JPWO2009025146A1 - ゲル組成物及び化粧料 - Google Patents

Abstract

使用感触の改善されたゲル組成物を提供する。下記一般式（１）又は下記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、水とからなるゲル組成物。【化１】

Description

関連出願

本出願は、２００７年０７月２８日付け出願の日本国特許出願２００７−１９４７４１号の優先権を主張しており、ここに折り込まれるものである。

本発明はゲル組成物及びこれを配合した化粧料、特にそれらの使用感触の改善に関する。

従来より、シリコーンオイルを代表するジメチルポリシロキサン固有の特性を生かし、構造の一部に様々な有機基を導入したオルガノ（ポリ）シロキサンの開発がなされている。
これらのうち、親水性の有機基を導入したオルガノポリシロキサン（例えば、ポリオキシエチレン・ポリシロキサン共重合体等）は、シロキサン部位の有する疎水性と併せて親水性部−疎水性部の両者を兼ね備えており、優れた界面活性能を示すことから、シリコーン系の界面活性剤として、特に化粧料の分野で汎用されている。

例えば、親水性の有機基であるカルボキシル基を含むオルガノ（ポリ）シロキサン誘導体として、従来から様々な化合物の開発・検討がなされており、代表的なものとして、直鎖ポリシロキサン構造の側鎖にカルボキシル基を導入したオルガノシロキサン誘導体が広く知られている。近年、このような化合物の一例として、カルボキシル構造を含むシロキサンデンドリマーが報告されている（例えば、特許文献１〜３参照）。さらに、カルボキシル変性シリコーンをトリエタノールアミンで中和した化合物が、乳化能を有することも報告されている（例えば、非特許文献１，２参照）。

一方で、化粧料の分野では、従来、界面活性剤／高級アルコール／水の系でゲル構造を形成することが知られており（例えば、非特許文献３参照）、ゲル構造の崩壊等によって優れた使用感触を付与した化粧料の開発が進められている。しかしながら、従来のゲル組成物は、いずれも比較的リジッドなゲル構造を形成してしまう等の問題があり、使用感触の点で必ずしも満足のいくものが得られてなかった。そこで、シリコーン系の界面活性剤を使用することによって、なじみやべたつき等、さらに使用感触を改善する効果が期待されるものの、従来のシリコーン系界面活性剤においては、界面活性剤／高級アルコール／水系でゲル構造を形成するものは知られていない。

特開２０００−０７２７８４号公報 特開２０００−２３９３９０号公報 特開２００１−２１３８８５号公報 影島一己，清水敏之，「カルボキシル変性シリコーンの乳化における界面活性剤としての応用」，ＦＲＥＧＲＡＮＣＥ ＪＯＵＲＮＡＬ，臨時増刊１９号，２００５年，１２５〜１３０頁 影島一己，坂本晴美，清水敏之，「カルボキシル変性シリコーンの化粧品分野における界面活性剤としての応用」，日本化粧品技術者会誌，３４巻，４号，２００３年，３０９〜３１４頁 福島正二著，「セチルアルコールの物理化学」，フレグランスジャーナル社，第６章，７６〜８８頁

本発明は、前記従来技術の課題に鑑みて行われたものであり、その目的は、使用感触の改善されたゲル組成物、及びこれを配合した化粧料を提供することにある。

前記従来技術の課題を解決するため、本発明者らが鋭意検討を行なった結果、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体を用いることによって、当該オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系においてゲル構造を形成することができ、得られたゲル組成物が優れた使用感触を与えることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の第一の主題は、下記一般式（１）又は下記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、水とからなるゲル組成物である。

（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、少なくとも１つが−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである）、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基（Ｒ^５は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｘ^１はｉ＝１のときの下記一般式（２）で示される官能基である）であり、その他のＲ¹〜Ｒ^３は同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であってもよい。Ｍは水素原子、金属原子又は有機陽イオンである。Ａは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。また、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体の１分子中に含まれるケイ素原子（Ｓｉ）の平均合計数は２〜２０である。）

（式中、Ｒ^６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｒ^７及びＲ^８は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。Ｂは、一部に分岐を有してよいＣ_ｒＨ_２ｒで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｒは２〜２０の整数である。ｉはＸ^ｉで示されるシリルアルキル基の階層を示し、階層数がｎのとき１〜ｎの整数であり、階層数ｎは１〜１０の整数であり、ａｉはｉが１のときは０〜２の整数であり、ｉが２以上のときは３未満の整数であり、Ｘ^ｉ＋１はｉがｎ未満のときは該シリルアルキル基であり、ｉ＝ｎのときはメチル基である。）

（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２は、同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であり、Ｍは水素原子、金属原子又は有機陽イオンである。Ｑは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。ｐは０〜２０の数である。）

また、前記ゲル組成物において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１及びＲ^２が−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ^３が炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、ｑが６〜２０の整数であることが好適である。
また、前記ゲル組成物において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも１以上が、下記一般式（４）又は（５）で表される官能基のいずれかであり、その他のＲ^１〜Ｒ^３が同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であることが好適である。

また、前記ゲル組成物において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（３）で表され、Ｒ^９〜Ｒ^１２が置換または非置換の炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であり、ｑが６〜２０の整数であり、ｐが１〜２０の数であり、Ｍが水素原子、アルカリ金属原子及びアルカリ土類金属原子からなる群から選択される原子であることが好適である。
また、前記ゲル組成物において、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールが、融点４０℃以上の脂肪族アルコールであることが好適である。

また、本発明の第二の主題は、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、水とを含み、該オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水からなる系がゲル構造を形成していることを特徴とする化粧料である。

また、前記化粧料において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１及びＲ^２が−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ^３が炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、ｑが６〜２０の整数であることが好適である。
また、前記化粧料において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも１以上が、上記一般式（４）又は（５）で表される官能基であり、その他のＲ^１〜Ｒ^３が同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であることが好適である。

