JPWO2009128359A1 - ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネルおよびこれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、第１主面と第２主面とを有する薄板ガラス基板（１２）、第１主面と第２主面とを有する支持ガラス基板（１８）、および前記薄板ガラス基板（１２）と前記支持ガラス基板（１８）との間に配置された樹脂層（１４）および外枠層（１６）を有するガラス積層体（１０）であって、前記樹脂層（１４）が、前記支持ガラス基板（１８）の第１主面に固定されており、前記薄板ガラス基板（１２）の第１主面に対する易剥離性を備え、前記薄板ガラス基板（１２）の第１主面と密着しており、前記外枠層（１６）が、前記支持ガラス基板（１８）の第１主面上において、前記樹脂層（１４）が外気と接しないように前記樹脂層（１４）を囲んでいる、ガラス積層体に関する。

Description

本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等に用いられるガラス基板を含むガラス積層体、それを含む支持体付き表示装置用パネル、それを用いて形成される表示装置用パネルおよびそれを含む表示装置ならびにガラス積層体および表示装置用パネルの製造方法に関する。

液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、特にモバイルや携帯電話等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が重要な課題となっている。
この課題に対応するために、表示装置に用いるガラス基板の板厚をさらに薄くすることが望まれている。板厚を薄くする方法としては、一般に、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前または形成した後に、フッ酸等を用いてガラス基板をエッチング処理し、必要に応じてさらに物理研磨して薄くする方法が行われる。

しかしながら、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、ガラス基板の強度が低下し、たわみ量も大きくなる。そのため既存の製造ラインで処理することができないという問題が生じる。
また、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成した後にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する過程においてガラス基板の表面に形成された微細な傷が顕在化する問題、すなわちエッチピットの発生という問題が生じる。

そこで、このような問題を解決することを目的として、板厚の薄いガラス基板（以下では「薄板ガラス基板」ともいう。）を他のガラス基板（以下では「支持ガラス基板」ともいう。）と貼り合わせて積層体とし、その状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、その後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する方法等が提案されている。

例えば特許文献１には、製品用のガラス基板と補強用ガラス基板とを、ガラス基板同士の静電気吸着力または真空吸着力を利用して張り合わせて一体化し、製品用のガラス基板を用いた表示装置を製造する方法が記載されている。
例えば特許文献２には、液晶表示装置の基板と支持体との端部をガラスフリット系の接着剤を用いて接着して、その後、電極パターン等を形成する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
例えば特許文献３には、２枚のガラス基板の少なくとも周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して前記２枚のガラス基板を融合させる工程を有する表示装置用基板の製造方法が記載されている。

例えば特許文献４には、粘着材層が支持体上に設けられている基板搬送用治具に基板を貼り付け、液晶表示素子の製造工程を通して基板搬送用治具を搬送することにより、基板搬送用治具に貼り付いている基板に対して液晶表示素子形成処理を順次行い、所定の工程を終了後、基板搬送用治具から基板を剥離する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
例えば特許文献５には、液晶表示素子用電極基板を紫外線硬化型粘着剤が支持体上に設けられた治具を用いて、液晶表示素子用電極基板に所定の加工を施した後、紫外線硬化型粘着剤に紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化型粘着剤の粘着力を低下させ、前記液晶表示素子用電極基板を前記治具から剥離することを特徴とする液晶表示素子の製造方法が記載されている。
例えば特許文献６には、粘着材によって薄板を支持板に仮固定し、前記粘着材の周縁部をシール材によって封止し、薄板を仮固定した支持板を搬送する搬送方法が記載されている。

例えば特許文献７には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラスと、前記支持ガラスと、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離するには、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から垂直方向に引き離す力を与えればよく、剃刀の刃等で端部に剥離のきっかけを入れたり、積層界面へのエアーの注入により、より容易に剥離することが可能であると記載されている。また、特許文献８には、剥離紙用シリコーンを用いて、保護ガラス基板とＴＦＴアレイ基板とを予め積層し、表示装置を組み立てた後に保護ガラス基板を剥離することが開示されている。

特開２０００−２４１８０４号公報 特開昭５８−５４３１６号公報 特開２００３−２１６０６８号公報 特開平８−８６９９３号公報 特開平９−１０５８９６号公報 特開２０００−２５２３４２号公報 国際公開第２００７／０１８０２８号パンフレット 国際公開第２００８／００７６２２号パンフレット

しかしながら、特許文献１に記載のガラス基板同士を静電吸着力や真空吸着力を利用して固定する方法、特許文献２に記載のガラス基板の両端をガラスフリットを用いて固定する方法、または特許文献３に記載の周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して２枚のガラス基板を融合させる方法では、ガラス基板同士を密着させる。すなわち、ガラス基板の間に他の層を介さず積層密着させる。そのためガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によってガラス基板にゆがみ欠陥が生じ易いので、表面が平滑なガラス基板積層体を得ることが困難である。

また、特許文献４〜６に記載のガラス基板間に粘着層等を配置する方法では、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥の発生を回避し得るものの、両ガラス基板を分離することが困難であり、分離する際に薄板ガラス基板が破損するおそれがある。また分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存も問題となる。

これに対して特許文献７に記載の薄板ガラス積層体によれば、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥は発生し難い。また、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを剥離することも可能である。さらに分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存の問題は解決される。
しかし、両ガラス基板の分離は、より容易に、より短時間で行うことが望まれる。特にガラス基板が大型の場合は、工業的に利用する上で重要な点となる。

また、特許文献７に記載のような薄板ガラス積層体は、高真空下における熱処理時において、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との間のシリコーン樹脂層から微量のガスを発生する場合がある。当該ガスは１００〜３５０℃程度の比較的低温での熱処理時であっても発生し得る。当該ガスが発生すると、真空処理工程設備等を汚染する可能性があるので好ましくない。
また、熱処理温度がより高く、例えば４００℃程度を超えると、シリコーン樹脂層の端部であって外気と接している部分が酸化して劣化する場合がある。そうすると、薄板ガラス基板との易剥離性が失われ、さらに支持ガラス基板と剥離するおそれもある。また、シリコーン樹脂層が酸化により白化し、粉状のＳｉＯ_２を発生させ、熱処理工程設備等を汚染するおそれがある。さらに、このように樹脂層が劣化してしまうと、薄板ガラス基板と分離した樹脂層付きの支持ガラス基板を、支持体として別の薄板ガラス基板と付けて再利用することは困難となる。

