JPS6363104A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドおよびその製造方法Info
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- JPS6363104A JPS6363104A JP20584486A JP20584486A JPS6363104A JP S6363104 A JPS6363104 A JP S6363104A JP 20584486 A JP20584486 A JP 20584486A JP 20584486 A JP20584486 A JP 20584486A JP S6363104 A JPS6363104 A JP S6363104A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度記録再生に適した磁気ヘッドに係り、
特に強磁性金属材料をコア材として用いろ磁気ヘッドお
よびその製造方法に関する。
特に強磁性金属材料をコア材として用いろ磁気ヘッドお
よびその製造方法に関する。
磁気記録の高密度化に伴い、高保磁力記録媒体ととも釦
、狭いトラック幅でしかも高い飽和磁束密度を発生する
磁気ヘッドが必要とされろ。
、狭いトラック幅でしかも高い飽和磁束密度を発生する
磁気ヘッドが必要とされろ。
従来、この種の磁気ヘッドとしては例えば特開昭58−
155513号公報に記載のよう釦、非磁性あるいは磁
性の基板上釦金属磁性材料の層を形成した金属磁性材磁
気ヘッドが開発されている。
155513号公報に記載のよう釦、非磁性あるいは磁
性の基板上釦金属磁性材料の層を形成した金属磁性材磁
気ヘッドが開発されている。
第4図は従来技術による金属磁性材を用いた磁気ヘッド
の一例を示すla)斜視図、lb)上面図であって、1
,1′は基板、3,3′は金属磁性層、4はギャップ、
5は巻線用窓、6は非磁性材(ガラス。
の一例を示すla)斜視図、lb)上面図であって、1
,1′は基板、3,3′は金属磁性層、4はギャップ、
5は巻線用窓、6は非磁性材(ガラス。
セラミック、樹脂等)の充てん補強材である。
同図に示したものは、基板l、1′として高透磁率のフ
エライl用いており、在来のフエライトヘラドと金属磁
性材の両者の長所を利用した複合塵ヘッドである。
エライl用いており、在来のフエライトヘラドと金属磁
性材の両者の長所を利用した複合塵ヘッドである。
なお、この種の磁気ヘッドは上記第4図に示した構造の
ものく限らず、以下第5図〜第7図に示した構造のもの
等、種々の形状のものが提案されている。
ものく限らず、以下第5図〜第7図に示した構造のもの
等、種々の形状のものが提案されている。
第5図は従来技術による金属m性材を用いた磁気ヘッド
の他の例を示す概略斜視図であって、1゜1′は基板、
3.3′は金属磁性層、4はギャップ。
の他の例を示す概略斜視図であって、1゜1′は基板、
3.3′は金属磁性層、4はギャップ。
5は巻線用窓、6は充てん補強材である。
第6図は従来技術による金属磁性材を用いた磁気ヘッド
のさらに他の9′I]を示す概略斜視図であって、第5
図と同一符号は同一部材を示す。
のさらに他の9′I]を示す概略斜視図であって、第5
図と同一符号は同一部材を示す。
第4図〜第5図に示した従来例の磁気ヘッドは、トラッ
ク1llli!狭くするためにギャップ4部分に絞り効
果を持たせた構造である。
ク1llli!狭くするためにギャップ4部分に絞り効
果を持たせた構造である。
第7図は従来技術による磁気ヘッドのさら忙まに他の例
を示す概略斜視図であって、前記従来例と同一符号は同
一部分を示す。なお、第7図釦示しり磁気ヘッドも、ギ
ャップ部となる基板部分を適宜加工して絞り効果を持た
せることカーできろことはもちろんである。
を示す概略斜視図であって、前記従来例と同一符号は同
一部分を示す。なお、第7図釦示しり磁気ヘッドも、ギ
ャップ部となる基板部分を適宜加工して絞り効果を持た
せることカーできろことはもちろんである。
上記各従来例において用いる基板としては、ガラス、セ
ラミック等の非磁性材%M n −Z nフェライト、
Ni−Znフェライト等の高透@率材料で上に、また、