また、前記化粧料において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（３）で表され、Ｒ^９〜Ｒ^１２が置換または非置換の炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であり、ｑが６〜２０の整数であり、ｐが１〜２０の数であり、Ｍが水素原子、アルカリ金属原子及びアルカリ土類金属原子からなる群から選択される原子であることが好適である。
また、前記化粧料において、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールが、融点４０℃以上の脂肪族アルコールであることが好適である。

本発明によれば、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体を用いることによって、当該オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系においてゲル構造を形成することができ、優れた使用感触を有するゲル組成物を得ることができる。

試験例１〜５の組成物（Ｂｅ／Ｓｔ：ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＨ＝０．１：１〜１０：１）の示差走査熱量分析（ＤＳＣ）測定結果である。 処方例１の化粧水の小角Ｘ線散乱（ＳＡＸＳ）分析結果である。

以下、本発明の好適な実施形態について説明する。
本発明にかかるゲル組成物は、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体と、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、水とからなることを特徴とするものである。

オルガノシロキサン誘導体
本発明に用いられるオルガノシロキサン誘導体は、一般式（１）又は一般式（３）で表される化合物である。
最初に、下記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体について説明する。

上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、アルキルカルボキシル基で変性されたオルガノシロキサン誘導体であり、１分子中のケイ素原子の平均合計数が２〜２０の範囲にあることを特徴とするものである。
上記一般式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^３は、少なくとも１つが−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである）、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基（Ｒ^５は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｘ^１はｉ＝１のときの下記一般式（２）で示される官能基である）である。なお、Ｒ^１〜Ｒ^３において、その全てが前記官能基のいずれかであってもよい。あるいは、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも１つが前記官能基であれば、その他のＲ^１〜Ｒ^３は、同一または異なっていてもよい置換又は非置換の一価炭化水素基のいずれかであってもよい。

−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基において、Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル等の直鎖状、分岐状あるいは環状のアルキル基が挙げられる。−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基としては、例えば、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_３、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_２Ｈ_５）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_３Ｈ_７）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_４Ｈ_９）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_５Ｈ_１１）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_６Ｈ_１３）、−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（Ｃ_６Ｈ_５）等が挙げられる。なお、前記官能基としては、トリアルキルシロキシ基であることが好ましく、トリメチルシロキシ基であることが最も好適である。

また、−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基は、デンドリマー構造を有するオルガノシロキシ基であり、Ｒ^５は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。また、Ｘ^１はｉ＝１のときの下記一般式（２）で示される官能基である。

上記一般式（２）において、Ｒ^６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｒ^７及びＲ^８は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。Ｒ^６〜Ｒ^８は炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましく、全てメチル基であることが特に好ましい。また、Ｂは、一部に分岐を有してよいＣ_ｒＨ_２ｒで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｒは２〜２０の整数である。Ｂである炭素数２〜２０のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等の直鎖状アルキレン基；メチルメチレン基、メチルエチレン基、１−メチルペンチレン基、１，４−ジメチルブチレン基等の分岐状アルキレン基が例示される。これらの中でも、エチレン基又はヘキシレン基が好ましい。

上記一般式（２）において、ｉはＸ^ｉで示されるシリルアルキル基の階層を示し、階層数、すなわち、該シリルアルキル基の繰り返し数がｎのとき１〜ｎの範囲の整数である。階層数ｎは１〜１０の整数である。Ｘ^ｉ＋１はｉがｎ未満のとき上記シリルアルキル基であり、ｉ＝ｎのときメチル基（−ＣＨ_３）である。ａｉはｉ＝１のときは０〜２の整数であり、ｉが２以上のときは３未満の数である。ａｉは１以下であることが好ましく、０であることが特に好ましい。
すなわち、デンドリマー構造の階層ｎが１である場合、式（２）のシリルアルキル基は、

で示され、デンドリマー構造の階層ｎが２である場合、式（２）のシリルアルキル基は、

で示され、デンドリマー構造の階層ｎが３である場合、式（２）のシリルアルキル基は、

で示されるものである。

−Ｏ−Ｓｉ(Ｒ^５)_２−Ｘ^１で表される官能基として、特に好適には、下記一般式（４）で示されるシリルアルキル基の階層数ｎが１の官能基、又は下記一般式（５）で示されるシリルアルキル基の階層数ｎが２の官能基が挙げられる。

また、上記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３においては、その少なくとも１つが、前記−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基のいずれかであれば、その他のＲ^１〜Ｒ^３は、同一又は異なっていてもよい置換または非置換の一価炭化水素基のいずれかであってもよい。Ｒ^１〜Ｒ^３である非置換の一価炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル等の直鎖状、分岐状あるいは環状のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基：アラルキル基が例示される。Ｒ^１〜Ｒ^３である置換の一価炭化水素基としては、３，３，３トリフロロプロピル基、３，３，４，４，４−ペンタフロロブチル基等のパーフルオロアルキル基；３−アミノプロピル基、３−（アミノエチル）アミノプロピル基等のアミノアルキル基；アセチルアミノアルキル基等のアミドアルキル基が例示される。また、Ｒ^１〜Ｒ^３の炭化水素基の一部が水酸基、アルコキシ基、ポリエーテル基又はパーフルオロポリエーテル基で置換されていてもよく、該アルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示される。

上記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３の１つ又は２つが、前記−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基のいずれかである場合、その他のＲ^１〜Ｒ^３は、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。特に、一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３において、全部または２つが前記−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基のいずれかであることが好ましく、その他のＲ^１〜Ｒ^３はメチル基又はエチル基であることが好ましい。

また、Ｍは水素原子、金属原子又は有機陽イオンである。金属原子としては、１価のアルカリ金属、２価のアルカリ金属、２価以上の金属原子が挙げられる。１価のアルカリ金属としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋが、２価のアルカリ金属としては、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａが、その他にはＭｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｖ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｚｎ，Ｔｉ等が挙げられる。また、有機陽イオンとしては、例えば、アンモニウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、トリエタノールアンモニウムイオン、アルギニン中和イオン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）中和イオン等が挙げられる。Ｍは、特に水素原子または１価のアルカリ金属であることが好ましく、また、これらの混合物であってもよい。