本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易に分離することができるガラス積層体を提供することを目的とする。
また、高真空下における熱処理時におけるガスの発生を極微量に抑えるガラス積層体を提供することを目的とする。
また、熱処理温度が比較的高温（４００℃超程度）であっても薄板ガラス基板と支持ガラス基板との間の樹脂層が酸化し難く劣化し難いガラス積層体を提供することを目的とする。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することを目的とする。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネルおよび表示装置を提供することを目的とする。さらに、前記ガラス積層体または前記支持体付き表示装置用パネルの製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を重ね、本発明を完成した。
本発明は以下の（１）〜（１４）に関する。
（１）第１主面と第２主面とを有する薄板ガラス基板、
第１主面と第２主面とを有する支持ガラス基板、および
前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との間に配置された樹脂層および外枠層を有するガラス積層体であって、
前記樹脂層が、前記支持ガラス基板の第１主面に固定されており、前記薄板ガラス基板の第１主面に対する易剥離性を備え、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しており、
前記外枠層が、前記支持ガラス基板の第１主面上において、前記樹脂層が外気と接しないように前記樹脂層を囲んでいる、ガラス積層体。
（２）前記樹脂層の端面と、前記外枠層の端面の少なくとも一部とが接している、上記（１）に記載のガラス積層体。
（３）前記薄板ガラス基板が、ＴＦＴアレイ用ガラス基板である、上記（１）または（２）に記載のガラス積層体。
（４）前記外枠層が、５％加熱質量減温度が４００℃以上の材料からなる、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のガラス積層体。
（５）前記外枠層が、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂および無機材料からなる群から選ばれる少なくとも一つからなる、上記（１）〜（４）のいずれかに記載のガラス積層体。
（６）前記樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一つからなる、上記（１）〜（５）のいずれかに記載のガラス積層体。
（７）前記外枠層の幅が０．５〜１０ｍｍである、上記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス積層体。
（８）上記（３）〜（７）のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面上に、さらにＴＦＴアレイを有する支持体付き表示装置用パネル。
（９）上記（８）に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
（１０）上記（９）に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
（１１）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、前記支持ガラス基板の第１主面上の内側領域に前記樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記支持ガラス基板の第１主面上の外側領域に前記外枠層を形成し固定する外枠層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面と、前記樹脂層および前記外枠層とを密着する密着工程とを含む、ガラス積層体の製造方法。
（１２）上記（１１）に記載のガラス積層体の製造方法が、さらに、得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を形成する工程を含む、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
（１３）上記（１２）に記載の製造方法が、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する分離工程を含む、表示装置用パネルの製造方法。
（１４）前記分離工程が、前記外枠層にレーザ光を照射して前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する工程である、上記（１３）に記載の表示装置用パネルの製造方法。

本発明によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易に分離することができるガラス積層体を提供することができる。
また、高真空下における熱処理時におけるガスの発生を極微量に抑えるガラス積層体を提供することができる。
また、好ましい態様とすることで、熱処理温度が比較的高温（４００℃程度超）であっても薄板ガラス基板と支持ガラス基板との間の樹脂層が酸化し難く劣化し難いガラス積層体を提供することができる。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することができる。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置を提供することができる。さらに、前記ガラス積層体または前記支持体付き表示装置用パネルの製造方法を提供することができる。

図１は、本発明の積層体の一態様を示す概略正面図である。 図２は、本発明の積層体の一態様を示す概略断面図である。 図３は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略正面図である。 図４は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略断面図である。 図５は、本発明の積層体の支持ガラス基板を剥がす方法を説明するための概略断面図である。

本発明について説明する。
本発明は、第１主面と第２主面とを有する薄板ガラス基板、第１主面と第２主面とを有する支持ガラス基板、および前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との間に配置された樹脂層および外枠層を有するガラス積層体であって、前記樹脂層が、前記支持ガラス基板の第１主面に固定されており、前記薄板ガラス基板の第１主面に対する易剥離性を備え、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しており、前記外枠層が、前記支持ガラス基板の第１主面上において、前記樹脂層が外気と接しないように前記樹脂層を囲んでいる、ガラス積層体である。
このようなガラス積層体を、以下では「本発明の積層体」ともいう。

初めに、本発明の積層体の形態を、図１、図２を用いて説明する。
図１は、本発明の積層体の一態様を示す概略正面図であり、図２はそのＡ−Ａ’断面図（概略断面図）である。
以下ではこの態様を「態様１」ともいう。
この態様１において本発明の積層体１０は、薄板ガラス基板１２、樹脂層１４、外枠層１６および支持ガラス基板１８を有している。そして、図２に示すように、薄板ガラス基板１２と支持ガラス基板１８とが樹脂層１４および外枠層１６を挟んで積層している。
また、図１に示すように、正面から見ると、薄板ガラス基板１２、樹脂層１４および支持ガラス基板１８は各々矩形であり、薄板ガラス基板１２の主面面積は樹脂層１４の主面面積よりも大きいが、支持ガラス基板１８の主面面積よりもやや小さい。そして、正面から見ると、薄板ガラス基板１２は支持ガラス基板１８の内側に含まれるように位置しており、樹脂層１４および外枠層１６は薄板ガラス基板１２の内側に含まれるように位置している。

また、図１に示すように、正面から見ると、外枠層１６は樹脂層１４の外側を囲う枠のように薄板ガラス基板１２の外縁付近（外側領域）に存在している。また、図２に示すように、外枠層１６は薄板ガラス基板１２の第１主面および支持ガラス基板１８の第１主面に固定されている。したがって、その内側に存在する樹脂層１４は外気と接しない。外枠層１６が存在しなかった場合、樹脂層１４の端面１４αが外気と接することとなる。なお、正面から見た場合にＴＦＴアレイ等が外枠層の内側に形成され、ＴＦＴアレイ等と外枠層の形成領域とが重なって見えないことが必要である。逆に言えば、正面から見て、薄板ガラス基板の第２主面におけるＴＦＴアレイ等を形成する有効領域を除く領域に相当する薄板ガラス基板の第１主面に、外枠層を形成することが必要である。後述するようなレーザ照射によって、ＴＦＴアレイ等が破損することを防止するためである。

また、本発明の積層体１０において樹脂層１４は、支持ガラス基板１８の第１主面に固定されており、薄板ガラス基板１２の一方の主面である第１主面に対する易剥離性を備え、薄板ガラス基板１２の第１主面と密着している。

また、態様１の本発明の積層体１０においては、樹脂層１４の端面１４αと、外枠層１６の内側の端面１６αとが接している。

このような態様１のガラス積層体は熱処理時においてガスを発生し難い。外枠層１６が存在するために、樹脂層１４から発生したガスが外部に発散しないからである。また、後述する好ましい態様とすると、熱処理温度が比較的高温（４００℃程度超）であっても薄板ガラス基板と支持ガラス基板との間の樹脂層が酸化し難く劣化し難い。外枠層１６が外気と樹脂層１４の端面１４αとの接触を遮断するからである。

次に、本発明の積層体が有する薄板ガラス基板、支持ガラス基板、樹脂層および外枠層の各々について説明する。

薄板ガラス基板について説明する。
薄板ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されず、例えば従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板と同様であってよい。
前記薄板ガラス基板は、ＴＦＴアレイ用ガラス基板であることが好ましい。

薄板ガラス基板の厚さは０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。また、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０７ｍｍ以上であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上であることがさらに好ましい。

薄板ガラスの形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。

薄板ガラスの大きさは限定されないが、例えば矩形の場合は１００〜２０００ｍｍ×１００〜２０００ｍｍであってよく、５００〜１０００ｍｍ×５００〜１０００ｍｍであることがより好ましい。

なお、薄板ガラスの厚さはレーザーフォーカス変位計を用いて面内９点を測定した値の平均値を持って表し、大きさは鋼尺を用いて短辺・長辺をそれぞれ計測した値を意味するものとする。後述する支持ガラス基板の厚さおよび大きさについても同様とする。

このような厚さおよび大きさであっても、本発明の積層体は薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易に剥離することができる。

薄板ガラス基板の熱収縮率、表面形状、耐薬品性等の特性も特に限定されず、製造する表示装置の種類により異なる。
また、前記薄板ガラス基板の熱収縮率は小さいことが好ましい。具体的には熱収縮率の指標である線膨張係数が５００×１０^−７／℃以下であるものを用いることが好ましい。
前記線膨張係数は、３００×１０^−７／℃以下であることがより好ましく、２００×１０^−７／℃以下であることがより好ましく、１００×１０^−７／℃以下であることがより好ましく、４５×１０^−７／℃以下であることがさらに好ましい。その理由は熱収縮率が大きいと高精細な表示装置を作ることができないためである。
なお、本発明において線膨張係数はＪＩＳ Ｒ３１０２（１９９５年）に規定のものを意味する。

薄板ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラスや無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。

