JPWO2002068732A1 - 固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法 - Google Patents

固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2002068732A1
JPWO2002068732A1 JP2002568821A JP2002568821A JPWO2002068732A1 JP WO2002068732 A1 JPWO2002068732 A1 JP WO2002068732A1 JP 2002568821 A JP2002568821 A JP 2002568821A JP 2002568821 A JP2002568821 A JP 2002568821A JP WO2002068732 A1 JPWO2002068732 A1 JP WO2002068732A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recharge
single crystal
raw material
main body
tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002568821A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4103593B2 (ja
Inventor
淳 岩崎
淳 岩崎
竹安 志信
志信 竹安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Handotai Co Ltd filed Critical Shin Etsu Handotai Co Ltd
Publication of JPWO2002068732A1 publication Critical patent/JPWO2002068732A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4103593B2 publication Critical patent/JP4103593B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/02Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

単結晶の生産性を向上させることができ、安価な固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法を提供する。結晶融液を貯留するルツボを有する単結晶製造装置に脱着可能に設けられるリチャージ管であって、内部に固形状多結晶原料を保持する略円筒状のリチャージ管本体が設けられ、このリチャージ管本体が下方端部に向かってテーパー状に広がっている。リチャージ管はさらに、リチャージ管本体の下方端部に脱着可能な円錐バルブと、リチャージ管本体の上方端部に脱着可能に設けられる蓋と、フックと、該フックと円錐バルブを繋ぐリチャージ管ワイヤーと、リチャージ管ワイヤーがリチャージ管本体の略中心を貫くように位置させるストッパーとが設けられている。

