不純物を、Pチャネル型TFTではボロン等の不純物をイオンドーピング法、イオン注入法等により高濃度にドーピングする。このとき、必要に応じて、LDD(Lightly Doped Drain)領域を形成してもよい。続いて、半導体層23中に存在している不純物イオンを活性化させるために、約700℃、6時間の熱活性化処理を行う。これにより、ソース・ドレイン領域の電気伝導性を向上させることができる。なお、活性化の方法としては、エキシマレーザを照射する方法等も挙げられる。
次に、絶縁基板21全面にPECVD法により、膜厚100〜400nm(好適には、200〜300nm)のSiNx膜と、膜厚500〜1000nm(好適には、600〜800nm)のTEOS膜とを成膜することによって、無機絶縁膜41を形成する。無機絶縁膜41としては、SiON膜等を用いてもよい。また、トランジェント劣化等によりTFT特性が低下するのを抑制するとともに、TFT29の電気特性を安定化するため、無機絶縁膜41の下層には50nm程度の薄いキャップ膜(例えば、TEOS膜等)を形成してもよい。
次に、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、フッ酸系のエッチング溶液を用いてゲート絶縁膜24及び無機絶縁膜41のウェットエッチングを行い、コンタクトホール31a、31b、31fを形成する。なお、エッチングには、ドライエッチングを用いてもよい。
次に、無機絶縁膜41のSiNx膜から供給される水素によって結晶Siの欠陥補正を行うため、約400℃で1時間、熱処理を行う。
次に、スパッタ法等で、膜厚100nmのチタン(Ti)膜と、膜厚500nmのアルミニウム(Al)膜と、膜厚100nmのTi膜とをこの順で成膜する。次に、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、ドライエッチングによりTi/Al/Tiの金属積層膜をパターニングし、第一配線層61を形成する。これにより、接続端子(外部接続端子)26、ソース・ドレイン電極28、引き回し配線30a、ソース電極34及びドレイン電極35が形成される。なお、第一配線層61を構成する金属としては、Alに代えてAl−Si合金等を用いてもよい。なお、ここでは、配線の低抵抗化のためにAlを用いたが、高耐熱性が必要であり、かつ抵抗値のある程度の増加が許される場合(例えば、短い配線構造にする場合)は、第一配線層61を構成する金属として、上述したゲート電極材料(Ta、Mo、MoW、W、TaN等)を用いてもよい。
次に、絶縁基板21全面にスピンコート法等により、膜厚1〜5μm(好適には、2〜3μm)の感光性アクリル樹脂膜等の感光性樹脂を成膜(塗布)することによって、有機絶縁膜51aを形成する。有機絶縁膜51aの材料としては、非感光性アクリル樹脂等の非感光性樹脂や、感光性又は非感光性のポリアルキルシロキサン系やポリシラザン系、ポリイミド系パレリン系の樹脂等を用いてもよい。また、有機絶縁膜51aの材料としては、メチル含有ポリシロキサン(MSQ)系材料や多孔質MSQ系材料も挙げられる。なかでも、有機絶縁膜51aの材料として、感光性樹脂を用いることによって、実施形態1の(10)有機・無機積層体の形成工程で示したように、無機絶縁膜41aを形成するよりも先に感光性樹脂膜の感光(露光)及びエッチング(現像処理)し、有機絶縁膜51aをパターン形成することもできる。続いて、絶縁基板21全面にスパッタ法やPECVD法により膜厚10〜200nm(好適には、20〜100nm)のSiNx膜、又は、TEOSガスを原料ガスとして膜厚10〜200nm(好適には、20〜100nm)のSiO2膜を成膜することによって、無機絶縁膜41aを形成する。無機絶縁膜41aとしては、SiON膜等を用いてもよい。また、無機絶縁膜41aとしては、その他、スパッタ法、CAT−CVD法、ICPプラズマCVD法(例えば、セルバック社製、ICP−CVD装置を用いる方法)、オゾン酸化法(例えば、明電舎社製、明電ピュアオゾンジェネレータを用いる方法)等により形成されたSiO2膜やSiN膜を成膜してもよい。これらの方法によれば、低温で高品質な膜の形成が可能である。これにより、有機絶縁膜51a上に無機絶縁膜41aが積層されたの有機・無機積層体が形成される。なお、有機絶縁膜51a及び無機絶縁膜41aはそれぞれ、異なる材料からなる複数の膜が積層されてもよい。また、無機絶縁膜41aは、少なくとも端子部、周辺回路領域及び画素領域における有機絶縁膜51aを覆うように形成されればよく、必ずしも絶縁基板21全面に形成される必要はない。
次に、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、四フッ化炭素(CF4)及び酸素(O2)の混合ガスを用い、かつ両ガスの流量を調整しながらドライエッチングを行い、コンタクトホール31c、31gを形成するとともに、パッド部27が設けられる領域の有機絶縁膜51a及び無機絶縁膜41aを除去する。そして、無機絶縁膜41aをストッパ材として、レジストマスクのアッシング(剥離)を行う。これにより、コンタクトホール31c、31gの微細加工が可能になることから、下層にある第一配線層61の微細化が可能になる。
次に、スパッタ法等により、膜厚100nmのチタン(Ti)膜と、膜厚500nmのアルミニウム(Al)膜と、膜厚100nmのTi膜とをこの順で成膜する。次に、フォトリソグラフィ法によりレジスト膜を所望の形状にパターニングすることによってレジストマスクを形成した後、ドライエッチングによりTi/Al/Tiの金属積層膜をパターニングし、第二配線層62を形成する。これにより、引き回し配線30b及びドレイン配線65が形成される。なお、第二配線層62を構成する金属としては、Alに代えてAl−Si合金等を用いてもよい。なお、ここでは、配線の低抵抗化のためにAlを用いたが、高耐熱性が必要であり、かつ抵抗値のある程度の増加が許される場合(例えば、短い配線構造にする場合)は、第二配線層62を構成する金属として、上述したゲート電極材料(Ta、Mo、MoW、W、TaN等)を用いてもよい。
次に、スピンコート法等により、膜厚1〜3μm(好適には、2〜3μm)の感光性アクリル樹脂膜を成膜することによって、有機絶縁膜51を形成する。有機絶縁膜51としては、非感光性アクリル樹脂膜等の非感光性樹脂膜や、感光性又は非感光性のポリアルキルシロキサン系やポリシラザン系、ポリイミド系パレリン系の樹脂等を用いてもよい。また、有機絶縁膜51の材料としては、メチル含有ポリシロキサン(MSQ)系材料や多孔質MSQ系材料も挙げられる。
次に、スパッタリング法等によって、膜厚50〜200nm(好適には、100〜150nm)のITO膜やIZO膜を形成した後、フォトリソグラフィ法によって所望の形状にパターニングし、パッド部27及び画素部を形成する。これにより、表示領域の有機絶縁膜51上には、各画素に画素電極36が形成される。その後、表示領域に配向膜(図示せず)を塗布するとともに、配向膜の配向処理を行うことにより、TFT基板11が完成する。
次に、従来公知の方法と同様にして、TFT基板11及びCF基板の貼り合わせ工程と、液晶材料の注入工程と、偏光板の貼り付け工程とを行うことによって液晶表示パネルを作製する。なお、液晶表示パネルの液晶モードとして特に限定されず、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、IPS(In Plane Switching)モード、VATN(Vertical Alignment Twisted Nematic)モード、PSAモード等が挙げられる。また、液晶表示パネルは、配向分割されたものであってもよい。更に、液晶表示パネルは、透過型であってもよいし、反射型であってもよいし、半透過型(反射透過両用型)であってもよい。そして、液晶表示パネルの駆動方式は、単純マトリクス型であってもよい。