支持ガラス基板について説明する。
支持ガラス基板は樹脂層を介して薄板ガラス基板を支持し、薄板ガラス基板の強度を補強する。

支持ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されない。
支持ガラス基板の厚さは特に限定されないが、現行の製造ラインで処理できるような厚さであることが好ましい。
例えば０．１〜１．１ｍｍの厚さであることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。
例えば、現行の製造ラインが厚さ０．５ｍｍの基板を処理するように設計されたものであって、薄板ガラス基板の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．４ｍｍとする。また、現行の製造ラインは厚さが０．７ｍｍのガラス基板を処理するように設計されているものが最も一般的であるが、例えば薄板ガラス基板の厚さが０．４ｍｍならば、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．３ｍｍとする。
支持ガラス基板の厚さは、前記薄板ガラス基板よりも厚いことが好ましい。

支持ガラス基板の形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。

支持ガラス基板の大きさは限定されないが、前記薄板ガラス基板と同程度であることが好ましく、前記ガラス基板よりもやや大きい（縦方向または横方向の各々が０．０５〜１０ｍｍ程度大きい）ことが好ましい。理由は、表示装置用パネル製造時の位置決めピン等のアライメント装置の接触から前記薄板ガラス基板の端部を保護しやすいこと、および薄板ガラス基板と支持ガラス基板との剥離をより容易に行うことができるからである。

支持ガラス基板は線膨張係数が前記薄板ガラス基板と実質的に同一であってよく、異なってもよい。実質的に同一であると、本発明の積層体を熱処理した際に、薄板ガラス基板または支持ガラス基板に反りが発生し難い点で好ましい。
薄板ガラス基板と支持ガラス基板との線膨張係数の差は３００×１０^−７／℃以下であることが好ましく、１００×１０^−７／℃以下であることがより好ましく、５０×１０^−７／℃以下であることがさらに好ましい。

支持ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。

樹脂層について説明する。
本発明の積層体において、樹脂層は前記支持ガラス基板の第１主面に固定されている。
そして、樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しているが、容易に剥離することができる。すなわち樹脂層は、前記薄板ガラス基板に対して易剥離性を有する。
本発明の積層体において、樹脂層と薄板ガラス基板とは粘着剤が有するような粘着力によっては付いていないと考えられ、固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって付いていると考えられる。

樹脂層の厚さは特に限定されない。１〜１００μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、７〜２０μｍであることがさらに好ましい。樹脂層の厚さがこのような範囲であると、薄板ガラス基板と樹脂層との密着が十分になるからである。
また、気泡や異物が介在しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるからである。また、樹脂層の厚さが厚すぎると、形成するのに時間および材料を要するため経済的ではない。

ここで樹脂層の厚さは、レーザーフォーカス変位計を用いて面内９点を測定した値の平均値を意味するものとする。後述する外枠層の厚さについても同様とする。

なお、樹脂層は２層以上からなっていてもよい。その場合、「樹脂層の厚さ」は全ての層の合計の厚さを意味するものとする。
また、樹脂層が２層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。
後述する外枠層についても同様である。

樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面に対する樹脂層の表面の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。このような表面張力であると、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
また、樹脂層は、ガラス転移点が室温（２５℃程度）よりも低い材料またはガラス転移点を有しない材料からなることが好ましい。非粘着性の樹脂層となり、より易剥離性を有し、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
また、樹脂層が耐熱性を有していることが好ましい。本発明のパネル製造方法では、例えば前記薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合に、樹脂層を有するガラス積層体を熱処理に供するからである。
また、樹脂層の弾性率が高すぎると薄板ガラス基板との密着性が低くなるので好ましくない。また弾性率が低すぎると易剥離性が低くなるので好ましくない。

樹脂層を形成する樹脂の種類は特に限定されない。例えばアクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂が挙げられる。二種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でもシリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は耐熱性に優れかつ薄板ガラス基板に対する易剥離性に優れるためである。シリコーン樹脂層は例えば４００℃程度で１時間程度処理しても、易剥離性がほぼ劣化しない点も好ましい。また、シリコーン樹脂が支持ガラス基板表面のシラノール基と縮合反応するので、シリコーン樹脂層を支持ガラス基板の表面（第１主面）に固定し易いからである。

また、樹脂層はシリコーン樹脂の中でも剥離紙用シリコーンからなることが好ましく、その硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とするものである。この主剤と架橋剤とを含む組成物を、触媒、光重合開始剤等を用いて前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に硬化させて形成した樹脂層は、優れた易剥離性を有するので好ましい。また、柔軟性が高いので、薄板ガラス基板と樹脂層との間へ気泡や塵介等の異物が混入しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるので好ましい。

このような剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーンおよび電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型シリコーンが好ましい。硬化反応のし易さ、樹脂層を形成した際に易剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。

また、剥離紙用シリコーンは形態的に溶剤型、エマルジョン型および無溶剤型があり、いずれの型も使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。生産性、安全性、環境特性の面が優れるからである。また、樹脂層を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化または電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留し難いからである。

また、剥離紙用シリコーンとして、具体的には市販されている商品名または型番としてＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン社製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ビニルシリコーン「８５００」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６４」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６５」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ等が挙げられる。
なお、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＳ−８４７およびＴＰＲ６７００は、あらかじめ主剤と架橋剤とを含有しているシリコーンである。

また、樹脂層を形成するシリコーン樹脂は、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい性質、すなわち低シリコーン移行性を有することが好ましい。

外枠層について説明する。
外枠層は帯状であって、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との間に、両ガラス基板に挟まれて存在する。また、前記支持ガラス基板上において、前記樹脂層の外側を囲う枠のように存在している。また、薄板ガラス基板および支持ガラス基板に固定されている。したがって前記樹脂層は外気と接し難い。前記樹脂層が外気と全く接しないように形成することが好ましい。
なお、態様１の本発明の積層体１０においては、樹脂層１４の端面１４αと、外枠層１６の内側の端面１６αとが接しているが、接しておらず樹脂層の端面と外枠層の内側の端面との間に空隙があってもよい。ただし、空隙が少ないか、またはほぼないほうが好ましい。本発明の積層体を比較的高温（４００℃超）で熱処理した場合により樹脂層が酸化し難いからである。

外枠層の幅は特に限定されないが、０．５〜１０ｍｍであることが好ましく、１〜５ｍｍであることがより好ましく、１．５〜３．０ｍｍであることがさらに好ましい。このような幅であると前記樹脂層が外気とより接し難い。また、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを剥離する際に剥離し易い。外枠層の幅が広すぎると剥離が困難になるおそれがある。例えば後述する好ましい剥離方法であるレーザ光を照射する方法において、剥離に長時間を要する可能性が生じる。

外枠層の厚さは特に限定されない。前記樹脂層と同じであってもよいが、それよりもやや厚いことが好ましく、５〜２０μｍ厚いことがより好ましい。外枠層が前記樹脂層の厚さよりもやや厚いと、前記薄板ガラス基板と外枠層と前記支持ガラス基板とが密着しやすいので好ましい。また、外枠層の厚さが前記樹脂層の厚さよりも厚すぎると、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層と前記支持ガラス基板とが密着し難くなり、本発明の積層体を製造する過程で、前記薄板ガラス基板または前記支持ガラス基板を破損するおそれがある。
前記樹脂層の厚さが５〜１００μｍの場合に、外枠層の厚さが５〜１２０μｍであることが好ましく、さらに外枠層の方が５〜２０μｍ厚いことがより好ましい。

外枠層の材料は特に限定されないが、本発明の積層体に、前記薄板ガラス基板の第２主面にＴＦＴアレイを形成するための熱処理を施しても、質量減少比率が低い材料であることが好ましい。例えば、４００℃で熱処理した場合に質量減少比率が５質量％以下の材料であることが好ましい。つまり、５％加熱質量減温度が４００℃以上の材料であることが好ましい。この温度が４２５℃以上であることがより好ましく、４５０℃以上であることがさらに好ましい。このような材料であると、本発明の積層体を加熱工程に供しても、溶融等の形態変化が生じ難いので好ましい。
５％加熱質量減温度とは、混合エアー気流下１分間に１０℃ずつ昇温し、試料の質量が初期試料質量の９５％に達したときの温度を意味する。

