JPWO2006003933A1 - 電子部品およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、実施の形態1を用いて、本発明について説明する。
以下に本発明の、実施の形態2におけるデバイスについて図面を参照しながら説明する。
以下、実施の形態1を用いて、本発明について説明する。
以下に本発明の、実施の形態2におけるデバイスについて図面を参照しながら説明する。
Claims (13)
- 基板と、互いに平行に並ぶ複数の電極指を有し、前記基板の上面に設けられる櫛型電極と、この櫛型電極を覆うように前記基板の上面に形成される保護膜とを備え、前記保護膜は、前記電極指の延伸方向と直交する方向における断面において各電極指に対応する位置で上方に凸となるとともに、それらの上方に凸となる部分の各頂部同士の間が下に凸な曲線となる凹凸形状を有することを特徴とする電子部品。
- 前記頂部の幅は、前記電極指の幅よりも小さく設定されていることを特徴とする請求項1に記載の電子部品。
- 基板と、互いに平行に並ぶ複数の電極指を有し、前記基板の上面に設けられる櫛型電極と、この櫛型電極を覆うように前記基板の上面に形成される保護膜とを備え、前記保護膜は、前記電極指の延伸方向と直交する方向における断面において各電極指に対応する位置で上方に凸となるとともに、それらの上方に凸となる部分の各頂部の幅が電極指の幅よりも小さくなる凹凸形状を有することを特徴とする電子部品。
- 前記頂部の中心位置は、前記電極指の中心位置に略一致していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記曲線の最下点から前記頂部までの高さをX、前記櫛型電極の電極指が並ぶピッチをP、櫛形電極の膜厚をhとしたときに、0.01<X/(2×P)<h/(2×P)を満足することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記櫛型電極の電極指が並ぶピッチをP、櫛形電極の膜厚をhとしたときに、0.05<h/(2×P)<0.15を満足することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記基板の上面から前記頂部までの高さをt、前記櫛型電極の電極指が並ぶピッチをPとしたときに、0.09≦t/(2×P)≦0.3を満足することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記基板の上面から前記頂部までの高さをt、前記櫛型電極の電極指が並ぶピッチをPとしたときに、0.12≦t/(2×P)≦0.2を満足することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記電子部品は、弾性表面波デバイスであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の電子部品。
- 基板の上面に、互いに平行に並ぶ複数の電極指を有した櫛型電極と、この櫛型電極を覆う保護膜とを形成して電子部品を製造する製造方法において、前記電極指の延伸方向と直交する方向における前記保護膜の断面形状が、各電極指に対応する位置で上方に凸となるとともに、それらの上方に凸となる部分の各頂部同士の間で下に凸な曲線となるように、櫛型電極が形成された基板の上面に保護膜を堆積させると同時に保護膜の形状を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
- 前記保護膜を堆積させると同時に保護膜の形状を形成する工程を、バイアススパッタにより行うことを特徴とする請求項10記載の電子部品の製造方法。
- 前記バイアススパッタでは、保護膜を堆積させる途中で基板に印加するバイアスとスパッタリング電力の比を変化させることで保護膜の形状を整形することを特徴とする請求項11に記載の電子部品の製造方法。
- 前記バイアススパッタでは、保護膜を堆積させる途中から基板にバイアスを印加することで保護膜の形状を整形することを特徴とする請求項11に記載の電子部品の製造方法。
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