金属磁性材としてはp6−8i合金、Fe−Al−84
合金、Ni−Fe合金等の結晶質磁性合金、あるいは非
晶質磁性合金なとt挙げることができる。
ラミック等の非磁性材%M n −Z nフェライト、
Ni−Znフェライト等の高透@率材料で上に、また、
金属磁性材としてはp6−8i合金、Fe−Al−84
合金、Ni−Fe合金等の結晶質磁性合金、あるいは非
晶質磁性合金なとt挙げることができる。
以上のように、従来のこの種の磁気ヘッドは。
金属磁性層の材料成分とは異なる成分の材料からなる基
板上に、スパッタリング法、蒸着法などの薄膜形成技術
により前記金属磁性層l堆積して形成するものであるた
め、薄層形成後の後工程におげろ機械加工、磁気ギャッ
プの接合のための熱処理等において、金属磁性層が基板
から剥離するという問題かあった。また、使用時尤おけ
る磁気記録媒体と磁気ヘッドとの長時間の摺動によって
、金属磁性層が基板から剥離して、耐久性、信頼性の低
下を招くという問題があった。
板上に、スパッタリング法、蒸着法などの薄膜形成技術
により前記金属磁性層l堆積して形成するものであるた
め、薄層形成後の後工程におげろ機械加工、磁気ギャッ
プの接合のための熱処理等において、金属磁性層が基板
から剥離するという問題かあった。また、使用時尤おけ
る磁気記録媒体と磁気ヘッドとの長時間の摺動によって
、金属磁性層が基板から剥離して、耐久性、信頼性の低
下を招くという問題があった。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、耐久性を向
上させ、信頼性疋優れた磁気ヘッドおよびその製造方法
を提供することを目的とする。
上させ、信頼性疋優れた磁気ヘッドおよびその製造方法
を提供することを目的とする。
上記目的ン達成するkめに、本発明は、基板と成る中間
層を形成することにより達成されろ。
層を形成することにより達成されろ。
金属磁性層が基板から剥離するのは1両者の接着力より
も大きな力が、機械加工中の熱履歴や基板と金属磁性層
の熱膨張率の差あるいは金属磁性層の内部応力などによ
って、両者の界面和加わる1こめである。本発明による
中間層は、上記の力を緩衝させて基板と金属磁性層の接
着力を高めるよう九作用する。
も大きな力が、機械加工中の熱履歴や基板と金属磁性層
の熱膨張率の差あるいは金属磁性層の内部応力などによ
って、両者の界面和加わる1こめである。本発明による
中間層は、上記の力を緩衝させて基板と金属磁性層の接
着力を高めるよう九作用する。
以下、本発明の実施例を図面Y参照して説明する。
第1図は本発明による磁気ヘッドの一実施例な示す[a
)概略斜視図、(b)上面図(摺動面)であって。
)概略斜視図、(b)上面図(摺動面)であって。
1.1′は基板、2,2′は中間層、3.3’は金属磁
性層、4はギャップ、5は巻線用窓、6は充てん補強材
であり、2つのコア半体人、Bから磁気ヘッドが構成さ
れる。
性層、4はギャップ、5は巻線用窓、6は充てん補強材
であり、2つのコア半体人、Bから磁気ヘッドが構成さ
れる。
同図において、基板1.1′はMn−Zn7エライト、
中間層2.2′は高分子化合物例えばポリイミドとコバ
ルトを含む磁性金属材例えばCo−N b −Z rの
混在層、金属磁性層3は例えばCOを主成分とする非晶
質合金層である。
中間層2.2′は高分子化合物例えばポリイミドとコバ
ルトを含む磁性金属材例えばCo−N b −Z rの
混在層、金属磁性層3は例えばCOを主成分とする非晶
質合金層である。
ギャップ4は、後述するよう(、コア半体人とコア半体
Bを接合する際に5例えば5in2.ガラス等のスパッ
タリング膜から成るギャップ形成膜により形成され、ま
た巻線用窓5 t’!、コア半体A。
Bを接合する際に5例えば5in2.ガラス等のスパッ
タリング膜から成るギャップ形成膜により形成され、ま
た巻線用窓5 t’!、コア半体A。
Bの接合前に加工形成されるものである。
以上のようく構成された磁気ヘッドは、基板1゜1′と
金属磁性層3.3′とが中間層2.2′によって強固く
接着されろ。中間層2.2′は前記した成分’k fl
J 、!−ばスパッタリング法によつ℃α1〜3.0μ
mの厚さに形成され、それを形成する際に、磁性金属材