外枠層の材料の具体例として、例えばポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、無機材料が挙げられる。これらの中の２以上を混合した材料であってもよい。ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂および無機材料からなる群から選ばれる少なくとも一つであって、かつ５％加熱質量減温度が４００℃以上の材料であることが好ましい。

ここでシリコーン樹脂としては、直鎖状のもの、ラダー状のもの、籠状のものが例示できる。中でもラダー状のもの、または籠状のものが好ましい。耐熱性が高いからである。
また、置換基としてアルキル基やアリール基を有するシリコーン樹脂であってもよく、耐熱性が高いことから、ケイ素原子がアリール基を有するシリコーン樹脂が好ましい。

また、無機材料とは、各種酸化物や窒化物等が挙げられる。例えばＡｌ、Ｓｉ、Ｃ、ＭｇおよびＢの酸化物や窒化物等が挙げられる。具体的にはアルミナ、シリカ、グラファイト、マグネシア、窒化ホウ素、窒化アルミニウムが挙げられる。これを主剤として、さらに結合剤としてメタケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のシリケート化合物、リン酸アルミニウムを含むものであってもよい。

外枠層は、さらにアルミナ、シリカ、タルク、ガラス繊維等の無機フィラーを含んでもよい。これらの含有率は５〜８０質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましく、２０〜５０質量％であることがさらに好ましい。

本発明の積層体は、このような薄板ガラス基板、支持ガラス基板、樹脂層および外枠層を有する。

本発明の積層体は、さらにシートを有することが好ましい。シートを引っ張ることで、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易剥離することができるからである。具体的なシートを利用した剥離方法については後述する。
シートを有する態様の本発明の積層体について図３、図４を用いて説明する。
以下ではこの態様を「態様２」ともいう。
なお、この態様２の本発明の積層体は、前述の態様１と比較するとシートを有することが異なり、その他については同様である。よって以下の説明では異なる点について主に説明する。

図３は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略正面図であり、図４はそのＢ−Ｂ’断面図（概略断面図）である。
この態様２において本発明の積層体２０は、薄板ガラス基板２２、樹脂層２４、外枠層２６、シート２７および支持ガラス基板２８を有している。そして、薄板ガラス基板２２と支持ガラス基板２８とは樹脂層２４、外枠層２６およびシート２７を挟んで積層している。

また、図３に示すように、正面から見ると、薄板ガラス基板２２、樹脂層２４および支持ガラス基板２８は各々矩形であり、シート２７も矩形である。また、樹脂層２４は外枠層２６とシート２７とで外側を囲われている。また、外枠層２６は薄板ガラス基板２２および支持ガラス基板２８に固定されている。また、シート２７は薄板ガラス基板２２および支持ガラス基板２８に密着している。したがって、それらの内側に存する樹脂層２４は外気と接しない。外枠層２６またはシート２７が存在しなかった場合、樹脂層２４の端面２４αが外気と接することとなる。

また、シート２７は、図３に示すように、正面から見た場合に本発明の積層体２０が有する４辺中の１辺と重なる位置に存在している。そして、図４に示すように、シート２７の一部分（２７ａ）が薄板ガラス基板２２と支持ガラス基板２８とに挟まれている。さらに、挟まれていない部分であって薄板ガラス基板２２にも支持ガラス基板２８にも接していない部分（２７ｂ）を有している。また、ここに示す態様２の場合、シート２７は、薄板ガラス基板２２と支持ガラス基板２８とに挟まれてはいないが、一方の基板（支持ガラス基板２８）に接している部分２７ｃを有している。
また、シート２６と樹脂層２４とは重なっておらず、樹脂層２４の端面の一部２４αとシート２７の端面２７αとが接するように配置されている。

本発明の積層体は、このようなシートを有する態様であってこれとは異なる他の態様のものであってもよい。例えば正面から見たシートの大きさが図３よりも小さいものでよい。また、シートを複数有する態様のものであってよい。また、シートが本発明の積層体が有する４辺中の２辺以上と重なる位置の各々に存在するものでもよい。

シートについて説明する。
シートは前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との間に存在し、その一部が両ガラス基板に挟まれている。そして、挟まれていない部分（残部）の少なくとも一部は、前記薄板ガラス基板にも前記支持ガラス基板にも接していない。

シートの形状は特に限定されないが、上記の態様２のように矩形であることが好ましい。
シートの大きさ、表面積（２つの主面のうちの一方の主面面積）も特に限定されない。
例えば矩形の場合は１枚のシートの大きさが１〜４０００ｃｍ^２であってよく、２〜２０００ｃｍ^２であることが好ましく、４〜１０００ｃｍ^２であることがより好ましい。

シートの前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とに挟まれている部分の大きさは特に限定されない。例えばこの部分が矩形の場合は１０〜２０００ｍｍ×０．５〜１００ｍｍであってよく、２０〜１０００ｍｍ×０．５〜１００ｍｍであることが好ましく、２０〜１０００ｍｍ×１〜５０ｍｍであることがより好ましい。特に、シートにおける当該部分を正面から見た場合の４つの辺のうち、本発明の積層体の辺と直交する側の辺（上記の態様２であれば、図４に示す断面に平行な辺）の長さ（態様２の場合であれば「２７ａ」で示される部分の長さ）は、１０〜２０００ｍｍであってよく、２０〜１０００ｍｍであることが好ましく、４０〜１０００ｍｍであることがより好ましい。また、この部分の面積は０．５〜２０００ｃｍ^２であってよく、１〜１０００ｃｍ^２であることが好ましく、２〜５００ｃｍ^２であることがより好ましい。このような範囲であると、薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合、薄板ガラス基板においてその形成に適した部分の面積を比較的大きくとることができるという点で好ましい。
なお、ここでいうシートの「挟まれている部分の大きさ」とは、例えば上記の態様２であれば、２７ａの部分が有する２つの主面のうち、支持ガラス基板２８と対向する側の主面の面積を意味するものとする。

シートの前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とに挟まれていない部分（残部）の一部であって、前記薄板ガラス基板にも前記支持ガラス基板にも接していない部分の大きさは特に限定されない。例えばこの部分が矩形の場合は１０〜２０００ｍｍ×０．５〜１００ｍｍであってよく、２０〜１０００ｍｍ×０．５〜１００ｍｍであることが好ましく、２０〜１０００ｍｍ×１〜５０ｍｍであることがより好ましい。特に、矩形シートの辺のうち、本発明の積層体の辺と直交する側の辺（例えば上記の態様２であれば、図４に示す断面に平行な辺）の長さ（態様２の場合であれば「２７ｂ」で示される部分の長さ）は、１０〜２０００ｍｍであってよく、２０〜１０００ｍｍであることが好ましく、４０〜１０００ｍｍであることがより好ましい。
また、面積としては０．５〜２０００ｃｍ^２であってよく、１〜１０００ｃｍ^２であることが好ましく、２〜５００ｃｍ^２であることがより好ましい。このような範囲であると、薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する際に、障害にならないという点で好ましい。
なお、ここでいうシートの「挟まれていない部分（残部）の一部であって、前記薄板ガラス基板にも前記支持ガラス基板にも接していない部分」とは、例えば上記の態様２の場合であれば、２７ｂの部分が有する２つの主面のうち、支持ガラス基板２８の第１主面と端部において接している方の主面の面積を意味するものとする。