Ａは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。なお、ｑ＝０の場合、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、下記一般式（１’）で表される化合物であり、カルボキシル変性基はエチレン基を介してケイ素と結合しているものである。本発明においては、ｑが２〜１５であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましい。一方、ｑの値が前記上限を超えると、使用感触に劣る場合がある。
Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｓｉ−（ＣＨ_２）_２−ＣＯＯＭ （１’）

また、上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、１分子中のケイ素原子の平均合計数が２〜２０の範囲にあることを特徴とするものである。ケイ素原子の平均合計数は３〜１８の範囲が好ましく、特に３〜７の範囲であることが好ましい。一方、１分子中のケイ素原子の合計数が前記上限を超えると、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系でゲル構造を形成しなくなる場合がある。

上記一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体としては、より具体的には、Ｒ^１，Ｒ^２が−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ^３が炭素数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、ｑの値が６〜１２であるオルガノシロキサン誘導体が好適に用いられる。

一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＨで示されるケイ素原子結合水素原子含有ポリシロキサンと、ＣＨ＝ＣＨ_２−Ａ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３で示されるビニル末端を有するカルボン酸トリメチルシリル誘導体とを、白金系触媒の存在下に付加反応させ、保護基であるトリメチルシリル基1モルあたり、少なくとも１モル以上のメタノール等の一価アルコール、水又はこれらの混合物を加えて加熱することにより、加アルコール分解により脱保護させる工程により製造することができる。なお、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ａ、Ｍは前記同様の基であり、Ｍが金属原子又は有機陽イオンの場合には、対応する金属イオン（Ｍ^ｎ＋）を含む化合物又は塩基性の有機化合物による中和工程をさらに含む。一例として、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、トリエタノールアミン、アルギニン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）等の水溶液を添加することにより、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を中和する工程である。

また、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体の製造方法は、特開２０００−０７２７８４号公報、特開２０００−２３９３９０号公報、特開２００１−２１３８８５号公報に詳細に記載されている。本発明の一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体の製造方法は、特に、以下の工程（１）〜（３）により容易に製造することができる。

工程（１）：
ＨＳｉ（−Ｏ−ＳｉＲ_２Ｈ）_ｆＲ^Ｌ _３−ｆ
（式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基またはフェニル基のいずれかであり、Ｒ^Ｌは同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ｆは１〜３の整数である）で示されるジメチルシロキシ基を有するオルガノシランと、ＣＨ＝ＣＨ_２−Ａ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３で示されるビニル末端を有するカルボン酸トリメチルシリル誘導体（式中、Ａは前記同様の基）とを、白金系遷移金属触媒の存在下に付加反応させ、下基一般式の中間体（１−１）を得る工程。
Ｓｉ（−Ｏ−ＳｉＲ_２Ｈ）_ｆＲ^Ｌ _３−ｆ−（ＣＨ_２）_２−Ａ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３ （１−１）

工程（２）：
Ｒ^ＢＳｉ（Ｏ−Ｒ^６）_ａｉ（ＯＳｉＲ^７Ｒ^８−Ｘ^ｉ＋１）_３−ａｉ
（式中、Ｒ^ＢはＣ_ｒＨ_２ｒで表される直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基であり、ｒは２〜２０の整数である。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｘ^ｉ＋１、ａｉは前記同様の基および数である）で示されるアルケニル基を有するオルガノシランとを、白金系触媒の存在下に付加反応させ、下記一般式の中間体（１−２）を得る工程。
Ｓｉ{-Ｏ-ＳｉＲ_２-Ｂ-Ｓｉ(Ｏ-Ｒ^６)_ａｉ(ＯＳｉＲ^７Ｒ^８-Ｘ^ｉ＋１)_３−ａｉ}_ｆＲ^Ｌ _３−ｆ-(ＣＨ_２)_２-Ａ-ＣＯＯＳｉＭｅ_３ （１−２）

工程（３）：
中間体（１−２）に、保護基であるトリメチルシリル基1モルあたり、少なくとも１モル以上のメタノール等の一価アルコール、水又はこれらの混合物を加えて加熱することにより、加アルコール分解により脱保護させる工程。
なお、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体において、Ｍが金属原子又は有機陽イオンの場合には、対応する金属イオン（Ｍ^ｎ＋）を含む化合物又は塩基性の有機化合物による中和工程をさらに含む。一例として、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、トリエタノールアミン、アルギニン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）等の水溶液を添加することにより、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を中和する工程である。

つづいて、下記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体について説明する。

上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、分子鎖の両末端がアルキルカルボキシル基で変性されたオルガノシロキサン誘導体である。
上記一般式（３）において、式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２は、同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の一価炭化水素基のいずれかから選択される。Ｒ^９〜Ｒ^１２である非置換の一価炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基；アリル基、ヘキセニル基等の直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が例示される。Ｒ^９〜Ｒ^１２である置換の一価炭化水素基は、これらの基の炭素原子に結合した水素原子が部分的に水酸基、ハロゲン原子、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、アルコキシ基、ポリエーテル基またはパーフルオロポリエーテル基等の有機基で置換された基であり、３，３，３−トリフロロプロピル基、３，３，４，４，４−ペンタフロロブチル基等のパーフルオロアルキル基；３−アミノプロピル基、３−（アミノエチル）アミノプロピル基等のアミノアルキル基；アセチルアミノアルキル基等のアミドアルキル基が例示される。Ｒ^９〜Ｒ^１２は炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基およびアラルキル基であることが好ましく、１分子中のＲ^９〜Ｒ^１２の９０モル％以上がメチル基及び／またはフェニル基であることが特に好ましい。

また、Ｍは水素原子、金属原子又は有機陽イオンである。金属原子としては、１価のアルカリ金属、２価のアルカリ金属、２価以上の金属原子が挙げられる。１価のアルカリ金属としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋが、２価のアルカリ金属としては、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａが、その他にはＭｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｖ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｚｎ，Ｔｉ等が挙げられる。また、有機陽イオンとしては、例えば、アンモニウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、トリエタノールアンモニウムイオン、アルギニン中和イオン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）中和イオン等が挙げられる。Ｍは、特に水素原子または１価のアルカリ金属であることが好ましく、また、これらの混合物であってもよい。