次に、樹脂接着剤(例えば、熱硬化性エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂)中に導電性微粒子81が分散されたACF(異方性導電膜)80を介して、TFT基板11とFPC基板70とを熱圧着する。これにより、TFT基板11とFPC基板70とが接続及び固定される。このとき、リワークする必要が生じたとしても、有機絶縁膜51aは、無機絶縁膜41aにより保護され、ACF80に直接接していないため、有機絶縁膜51aが剥れたり傷付いたりするのを抑制することができる。そのため、有機絶縁膜51aの下層に位置する第一配線層61が剥き出しになり、第一配線層61が水分等により腐食するのを抑制することができる。また、剥れた有機絶縁膜51aのカスに起因してFPC基板70の接触不良が発生するのも抑制することができる。
図7は、実施形態3の液晶表示装置に係る変形例の周辺回路領域を示す断面模式図である。図8は、実施形態3の液晶表示装置に係る変形例の画素領域を示す断面模式図である。
本変形例において、有機絶縁膜51aは、図7、8に示すように、感光性樹脂を用いて感光エッチングにより形成されている。より具体的には、無機絶縁膜41aを形成するよりも先に感光性樹脂膜の感光(露光)及びエッチング(現像処理)し、有機絶縁膜51aをパターン形成する。続いて、有機絶縁膜51aのベーク工程(例えば、200℃、30分間)を行う。これにより、有機絶縁膜51aの開口部(孔部)の形状がなだらかとなり、コンタクトホール31c、31gのアスペクト比を低減することができる。また、有機絶縁膜51aのコンタクト部(コンタクトホール31c、31gとなる部分)を最初に除去する際、アッシング(剥離)工程が不要になる。その後、無機絶縁膜41aを成膜し、四フッ化炭素(CF4)等を用いたドライエッチングにより、有機絶縁膜51aが除去された領域と重なるようにコンタクトホール31c、31gとなる領域の無機絶縁膜41aを除去する。無機絶縁膜41aをドライエッチングによりパターニングすることによって、コンタクトホール31c、31gの微細加工が可能になるとともに、下層にある第一配線層61の微細化が可能になる。その後、無機絶縁膜41aをストッパ材として、O2プラズマによりレジストマスクをアッシング除去する。これにより、有機絶縁膜51a及び無機絶縁膜41aを貫通するコンタクトホール31c、31gが形成される。
図9(b)、10に示すように、本変形例において、有機絶縁膜51上には、無機絶縁膜41aと同様にガスバリア絶縁膜として機能する無機絶縁膜41cが形成される。すなわち、有機絶縁膜51a及び無機絶縁膜41aの積層体と同様に、有機絶縁膜51及び無機絶縁膜41cの積層体が形成される。
本変形例において、図11(b)、12に示すように、無機絶縁膜41aが形成されない代わりに、有機絶縁膜51上に無機絶縁膜41aと同様のガスバリア絶縁膜として機能する無機絶縁膜41cが形成される。
本変形例は、図13に示すように、有機絶縁膜51が感光性樹脂を用いて感光エッチングにより形成されていること以外は、図12で示した例と同じ構成を有する。すなわち、無機絶縁膜41cを形成するよりも先に感光性樹脂膜の感光(露光)及びエッチング(現像処理)し、有機絶縁膜51をパターン形成する。続いて、有機絶縁膜51のベーク工程(例えば、200℃、30分間)を行う。これにより、有機絶縁膜51の開口部(孔部)の形状がなだらかとなり、コンタクトホール31jのアスペクト比を低減することができる。また、有機絶縁膜51のコンタクト部(コンタクトホール31jとなる部分)を最初に除去する際、アッシング(剥離)工程が不要になる。その後、無機絶縁膜41cを成膜し、四フッ化炭素(CF4)等を用いたドライエッチングにより、有機絶縁膜51が除去された領域と重なるようにコンタクトホール31jとなる領域の無機絶縁膜41cを除去する。無機絶縁膜41cをドライエッチングによりパターニングすることによって、コンタクトホール31jの微細加工が可能になるとともに、下層にある第二配線層62の微細化が可能になる。その後、無機絶縁膜41cをストッパ材として、O2プラズマによりレジストマスクをアッシング除去する。これにより、有機絶縁膜51及び無機絶縁膜41cを貫通するコンタクトホール31jが形成される。
本変形例において、有機絶縁膜51aは、図14、15に示すように、エッチバック(etch back)されている。より具体的には、有機絶縁膜51aを成膜した後、第一配線層61が露出するまで有機絶縁膜51aをドライエッチングによりエッチバックする。続いて、無機絶縁膜41aを成膜し、四フッ化炭素(CF4)等を用いたドライエッチングによりコンタクトホール31c、31gとなる領域の無機絶縁膜41aを除去する。本変形例では、有機絶縁膜51aの厚さ分だけパッド部27とパッド部27以外の領域とにおける段差が低減するため、パッド部27とパッド部27以外の領域とにおけるACF80中の導電性微粒子81の変形量が緩和され、ACFの接触性をより向上することができる。
図18は、実施形態4の液晶表示装置の額縁領域における断面模式図であり、(a)は、端子部を示し、(b)は、周辺回路領域を示す。なお、本実施形態と実施形態3とで重複する内容についての説明は省略する。
本変形例において、有機絶縁膜51a、51bは、図19に示すように、感光性樹脂を用いて感光エッチングにより形成され、その後、無機絶縁膜41a、41bが成膜及びエッチングされることによってパターン形成されている。また、端子部においては、図19(a)に示すように、最上層配線層により形成されたパッド部27の下には最近接下層配線層69が設けられている。
図20は、実施形態5の液晶表示装置の端子部における断面模式図である。なお、本実施形態と実施形態3及び4とで重複する内容についての説明は省略する。
本変形例において、有機絶縁膜51a、51bは、図21に示すように、感光性樹脂を用いて感光エッチングにより形成され、その後、無機絶縁膜41a、41bが成膜及びエッチングされることによってパターン形成されている。
有機絶縁膜51bは、図22(a)に示すように、端子部において除去され、接続端子26上には直接、無機絶縁膜41bが形成されている。本変形例では、有機絶縁膜51bの厚さ分だけパッド部27とパッド部27以外の領域とにおける段差が低減するため、パッド部27とパッド部27以外の領域とにおけるACF80中の導電性微粒子81の変形量が更に緩和され、ACFの接触性をより向上することができる。
図24は、実施形態6の液晶表示装置の端子部における断面模式図である。なお、本実施形態と実施形態3〜5とで重複する内容についての説明は省略する。
本変形例は、図25に示すように、パッド部27の最上層配線層の下に最近接下層配線層69が設けられている。
TFT基板14は、図26に示すように、ゲート電極(ゲート配線)25と同一層からなる接続端子(外部接続端子)26が端子部にまで延伸されるとともに、第一配線層61と、ITO膜等の透明導電膜とから構成されるパッド部27を有してもよい。これにより、無機絶縁膜41aを端子部に設けずとも、無機絶縁膜41を保護膜として機能されることができるので、図24で示した場合と同様の効果を奏することができる。