Description

技術分野
本発明は単結晶を製造する際に固形状多結晶原料を追加充填するためのリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法に関する。
背景技術
単結晶として半導体単結晶があげられ、ここでは一例としてシリコン単結晶について説明する。
半導体集積回路の基板として使用されるシリコン単結晶ウェーハは、例えばチョクラルスキー(CZ)法によりシリコン単結晶を引上げて製造される。CZ法では、先ず、石英ルツボ内に原料の多結晶シリコン(多結晶原料)を充填し、石英ルツボを保持する黒鉛ルツボをその外周にある円筒状の黒鉛ヒーターで加熱し、多結晶シリコンを溶融させる。次いで、種結晶をシリコン融液に浸して絞り部を形成して無転位化した後、必要な直径と長さになるまでシリコン単結晶を成長させる。
このCZ法において、シリコン単結晶の製造コストを低減する為に、シリコン単結晶引き上げに伴うルツボ内のシリコン融液の減少分を供給すべく、供給管を設けてルツボ内へ粒状の多結晶原料(以下、粒状原料と称す。)を、融液減少量に応じて供給する装置が知られている。この装置の一つとして、シリコン単結晶成長中のルツボ内の溶湯面に、連続的に粒状原料を供給しながら単結晶を成長させる、いわゆる連続チャージ(CCCZ)法があり、単結晶の製造歩留まりを著しく向上させて、その製造コストを大幅に低減できる。なお、多結晶原料を追加充填することをリチャージと称す。
しかし、この方法では、シリコン単結晶成長量(通常は0.3g/秒〜1.0g/秒程度)と同量の粒状原料を少量づつ、ゆっくりと供給しなければならないが、ルツボ内への供給時に溶湯が飛び跳ねたり、または湯面振動を起こしたりなどの攪乱を起こすことが多い。このためシリコン単結晶成長途中でシリコン単結晶が有転位化してしまうことでシリコン単結晶の成長続行ができなくなり、製造コストの低減ができないことがしばしば起こる。これを防止するために供給管の先端を絞り込んで供給速度をある程度抑制している。これにより供給速度が制限されて粒状原料の供給時間が長くなりすぎるという不都合があった。
さらに、粒状原料の連続供給によってシリコン単結晶の成長が阻害されることを防止するために二重構造のルツボを使用すれば、シリコン単結晶の界面が内側ルツボに接近しているので低酸素化できないという欠点があり、構造が複雑となってルツボのコストが高くなるという問題があった。
また、従来のバッチ式で原料追加を行なう場合の製造コストを低減する方法として、マルチプーリング(あるいはリチャージ引上げ(RCCZ))法が知られている(Fumio Shimura,Semiconductor Silicon Crystal Technology,p178−p179,1989参照)。この方法は、抵抗規格を満足する範囲のドーパント濃度を持つシリコン単結晶を引き上げた後、引き上げ重量分の棒(ロッド)状多結晶原料(以下、ロッド状原料と称す。)を吊り下げて石英ルツボ内に残余しているシリコン融液に浸しながら、徐々に溶融させて追加充填し、再度、同様のシリコン単結晶の引き上げを繰り返すことで、一度しか使用できない石英ルツボから複数本のシリコン単結晶を製造し、製造歩留まりを向上させると共に、石英ルツボのコストを低減させようとするものである。
しかしながら、RCCZ法では、引上げワイヤーに原料を吊り下げるのでシリコン単結晶の取り出しを行った後でないと原料供給ができないため、原料供給とシリコン単結晶の取り出しを並行して行えない問題がある。また、溶融に時間がかかることや、石英ルツボの溶解が大きいことや、重金属が濃縮してしまう等の欠点を有し、高純度シリコン単結晶育成の観点からは融液中の不純物が堆積していくので、引上げ回数が制限される。
一方、リチャージ法として、シリコン単結晶を引き上げた後、ルツボ内に残存したシリコン融液の表面を一度固化させた後、その表面に、石英ルツボ上に設けられた供給管から原料をルツボ内にリチャージする方法が開示されている(特開昭62−260791号公報)。この方法においては、原料供給とシリコン単結晶の取り出しを並行して行うことができ、作業時間が短縮されて作業効率がよいことが記載されている。
以上のような状況から、原料供給は短時間であるほどシリコン単結晶の製造時間を短縮してシリコン単結晶の生産性を向上できるので、石英ルツボに損傷を与えない範囲で原料供給速度が速いほどよい。このため、リチャージに使用される原料としては、ロッド状原料、塊状多結晶原料(以下、ナゲット状原料と称す。)のように一度に大量に供給できる原料が一般的に使用されてきている。
ところで、特開昭62−260791号公報の装置では、減圧可能な原料容器、ゲートバルブ、原料供給管、減圧用真空ポンプ等を従来のシリコン単結晶製造装置に取り付ける必要があり、従来のシリコン単結晶製造装置の改造、一連の原料供給装置の製作などに大きな費用が必要となる。また、最近のシリコン単結晶製造装置のメインチャンバー内上部には、結晶直径検出装置、融液温度検出器などの付帯装置が取り付けられているので、原料供給装置を容易に取り付けることができない問題があった。
また、近年、デバイスの性能や歩留まり等を向上させるため、その素材となるシリコン単結晶のより高度な高品質化が求められている。高品質シリコン単結晶を得るために、本願出願人はシリコン単結晶製造装置内にカラーを付けた熱遮蔽用の円筒を設けること(特公平06−039351号公報)や、内部にヒーターを備えた円筒を設けること(特許2785623号公報)等を提案してきた。かかるシリコン単結晶製造装置内に融液面の上方を覆うように熱遮蔽部材を備えた構造の場合には、前記原料供給装置を取り付けて多結晶原料をルツボ内へ供給しようとすると、この熱遮蔽部材が障害物となって多結晶原料の供給が困難となる問題があった。