シートの前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とに挟まれていない部分であって、前記薄板ガラス基板または前記支持ガラス基板に接している部分の大きさは特に限定されない。例えば０〜２０００ｃｍ^２であってよく、０〜１０００ｃｍ^２であることが好ましく、０〜５００ｃｍ^２であることがより好ましい。このような範囲は前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板の大きさの違いとシートの設置される箇所で必然的に決まるものである。
なお、ここでいうシートの「挟まれていない部分であって、前記薄板ガラス基板または前記支持ガラス基板に接している部分」とは、例えば上記の態様２の場合であれば、２７ｃの部分が有する２つの主面のうち、支持ガラス基板２８の第１主面と接している方の主面の面積を意味するものとする。

シートは前記支持ガラス基板の第１主面に固定されていることが好ましい。また、上記で説明した「シートの前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とに挟まれている部分」が前記支持ガラス基板の第１主面に固定されていることがより好ましい。前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との剥離がより容易になるからである。
シートを前記支持ガラス基板の第１主面に固定する方法は限定されない。容易に剥がれない方法であればよい。例えば接着剤、貼着剤を用いて固定することができる。接着剤としてはウレタン系、アクリル系、エポキシ系、シリコーン系の接着剤が挙げられる。また、無機系の接着剤であってもよい。このような中でもエポキシ系、アクリル系、シリコーン系の接着剤または無機系の接着剤であることが好ましい。耐熱性が高いからである。

シートの厚さは特に限定されない。前記樹脂層と同じであってもよいが、それよりもやや厚いことが好ましく、５〜２０μｍ厚いことがより好ましい。シートが前記樹脂層の厚さよりもやや厚いと、前記薄板ガラス基板とシートと前記支持ガラス基板とが密着しやすいので好ましい。また、シートの厚さが前記樹脂層の厚さよりも厚すぎると、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層と前記支持ガラス基板とが密着し難くなり、本発明の積層体を製造する過程で、前記薄板ガラス基板または前記支持ガラス基板を破損するおそれがある。
前記樹脂層の厚さが５〜１００μｍの場合に、シートの厚さが５〜１２０μｍであることが好ましく、さらにシートの方が５〜２０μｍ厚いことがより好ましい。

シートの材質は特に限定されないが、有機樹脂または金属からなることが好ましい。
また、有機樹脂の中でも、５％加熱質量減温度が２００℃以上の有機樹脂であることが好ましい。この温度は２５０℃以上であることがより好ましく、３００℃以上であることがさらに好ましい。本発明の積層体を加熱工程に供しても、溶融等の形態変化が生じにくいからである。

５％加熱質量減温度が２００℃以上の有機樹脂としては、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリアリルエステル、ポリカーボネート、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素樹脂などが挙げられる。
シートは、５％加熱質量減温度が２００℃以上の有機樹脂製のフィルムであることが好ましい。

シートの上記のような樹脂のみからなるものであってよいが、さらにアルミナ、シリカ、タルク、ガラス繊維等の無機フィラーを含んでもよい。これらの含有率は５〜８０質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましく、２０〜５０質量％であることがさらに好ましい。

シートの材質が金属である場合、中でもアルミニウム、金、銅、ステンレスが好ましい。耐熱性が高いからである。

このように本発明の積層体は、前記薄板ガラス基板、前記支持ガラス基板、前記樹脂層および前記外枠層を有し、さらにシートを有するものであってよい。

次に、本発明の支持体付き表示装置用パネルについて説明する。
本発明の支持体付き表示装置用パネルは、本発明の積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、さらに表示装置用部材を有するものである。
この支持体付き表示装置用パネルは、本発明の積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成することで得ることができる。

表示装置用部材とは、従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板がその表面に有する発光層、保護層、カラーフィルタ、液晶、ＩＴＯからなる透明電極等、各種回路パターン等を意味する。
本発明の支持体付き表示装置用パネルは、本発明の積層体の薄板ガラス基板の第２主面上にＴＦＴアレイ（以下、単に「アレイ」という。）が形成されたものであることが好ましい。
本発明の支持体付き表示装置用パネルには、例えば、アレイが薄板ガラス基板の第２主面に形成された本発明の支持体付き表示装置用パネルに、さらにカラーフィルタが形成された他のガラス基板（例えば０．３ｍｍ以上の厚さのガラス基板）が貼り合わされたものも含まれる。

また、このような支持体付き表示装置用パネルから、表示装置用パネルを得ることができる。支持体付き表示装置用パネルから、後述するような方法で、薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを剥離して、表示装置用部材および薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルを得ることができる。

また、このような表示装置用パネルから表示装置を得ることができる。表示装置としてはＬＣＤ、ＯＬＥＤが挙げられる。ＬＣＤとしてはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型が挙げられる。

次に、本発明の積層体の製造方法を説明する。
本発明の積層体の製造方法は特に限定されないが、前記支持ガラス基板の第１主面上の内側領域に前記樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記支持ガラス基板の第１主面上の外側領域に前記外枠層を形成し固定する外枠層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面と、前記樹脂層および前記外枠層とを密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法であることが好ましい。このような製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。

樹脂層形成工程について説明する。
初めに薄板ガラス基板および支持ガラス基板を用意する。
薄板ガラス基板および支持ガラス基板の製造方法は特に限定されない。例えば従来公知の方法で製造することができる。例えば従来公知のガラス原料を溶解し溶融ガラスとした後、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等によって板状に成形して得ることができる。

このようにして製造した支持ガラス基板の表面（第１主面）の内側領域に樹脂層を形成する。ここで内側領域とは、支持ガラス基板の第１主面上であって、後に説明する外側領域の内側の領域を意味する。
例えばフィルム状の樹脂を支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的にはフィルムの表面に高い接着力を付与するために表面改質処理（プライミング処理）を行い、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。例えば、シランカップリング剤のような化学的に密着力を向上させる化学的方法（プライマー処理）や、フレーム（火炎）処理のように表面活性基を増加させる物理的方法、サンドブラスト処理のように表面の粗度を増加させることにより引っかかりを増加させる機械的処理方法などが例示される。

また、例えば公知の方法によって樹脂層となる樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする方法が挙げられる。公知の方法としてはスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法が挙げられる。このような方法の中から、樹脂組成物に種類に応じて適宜選択することができる。
例えば、無溶剤型の剥離紙用シリコーンを樹脂組成物として用いた場合、ダイコート法、スピンコート法またはスクリーン印刷法が好ましい。

また、樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする場合、その塗工量は１〜１００ｇ／ｍ^２であることが好ましく、５〜２０ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。

例えば付加反応型シリコーンからなる樹脂層を形成する場合、直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーン（主剤）、架橋剤および触媒を含む樹脂組成物を、上記のスプレーコート法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、主剤および架橋剤の合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で反応させる。また、この場合の反応時間は５〜６０分間、好ましくは１０〜３０分間とする。低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることが好ましい。上記のような反応温度および反応時間であると、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができるので好ましい。上記した反応時間よりも長すぎたり反応温度が高すぎる場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり低分子量のシリコーン成分が生成して、シリコーン移行性が高くなる可能性がある。シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。

また、例えば樹脂層を剥離紙用シリコーンを用いて製造した場合、支持ガラス基板上に塗工した剥離紙用シリコーンを加熱硬化してシリコーン樹脂層を形成した後、支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる。剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラス基板の表面と化学的に結合する。また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラス基板の表面と結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に強固に固定される。

外枠層形成工程について説明する。
上記のような樹脂層形成工程によって支持ガラス基板の第１主面上に樹脂層を形成した後、または形成する前に、または形成しながら、支持ガラス基板の第１主面上の外側領域に外枠層を形成し固定する。