図27は、実施形態1〜6に係る液晶表示装置の周辺回路領域における断面模式図である。また、図28−1(a)〜(d)及び図28−2(e)〜(g)は、製造工程における実施形態1〜6に係る液晶表示装置の周辺回路領域における断面模式図である。なお、以下の形態と実施形態3〜6とで重複する内容についての説明は省略する。
図33は、比較形態1の液晶表示装置の画素領域における断面模式図である。本比較形態の液晶表示装置701は、ガスバリア絶縁膜が設けられていないこと以外は、実施形態1の液晶表示装置700と同様の構成を有する。
図34は、比較形態2の液晶表示装置の額縁領域における断面模式図であり、(a)は、端子部を示し、(b)は、周辺回路領域を示す。比較形態2の液晶表示装置600は、図34(a)に示すように、表示装置用基板であるTFT基板111と、FPC基板170とが端子部においてACF180により接続された構造を有する。
11、12、13、14、15、16:TFT基板
21:絶縁基板
22:ベースコート膜
23:半導体層
24:ゲート絶縁膜
25:ゲート電極(ゲート配線)
26:接続端子(外部接続端子)
27:パッド部
28:ソース・ドレイン電極
29:TFT
30a、30b、30c、30d、30e:引き回し配線
31a、31b、31c、31d、31e、31f、31g、31h、31i、31j:コンタクトホール
32a、32b、32c、32d:フォトマスク
33a、33b、33c:レジスト
34:ソース電極
35:ドレイン電極
36:画素電極
37:配向膜
38:ガス
39:シール材(シール領域)
41、41a、41b、41c:無機絶縁膜
51、51a、51b:有機絶縁膜
52:感光性樹脂膜
61:第一配線層
62:第二配線層
63:第三配線層
65:ドレイン配線
66a、66b:補助容量上電極
67:補助容量下電極
68a、68b:画素補助容量
69:最近接下層配線層
70:FPC基板
71:接続端子
72:封止用基板
73:バンク
74:EL膜
75:上電極
76:紫外線硬化型接着剤
80:ACF
81:導電性微粒子
90:CF基板
91:絶縁基板
92:ブラックマトリクス
93:カラーフィルタ
94:共通電極
95:配向膜
100、200、300、400、500、700:液晶表示装置
800:有機ELディスプレイ
Claims (37)
- 感光性樹脂膜及び画素電極を絶縁基板側からこの順に備える表示装置用基板であって、
該表示装置用基板は、該感光性樹脂膜と該画素電極との間に、該感光性樹脂膜から発生するガスの進行を妨げるガスバリア絶縁膜を有することを特徴とする表示装置用基板。 - 感光性樹脂膜及び画素電極を絶縁基板側からこの順に備える表示装置用基板であって、
該表示装置用基板は、該感光性樹脂膜よりも上層側に、該感光性樹脂膜から発生するガスの進行を妨げるガスバリア絶縁膜を有することを特徴とする表示装置用基板。 - 前記ガスバリア絶縁膜は、前記画素電極の外縁部に重なるとともに、前記画素電極上に開口部を有することを特徴とする請求項1又は2記載の表示装置用基板。
- 前記ガスバリア絶縁膜は、前記感光性樹脂膜の上面及び側面の前記画素電極で覆われていない領域を選択的に覆うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記画素電極を複数有し、
該複数の画素電極は、互いに間隔を有して設けられ、
前記ガスバリア絶縁膜は、該複数の画素電極間の隙間に選択的に設けられることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の表示装置用基板。 - 前記ガスバリア絶縁膜は、熱硬化型樹脂膜を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記ガスバリア絶縁膜は、無機絶縁膜を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記ガスバリア絶縁膜は、酸化シリコン膜を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記感光性樹脂膜の直上に前記無機絶縁膜が積層された有機・無機膜積層体を有することを特徴とする請求項7又は8記載の表示装置用基板。
- 前記感光性樹脂膜は、開口部を有することを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記無機絶縁膜より上層に設けられた配線を有し、
前記感光性樹脂膜の開口部は、該配線により覆われることを特徴とする請求項10記載の表示装置用基板。 - 前記感光性樹脂膜の開口部の壁面の少なくとも上層側の一部は、前記無機絶縁膜で覆われることを特徴とする請求項10又は11記載の表示装置用基板。
- 前記感光性樹脂膜の開口部の壁面の全部は、前記無機絶縁膜で覆われることを特徴とする請求項10〜12のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、他の外部接続部品を接続するための接続端子が設けられた端子部と、周辺回路が設けられた周辺回路領域との少なくとも一方を備えることを特徴とする請求項9〜13のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記端子部及び前記周辺回路領域を備えることを特徴とする請求項14記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記端子部に前記有機・無機膜積層体を有することを特徴とする請求項14又は15記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記周辺回路領域に前記有機・無機膜積層体を有することを特徴とする請求項14〜16のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記有機・無機膜積層体を複数有することを特徴とする請求項9〜17のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記端子部に上記有機・無機膜積層体を複数有することを特徴とする請求項14〜18のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、複数の配線層を有し、
前記複数の有機・無機膜積層体と、該複数の配線層とは、交互に積層され、
前記接続端子は、該複数の配線層のうち、最も下層側に位置する配線層を除く配線層を含んで構成されることを特徴とする請求項18又は19記載の表示装置用基板。 - 前記接続端子は、前記複数の配線層のうち、最も上層側に位置する配線層を含んで構成されることを特徴とする請求項20記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記周辺回路領域に前記複数の有機・無機膜積層体を有することを特徴とする請求項18〜21のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記端子部において、前記接続端子の直上に前記無機絶縁膜が積層された領域を有することを特徴とする請求項14〜22のいずれかに記載の表示装置用基板。
- 前記表示装置用基板は、前記端子部に前記感光性樹脂膜が設けられないことを特徴とする請求項14、15、17、18又は22記載の表示装置用基板。