一方、ナゲット原料を石英ルツボ内に充填する際、ナゲット原料は室温であり、高温の融液にそのまま投入すると、融液がシリコン単結晶製造装置内で飛散し、シリコン単結晶が製造できなくなる問題があった。また、融液の飛散を防止するために融液表面を固化すると、固化の進行状況によっては石英ルツボにダメージを与えて石英ルツボの内表面を剥離させてしまい、剥離した石英屑が成長中のシリコン単結晶に付着し、シリコン単結晶に転位が発生して多結晶化してしまう現象が頻繁に発生し、シリコン単結晶の生産効率を大幅に低下させてしまうという問題があった。さらに、固化が過度に進行すると、石英ルツボがヒビ割れを起こして石英ルツボ内の融液が外側に漏れたりする問題が考えられる。
したがって、本発明の目的は、上記従来の問題点に鑑み、従来の前記原料供給装置を取り付けることなく、単結晶製造装置内に取り入れ取り出しが簡単に行え、ナゲット状及びまたは粒状(以下、固形状と称す。)原料をルツボ内の固化した融液面に直接投入することができ、しかもリチャージに適した供給速度を実現し、短時間でスムースに効率よくリチャージを行うことで単結晶の生産性を向上させることができ、安価な固形状多結晶原料のリチャージ管を提供することである。
また、本発明の他の目的は、上記リチャージ管を用いて無転位の単結晶を安全に効率良く生産できる単結晶の製造方法を提供することである。
発明の開示
上記課題を解決するために、本発明の一つの局面によれば、結晶融液を貯留するルツボを有する単結晶製造装置に脱着可能に設けられ、前記ルツボに固形状多結晶原料を充填するためのリチャージ管は、内部に前記固形状多結晶原料を保持する略円筒状のリチャージ管本体と、該リチャージ管本体の下方端部に脱着可能な円錐バルブと、前記リチャージ管本体の上方端部に脱着可能に設けられ、前記固形状多結晶原料を前記リチャージ管本体に封止する蓋と、前記リチャージ管本体を吊るす為のフックと、該フックと前記円錐バルブを繋ぐリチャージ管ワイヤーと、前記蓋の中心部に設けられ、前記リチャージ管ワイヤーが前記リチャージ管本体の略中心を貫くように位置させるストッパーとが設けられ、且つ前記リチャージ管本体が下方端部に向かって外方に拡開している。
本発明のリチャージ管は、ナゲット状原料、粒状原料、又は両方を混合した原料を充填する略円筒状のリチャージ管であって、リチャージ管本体がフックにより吊るされた状態で単結晶製造装置に取り入れることができる。そして、リチャージ管ワイヤーに繋がれた円錐バルブがリチャージ管本体の下方端部から離れ、リチャージ管本体内に保持されていた固形状原料がルツボ内に充填される。ここで、固形状原料がリチャージ管本体の曲線あるいは直線で外方(例えば、テーパー状)に広がっているところに沿って落下でき、詰まったり滞ることなくスムースに固形状原料を充填できる。また、単結晶製造装置への取り入れ、取り出しも極めて容易である。
この場合、前記リチャージ管本体が下方端部に向かってテーパー状に0.5〜5.0°の角度で広がっていることが好ましい。
テーパー部の角度は、0.5°より小さいと、固形状原料、特にナゲット状原料が詰まったり滞ったりするため好ましくない。5.0°より大きいと、石英チューブのテーパー先端部の外径が大きくなり過ぎ、好ましくない。テーパー部の角度が1.0〜2.0°であると、固形状原料を均一に充填する効果と適度な外径の確保が両立でき、より好ましい。
また、この場合、リチャージ管本体と前記円錐バルブが共に高純度の透明石英ガラス製であることが好ましい。
リチャージ管本体と円錐バルブが共に高純度の透明石英ガラス製なので、その内面に接触する塊状原料への汚染を防止できる。
さらに、この場合、前記リチャージ管本体には、単結晶製造装置内で支持されるためのフランジ部がリチャージ管本体と一体化して取り付けられ、前記フランジ部が石英ガラス製であることが好ましい。
リチャージ管本体には、透明もしくは不透明の石英ガラス製のフランジ部が、溶接などによって適度な位置に一体化して取り付けられている。適度な位置とすることで、単結晶製造装置内に脱着可能に取り付けられた支持リング(支持台)の位置で、フランジ部が支えられ固形状原料を充填するリチャージ管とルツボとの間に最適な距離を保つことができる。また、フランジ部を溶接する際には、固形状原料が高重量となっても支持できるように全周を溶接で一体化することがより好ましい。
この場合、前記リチャージ管本体の内面に嵌合して前記蓋を固定させるガイドを設け、該ガイドと前記ストッパーがテトラフルオロエチレン製であることが好ましい。
ガイドとストッパーをテトラフルオロエチレン製とすることで、蓋をリチャージ管本体に密着して取り付けることができ、リチャージ管本体内部に上部から作業室内の塵埃などの異物が入ることを防止できる。
また、この場合、前記リチャージ管本体の直径が前記ルツボの直径の25〜60%であることが好ましい。
リチャージ管本体の直径(外径)を石英ルツボの直径(外径)の25〜60%とすることで、取り扱いが容易であると共に、固形状原料を均一に効率よく充填できるリチャージ管が得られる。ここで、リチャージ管本体の直径が石英ルツボの直径の25%より小さいと、リチャージ管本体が一度に保持できる固形状原料が少なくなり好ましくない。また、60%より大きいと、リチャージ管外周と石英ルツボ内周との間の間隔が狭くなってしまい、原料を投入できるスペースが小さくなり好ましくない。
本発明のもう一つの局面によれば、リチャージ管を用いて固形状原料の充填を行うにあたり、成長させた単結晶を単結晶製造装置内より取り出し、固形状原料を保持したリチャージ管を前記単結晶製造装置内に取り入れ、ルツボ内の残余融液の全表面をヒーターの加熱電力を下げることにより固化させた後にヒーターの加熱電力を上げながら前記固化表面上に前記リチャージ管内の固形状原料を充填し、リチャージ管を前記単結晶製造装置内より取り出した後、前記ルツボ内の固形状原料を全て溶融し、再び単結晶成長を行うことで複数本の単結晶を成長させて単結晶を製造する。