を20〜80%(高分子化合物は80〜2゜チ)含むよ
うにすれば上に、また、その高分子化合物濃度か基板側
で高く、そのffl性金属材の濃度が金属磁性層側で高
くなるよ5にすればさらく基板と金属磁性層との接着強
度を上げろことができる。
金属磁性層3.3′とが中間層2.2′によって強固く
接着されろ。中間層2.2′は前記した成分’k fl
J 、!−ばスパッタリング法によつ℃α1〜3.0μ
mの厚さに形成され、それを形成する際に、磁性金属材
を20〜80%(高分子化合物は80〜2゜チ)含むよ
うにすれば上に、また、その高分子化合物濃度か基板側
で高く、そのffl性金属材の濃度が金属磁性層側で高
くなるよ5にすればさらく基板と金属磁性層との接着強
度を上げろことができる。
なお、中間層の高分子化合物としては前記したポリイミ
ドの他、ポリエチレン、ポリスチレン。
ドの他、ポリエチレン、ポリスチレン。
ポリプロピレン、テフロン等を挙げろことができろ。ま
た母性金属材としては、Coを84−1Nbを12−5
チ、Zrをλ5チ含むコバルト合金を代表例とするが、
本発明はこれ九限るものではない。
た母性金属材としては、Coを84−1Nbを12−5
チ、Zrをλ5チ含むコバルト合金を代表例とするが、
本発明はこれ九限るものではない。
この他K、適用可能な材料としては、Fe。
Co、Njのうちの少なくとも1つt主成分とする強磁
性金属材料を挙げろことができる。
性金属材料を挙げろことができる。
第2図は木兄BAKよろ磁気ヘッドの他の実施例を示す
概略斜視因であって、上記実施例と同一符号は同一部材
を示す。同図示した磁気ヘッドは前記第7図忙示した従
来例の型の磁気ヘッドに本発明を適用したものである。
概略斜視因であって、上記実施例と同一符号は同一部材
を示す。同図示した磁気ヘッドは前記第7図忙示した従
来例の型の磁気ヘッドに本発明を適用したものである。
次忙、本発明の磁気ヘッドの製造方法を説明する。
第3図イ)〜(す)は本発明の磁気ヘッドの製造方法の
一実施fF[l示す製造工程図であって、第1図に示し
た本発明の第1の実施例の磁気ヘッドの製造工程Vtt
明するものである。
一実施fF[l示す製造工程図であって、第1図に示し
た本発明の第1の実施例の磁気ヘッドの製造工程Vtt
明するものである。
同図において、先ずM n −Z nフェライト。
Ni−Znフェライト等の基板1を用意し、そのギャッ
プ突き合わせ面となる面7にトjツタ幅より狭い突起を
残して隣接する2本の溝8.8”Y組とする複数組の溝
を千行く設ける(イ)、溝8,8′はV字もしくはU字
状に高速ダイサ等を用いて加工する。工程(イ)で形成
した溝を有する基板面上に、ポリイミドとコバルト合金
(例えば、 Co : 84qblNb:IZ5%I
Zr:a、s%;いずれも原子パーセント)との混在
層を厚さ0.1〜3.0μm(同時スパッタリングして
中間層2を形成する(口)。
プ突き合わせ面となる面7にトjツタ幅より狭い突起を
残して隣接する2本の溝8.8”Y組とする複数組の溝
を千行く設ける(イ)、溝8,8′はV字もしくはU字
状に高速ダイサ等を用いて加工する。工程(イ)で形成
した溝を有する基板面上に、ポリイミドとコバルト合金
(例えば、 Co : 84qblNb:IZ5%I
Zr:a、s%;いずれも原子パーセント)との混在
層を厚さ0.1〜3.0μm(同時スパッタリングして
中間層2を形成する(口)。
中間層2はポリイミド中にコバルト合金がおおよそ20
チ〜80%含むようスパッタリング条件を調整する。中
間層2y!−形成した後、その上に例えばコバルトZ主
成分とする金属磁性体の非晶質合金の層3(金属磁性層
)χ形成するピ→。
チ〜80%含むようスパッタリング条件を調整する。中
間層2y!−形成した後、その上に例えばコバルトZ主
成分とする金属磁性体の非晶質合金の層3(金属磁性層
)χ形成するピ→。
次に、上記金属磁性層3を覆ってガラス、セラミック系
無機接着材あるいは硬質の樹脂から成る充てん補強材6
を被着しくニ)、充てん補強材6と金属磁性層3”i研
摩して所要のトラック幅tとなるまで金属磁性層3を露
呈させ、これをコア半体囚とする。
無機接着材あるいは硬質の樹脂から成る充てん補強材6