ＱはＣ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。なお、ｑ＝０の場合、一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、下記一般式(３’)で示される化合物であり、カルボキシル変性基はエチレン基を介してケイ素と結合するものである。本発明においては、ｑの値は６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが特に好ましい。一方、ｑの値が前記上限を超えると、使用感触に劣る場合がある。
ＭＯＯＣ-(ＣＨ_２)_２-(ＳｉＲ^９Ｒ^１０-Ｏ)_ｐ-ＳｉＲ^１１Ｒ^１２-(ＣＨ_２)_２-ＣＯＯＭ （３’)

上記一般式（３）において、ｐはジ置換ポリシロキサンの平均重合度を示し、０〜２０の数である。本発明において、ｐが１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。一方、ｐが前記上限を超えると、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系でゲル構造を形成しなくなる場合がある。

上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体としては、Ｒ^９〜Ｒ^１２が炭素数１〜６のアルキル基であり、ｑが０〜２０の整数であり、ｐが０〜２０の数であるオルガノシロキサン誘導体が好適に用いられる。

上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体は、
Ｈ−（ＳｉＲ^９Ｒ^１０−Ｏ)_ｐ−ＳｉＲ^１１Ｒ^１２−Ｈ
（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２は前記同様の基であり、ｐは０〜２０の数）
で示される分子鎖両末端にケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン１モルに対し、少なくとも２モルのＣＨ＝ＣＨ_２−Ｑ−ＣＯＯＳｉＭｅ_３で示されるビニル末端を有するカルボン酸トリメチルシリル誘導体とを、白金系触媒の存在下に付加反応させ、保護基であるトリメチルシリル基1モルあたり、少なくとも１モル以上のメタノール等の一価アルコール、水又はこれらの混合物を加えて加熱することにより、加アルコール分解により脱保護させる工程により製造することができる。なお、Ｑは前記同様の基であり、Ｍが金属原子又は有機陽イオンの場合には、対応する金属イオン（Ｍ^ｎ＋）を含む化合物又は塩基性の有機化合物による中和工程をさらに含む。
具体的には、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、トリエタノールアミン、アルギニン、アミノメチルプロパノール（ＡＭＰ）等の水溶液を添加することにより、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を中和する工程である。

本発明の一般式（１）または（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体を製造するために使用する白金系触媒は、ケイ素結合水素原子とアルケニル基のヒドロシリル化反応触媒であり、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、白金のケトン錯体、白金のビニルシロキサン錯体、四塩化白金、白金微粉末、アルミナまたはシリカの担体に固体状白金を担持させたもの、白金黒、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体、白金のカルボニル錯体、これらの白金系触媒を含むメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性有機樹脂粉末が例示される。好ましくは、白金の１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体または塩化白金酸である。

炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコール（高級アルコール）
また、本発明に用いられる炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコール（以下、単に高級アルコールという場合がある）は、飽和又は不飽和の１価脂肪族アルコールであって、直鎖状、分岐状のいずれであっても構わないが、直鎖状であることがより好ましい。また、融点４０℃以上の高級アルコールであることが好ましい。融点が４０℃未満であるとゲル構造を形成できない場合がある。本発明に用いられる炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールとしては、例えば、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、オクチルドデカノール、キミルアルコール、コレステロール、シトステロール、セタノール、セトステアリルアルコール、セラキルアルコール、デシルテトラデカノール、バチルアルコール、フィトステロール、ヘキシルデカノール、ベヘニルアルコール、ラウリルアルコール、ラノリンアルコール、水素添加ラノリンアルコール等を挙げることができる。なお、本発明においては、単独で融点４０〜８０℃の高級アルコールを用いるか、あるいは融点が４０〜７０℃となるように複数の高級アルコールの組み合わせを用いることが好ましい。

ゲル組成物
本発明においては、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表される特定構造のオルガノシロキサン誘導体を用いることにより、当該オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水系でゲル構造を形成することができる。ここで、本発明におけるゲル構造とは、通常、界面活性剤が形成する会合体構造の１種であって、長周期構造において界面活性剤及び高級アルコールの２分子膜が層状に配列しており、また、短面側では界面活性剤及び高級アルコールの疎水性基が六方晶型に配列していることを特徴とした結晶構造である。なお、疎水性基は自身の長軸の周りを回転しているが、液晶構造のように自由に熱運動はしておらず、また、親水性基間には多量の水が存在していることが知られている（例えば、福島正二著，「セチルアルコールの物理化学」，フレグランスジャーナル社，第６章，７６〜８８頁参照）。なお、このようなゲル構造を有する組成物は、独特な使用感触を有することが知られており、特に化粧料の分野において、例えば、クリームやクレンジング、化粧水等に広く利用されている。

なお、本発明においてゲル組成物とは、系の内部にゲル構造を有する組成物であることを意味する。ゲル構造の有無の決定は、従来公知の方法によって行えばよく、例えば、Ｘ線回折法により行うことができる。ゲル構造を有する組成物についてＸ線回折測定を行った場合、通常、小角領域においてラメラ構造と同様の長面間隔に由来する繰り返しのピークが得られるとともに、広角領域において２θ＝２１．４°付近に短面側の六方晶系に由来するシャープな単一のピークが示される。また、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）測定によれば、ゲル構造を含む結晶構造の融解に伴う吸熱ピークが観測され、これによって結晶構造の推定を行うことも可能である。