ここで、単結晶を成長させた後の石英ルツボ内に残余した融液表面を固化させる際のヒーターの加熱電力(固化パワー)は、原料溶融時の電力(溶融パワー)の40〜70%程度であり、融液表面を全面固化した後に加熱電力を一気に溶融パワーまで上昇させることで、固化が過度に進行することを防止し、石英ルツボ内面へのダメージを軽減し、剥離した石英屑によって単結晶に転位が発生して多結晶化してしまう現象を低減することができる。この操作により無転位の単結晶を安全に効率良く製造することができる。
この場合、前記リチャージ管による固形状原料の充填を行う際に、前記単結晶製造装置内に着脱可能に設けられた金属製の支持リング(支持台)部に前記リチャージ管を支持し、固化した融液表面と前記リチャージ管先端部の円錐バルブとを前記ルツボを上昇させることで接触させた後、前記ルツボを降下させることで固形状原料を充填することが好ましい。
支持リングをリチャージ管本体と同じ石英ガラス製とすることも可能であるが、欠けや割れが生じ易く、金属製(例えばステンレス製)とすることでリチャージ管本体を支持するための十分な強度が得られる。また、この支持リングを単結晶製造装置内で脱着可能としておけば、破損やリチャージ管本体の直径が変わった時等の保全改修が容易になるのでより好ましい。このようにして設けた支持リングにリチャージ管のフランジ部が載ることでリチャージ管が静止する。さらに、固化させた融液表面を石英ルツボを上昇させることでリチャージ管先端部の円錐バルブに接触させ、リチャージ管のワイヤーを吊るす負荷を緩めた後、石英ルツボを降下させることによりリチャージ管内の固形状原料が石英ルツボ内の固化表面上にスムースに充填される。
さらに、前記リチャージ管による固形状原料の充填操作を複数回繰り返して固形状原料を追加充填することが好ましい。
投入した固形状原料が全量溶融するまでの時間内に、単結晶製造装置内へのリチャージ管の取り付け、固形状原料の充填、リチャージ管の取り出しまでの一連の操作を1〜2回繰り返すことで、比較的小容量のリチャージ管でも充分に原料投入ができる。
発明を実施するための最良の形態
以下、図1〜5を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図1に示すように、リチャージ管20は、内部にシリコン多結晶からなる固形状原料を保持するための略円筒状の石英チューブ21(リチャージ管本体)と、石英チューブ21の下方端部に脱着可能な円錐バルブ22と、石英チューブ21の上方端部に脱着可能に設けられ、固形状原料を石英チューブ21に封止する蓋23と、石英チューブ21の内面に嵌合して蓋23を石英チューブ21に固定するためのガイド24と、石英チューブ21をシリコン単結晶製造装置10の引き上げワイヤーに吊るす為のフック26と、フック26と円錐バルブ22を繋ぐタングステン製のリチャージ管ワイヤー27と、蓋23の中心部に配設され、リチャージ管ワイヤー27が石英チューブ21の略中心を貫くように位置させるストッパー25と、シリコン単結晶製造装置10内で石英チューブ21が支持されるためのフランジ部28とを備える。
石英チューブ21は、高純度の透明石英ガラス製であり、下方端部に向かって拡巾するテーパー部21aが形成されている。テーパー部21aの長さL2はリチャージ管20全長L1の約20〜40%が好ましい。テーパー部につける角度θ1は0.5〜5.0°が好ましく、0.5〜3.0°がより好ましい。
テーパー部21aの角度θ1を0.5°より小さくすると、固形状原料、特にナゲット原料が詰まったり滞ったりするため好ましくない。一方、テーパー部21aの角度θ1を5.0°より大きくすると、石英チューブ21のテーパー部21a先端での外径が大きくなり、単結晶製造装置10内に取り付ける支持リング12dを抜けるためには、必然的に石英チューブ21の直径を小さくすることになり、石英チューブ21の内容積を小さくせざるを得なくなって、固形状原料の充填量が少なくなり好ましくない。また、テーパー部21aの角度θ1を大きくすると必然的にフランジ部28の石英チューブ21からの突出寸法を大きく取る必要があり、強度的な問題を解決しようとすると肉厚の厚い大きなフランジが必要となり、リチャージ管20の製作が煩雑となる。さらに、テーパー部21aの角度θ1が3.0°より大きいと、石英チューブ21の製作費が高価になる割には、それ以下の場合と比較して固形状原料の詰まりや滞留の防止効果のさほどの向上は望めない。テーパー部21aの角度θ1が1.0〜2.0°であると、固形状原料の詰まりや滞留が効果的に防止できるとともに、内容積の減少及び製作費の高騰を極力抑えることが可能となる。このような点を考慮して、本実施形態では、テーパー部21aの長さL2はリチャージ管全長L1の約30%、角度θ1を1.15°としている。
ここで、リチャージ管20の材質である透明石英ガラスの純度について、一例を示すと、Alが14ppm(重量百万分率、以下同様)、Caが0.4ppm、Cuが0.05ppm以下、Feが0.2ppm、KとLiが各々0.6ppm、Naが0.7ppm、Tiが1.1ppm、OHが5ppm以下である。純度については、勿論前記数値より小さいことが好ましいことは言うまでもない。また、物理特性について、一例を示すと、密度が2.2×10kg/m、引張り強度が4.9×10kgf/m(4.80×10Pa)、圧縮強度が1.1×10kgf/m(1.08×10Pa)、軟化点が1683℃である。
石英チューブ21の直径(外径)R1は、石英ルツボ11aの直径(外径)R11に対し25〜60%の寸法に設計されている。25%より小さいと、石英チューブ21が一度に保持できる固形状原料が少なくなり、この場合、リチャージを繰り返せばよいが、リチャージを繰り返す回数が多くなり好ましくない。60%より大きいと、固形状原料が左右に隔たって充填される場合があると共に、石英チューブ21の外周と石英ルツボ11aの内周との間隔が狭められ、固形状原料を投入するスペースが小さくなり好ましくない。本実施の形態では、例えば石英ルツボ11aの直径R11が24インチ(0.6096m)であると、石英チューブ21の直径R1は40%、9.6インチ(0.2438m)である。