ここで外側領域とは支持ガラス基板の第１主面上であって、本発明の積層体を正面から見た場合（例えば図１に示したような場合）に、前記薄板ガラス基板の外縁よりも内側に含まれる領域であり、さらに前記薄板ガラス基板の外縁付近の領域を意味する。具体的には、例えば、正面から見た場合の薄板ガラス基板の縁から内側へ０．５〜１００ｍｍの領域、好ましくは０．５〜５０ｍｍ、より好ましくは０．５〜１０ｍｍ、さらに好ましくは０．５〜５ｍｍが外側領域である。薄板ガラス基板が大きいものであれば、この領域の大きさも大きくてよい。

外枠層形成工程において、外枠層を前記支持ガラス基板の第１主面上に形成する方法としては以下の方法が挙げられる。
（ａ）前記樹脂層の外周部に沿うようにディスペンサーを移動させながら材料を吐出して外枠層を形成する方法。
（ｂ）ディスペンサーを固定した上で、前記樹脂層の外周部に沿うように支持ガラス基板を移動させながら前記ディスペンサーから材料を吐出して外枠層を形成する方法。
（ｃ）前記樹脂層の外周部の形状と同形の透過部を有するスクリーンを用いてスクリーン印刷することにより外枠層を形成する方法。
（ｄ）前記樹脂層を介して薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを密着させてガラス積層体とした後、常圧または真空下にて毛細管現象により前記ガラス積層体の外周部から材料を注入して外枠層を形成する方法。
（ｅ）前記樹脂層を介して薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを密着させてガラス積層体とした後、蒸着、スパッタリングまたは化学気相成長等によって前記樹脂層の露出部を覆うように外枠層を形成する方法。
（ｆ）支持ガラス基板上に樹脂層を形成した後、蒸着、スパッタリングまたは化学気相成長等によって前記樹脂層の端部に外枠層を形成する方法。

例えばポリイミド樹脂からなる外枠層を形成する場合、その前駆体であるポリアミック酸のワニスを上記のスクリーン印刷法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させて、外枠層を得ることができる。

密着工程について説明する。
上記のような方法で支持ガラス基板の第１主面上に樹脂層を形成し、樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層する。
薄板ガラス基板と樹脂層とは、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって樹脂層と密着する。この場合、支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを積層させた状態に保持することができる。

支持ガラス基板に固定された樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる方法は特に限定されない。例えば公知の方法を用いて実施することができる。例えば、常圧環境下で樹脂層の表面に薄板ガラス基板を重ねた後、ロールやプレスを用いて樹脂層と薄板ガラス基板とを圧着させる方法が挙げられる。ロールやプレスで圧着することにより樹脂層と薄板ガラス基板とがより密着するので好ましい。また、ロールまたはプレスによる圧着により、樹脂層と薄板ガラス基板との間に混入している気泡が容易に除去されるので好ましい。
真空ラミネート法や真空プレス法により圧着すると気泡の混入の抑制や良好な密着の確保がより好ましく行われるのでより好ましい。真空下で圧着することにより、微少な気泡が残存した場合でも加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥につながりにくいという利点もある。

また、このような密着工程によって、外枠層と薄板ガラス基板とを密着することができる。例えば前記外枠層形成工程において無機材料からなる外枠層を形成した場合、当該外枠層を形成した後、時間が経過しないうちに薄板ガラス基板を密着することが好ましい。
薄板ガラス基板の第１主面と外枠層との密着がより強固になり、外枠層を薄板ガラス基板の第１主面により強固に固定することができるからである。
また、例えば外枠層を形成した後、当該外枠層における薄板ガラス基板の第１主面と密着する面に例えば接着剤等を塗布し、その後、薄板ガラス基板を密着させて、外枠層を固定してもよい。

樹脂層の表面に薄板ガラス基板を密着させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが好ましい。樹脂層と薄板ガラス基板との間に異物が混入しても、樹脂層が変形するので薄板ガラス基板の表面の平坦性に影響を与えることはないが、クリーン度が高いほどその平坦性は良好となるので好ましい。

前述のシート有する態様２の本発明の積層体を形成する場合は、前記密着工程よりも前段階に、さらに、前記支持ガラス基板の第１主面上および／または前記樹脂層の表面上にシートの一部を固定するシート固定工程を具備する。
シートを付ける方法としては、例えばシートを支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的にはシートの表面に高い接着力を付与するために表面改質処理し、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。

このようにして本発明の積層体を製造することができる。

次に、本発明の支持体付き表示装置用パネルの製造方法を説明する。
本発明の支持体付き表示装置用パネルの製造方法は、本発明の積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する。
具体的には、例えば上記のようにして製造した本発明の積層体における薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する。
表示装置用部材は特に限定されない。例えばＬＣＤが有するアレイやカラーフィルタが挙げられる。また、例えばＯＬＥＤが有する透明電極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層が挙げられる。

このような表示装置部材を形成する方法も特に限定されず、従来公知の方法と同様であってよい。
例えば表示装置としてＴＦＴ−ＬＣＤを製造する場合、従来公知のガラス基板上にアレイを形成する工程、カラーフィルタを形成する工程、アレイが形成されたガラス基板とカラーフィルタが形成されたガラス基板とを貼り合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程）等の各種工程と同様であってよい。より具体的には、これらの工程で実施される処理として、例えば純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングおよびレジスト除去が挙げられる。さらに、アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程および該処理の実施後に行われる注入口の封止工程があり、これらの工程で実施される処理が挙げられる。

また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板の第２主面上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。

このようにして本発明の支持体付き積層体を製造することができる。

次に、本発明の表示装置用パネルの製造方法を説明する。
本発明の表示装置用パネルは、上記のような製造方法によって得られる支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する分離工程を具備する。

前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する方法は特に限定されない。
例えば、前記薄板ガラス基板を前記支持ガラス基板から垂直方向に引き離す力を与えればよく、剃刀の刃等で端部に剥離のきっかけを入れたり、本発明の積層体の端面へのエアー等の流体を吹き付けて剥離することができる。また、前記外縁部にレーザ光を照射して剥離することも好ましい。また、本発明の積層体が前述のシートを有する態様２の場合であれば、シートを引張ることで容易に剥離することができる。
レーザ光を照射する剥離方法およびシートを引張る剥離方法について、以下に説明する。

前記外枠層にレーザ光を照射して前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する方法によると、容易に剥離することができるので好ましい。
前記薄板ガラス基板および／または前記支持ガラス基板越しに（好ましくは支持ガラス基板越しに）前記外枠層へレーザ光を照射することで、前記外枠層を溶融または酸化分解すると、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との接着力が弱まるので、両ガラス基板を容易に剥離することができる。レーザ光を照射した後に、上記の剃刀を用いた方法や流体を吹き付ける方法を適用すると、より容易に剥離できるので好ましい。
レーザ光としては薄板ガラス基板または支持ガラス基板における透過性が高く、前記外枠層に吸収され易いものが好ましい。例えばＹＡＧまたはＹＶＯ_４レーザの基本波（１０６４ｎｍ）またはその２倍波（５３２ｎｍ）のレーザ光や、半導体ダイオードレーザ（ＡｌＧａＡｓで６５０〜９０５ｎｍなど）、Ｔｉドープサファイアレーザ（６６０〜９８６ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎｅレーザ（５４３〜６３３ｎｍ）および各種エキシマレーザ等が挙げられる。

レーザ光は、例えばレーザ照射装置を用いて、前記薄板ガラス基板および／または前記支持ガラス基板越しに（好ましくは支持ガラス基板越しに）外枠層へレーザ光を照射することができる。そうすると外枠層の酸化や分解、または熱的応力の歪み発生による破壊のため、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との接着力が弱まる。よって、両ガラス基板を容易に剥離することができる。

ここで、レーザ光を照射して外枠層を破壊すると、外枠層の残渣が生じる場合がある。
この場合、剥離後に有機溶剤や酸・アルカリ等の薬液処理またはスクラブ洗浄処理により除去することができる。