- 請求項1〜24のいずれかに記載の表示装置用基板を備えることを特徴とする表示装置。
- 請求項1〜24のいずれかに記載の表示装置用基板を備えることを特徴とする液晶表示装置。
- 前記液晶表示装置は、モノマー分散型液晶を含む液晶層を有することを特徴とする請求項26記載の液晶表示装置。
- 前記液晶表示装置は、前記表示装置用基板に対向する対向基板と、前記表示装置用基板及び前記対向基板の間に封止された液晶材料と、前記表示装置用基板及び前記対向基板の間に該液晶材料を封止するためのシール材とを備え、
前記ガスバリア絶縁膜は、該シール材にかかるまで形成されることを特徴とする請求項26又は27記載の液晶表示装置。 - 請求項1〜24のいずれかに記載の表示装置用基板を備える有機エレクトロルミネセンス表示装置であって、
該有機エレクトロルミネセンス表示装置は、前記表示装置用基板に光硬化型接着剤により貼り付けられた基板を有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。 - 請求項7〜24のいずれかに記載の表示装置用基板の製造方法であって、
該製造方法は、前記感光性樹脂膜をエッチングする感光性樹脂膜エッチング工程と、
該感光性樹脂膜エッチング工程の後に、前記無機絶縁膜を成膜する無機絶縁膜成膜工程と、
該無機絶縁膜成膜工程の後に、前記無機絶縁膜をエッチングする無機絶縁膜エッチング工程とを含むことを特徴とする表示装置用基板の製造方法。 - 前記無機絶縁膜は、前記無機絶縁膜エッチング工程において、第一レジストを介してドライエッチングされることを特徴とする請求項30記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記無機絶縁膜は、前記無機絶縁膜エッチング工程において、前記感光性樹脂膜のエッチング除去された領域と重なる領域がエッチング除去されることを特徴とする請求項30又は31記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記表示装置用基板の製造方法は、前記感光性樹脂膜エッチング工程の前に、第一フォトマスクを介して前記感光性樹脂膜を感光する感光性樹脂膜感光工程を含むことを特徴とする請求項30〜32のいずれかに記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記表示装置用基板の製造方法は、前記無機絶縁膜成膜工程の後に、前記無機絶縁膜上に第二レジストを成膜するレジスト成膜工程と、
該レジスト成膜工程の後に、前記第一フォトマスクを介して該第二レジストを感光するレジスト感光工程とを含むことを特徴とする請求項33記載の表示装置用基板の製造方法。 - 請求項7〜24のいずれかに記載の表示装置用基板の製造方法であって、
該製造方法は、第三レジストをマスクとしてウェットエッチングにより前記無機絶縁膜をエッチングする無機絶縁膜エッチング工程と、
該無機絶縁膜エッチング工程の後に、該第三レジストを除去するレジスト除去工程と、
該レジスト除去工程の後に、前記無機絶縁膜をマスクとして前記感光性樹脂膜をエッチングする感光性樹脂膜エッチング工程とを含むことを特徴とする表示装置用基板の製造方法。 - 請求項27又は28記載の液晶表示装置の製造方法であって、
該製造方法は、液晶注入工程以降に、前記液晶層に光照射を行う工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 請求項30〜35のいずれかに記載の表示装置用基板の製造方法により作製された表示装置用基板を備えることを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010531773A JP5204238B2 (ja) | 2008-10-02 | 2009-06-11 | 表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008257681 | 2008-10-02 | ||
JP2008257681 | 2008-10-02 | ||
JP2010531773A JP5204238B2 (ja) | 2008-10-02 | 2009-06-11 | 表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
PCT/JP2009/060709 WO2010038514A1 (ja) | 2008-10-02 | 2009-06-11 | 表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010038514A1 true JPWO2010038514A1 (ja) | 2012-03-01 |
JP5204238B2 JP5204238B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=42073290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010531773A Expired - Fee Related JP5204238B2 (ja) | 2008-10-02 | 2009-06-11 | 表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8629960B2 (ja) |
EP (1) | EP2346020A4 (ja) |
JP (1) | JP5204238B2 (ja) |
CN (1) | CN102171746B (ja) |
BR (1) | BRPI0920725A2 (ja) |
RU (1) | RU2483339C2 (ja) |
WO (1) | WO2010038514A1 (ja) |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2346020A4 (en) | 2008-10-02 | 2014-12-31 | Sharp Kk | DISPLAY DEVICE SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY (LCD) DEVICE, LCD PRODUCTION METHOD AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE |
JP5352333B2 (ja) * | 2009-04-23 | 2013-11-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | アクティブマトリクス型表示装置 |
US8743095B2 (en) * | 2009-09-30 | 2014-06-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electronic apparatus and display panel |
JP5556489B2 (ja) | 2010-08-06 | 2014-07-23 | ウシオ電機株式会社 | 液晶パネルの製造装置および製造方法 |
JP5655443B2 (ja) * | 2010-09-06 | 2015-01-21 | 住友電気工業株式会社 | 無機化合物膜のエッチング方法および半導体光素子の製造方法 |