円錐バルブ22は、高純度の透明石英ガラス製であり、円錐バルブ22を石英チューブ21の下方端部に装着して塞いだ状態で、石英チューブ21に固形状原料が充填される。円錐バルブ22の周面22aの母線と底面22bとがなす角度θ2は40〜70°とすることが好ましい。
角度θ2が40°より小さいと、図3に示すように、リチャージ管ワイヤー27を下降させると円錐バルブ22Aが四方に揺れやすくなり、原料が偏って充填されてしまうために好ましくない。一方、角度θ2が70°より大きいと、図4に示すように、円錐バルブ22Bの全高L11が高くなり、円錐バルブ22Bを降下させて原料を充填する際、固形状原料が一気に落下してしまい、固化させた融液に衝撃を与え、石英ルツボ11aを傷つけてしまう場合も考えられる。
以上を考慮すると、角度θ2が45〜60°であると、固形状原料投入時に石英ルツボ11aへの衝撃を軽減できることと、固形状原料を石英ルツボ11a内により均等に充填できることを両立できるため、特に好ましい。本実施の形態では、円錐バルブ22の角度θ2は54°となっている。また、石英チューブ21が下方に向かって外側にテーパー状に拡がっていることと合わせて、固形状原料をスムースに均一に石英ルツボ11aへ充填することができる。なお、符号L3は円錐バルブ22の全高を示している。
ガイド24はテトラフルオロエチレン製であり、図1に示すように、ネジ24aにより蓋23の背面に一体的に取り付けられる。ガイド24により石英チューブ21と蓋23とを密着させて取り付けられる。なお、ガイド24は石英チューブ21の上端部にネジなどにより固定して取り付けてもよい。
ストッパー25はテトラフルオロエチレン製であり、リチャージ管ワイヤー27がほぼ中心を貫くように取り付けられる。ストッパー25およびリチャージ管ワイヤー27は、蓋23の円周上の一個所から中心に至る切り欠き(図示せず)に沿って移動させて蓋23のほぼ中心に固定される。これにより、リチャージ管ワイヤー27が石英チューブ21のほぼ中心を貫くように位置する。
ストッパー25が付いていないと、リチャージ管20が横揺れを起こしアイソレーションバルブ13(シリコン単結晶製造装置10はシリコン単結晶の取り出しを行うプルチャンバー12と石英ルツボ11aを中心とする結晶成長炉11bを含んだメインチャンバー11とで構成され、該アイソレーションバルブ13により各チャンバー間を遮断することができる)のところを通過できない場合もある(図5参照)。リチャージ管20のほぼ中心にストッパー25を付けることにより、リチャージ管20が横揺れを起こすことなく、バランスを崩すこともなく、傾斜して降下することも防止され、固形状原料が石英ルツボ11aに均等に充填される。
フランジ28は石英ガラス製であり、図2に示すように、石英チューブ21と石英ルツボ11aとの間に、固形状原料を均一に充填するための最適な間隔Pが保たれるよう、また、高重量を支持できるように適切な位置に全周を溶接で一体化される。
以下、本発明のリチャージ管20を使ったリチャージについてさらに説明する。
まず、リチャージ管20内に原料を保持する。この時、原料として純度が高く溶解速度の早いナゲット状原料のみが用いられることも多いが、純度が要求されないシリコン単結晶を育成する場合は安価な粒状原料を適宜ナゲット状原料に混ぜることもあり、粒状原料のみも場合によっては存在する。ナゲット状原料のみ、ナゲット状原料および粒状原料、粒状原料のみの場合があるが、いずれも固形状原料と呼ぶ。
そして、シリコン単結晶をシリコン単結晶製造装置10から取り出した後、固形状原料を保持したリチャージ管20をシリコン単結晶製造装置10に取り入れる。この時、アイソレーションバルブ13は閉塞されており、メインチャンバー11内部は大気から遮断されている。リチャージ管20がシリコン単結晶製造装置10内に入るとプルチャンバー12内の空気が排気され、大気を遮断した状態でリチャージ管20をメインチャンバー11内に入れることが可能となる。
シリコン単結晶製造装置10内のアイソレーションバルブ13の上の方に支持リング12dが配設されており、リチャージ管20のフランジ部28が支持リング12dに載ると固形状原料を投入できるようになる。固形状原料を投入する際、石英ルツボ11a内に残っているシリコン融液(残余融液)は表面のみ固化されていて、固化表面A上に原料が充填される。この時、円錐バルブ22が固化表面Aに接触していると最も好ましい状態で固形状原料を充填することができ、石英ルツボ11aを降下させることにより、よりスムースに固形状原料が充填される。
ここで、石英ルツボ11a内の残余融液の全表面は、成長させたシリコン単結晶をシリコン単結晶製造装置10内より取り出し、固形状原料を保持したリチャージ管20をシリコン単結晶製造装置10内に取り入れている間に、ヒーターの加熱電力を原料溶融時の電力(溶融パワー)の50%程度に下げることにより、固化される。残余融液の表面が全面固化した後に加熱電力を一気に溶融パワーまで上昇させることで、固化が過度に進行することを防止する。こうすることで、石英ルツボ11a内面へのダメージを軽減し、剥離した石英屑によって単結晶に転位が発生して多結晶化してしまう現象を低減することができる。この操作により無転位の単結晶を安全に効率良く製造することができる。
固形状原料の充填が終了すると、リチャージ管ワイヤー27が巻き上げられ、円錐バルブ22が石英チューブ21の下方端部に収容され、リチャージ管20が取り出せるようになる。
実施例