前述のシートを有する態様２の場合は、支持体付き表示装置用パネルにおける前記シートの前記残部（両ガラス基板に挟まっていない部分）を引張り、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離することができる。具体的な剥離方法を図５を用いて説明する。
図５は、水平な定盤５１上に、薄板ガラス基板５２が下、支持ガラス基板５８が上になるように載置し、薄板ガラス基板５２の第２主面を平らな状態で定盤５１に真空吸着し、シート５７を図７に示すように上方に引張り、支持ガラス基板５８を持ち上げる。すると、薄板ガラス基板５２と樹脂層５４との界面に隙間ができ、ここを起点として空気層が界面に入り込むことで剥離が進む。ここで、この隙間に向かって空気を吹き込むと当該界面における剥離現象がより進行し易くなるのでより好ましい。

このような方法で本発明の支持体付き積層体のうちの支持体の部分を剥離して、必要な場合はさらに加工して、本発明の表示装置用パネルを得ることができる。

（実施例１）
以下のような方法で、前述の図１、図２を用いて説明した態様１のガラス積層体と、概ね同様のガラス積層体を製造した。態様１と異なるところは薄板ガラス基板および支持ガラス基板の大きさのみである。態様１のガラス積層体においては、薄板ガラス基板１２が支持ガラス基板１８よりも主面面積が小さいが、実施例１で製造するガラス積層体では、両ガラス基板の大きさが同じである。

初めに、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０^−７／℃の支持ガラス基板（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
次に、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン（信越シリコーン社製、ＫＮＳ−３２０Ａ（粘度：０．４０Ｐａ・ｓ））１００質量部と、白金系触媒（信越シリコーン社製、ＣＡＴ−ＰＬ−５６）２質量部との混合物を、支持ガラス基板上の内側領域に、縦７１０ｍｍ、横５９０ｍｍの大きさでスクリーン印刷機にて塗工した（塗工量３０ｇ／ｍ^２）。ここで内側領域は、外側全周において均等に幅５ｍｍの外側領域が得られる領域とした。
そして、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を得た。
次に、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸溶液（「Ｕ−ワニス−Ｓ」宇部興産社製、１８質量％、Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶液）を、前述の幅５ｍｍの外側領域の全てにスクリーン印刷により印刷した。ここで内側領域に形成したシリコーン樹脂層の端部と接するようにポリアミック酸溶液を印刷した。また、ポリアミック酸溶液のＷＥＴ厚みは１６０μｍであった。次に、３００℃にて６０分間大気中で加熱し、ポリイミドからなる外枠層を形成した。外枠層の厚さは２０μｍであった。なお、この加熱により、内側領域に形成したシリコーン樹脂層は何ら変化していなかった。
次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０^−７／℃の薄板ガラス基板（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。そして、支持ガラス基板のシリコーン樹脂層の表面と薄板ガラス基板とを、室温下、真空プレスにて貼り合わせガラス積層体を得た。
このようにして、本発明の積層体の一実施態様である「ガラス積層体Ａ」を２つ製造した。

次に、２つのガラス積層体Ａのうちの１つについて、４５０℃、１時間、大気中で加熱処理した。なお、別途、高真空下（１．０×１０^−５Ｐａ）において室温から４５０℃へガラス積層体Ａを昇温したが、ガラス積層体Ａからガスが発生することはなかった。大気中で加熱処理した後のものを「ガラス積層体Ａ−２」とする。なお、加熱処理をしていないもう１つのガラス積層体Ａを「ガラス積層体Ａ−１」とする。

次に、ガラス積層体Ａ−１およびガラス積層体Ａ−２を下記の剥離試験１に供し、剥離性を評価した。

＜剥離試験１＞
ガラス積層体を、支持ガラス基板が上側、薄板ガラス基板が下側となるように定盤上に設置し、薄板ガラス基板を定盤上に真空吸着した。
次に、この状態で、上側から外枠層へ支持ガラス基板越しにＹＶＯ_４レーザ光を照射した。そして、外枠層の全てを炭化して破壊した。ここでレーザ光の照射にはＬＡＳＥＲＴＥＣ社製ＱスイッチＹＶＯ_４レーザ装置を用いた。また、レーザ光の照射条件は、波長：１０６４ｎｍ、出力：１Ｗ、スポット径３０μｍ、周波数：５０ｋＨｚ、スキャン速度：２５０ｍｍ／ｓ、スキャン：３回とした。すなわち、外枠層の幅方向にレーザ光をスポット照射しながら移動させ、幅方向の同一箇所を１．５往復させた後、幅方向と垂直方向（すなわち外枠層の長手方向）へ１回の照射スポット径分（３０μｍ）、レーザ光照射位置を移動させ、再度、幅方向の同一箇所を１．５往復させる。そしてこれを繰り返すことで、外枠層の全てにレーザ光を照射した。
次に、ガラス積層体の薄板ガラス基板を定盤上で真空吸引した状態を保持したまま、外枠層を破壊して形成された支持ガラス基板と薄板ガラス基板との間の隙間を手がかりとして、支持ガラス基板を垂直上側へ引張った。

ガラス積層体Ａ−１およびガラス積層体Ａ−２の各々について、このような剥離試験１を行ったところ、いずれのガラス積層体の場合も、シリコーン樹脂層と薄板ガラス基板との界面に端から空気層が形成され、その空気層が広がって、シリコーン樹脂層が付いた支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを容易に剥離することができた。また、剥離後に薄板ガラス基板の表面に付着していた外枠層の残渣は、アルコールを用いたスクラブ洗浄で容易に除去することができた。また、ガラス積層体Ａ−２のシリコーン樹脂層の端部は酸化されていなかった。

（実施例２）
熱可塑性ポリイミド樹脂（三井化学社製、ＡＵＲＵＭ ＰＬＣ ４５０Ｃ（５質量％加熱質量減温度＝５７０℃））を用い、溶融した後、押出ディスペンス法によって外枠層を形成したこと以外は全て実施例１と同様とした操作を行い、２つのガラス積層体を製造した。そして実施例１の場合と同様にして、加熱処理していない「ガラス積層体Ｂ−１」と、加熱処理した「ガラス積層体Ｂ−２」とを得た。なお、別途、高真空下（１．０×１０^−５Ｐａ）において室温から４５０℃へガラス積層体Ｂを昇温したが、ガラス積層体Ｂからガスが発生することはなかった。得られたガラス積層体Ｂ−１およびガラス積層体Ｂ−２において薄板ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を有することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、ガラス積層体Ｂ−１およびガラス積層体Ｂ−２の各々について上記の剥離試験１を行ったところ、実施例１の場合と同様に、容易に剥離することができ、シリコーン樹脂層の端面も健全であった。同様のスクラブ洗浄によって、残渣を除去することもできた。

（実施例３）
実施例３は実施例１と同様であるが、支持ガラス基板、樹脂層、外枠層および薄板ガラス基板の種類、大きさ、厚さ等が異なるものを用いた。
支持ガラス基板として、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．６ｍｍ、線膨張係数３８×１０^−７／℃のガラス基板（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）を用いた。
また、樹脂層を形成するための樹脂として、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン（荒川化学工業株式会社製、商品名「８５００」）と、分子内にハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン（荒川化学工業株式会社製、商品名「１２０３１」）とを用いた。そして、これを白金系触媒（荒川化学工業株式会社製、商品名「ＣＡＴ１２０７０」）と混合して混合物を調製し、縦７００ｍｍ、横５８０ｍｍの大きさで、スクリーン印刷機にて塗工し（塗工量２０ｇ／ｍ^２）、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を形成した。ここで、ハイドロシリル基とビニル基のモル比は１／１となるように、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの混合比を調整した。白金系触媒は、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの合計１００質量部に対して５質量部添加した。