本発明にかかるゲル組成物は、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、水とからなるものであり、これらの各成分を適切な比率で混合することで、上記したゲル構造を有する組成物として得られる。各成分の混合比率は、系内にゲル構造を形成するものである限り、特に限定されるものではないが、具体的には、オルガノシロキサン誘導体：炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールのモル比が、１：０．１〜１：３０の範囲にあることが好ましく、１：３〜１：１０の範囲にあることが特に好ましい。モル比が前記規定範囲外である場合、上記したゲル構造が安定に形成されない場合がある。また、水の配合量は、該混合物１００質量部に対して１００〜１００００質量部の範囲であることが好ましく、２００〜７０００質量部の範囲にあることが特に好ましい。なお、水は２回以上に分けて配合してもよい。具体的には、オルガノシロキサン誘導体及び炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールの混合物１００質量部に対して１００〜１０００質量部の水を添加して系内に安定なゲル構造を形成させた後、系に追加の水を添加することにより、オルガノシロキサン誘導体／炭素原子数１０〜３０の一価脂肪族アルコール／水からなる安定なゲル構造を系の内部に有する組成物を得ることができる。

化粧料
また、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表される特定構造のオルガノシロキサン誘導体と、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、水とをともに化粧料中に配合することによって、化粧料製剤中でゲル構造を形成し、これによって、例えば、クリームやクレンジング、化粧水や乳液等の化粧料として用いた場合に、特にヌルつきの無さ、肌なじみの早さ、べたつきの無さといった点で優れた使用感触を付与することができる。
このため、本発明にかかる化粧料は、上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、高級アルコールと、水とを含み、該オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水からなる系がゲル構造を形成していることを特徴とするものである。

本発明の化粧料へのオルガノシロキサン誘導体の配合量は、特に限定されるものではないが、通常、組成物全量の０．１〜５質量％であり、好ましくは０．１〜２質量％、さらに好ましくは０．３〜１質量％である。オルガノシロキサン誘導体の配合量が少なすぎると、配合による効果が得られず、また、配合量が多すぎると、使用感触に悪影響を及ぼす場合がある。

本発明の化粧料への炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールの配合量は、特に限定されるものではないが、通常、組成物全量の０．１〜１０質量％であり、好ましくは０．１〜５質量％、さらに好ましくは０．３〜２質量％である。炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールの配合量が少なすぎると、配合による効果が得られず、また、配合量が多すぎると、使用感触に悪影響を及ぼす場合がある。

本発明の化粧料においては、本発明の効果を損なわない質的・量的な範囲内で、上記の必須成分に加えて、通常の化粧品、医薬品分野で用いられるその他の成分、例えば、油分、ワックス、保湿剤、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、ゲル化剤、金属石鹸、水溶性高分子、油溶性高分子、薬剤、酸化防止剤、顔料、染料、パール剤、ラメ剤、有機・無機粉末、香料等を必要に応じて配合することができる。

本発明の化粧料の使用用途は、特に限定されるものではなく、例えば、保湿クリーム、保湿乳液、保湿ローション、マッサージクリーム、マッサージローション、エッセンス等のスキンケア化粧料、へアクリーム、ヘアローション、整髪料等のヘアケア化粧料、サンスクリーン、ボディクリーム、ボディローション等のボディケア化粧料、口紅、マスカラ、アイライナー、ネールエナメル、液状ファンデーション、ゲル状ファンデーション等のメーキャップ化粧料、メーク落とし、シャンプー、リンス、リンスインシャンプー等の洗浄料等の種々の化粧料に利用することができる。

以下、実施例を挙げて本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下に実施例及び比較例において用いたオルガノシロキサン誘導体（化合物１〜４，比較化合物１〜４）の構造及びその合成方法を示す。なお、各化合物は^１Ｈ，^１３Ｃ，^２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＮＭＲ装置：Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ ＪＥＯＬ ＪＮＭ−ＥＸ４００（日本電子社製）により同定した。

化合物１の合成方法
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン１００ｇ、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０２ｇを加え、７０−１００℃の範囲を保つように、ウンデシレン酸トリメチルシリル１０５ｇを滴下した。滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ガスクロマトグラフィーを用いて反応の完了を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール、水を加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去し、化合物１を得た。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物１であることが確認された。

化合物２の合成方法
撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けたフラスコに、テトラキス（ジメチルシロキシ）シラン１００ｇと白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０２ｇを投入し、これらを撹拌しながら９０℃に加熱した。次いでこれに、ウンデシレン酸トリメチルシリル１５．６ｇを、滴下ロートを用いて反応温度が９０℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１００℃で１時間加熱した。冷却後、減圧蒸留したところ、３５．３ｇの無色透明液体が得られた。分析の結果、この液体は下記構造式で示される化合物であることが確認された。これを中間体２Ａとした。

次に撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコにビニルトリストリメチルシロキシシラン５４．１ｇ、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０１ｇを加え、７０−１００℃の範囲を保つように、中間体２Ａ３５ｇを滴下した。滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ＦＴ−ＩＲによりＳｉ−Ｈ結合の消失を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール８ｇを加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去した。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物２であることが確認された。

化合物３の合成方法
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコにウンデシレン酸トリメチルシリル４６０．８１ｇ，白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０５ｇを加え、７０−８０℃の範囲を保つように、１， １，３，３−テトラメチルジシロキサン１００ｇを滴下した。滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ガスクロマトグラフィーを用いて反応の完了を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール２４０ｇを加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去し、化合物３を得た。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物３であることが確認された。

化合物４の合成方法
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコにウンデシレン酸トリメチルシリル２２５．０ｇ，白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０５ｇを加え、７０−８０℃の範囲を保つように、下記一般式で表される両末端Ｓｉ−Ｈシロキサン２２５ｇを滴下した。

滴下終了後、２時間、１００℃で熟成した後、ＦＴ−ＩＲによりＳｉ−Ｈ結合の消失を確認した。低沸点分を減圧下、留去した。その後、メタノール１２７ｇを加え、還流下５時間熟成し、脱保護を行った。その後再び低沸点分を減圧下除去し、化合物４を得た。分析の結果、上記化学構造式で示される化合物４であることが確認された。

また、上記化合物１〜４の合成方法に準じて、以下に示す比較化合物１〜４のオルガノシロキサン誘導体を調製した。

最初に、本発明者らは、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系での組成物の相状態について検討を行った。なお、オルガノシロキサン誘導体として上記化合物１、高級アルコールとしてベヘニルアルコール：ステアリルアルコール１：１混合物を用い、それぞれを各種割合で混合した組成物を調製し、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）を行った。試験の内容は以下に示すとおりである