直径22インチ(55.88cm)の石英ルツボ11aに100kgの多結晶原料を充填し、ヒーターの加熱電力(溶融パワー)を150kwとして多結晶原料を溶融し、その後、直径8インチ(20.34cm)で質量80kgのシリコン単結晶を成長させ、シリコン単結晶製造装置10内より取り出した。次に、ナゲット状原料40kgを保持したリチャージ管20をシリコン単結晶製造装置10内に取り入れ、リチャージ管20のフランジ部28を支持リング12dに載せて静止させる作業の間に、ヒーターの加熱電力(固化パワー)を90kwにまで降下した。その後、残余融液の表面が固化し、ほぼ全表面が固化した直後、加熱電力を溶融パワーにまで上昇させた。この時、石英ルツボ11aは下方に位置しているので、固化表面Aとリチャージ管20の円錐バルブ22とを接触させるため石英ルツボ11aを上昇させ、固化表面Aと円錐バルブ22とを接触させた後、吊り下げているリチャージ管ワイヤー27の負荷を緩め、石英ルツボ11aを降下させることにより、リチャージ管20内のナゲット状原料を固化表面A上に徐々に投入した。
ナゲット状原料が全量投入された後、リチャージ管ワイヤー27を巻き上げ、円錐バルブ22を石英チューブ21の下方端部に収容した後、リチャージ管20をシリコン単結晶製造装置10より取り出した。
再度、ナゲット状原料40kgを保持したリチャージ管20をシリコン単結晶製造装置10内に取り入れ、前述と同様にして未溶融の原料の上にナゲット状原料を充填し、初期の充填量と同じ100kgの原料とした。
その後、直径8インチ(20.34cm)で質量80kgの2本目のシリコン単結晶を成長した。その後、前述同様のリチャージを行い、さらに3本目のシリコン単結晶を成長した。
製造したシリコン単結晶は3本共に無転位の単結晶となり、製造終了後に石英ルツボ11aの内面を観察したが、固化面近傍でのヒビ、欠けなどは無く、また、固化面近傍と他の部分とで内面の浸食に大きな差は無かった。
比較例1
残余融液を固化した後の加熱電力上昇のタイミングをリチャージ終了後とした以外は実施例と同じ条件で3本のシリコン単結晶を製造した。製造したシリコン単結晶は2本目、3本目が有転位化していた。固化が過度に進行したため石英ルツボ11a内表面にダメージを与え、固化面及びその近傍で石英ルツボ11a内表面が剥がれ、融液表面を漂う石英屑が育成中のシリコン単結晶に付着してシリコン単結晶を有転位化したものと思われる。
実施例及び比較例1の結果から、残余融液の表面が固化し、ほぼ全表面が固化した直後に加熱電力を溶融パワーにまで上昇させることで、無転位のシリコン単結晶を安全に効率良く生産できることがわかる。
比較例2
原料投入時のリチャージ管20の円錐バルブ22と固化表面Aの距離を4〜5cm離れるように石英ルツボ11aを静止させ、リチャージ管ワイヤー27を下げるとともに石英ルツボ11aも下降させることでナゲット状原料を充填した以外は、実施例と同じ条件で3本のシリコン単結晶を製造した。製造したシリコン単結晶は3本目が有転位化していた。ナゲット状原料を投入する際、ナゲット状原料が自由落下により固化表面Aに充填されるが、リチャージ管20内部に保持されたナゲット状原料の最上部は、固化表面Aから1m程度の高さになっており、ナゲット状原料が固化表面Aを突き抜けて融液を飛散させ、石英ルツボ11a内面上部の数箇所に飛散した湯滴が付着して固化する場合がある。この固化したところは小さな突起部になり、湯面から蒸発するシリコン酸化物が析出することで、酸化物の屑となって湯面に落ち、融液表面を漂って育成中のシリコン単結晶に付着してシリコン単結晶を有転位化したものと思われる。
実施例及び比較例2の結果から、固化表面Aと円錐バルブ22とを接触させた状態でリチャージ管20内のナゲット状原料を固化表面A上に徐々に投入することで、無転位のシリコン単結晶を安全に効率良く生産できることがわかる。
以上の本発明の実施の形態によれば、シリコン単結晶を成長してシリコン融液が残り少なくなった石英ルツボ11aに固形状原料を充填する際、リチャージ管20に固形状原料を保持し、前記リチャージ管20をシリコン単結晶製造装置10内に容易に取り入れ取り出しが行え、石英ルツボ11aに固形状原料をスムースに充填するものであり、こうすることにより一つの石英ルツボから複数本のシリコン単結晶を育成することができる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
例えば、上記説明においては、主にCZ法によってシリコン単結晶を製造する場合につき説明したが、本発明は例えば、MCZ法にも適用できるものである。すなわち、MCZ法においても有効であることは言うまでもないし、また石英チューブ21の直径や長さ等についても随時選定できるものであって、これに限られるものではない。
産業上の利用可能性
本発明によれば、従来の前記原料供給装置を取り付けることなく、単結晶装置内へのリチャージ管の取り入れ、取り出しが簡単に行え、さらにナゲット原料をルツボ内にスムースに効率よく投入できるようにし、また、充填される多結晶原料の汚染を防止できるリチャージ管を提供できる。従って、リチャージに適した供給速度を実現し、短時間でスムースに効率よくリチャージを行うことで単結晶の生産性を向上させることができ、安価な固形状多結晶原料のリチャージ管、及びそのリチャージ管を用いて無転位の単結晶を安全に効率良く生産できる単結晶の製造方法を提供できる。ゆえに、本発明の固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法は、固形状多結晶原料を用いる単結晶の製造に特に適している。
【図面の簡単な説明】
図1は本発明の固形状原料のリチャージ管20を示す概略断面図であり、
図2は本発明の多結晶原料のリチャージ装置を使って石英ルツボに多結晶原料を充填したところを示す概略断面図であり、
図3は円錐バルブが異なるリチャージ装置を使って石英ルツボに多結晶原料を充填したところを示す概略断面図であり、
図4は円錐バルブがさらに異なるリチャージ装置を使って石英ルツボに多結晶原料を充填しているところを示す概略断面図であり、
図5はストッパーを備えていないリチャージ装置を使って石英ルツボに多結晶原料を充填したところを示す概略断面図である。