また、外枠層を形成するための材料として、ペースト状物質であるオーデック社製セラマボンド８３５（主剤としてジルコニア、結合剤としてシリケート化合物を含むもの）を用いた。そして、ディスペンサーを用い、そのペーストを幅２０ｍｍの外側領域に、幅５ｍｍで塗布した。ここでペーストがシリコーン樹脂層の端面に接するようにした。また、ペーストの厚さは２０μｍ超となるようにした。
また、薄板ガラス基板として、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数５０×１０^−７／℃のガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）を用いた。
この薄板ガラス基板の第１主面を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した後、支持ガラス基板のシリコーン樹脂層の表面と薄板ガラス基板とを、室温下、真空プレスにて貼り合わせた。すると、ペーストは両ガラス基板に押し潰されて延び、厚さは２０μｍとなった。その後、１００℃にて１２０分間大気中で加熱したところ、ペーストは硬化し、厚さ２０μｍ、幅２０ｍｍの外枠層が形成された。

このようにして、加熱処理していない「ガラス積層体Ｃ−１」と、加熱処理した「ガラス積層体Ｃ−２」とを得た。なお、ガラス積層体Ｃを得る過程においても、ガラス積層体Ａの場合と同様に、別途、高真空下（１．０×１０^−５Ｐａ）において室温から４５０℃へガラス積層体Ｃを昇温したが、ガラス積層体Ｃからガスが発生することはなかった。得られたガラス積層体Ｃ−１およびガラス積層体Ｃ−２において薄板ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を有することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、ガラス積層体Ｃ−１およびガラス積層体Ｃ−２の各々について上記の剥離試験１を行った。ただしレーザ光の照射出力は１Ｗではなく７Ｗとした。その結果、実施例１の場合と同様に、容易に剥離することができ、シリコーン樹脂層の端面も健全であった。同様のスクラブ洗浄によって、残渣を除去することもできた。さらに、ガラス積層体Ｃ−２の場合の硬化後の外枠層の熱膨張係数は支持ガラス基板とほぼ同じであった。そのため、４５０℃処理後に支持ガラス基板の反りや外枠層の剥離は生じなかった。

（実施例４）
本例では、実施例３で得たガラス積層体Ｃ−１を用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ｃ−１を準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とを貼り合わせた後、片面ずつ外枠層へレーザ光を照射して破壊することによって、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には、強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。

（実施例５）
本例では、実施例１で得たガラス積層体Ａ−１を用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ａ−１を準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とを貼り合わせた後、片面ずつ外枠層へレーザ光を照射して破壊することによって、各々支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、ケミカルエッチング処理によりそれぞれの薄板ガラス基板の厚さを０．１５ｍｍとする。ケミカルエッチング処理後の薄板ガラス基板の表面には光学的に問題となるようなエッチピットの発生はみられない。
その後、薄板ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。

（実施例６）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂ−１と、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子製ＡＮ−１００）とを用いてＬＣＤを製造する。
ガラス積層体を準備して、カラーフィルタ形成工程に供してガラス積層体の薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。一方、無アルカリガラス基板はアレイ形成工程に供して一方の主面上にアレイを形成する。
カラーフィルタが形成されたガラス積層体と、アレイが形成された無アルカリガラス基板とを貼り合わせた後、片面ずつ外枠層へレーザ光を照射して破壊することによって、ガラス積層体から支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、支持ガラス基板を分離したものを縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルにレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて分断する。その後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。

（実施例７）
実施例７では、実施例３で得たガラス積層体Ｃ−１を用いてＯＬＥＤを製造する。
透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程に供して、ガラス積層体の薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成する。次に片面ずつ外枠層へレーザ光を照射して破壊することによって、支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、薄板ガラス基板をレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの２８８個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成されたガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは特性上問題は生じない。

（比較例１）
外枠層を形成せず、縦７１０ｍｍ、横５９０ｍｍの樹脂層の大きさを縦７１５ｍｍ、横５９５ｍｍとしたこと以外は、実施例１と同様とした試験を行った。得られた比較例１に係る加熱処理していない「ガラス積層体Ｘ−１」および加熱処理した「ガラス積層体Ｘ−２」は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなくガラス基板が密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、ガラス積層体Ｘ−１およびガラス積層体Ｘ−２を、以下に示す剥離試験２に供した。

＜剥離試験２＞
ガラス積層体を、支持ガラス基板が上側、薄板ガラス基板が下側となるように定盤上に設置し、薄板ガラス基板を定盤上に真空吸着した。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との間に鋭利な剃刀をあてがい、界面の端をこじ開け、徐々に端から剥離した。その結果、シリコーン樹脂層と薄板ガラス基板との界面に端から空気層が形成され、その空気層が広がって、シリコーン樹脂層が付いた支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを容易に剥離することができた。

しかしながら、加熱処理したものであるガラス積層体Ｘ−２におけるシリコーン樹脂層は、その端面から５ｍｍほどが酸化して白化していた。このように白化すると、シリカ粉末が飛散し、表示装置の形成工程を汚染するおそれがある。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２００８年４月１７日出願の日本特許出願２００８−１０８１６９に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

本発明によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易に分離することができるガラス積層体を提供することができる。

１０、２０、５０ ガラス積層体（本発明の積層体）
１２、２２、５２ 薄板ガラス基板
１４、２４、５４ 樹脂層
１４α、２４α 樹脂層の端面
１６、２６、５６ 外枠層
１６α 外枠層の端面
２７ シート
２７α シートの端面
１８、２８、５８ 支持ガラス基板
５１ 定盤

Claims (14)

1. 第１主面と第２主面とを有する薄板ガラス基板、
   第１主面と第２主面とを有する支持ガラス基板、および
   前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との間に配置された樹脂層および外枠層
   を有するガラス積層体であって、
   前記樹脂層が、前記支持ガラス基板の第１主面に固定されており、前記薄板ガラス基板の第１主面に対する易剥離性を備え、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しており、
   前記外枠層が、前記支持ガラス基板の第１主面上において、前記樹脂層が外気と接しないように前記樹脂層を囲んでいる、ガラス積層体。
2. 前記樹脂層の端面と、前記外枠層の端面の少なくとも一部とが接している、請求項１に記載のガラス積層体。
3. 前記薄板ガラス基板が、ＴＦＴアレイ用ガラス基板である、請求項１または２に記載のガラス積層体。
4. 前記外枠層が、５％加熱質量減温度が４００℃以上の材料からなる、請求項１〜３のいずれかに記載のガラス積層体。
5. 前記外枠層が、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂および無機材料からなる群から選ばれる少なくとも一つからなる、請求項１〜４のいずれかに記載のガラス積層体。
6. 前記樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一つからなる、請求項１〜５のいずれかに記載のガラス積層体。
7. 前記外枠層の幅が０．５〜１０ｍｍである、請求項１〜６のいずれかに記載のガラス積層体。
8. 請求項３〜７のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面上に、さらにＴＦＴアレイを有する支持体付き表示装置用パネル。
9. 請求項８に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
10. 請求項９に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
11. 請求項１〜７のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、
    前記支持ガラス基板の第１主面上の内側領域に前記樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、
    前記支持ガラス基板の第１主面上の外側領域に前記外枠層を形成し固定する外枠層形成工程と、
    前記薄板ガラス基板の第１主面と、前記樹脂層および前記外枠層とを密着する密着工程を含む、ガラス積層体の製造方法。
12. 請求項１１に記載のガラス積層体の製造方法が、さらに、得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を形成する工程を含む、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
13. 請求項１２に記載の製造方法が、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する分離工程を含む、表示装置用パネルの製造方法。
14. 前記分離工程が、前記外枠層にレーザ光を照射して前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する工程である、請求項１３に記載の表示装置用パネルの製造方法。

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