試験例１〜５
イオン交換水に水酸化カリウムを適量加え、室温で溶解して全体で８０部とし、つづいて化合物１（以下、ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＨと略す）と、ベヘニルアルコール：ステアリルアルコール１：１混合物（以下、Ｂｅ／Ｓｔと略す）とを以下に示す各種割合（モル比）で混合したものを２０部加え、ホモミキサーを用いて７０℃に加温して攪拌混合した。その後、３０℃まで急冷し、最終的に室温として、試験例１〜５の組成物を得た。

試験例１ Ｂｅ／Ｓｔ：ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＫ＝０．５：１
２ Ｂｅ／Ｓｔ：ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＫ＝１：１
３ Ｂｅ／Ｓｔ：ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＫ＝３：１
４ Ｂｅ／Ｓｔ：ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＫ＝５：１
５ Ｂｅ／Ｓｔ：ＴＭＳＣ_１０ＣＯＯＫ＝１０：１

以上のようにして得られた試験例１〜５の各組成物について、ＤＳＣ Ｑ１０００（ＴＡインスツルメント（株）社製）を用いて、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）測定を行った。ＤＳＣ測定の結果を図１に示す。

図１より、ベヘニルアルコール／ステアリルアルコールのモル比を上げていくと、特にベヘニルアルコール／ステアリルアルコール：化合物１のモル比が３：１〜１０：１の試験例３〜５において、６１〜６２℃付近にオルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水により形成されるゲル構造に由来すると考えられるシャープな単一のピークが見られた。

つづいて、本発明者らは、上記試験例と同様にして、化合物２〜４，比較化合物１〜４のオルガノシロキサン誘導体を用いて、ゲル構造の形成の有無について調べた。なお、高級アルコールとしては、上記試験同様、ベヘニルアルコール：ステアリルアルコール１：１混合物を用いた。結果をまとめたものを下記表１に示す。なお、評価基準は以下のとおりである。

＜ゲルの形成＞
○：ＤＳＣ測定において、ゲル構造の融解ピークと推定される吸熱ピークが見られた。
×：ＤＳＣ測定において、ゲル構造の融解ピークに相当する吸熱ピークが見られなかった。

上記表１に示されるように、トリシロキサンあるいはデンドリマータイプのポリシロキサン側鎖にアルキルカルボキシル基を置換した化合物１，２、及び直鎖状のジシロキサンあるいはポリシロキサンの両末端にアルキルカルボキシル基を置換した化合物３，４においては、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系でゲル構造を形成することが明らかとなった。

これに対して、トリメチルシランにアルキルカルボキシル基を置換した比較化合物１、長鎖ポリシロキサン（Ｓｉ＝１００）の片末端、両末端、あるいは側鎖にアルキルカルボキシル基を置換した比較化合物２，３，４においては、高級アルコール及び水と混合してもゲル構造の形成は見られなかった。

つづいて、本発明者らは、上記オルガノシロキサン誘導体と、高級アルコールと、水とを化粧料（乳液）中に配合し、その使用感触（ヌルつき、なじみ、べたつき）、及び乳化安定性について評価を行った。試験に用いた各種化粧料の組成と評価結果とを併せて下記表２及び３に示す。なお、評価基準は以下に示すとおりである。

使用感触（ヌルつきの無さ、肌なじみの早さ、べたつきの無さ）
１０名の専門パネルにより、各試験例の化粧料を実際に肌に塗布し、塗布時のヌルつきの無さ、塗布時の肌なじみの早さ、塗布後のべたつきのなさ、のそれぞれの使用感触について評価を行った。評価基準は以下のとおりである。
◎：専門パネル１０名のうち、９名以上が良いと答えた。
○：専門パネル１０名のうち、６〜８名が良いと答えた。
△：専門パネル１０名のうち、３〜５名が良いと答えた。
×：専門パネル１０名のうち、２名以下が良いと答えた。

乳化安定性
各試験例の化粧料を調製した後、透明のガラス管に充填して密閉し、５０℃の恒温槽に１ヶ月間保存した後の乳化粒子の状態について評価を行った。評価基準は以下のとおりである。
◎：乳化粒子の状態に変化は見られなかった。
○：乳化粒子がやや大きくなっていた。
△：乳化粒子が大きくなっていた。
×：乳化粒子が大きくなった結果、分離が生じていた。
××：製造直後に分離していまい、評価することができなかった。

上記表２より、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水においてゲル構造を形成する化合物１〜５のオルガノシロキサン誘導体を用いた実施例１〜５の乳液は、ヌルつきの無さ、肌なじみの早さ、べたつきの無さといった使用感触の点でいずれも優れており、さらに乳化安定性も比較的良好であることがわかった。

これに対して、上記表３より、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水の系でゲル構造を形成しない比較化合物１〜４を配合した比較例１〜４の乳液は、肌なじみ、べたつきといった使用感触の点で十分でなく、また、乳化安定性にも劣っていた。また、化合物１のオルガノシロキサン誘導体を高級脂肪酸とともに配合した比較例５においても、ヌルつきや肌なじみといった使用感触の点で満足のいくものは得られなかった。さらに、高級アルコールを併用しない比較例６においても、若干べたつきが生じたほか、特に乳化安定性の点で劣っていた。

以上の結果から、カルボキシル基を含む特定構造のオルガノシロキサン誘導体と、高級アルコールと、水とをともに化粧料中に配合することによって、特にヌルつきの無さ、肌なじみの早さ、べたつきの無さといった使用感触の点で優れた化粧料が得られることが明らかとなった。