JP5417383B2 (ja) | 2011-06-13 | 2014-02-12 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2013073084A1 (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-23 | パナソニック株式会社 | 表示パネルの製造方法および表示パネル |
KR101339000B1 (ko) * | 2011-12-14 | 2013-12-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시소자 및 그 제조방법 |
TWI480355B (zh) * | 2012-02-03 | 2015-04-11 | Lg Chemical Ltd | 黏合膜 |
KR101971594B1 (ko) * | 2012-02-16 | 2019-04-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
WO2013125455A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | シャープ株式会社 | 回路基板、回路基板の製造方法、及び、表示装置 |
US20130237849A1 (en) * | 2012-03-12 | 2013-09-12 | Ivwatch, Llc | Geometry of a Transcutaneous Sensor |
JP6306278B2 (ja) * | 2012-04-09 | 2018-04-04 | Jsr株式会社 | 半導体素子、半導体基板、感放射線性樹脂組成物、保護膜および表示素子 |
US9448441B2 (en) * | 2012-05-25 | 2016-09-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
JP5947650B2 (ja) * | 2012-07-27 | 2016-07-06 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置および電子機器 |
KR101962944B1 (ko) * | 2012-09-14 | 2019-03-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 전계 표시 패널 및 이를 포함하는 표시 장치 |
US8963136B2 (en) * | 2012-11-06 | 2015-02-24 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | OLED liquid crystal display and method for laminating alignment film |
CN103107095A (zh) * | 2013-01-25 | 2013-05-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示装置 |
KR102090710B1 (ko) * | 2013-06-26 | 2020-03-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터 기판, 이를 구비하는 유기 발광 장치, 박막트랜지스터 기판 제조방법 및 유기 발광 장치 제조방법 |
JP2015072770A (ja) * | 2013-10-02 | 2015-04-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 |
JP2015173253A (ja) * | 2014-02-20 | 2015-10-01 | 株式会社テラプローブ | 半導体装置の製造方法 |
US9690155B2 (en) * | 2014-04-16 | 2017-06-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display panel and method for producing same |
JP2015216072A (ja) * | 2014-05-13 | 2015-12-03 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el装置及びその製造方法 |
KR20150137214A (ko) * | 2014-05-28 | 2015-12-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 디스플레이 장치 및 그 제조방법 |
GB201412974D0 (en) * | 2014-07-22 | 2014-09-03 | Plastic Logic Ltd | Protecting transistor array elements against degrading species |
CN104183607A (zh) * | 2014-08-14 | 2014-12-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 |
CN104656305A (zh) * | 2015-03-09 | 2015-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜显示层、显示面板及制备方法 |
JP2016200698A (ja) * | 2015-04-09 | 2016-12-01 | Jsr株式会社 | 液晶表示素子、感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜、層間絶縁膜の製造方法および液晶表示素子の製造方法 |
US9935140B2 (en) * | 2015-05-19 | 2018-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid state imaging device, manufacturing method of solid state imaging device, and imaging system |
US10978489B2 (en) * | 2015-07-24 | 2021-04-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, display panel, method for manufacturing semiconductor device, method for manufacturing display panel, and information processing device |
US9935127B2 (en) * | 2015-07-29 | 2018-04-03 | Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Control circuit of thin film transistor |
JP6685675B2 (ja) * | 2015-09-07 | 2020-04-22 | 株式会社Joled | 有機el素子、それを用いた有機el表示パネル、及び有機el表示パネルの製造方法 |
CN108352139A (zh) * | 2015-11-06 | 2018-07-31 | 夏普株式会社 | 显示基板、显示装置以及显示基板的制造方法 |