Claims (9)

  1. 結晶融液を貯留するルツボを有する単結晶製造装置に脱着可能に設けられ、前記ルツボに固形状多結晶原料を充填するためのリチャージ管であって、
    内部に前記固形状多結晶原料を保持する略円筒状のリチャージ管本体と、
    該リチャージ管本体の下方端部に脱着可能な円錐バルブと、
    前記リチャージ管本体の上方端部に脱着可能に設けられ、前記固形状多結晶原料を前記リチャージ管本体に封止する蓋と、
    前記リチャージ管本体を吊るす為のフックと、
    該フックと前記円錐バルブを繋ぐリチャージ管ワイヤーと、
    前記蓋の中心部に設けられ、前記リチャージ管ワイヤーが前記リチャージ管本体の略中心を貫くように位置させるストッパーとが設けられ、
    且つ前記リチャージ管本体が下方端部に向かって外方に拡開していることを特徴とする固形状多結晶原料のリチャージ管。
  2. 前記リチャージ管本体が下方端部に向かってテーパー状に0.5〜5.0°の角度で広がっていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の固形状多結晶原料のリチャージ管。
  3. 前記リチャージ管本体と前記円錐バルブが共に高純度の透明石英ガラス製であることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の固形状多結晶原料のリチャージ管。
  4. 前記リチャージ管本体には、単結晶製造装置内で支持されるためのフランジ部がリチャージ管本体と一体化して取り付けられ、前記フランジ部が石英ガラス製であることを特徴とする請求の範囲第1項から第3項のいずれか1つに記載の固形状多結晶原料のリチャージ管。
  5. 前記リチャージ管本体の内面に嵌合して前記蓋を固定させるガイドを設け、該ガイドと前記ストッパーがテトラフルオロエチレン製であることを特徴とする請求の範囲第1項から第4項のいずれか1つに記載の固形状多結晶原料のリチャージ管。
  6. 前記リチャージ管本体の直径が前記ルツボの直径の25〜60%であることを特徴とする請求の範囲第1項から第5項のいずれか1つに記載の固形状多結晶原料のリチャージ管。
  7. リチャージ管を用いて固形状原料の充填を行うにあたり、成長させた単結晶を単結晶製造装置内より取り出し、固形状原料を保持したリチャージ管を前記単結晶製造装置内に取り入れ、ルツボ内の残余融液の全表面をヒーターの加熱電力を下げることにより固化させた後にヒーターの加熱電力を上げながら前記固化表面上に前記リチャージ管内の固形状原料を充填し、リチャージ管を前記単結晶製造装置内より取り出した後、前記ルツボ内の固形状原料を全て溶融し、再び単結晶成長を行うことで複数本の単結晶を成長させることを特徴とする単結晶の製造方法。
  8. 前記リチャージ管による固形状原料の充填を行う際に、前記単結晶製造装置内に着脱可能に設けられた金属製の支持リング部に前記リチャージ管本体を支持し、固化した融液表面と前記リチャージ管先端部の円錐バルブとを前記ルツボを上昇させることで接触させた後、前記ルツボを降下させることで固形状原料を充填することを特徴とする請求の範囲第7項に記載の単結晶の製造方法。
  9. 前記リチャージ管による固形状原料の充填操作を複数回繰り返して固形状原料を追加充填することを特徴とする請求の範囲第7項又は第8項に記載の単結晶の製造方法。
JP2002568821A 2001-02-28 2002-02-27 固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法 Expired - Lifetime JP4103593B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001055668 2001-02-28
JP2001055668 2001-02-28
PCT/JP2002/001796 WO2002068732A1 (fr) 2001-02-28 2002-02-27 Tube de recharge pour matériau polycristallin solide, et procédé de production de monocristal au moyen de ce tube