以下、オルガノシロキサン誘導体と、高級アルコールと、水とを配合した、本発明の化粧料の処方例を具体的に示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
処方例１：乳液
（配合成分） （質量％）
（１）イオン交換水 残余
（２）エデト酸三ナトリウム ０．１
（３）フェノキシエタノール ０．３
（４）ブチレングリコール ７
（５）グリセリン ５
（６）カルボキシビニルポリマー ０．０６
（７）水酸化カリウム ０．０４
（８）化合物１ ０．８
（９）ステアリン酸グリセリル ０．８
（１０）ステアリン酸ＰＥＧ−５グリセリル １．１
（１１）ベヘニルアルコール ０．５
（１２）ジメチルポリシロキサン ５
（１３）デカメチルシクロペンタシロキサン ５
（製法）
７５℃まで加温した（１）〜（７）までの水相に、７５℃まで加温した（８）〜（１３）までの油、界面活性剤相を徐々に添加しホモミキサーにて撹拌後、３０℃まで冷却することで乳液が得られた。

なお、上記処方例１の乳液について、小角Ｘ線散乱測定（Ｓｐｒｉｎｇ８を使用，２５℃にて測定）を行った。測定結果を図２に示す。なお、図中、コントロール１，２は、それぞれ空セル及び水を用いて比較のために測定したスペクトルである。
図２に示されるように、処方例１の乳液においては、広角領域のｑ＝１５付近にゲル構造特有の単一ピークが認められた。このことから、処方例１の乳液中においては、オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水により形成されるゲル構造が存在していることが確認された。
また、以上のようにして得られた処方例１の乳液は、ヌルつきの無さ、肌なじみの早さ、べたつきの無さといった使用感触の点でいずれも優れており、さらに乳化安定性も良好であった。

処方例２：乳液
（配合成分） （質量％）
（１）イオン交換水 残余
（２）グリセリン ５
（３）ブチレングリコール ５
（４）ポリエチレングリコール１５００ ２
（５）エタノール ３
（６）フェノキシエタノール ０．３
（７）パラベン ０．１
（８）水酸化カリウム ０．１
（９）エデト酸３ナトリウム ０．０５
（１０）カルボキシビニルポリマー ０．１
（１１）キサンタンガム ０．１
（１２）ベヘニルアルコール ０．５
（１３）オルガノシロキサン誘導体 １
（一般式（１）において、Ｒ^１＝ＣＨ_３，Ｒ^２〜Ｒ^３＝−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_３，ｑ＝８，Ｍ＝Ｋ）
（１４）ワセリン ２
（１５）スクワラン ３
（１６）デカメチルシクロペンタシロキサン ３
（１７）ジメチルポリシロキサン ２
（１８）２−エチルヘキサン酸セチル ２
（１９）イソステアリン酸ＰＥＧ−６０グリセリル １
（２０）ステアリン酸ＰＥＧ−５グリセリル １
（２１）香料 ０．１
（製法）
７５℃まで加温した（１）〜（１１）までの水相に、７５℃まで加温した（１２）〜（２１）までの油、界面活性剤相を徐々に添加しホモミキサーにて撹拌後、３０℃まで冷却することで乳液が得られた。

処方例３：クリーム
（配合成分） （質量％）
（１）イオン交換水 残余
（２）グリセリン ７
（３）ジプロピレングリコール ７
（４）エリスリトール １
（５）ポリエチレングリコール２００００ ２
（６）フェノキシエタノール ０．５
（７）トリエタノールアミン ０．５
（８）エデト酸３ナトリウム ０．１
（９）カルボキシビニルポリマー ０．１
（１０）キサンタンガム ０．１
（１１）ベヘニルアルコール ３
（１２）ステアリルアルコール １
（１３）オルガノシロキサン誘導体 １
（一般式（１）において、Ｒ^１＝ＣＨ_３，Ｒ^２〜Ｒ^３＝−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ_３）_３，ｑ＝１６，Ｍ＝Ｎａ）
（１４）マイクロクリスタリンワックス １
（１５）ワセリン ２
（１６）スクワラン ５
（１７）デカメチルシクロペンタシロキサン ３
（１８）ジメチルポリシロキサン ３
（１９）イソノナン酸イソノニル ２
（２０）イソステアリン酸ＰＥＧ−６０グリセリル １
（２１）ステアリン酸ＰＥＧ−５グリセリル １
（２２）香料 ０．１
（製法）
７５℃まで加温した（１）〜（１０）までの水相に、７５℃まで加温した（１１）〜（２２）までの油、界面活性剤相を徐々に添加しホモミキサーにて撹拌後、３０℃まで冷却することでクリームが得られた。

処方例４：日焼け止め化粧料
（配合成分） （質量％）
（１）ポリオキシエチレン硬化ひまし油 １
（２）ジメチコンコポリオール ０．５
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン １５
（４）オルガノシロキサン誘導体 ０．５
（一般式（３）において、Ｒ^９〜Ｒ^１２＝ＣＨ_３，Ｐ＝６．６，ｑ＝８，Ｍ＝Ｋ）
（５）ベヘニルアルコール ０．３
（６）フェニルトリメチコン １
（７）疎水化処理酸化チタン ５
（８）疎水化処理酸化亜鉛 ２
（９）球状ポリアクリル酸アルキル粉体 ２
（１０）パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ５
（１１）クエン酸 ０．０１
（１２）クエン酸ナトリウム ０．０９
（１３）シリカ １
（１４）パラベン 適量
（１５）フェノキシエタノール 適量
（１６）水酸化ナトリウム ０．０５
（１７）エタノール ５
（１８）ダイナマイトグリセリン １
（１９）サクシノグルカン ０．２
（２０）セルロースガム １
（２１）イオン交換水 残余
（製法）
（１１）〜（２１）の水相を調製後、（１）〜（１０）の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。

処方例５：乳化ファンデーション
（配合成分） （質量％）
（１）タルク ３
（２）二酸化チタン ４
（３）ベンガラ ０．５
（４）黄酸化鉄 １．５
（５）黒酸化鉄 ０．１
（６）ベントナイト ０．５
（７）モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン １
（８）トリエタノールアミン １．５
（９）ジプロピレングリコール ８
（１０）イオン交換水 残余
（１１）オルガノシロキサン誘導体 ０．６
（一般式（３）において、Ｒ^９〜Ｒ^１２＝ＣＨ_３，ｐ＝１，ｑ＝１２，Ｍ＝Ｎａ）
（１２）ステアリルアルコール ０．４
（１３）イソヘキサデシルアルコール ６
（１４）モノステアリン酸グリセリン ２
（１５）液状ラノリン ２
（１６）流動パラフィン ６
（１７）パラベン ０．１
（１８）香料 ０．０５
（製法）
ベントナイトを分散したジプロピレングリコールをイオン交換水に加え、７０℃でホモミキサー撹拌をした後、残りの水相成分を添加し撹拌した。これに十分混合粉砕された粉体部を撹拌しながら添加し、７０℃で撹拌した。最後に７０℃〜８０℃に加熱溶解された油相を徐々に添加しホモミキサーで撹拌した後、３０℃まで冷却することで乳化ファンデーションを得た。