US9484209B1 (en) * | 2015-11-20 | 2016-11-01 | International Business Machines Corporation | Flexible and stretchable sensors formed by patterned spalling |
CN105446000B (zh) * | 2016-01-21 | 2018-07-10 | 武汉华星光电技术有限公司 | 护眼式液晶显示装置的制作方法 |
JP6663249B2 (ja) * | 2016-02-26 | 2020-03-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
JP6792950B2 (ja) * | 2016-03-17 | 2020-12-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
KR102642198B1 (ko) * | 2016-04-04 | 2024-03-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 디스플레이 장치 |
JP6494580B2 (ja) * | 2016-09-28 | 2019-04-03 | シャープ ライフ サイエンス (イーユー) リミテッド | 微小流体装置 |
JP6961922B2 (ja) * | 2016-10-27 | 2021-11-05 | Jsr株式会社 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
US10276669B2 (en) * | 2017-01-19 | 2019-04-30 | Infineon Technologies Austria Ag | Sloped field plate and contact structures for semiconductor devices and methods of manufacturing thereof |
JP2018116236A (ja) | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
WO2018186228A1 (ja) * | 2017-04-03 | 2018-10-11 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法 |
CN107290911A (zh) * | 2017-07-19 | 2017-10-24 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种显示面板及其制程 |
US10847600B2 (en) * | 2017-07-28 | 2020-11-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device and manufacturing method for display device |
CN107589581B (zh) * | 2017-09-01 | 2020-07-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种阵列基板色阻层的制备方法、阵列基板及显示面板 |
WO2019064578A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | シャープ株式会社 | 表示デバイス |
KR101973444B1 (ko) | 2017-10-19 | 2019-04-29 | 삼성전기주식회사 | 반도체 패키지 |
KR102414940B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2022-06-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그의 제조방법 |
KR102408164B1 (ko) | 2017-10-31 | 2022-06-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그의 제조방법 |
US11209877B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electrical module, display panel, display device, input/output device, data processing device, and method of manufacturing electrical module |
CN110061058A (zh) * | 2018-04-17 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 |
KR102520567B1 (ko) * | 2018-05-31 | 2023-04-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 조명장치 |
KR102635472B1 (ko) * | 2018-12-21 | 2024-02-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조방법 |
US10707179B1 (en) * | 2019-06-24 | 2020-07-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Semiconductor structure and method for forming the same |
AU2019279976B1 (en) * | 2019-08-01 | 2020-11-19 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate and display device |
US20220415997A1 (en) * | 2019-10-21 | 2022-12-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
JP7485484B2 (ja) * | 2019-12-11 | 2024-05-16 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | 表示基板及びその製作方法並びに表示装置 |
US11997891B2 (en) * | 2020-03-24 | 2024-05-28 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate, fabricating method thereof and display panel |
US11462608B2 (en) * | 2020-03-25 | 2022-10-04 | Apple Inc. | Large panel displays with reduced routing line resistance |