を被着しくニ)、充てん補強材6と金属磁性層3”i研
摩して所要のトラック幅tとなるまで金属磁性層3を露
呈させ、これをコア半体囚とする。
一方、上記(イ)〜(ホ)の工程で製作した(ホ)と同
様のコア半体IBIに巻線用窓5となる溝5′を加工し
、ギャップ形成面に8102.ガラス等の非磁性材を所
要の厚さにスパッタリングしてギャップ形成膜とする(
へ)。
様のコア半体IBIに巻線用窓5となる溝5′を加工し
、ギャップ形成面に8102.ガラス等の非磁性材を所
要の厚さにスパッタリングしてギャップ形成膜とする(
へ)。
工程(ホ)と工程(へ)で得た一対のコア半体A、Bの
ギャップ突き合わせ面7ビ互いに突き合わせて(ト)、
接合一体化する。この場合、接合は溝に充てんされてい
る非磁性材6がガラスならば互いのガラスによって行わ
れ、樹脂を用いた場合には別途巻線用窓の一部、および
後部接合部に切り欠き?1!を設けて樹脂によって行な
われる。次lて、工程−に示すよう九、記録媒体摺動面
からみてトラック4tを中心にして点線で示す所望のコ
ア幅Tになるように切断して複数個の磁気ヘッドを得る
団。場合忙よっては、ギャップ4をアジマス角だけ傾げ
て切断してもよい。開に示すように記録媒体摺動面は、
基板1.1′に中間層2,2′で強固く接着された金属
磁性層3.3′により形成されたギャップ41有し、金
属磁性層3.3′間には非磁性の充てん補強材6が充て
んされた構造となっており、この型の磁気ヘッドは第1
図に示したものである。
ギャップ突き合わせ面7ビ互いに突き合わせて(ト)、
接合一体化する。この場合、接合は溝に充てんされてい
る非磁性材6がガラスならば互いのガラスによって行わ
れ、樹脂を用いた場合には別途巻線用窓の一部、および
後部接合部に切り欠き?1!を設けて樹脂によって行な
われる。次lて、工程−に示すよう九、記録媒体摺動面
からみてトラック4tを中心にして点線で示す所望のコ
ア幅Tになるように切断して複数個の磁気ヘッドを得る
団。場合忙よっては、ギャップ4をアジマス角だけ傾げ
て切断してもよい。開に示すように記録媒体摺動面は、
基板1.1′に中間層2,2′で強固く接着された金属
磁性層3.3′により形成されたギャップ41有し、金
属磁性層3.3′間には非磁性の充てん補強材6が充て
んされた構造となっており、この型の磁気ヘッドは第1
図に示したものである。
なお、第2図圧水した型の磁気ヘッドも若干の工程変更
で製造できろ。
で製造できろ。
そして、第5図、第6図に示した従来例の磁気ヘッドも
同様である。要は、基板に金属磁性層を形成する前に中
間層を形成することが本発明の要点である。
同様である。要は、基板に金属磁性層を形成する前に中
間層を形成することが本発明の要点である。
以上の製造方法は一例であって、本発明はこれく限らず
既知の技術手段をもって多様の製造方法l構成できるも
のである。
既知の技術手段をもって多様の製造方法l構成できるも
のである。
以上説明したようく、本発明によれば、基板と金属磁性
層との界面圧設けた高分子化合物と磁性金属材を含む中
間層が、製造工程における熱履歴やストレスを緩和させ
、金属母性層の剥離を防止し、歩留りを格段和向上でき
ると共に、耐久性の高い高信頼性の磁気ヘッドを提供す
ることができる。
層との界面圧設けた高分子化合物と磁性金属材を含む中
間層が、製造工程における熱履歴やストレスを緩和させ
、金属母性層の剥離を防止し、歩留りを格段和向上でき
ると共に、耐久性の高い高信頼性の磁気ヘッドを提供す
ることができる。
第1図は木兄明尤よる磁気ヘッドの一実施例を示すta
)概略斜視図、(b)上面図(摺動面)、第2図は本発
明による磁気ヘッドの他の実施例〉示す概略斜視図、第
3図1−()〜凹は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を示す製造工程図、第4図(a)。 lblは従来技術による磁気ヘッドの一例を示す概略斜
視図、上面図、第5図、第6図および第7図は従来技術
による磁気ヘッドの他の例を示す概略斜視図である。 1.1′・・・・・・基板、2,2′・・・・・・中間
層、3.3′・・・・・・金属磁性層、4・・・・・・
ギャップ、5・・・・・・巻線用窓、6・・・・・・非