処方例６：乳化アイシャドー
（配合成分） （質量％）
（１）タルク １０
（２）カオリン ２
（３）顔料 ５
（４）オルガノシロキサン誘導体 １
（一般式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^３＝−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^ｉ，Ｒ^５＝ＣＨ_３，Ｒ^６＝Ｃ_８Ｈ_１７，Ｒ^７〜Ｒ^８＝ＣＨ_３，ａｉ＝１，Ｘ^ｉ＋１＝ＣＨ_３，ｑ＝８，Ｍ＝ＨＮ^＋（ＣＨ_２ＣＨ_３ＯＨ）_３）
（５）ベヘニルアルコール ０．２
（６）ミリスチン酸イソプロピル ６
（７）流動パラフィン ５
（８）モノラウリン酸プロピレングリコール ３
（９）香料 ０．０５
（１０）イオン交換水 残余
（１１）ブチレングリコール ５
（１２）グリセリン １
（１３）水酸化カリウム ０．０７
（１４）フェノキシエタノール ０．５
（１５）エデト酸２ナトリウム ０．１
（製法）
（１）〜（３）の粉体部を混合後、粉砕処理をする。（１０）〜（１５）の水相部を７５℃まで加温する。（４）〜（９）の油相部を８０度まで加温溶解する。粉体部を水相に加え撹拌し、ここに油相を撹拌しながら徐々に添加し、ホモミキサー処理を行う。３０℃まで冷却することで乳化アイシャドーを得る。

Claims (10)

1. 下記一般式（１）又は下記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、
   炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、
   水と
   からなるゲル組成物。
   

   

   （式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、少なくとも１つが−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである）、又は−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５）_２−Ｘ^１で表される官能基（Ｒ^５は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｘ^１はｉ＝１のときの下記一般式（２）で示される官能基である）であり、その他のＲ¹〜Ｒ^３は同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であってもよい。Ｍは水素原子、金属原子又は有機陽イオンである。Ａは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。また、一般式（１）で表されるオルガノシロキサン誘導体の１分子中に含まれるケイ素原子（Ｓｉ）の平均合計数は２〜２０である。）
   

   

   （式中、Ｒ^６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかであり、Ｒ^７及びＲ^８は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基のいずれかである。Ｂは、一部に分岐を有してよいＣ_ｒＨ_２ｒで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｒは２〜２０の整数である。ｉはＸ^ｉで示されるシリルアルキル基の階層を示し、階層数がｎのとき１〜ｎの整数であり、階層数ｎは１〜１０の整数であり、ａｉはｉが１のときは０〜２の整数であり、ｉが２以上のときは３未満の整数であり、Ｘ^ｉ＋１はｉがｎ未満のときは該シリルアルキル基であり、ｉ＝ｎのときはメチル基である。）
   

   

   （式中、Ｒ^９〜Ｒ^１２は、同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であり、Ｍは水素原子、金属原子又は有機陽イオンである。Ｑは、Ｃ_ｑＨ_２ｑで表される直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、ｑは０〜２０の整数である。ｐは０〜２０の数である。）
2. 請求項１に記載のゲル組成物において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１及びＲ^２が−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ^３が炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、ｑが６〜２０の整数であることを特徴とするゲル組成物。
3. 請求項１に記載のゲル組成物において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも１以上が、下記一般式（４）又は（５）で表される官能基のいずれかであり、その他のＲ^１〜Ｒ^３が同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であることを特徴とするゲル組成物。
   

   

   
4. 請求項１に記載のゲル組成物において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（３）で表され、Ｒ^９〜Ｒ^１２が置換または非置換の炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であり、ｑが６〜２０の整数であり、ｐが１〜２０の数であり、Ｍが水素原子、アルカリ金属原子及びアルカリ土類金属原子からなる群から選択される原子であることを特徴とするゲル組成物。
5. 請求項１から４のいずれかに記載のゲル組成物において、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールが、融点４０℃以上の脂肪族アルコールであることを特徴とするゲル組成物。
6. 上記一般式（１）又は上記一般式（３）で表されるオルガノシロキサン誘導体と、
   炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールと、
   水と
   を含み、
   該オルガノシロキサン誘導体／高級アルコール／水からなる系がゲル構造を形成していることを特徴とする化粧料。
7. 請求項６に記載の化粧料において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１及びＲ^２が−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）_３で表される官能基（Ｒ^４は、炭素数１〜６のアルキル基である）であり、Ｒ^３が炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、ｑが６〜２０の整数であることを特徴とする化粧料。
8. 請求項６に記載の化粧料において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（１）で表され、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも１以上が、上記一般式（４）又は（５）で表される官能基であり、その他のＲ^１〜Ｒ^３が同一又は異なっていてもよい置換又は非置換の１価炭化水素基であることを特徴とする化粧料。
9. 請求項６に記載の化粧料において、オルガノシロキサン誘導体が、上記一般式（３）で表され、Ｒ^９〜Ｒ^１２が置換または非置換の炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリール基及びアラルキル基からなる群から選択される基であり、ｑが６〜２０の整数であり、ｐが１〜２０の数であり、Ｍが水素原子、アルカリ金属原子及びアルカリ土類金属原子からなる群から選択される原子であることを特徴とする化粧料。
10. 請求項６から９のいずれかに記載の化粧料において、炭素数１０〜３０の一価脂肪族アルコールが、融点４０℃以上の脂肪族アルコールであることを特徴とする化粧料。

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