KR20220004857A (ko) * | 2020-07-02 | 2022-01-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN113161396B (zh) * | 2021-03-19 | 2023-05-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、其制作方法及显示装置 |
CN116982100A (zh) * | 2021-03-26 | 2023-10-31 | 夏普显示科技株式会社 | 显示装置 |
CN113433742B (zh) * | 2021-06-17 | 2023-05-02 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Ips型tft-lcd阵列基板的制作方法及ips型tft-lcd阵列基板 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001318622A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-11-16 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示装置およびその製造方法 |
JP2001356711A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-26 | Sony Corp | 表示装置 |
JP2004327262A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
JP2004347822A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
JP2005158292A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Mitsubishi Electric Corp | 表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2005173106A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2017184C1 (ru) * | 1990-01-05 | 1994-07-30 | Акционерное общество "Московский научно-исследовательский телевизионный институт" | Способ управления многоэлементным электрооптическим преобразователем и многоэлементный электрооптический преобразователь |
JP2961722B2 (ja) | 1991-12-11 | 1999-10-12 | ジェイエスアール株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
US5362597A (en) * | 1991-05-30 | 1994-11-08 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition comprising an epoxy-containing alkali-soluble resin and a naphthoquinone diazide sulfonic acid ester |
EP0603866B1 (en) * | 1992-12-25 | 2002-07-24 | Sony Corporation | Active matrix substrate |
KR100587364B1 (ko) * | 2000-01-12 | 2006-06-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 멀티도메인 액정표시소자 |
JP2001265251A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-28 | Minolta Co Ltd | 表示素子及び積層型表示素子 |
US7113241B2 (en) | 2001-08-31 | 2006-09-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
SE0200910D0 (sv) * | 2002-03-22 | 2002-03-22 | Ecsibeo Ab | A liquid crystal device, a method for producing a liquid crystal device and a method for controlling liquid crystal device |
JP3989761B2 (ja) * | 2002-04-09 | 2007-10-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体表示装置 |
JP2004231938A (ja) | 2002-09-13 | 2004-08-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 有機el素子封止用光硬化性接着剤組成物、有機el素子の封止方法および有機el素子 |
CN1969595A (zh) * | 2004-08-26 | 2007-05-23 | 出光兴产株式会社 | 有机el显示装置 |
KR101251349B1 (ko) * | 2006-08-18 | 2013-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판, 이의 제조 방법 및 이를포함하는 표시 장치. |
US8362488B2 (en) * | 2006-09-12 | 2013-01-29 | Sipix Imaging, Inc. | Flexible backplane and methods for its manufacture |
JP5521270B2 (ja) * | 2007-02-21 | 2014-06-11 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタアレイ、薄膜トランジスタアレイの製造方法、および薄膜トランジスタアレイを用いたアクティブマトリクス型ディスプレイ |
JP2008218004A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
KR100941271B1 (ko) | 2007-03-30 | 2010-02-11 | 현대자동차주식회사 | 자동차용 차선이탈 방지 방법 |
EP2346020A4 (en) | 2008-10-02 | 2014-12-31 | Sharp Kk | DISPLAY DEVICE SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY (LCD) DEVICE, LCD PRODUCTION METHOD AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE |
-
2009
- 2009-06-11 EP EP09817552.4A patent/EP2346020A4/en not_active Withdrawn