磁性光てん補強材、A、B・・・・・・コア半体。 第1口 5・・・・j!:緯pA泡 6 ・・・・ 九てにイN弥才才 A、B・・・コア半体 第2図 第3図 /l−ノ
tラーノバ5′ン tワノ 第4図 tσノ (b) 第5図 第6図 第7図
)概略斜視図、(b)上面図(摺動面)、第2図は本発
明による磁気ヘッドの他の実施例〉示す概略斜視図、第
3図1−()〜凹は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を示す製造工程図、第4図(a)。 lblは従来技術による磁気ヘッドの一例を示す概略斜
視図、上面図、第5図、第6図および第7図は従来技術
による磁気ヘッドの他の例を示す概略斜視図である。 1.1′・・・・・・基板、2,2′・・・・・・中間
層、3.3′・・・・・・金属磁性層、4・・・・・・
ギャップ、5・・・・・・巻線用窓、6・・・・・・非
磁性光てん補強材、A、B・・・・・・コア半体。 第1口 5・・・・j!:緯pA泡 6 ・・・・ 九てにイN弥才才 A、B・・・コア半体 第2図 第3図 /l−ノ
tラーノバ5′ン tワノ 第4図 tσノ (b) 第5図 第6図 第7図
Claims (2)
- (1)基板上に金属磁性層を形成したコアを具備した磁
気ヘッドにおいて、前記基板と前記金属磁性層との間に
磁性金属材の成分と高分子化合物の成分との混在層を設
け、前記基板と前記金属磁性層の剥離を防止するよう構
成したことを特徴とする磁気ヘッド。 - (2)基板上に中間層を介在させて金属磁性層を形成し
て成る磁気ヘッドの製造方法において、前記基板上に磁
性金属材と高分子化合物とを同時にスパッタリングして
前記中間層を形成する工程と、前記中間層の上に金属磁
性層を形成する工程と、前記工程により製作した一対の
コア半体を、その金属磁性層を互いに突き合わせて接合
することによつてギャップを形成する工程と、を有する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20584486A JPS6363104A (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20584486A JPS6363104A (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6363104A true JPS6363104A (ja) | 1988-03-19 |
Family
ID=16513648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20584486A Pending JPS6363104A (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6363104A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02144925A (ja) * | 1988-11-26 | 1990-06-04 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH02172007A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-03 | Hitachi Maxell Ltd | マルチトラック磁気ヘッド |
-
1986
- 1986-09-03 JP JP20584486A patent/JPS6363104A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02144925A (ja) * | 1988-11-26 | 1990-06-04 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH02172007A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-03 | Hitachi Maxell Ltd | マルチトラック磁気ヘッド |
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