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2002068732A1 true JPWO2002068732A1 (ja) 2004-06-24
JP4103593B2 JP4103593B2 (ja) 2008-06-18

Family

ID=18915819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002568821A Expired - Lifetime JP4103593B2 (ja) 2001-02-28 2002-02-27 固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4103593B2 (ja)
WO (1) WO2002068732A1 (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003255078A1 (en) * 2003-07-18 2005-02-04 Jianzhong Yuan An apparatus and method for recharge raw material
JP4345624B2 (ja) 2004-09-21 2009-10-14 株式会社Sumco チョクラルスキー法による原料供給装置および原料供給方法
JP5034259B2 (ja) * 2006-02-16 2012-09-26 株式会社Sumco 単結晶製造装置
JP4672579B2 (ja) * 2006-03-17 2011-04-20 コバレントマテリアル株式会社 固形状原料のリチャージ方法
KR100800212B1 (ko) * 2006-08-02 2008-02-01 주식회사 실트론 단결정 성장 장치에 고체 원료를 공급하는 장치 및 방법
JP4931122B2 (ja) * 2006-09-29 2012-05-16 Sumco Techxiv株式会社 原料供給装置及び原料供給方法
JP4699976B2 (ja) * 2006-09-29 2011-06-15 Sumco Techxiv株式会社 原料供給装置
JP4817379B2 (ja) * 2006-09-29 2011-11-16 Sumco Techxiv株式会社 原料供給装置
JP4699975B2 (ja) * 2006-09-29 2011-06-15 Sumco Techxiv株式会社 原料供給装置及び原料供給方法
JP4901405B2 (ja) * 2006-09-29 2012-03-21 Sumco Techxiv株式会社 原料供給装置
JP2009263178A (ja) 2008-04-25 2009-11-12 Sumco Corp 単結晶育成装置および原料供給方法
JP5777336B2 (ja) * 2010-12-28 2015-09-09 ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフトSiltronic AG 多結晶シリコン原料のリチャージ方法
JP5776587B2 (ja) * 2012-02-24 2015-09-09 信越半導体株式会社 単結晶製造方法
JP5644794B2 (ja) * 2012-03-08 2014-12-24 信越半導体株式会社 リチャージ管及びリチャージ方法
JP5741528B2 (ja) * 2012-06-13 2015-07-01 信越半導体株式会社 原料充填方法及び単結晶の製造方法
JP5857945B2 (ja) 2012-11-20 2016-02-10 信越半導体株式会社 原料充填方法および単結晶の製造方法
CN103757691B (zh) * 2014-01-10 2016-04-20 英利集团有限公司 多晶硅料复投方法
JP6390579B2 (ja) * 2015-10-19 2018-09-19 信越半導体株式会社 単結晶の製造方法
CN105887185A (zh) * 2016-05-30 2016-08-24 上海超硅半导体有限公司 一种多重提拉单晶硅的制造方法
JP6809386B2 (ja) * 2017-06-12 2021-01-06 株式会社Sumco 原料供給方法およびシリコン単結晶の製造方法
JP6708173B2 (ja) 2017-07-07 2020-06-10 信越半導体株式会社 リチャージ管及び単結晶の製造方法
JP6930435B2 (ja) 2018-01-17 2021-09-01 株式会社Sumco 原料供給方法およびシリコン単結晶の製造方法
JP7021626B2 (ja) * 2018-10-03 2022-02-17 株式会社Sumco 原料供給方法およびシリコン単結晶の製造方法
JP6775773B1 (ja) * 2020-02-14 2020-10-28 Ftb研究所株式会社 単結晶成長装置、単結晶成長方法および単結晶
CN113481604B (zh) * 2021-07-09 2023-03-28 武汉拓材科技有限公司 一种高纯碲化镓多晶合成生产装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62260791A (ja) * 1986-05-08 1987-11-13 Toshiba Ceramics Co Ltd シリコン単結晶引上装置
JP2640683B2 (ja) * 1988-12-12 1997-08-13 信越半導体株式会社 単結晶棒の引上げ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4103593B2 (ja) 2008-06-18
WO2002068732A1 (fr) 2002-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2002068732A1 (ja) 固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法
US9217208B2 (en) Apparatus for producing single crystal
TWI453310B (zh) 再裝填原料多晶矽的方法
WO2007093082A1 (fr) Procédé de production de tranche de silicium utilisant la méthode du flottage et appareil correspondant
JP6028128B1 (ja) 投入装置、塊状シリコン原料の供給方法、シリコン単結晶製造装置およびシリコン単結晶の製造方法
JP4957385B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法
JP6708173B2 (ja) リチャージ管及び単結晶の製造方法
JP4436363B2 (ja) 単結晶の育成方法及び繊維成形体
KR20100056640A (ko) 단결정 성장장치
JP5381475B2 (ja) 回収された多結晶シリコンの再生方法
JPS59213697A (ja) 単結晶半導体引上装置
JP3085567B2 (ja) 多結晶のリチャージ装置およびリチャージ方法
JP6112763B2 (ja) ロッド状多結晶原料供給治具およびロッド状多結晶原料の供給方法
JP3747696B2 (ja) シリコン単結晶引上げ装置の熱遮蔽部材
JP2009023851A (ja) シリコン単結晶製造用原料の製造方法およびシリコン単結晶の製造方法
CN103184520B (zh) 一种砷化镓晶体残料的直拉再利用方法
JP2007254162A (ja) 単結晶製造装置およびリチャージ方法
JP6627737B2 (ja) 単結晶引上げ装置
JP3683735B2 (ja) 無転位シリコン単結晶の製造方法および無転位シリコン単結晶インゴット
KR101727071B1 (ko) 실리콘 단결정의 제조 방법
JP2000313690A (ja) 半導体単結晶の製造方法およびこれに用いられる固体の半導体原料塊
JP2006188376A (ja) 多結晶原料のリチャージ冶具および多結晶原料のリチャージ方法
JP2009102194A (ja) フッ化金属単結晶体引上げ装置及び該装置を用いたフッ化金属単結晶体の製造方法
JP5644794B2 (ja) リチャージ管及びリチャージ方法
RU2560402C1 (ru) Способ выращивания монокристаллов из расплава

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070621

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071113

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071213

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080317

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4103593

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120404

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140404

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term