- 2009-06-11 CN CN200980139418.8A patent/CN102171746B/zh active Active
- 2009-06-11 US US13/120,835 patent/US8629960B2/en active Active
- 2009-06-11 WO PCT/JP2009/060709 patent/WO2010038514A1/ja active Application Filing
- 2009-06-11 BR BRPI0920725A patent/BRPI0920725A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-06-11 JP JP2010531773A patent/JP5204238B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-06-11 RU RU2011117168/28A patent/RU2483339C2/ru not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-12-09 US US14/100,220 patent/US9041888B2/en active Active
-
2015
- 2015-05-20 US US14/716,907 patent/US9461265B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001318622A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-11-16 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示装置およびその製造方法 |
JP2001356711A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-26 | Sony Corp | 表示装置 |
JP2004327262A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
JP2004347822A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
JP2005158292A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Mitsubishi Electric Corp | 表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2005173106A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8629960B2 (en) | 2014-01-14 |
US9041888B2 (en) | 2015-05-26 |
CN102171746A (zh) | 2011-08-31 |
WO2010038514A1 (ja) | 2010-04-08 |
EP2346020A1 (en) | 2011-07-20 |
US9461265B2 (en) | 2016-10-04 |
RU2011117168A (ru) | 2012-11-10 |
JP5204238B2 (ja) | 2013-06-05 |
EP2346020A4 (en) | 2014-12-31 |
US20150340418A1 (en) | 2015-11-26 |
CN102171746B (zh) | 2015-05-20 |
RU2483339C2 (ru) | 2013-05-27 |
US20140092354A1 (en) | 2014-04-03 |
BRPI0920725A2 (pt) | 2019-09-24 |
US20110199564A1 (en) | 2011-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5204238B2 (ja) | 表示装置用基板、表示装置用基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置 | |
US8698000B2 (en) | Substrate for display device and display device | |
US8643269B2 (en) | Organic EL device and method for manufacturing the same | |
WO2010061662A1 (ja) | 表示装置 | |
US20110294244A1 (en) | Method for manufacturing display device | |
US10134780B2 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
US20050219433A1 (en) | Liquid crystal display device and method for fabricating the same | |
KR20070003572A (ko) | 액정 표시장치 및 그의 제작방법 | |
WO2010070948A1 (ja) | 液晶表示用パネル及び液晶表示装置 | |
WO2009110136A1 (ja) | 表示装置用基板、その製造方法、表示装置、多層配線の形成方法及び多層配線基板 | |
US11320573B2 (en) | Display device, method for producing display device, and apparatus for producing display device | |
KR20170037074A (ko) | 표시 장치 및 이의 제조 방법 | |
JP2010191283A (ja) | アクティブ素子基板の製造方法、アクティブ素子基板、アクティブ型表示装置 | |
KR20170004883A (ko) | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 | |
JP2009115992A (ja) | 平坦化構造の製造方法、及び表示装置の製造方法 | |
JP2005292399A (ja) | 液晶表示装置用基板及びその製造方法並びにそれを備えた液晶表示装置 | |
JP4645018B2 (ja) | コンタクトホールの形成方法 | |
KR101411735B1 (ko) | 액정표시장치 및 이의 제조 방법 | |
JP2005074367A (ja) | 薄膜パターン形成方法、膜、電子デバイス、液晶パネルおよび電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121002 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130214 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5204238 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160222 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |