JPS6363104A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

磁気ヘツドおよびその製造方法

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JPS6363104A
JPS6363104A JP20584486A JP20584486A JPS6363104A JP S6363104 A JPS6363104 A JP S6363104A JP 20584486 A JP20584486 A JP 20584486A JP 20584486 A JP20584486 A JP 20584486A JP S6363104 A JPS6363104 A JP S6363104A
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JP
Japan
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magnetic
magnetic head
metal
layer
substrate
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Pending
Application number
JP20584486A
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English (en)
Inventor
Takeshi Tottori
猛志 鳥取
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Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度記録再生に適した磁気ヘッドに係り、
特に強磁性金属材料をコア材として用いろ磁気ヘッドお
よびその製造方法に関する。
〔従来の技術〕
磁気記録の高密度化に伴い、高保磁力記録媒体ととも釦
、狭いトラック幅でしかも高い飽和磁束密度を発生する
磁気ヘッドが必要とされろ。
従来、この種の磁気ヘッドとしては例えば特開昭58−
155513号公報に記載のよう釦、非磁性あるいは磁
性の基板上釦金属磁性材料の層を形成した金属磁性材磁
気ヘッドが開発されている。
第4図は従来技術による金属磁性材を用いた磁気ヘッド
の一例を示すla)斜視図、lb)上面図であって、1
,1′は基板、3,3′は金属磁性層、4はギャップ、
5は巻線用窓、6は非磁性材(ガラス。
セラミック、樹脂等)の充てん補強材である。
同図に示したものは、基板l、1′として高透磁率のフ
エライl用いており、在来のフエライトヘラドと金属磁
性材の両者の長所を利用した複合塵ヘッドである。
なお、この種の磁気ヘッドは上記第4図に示した構造の
ものく限らず、以下第5図〜第7図に示した構造のもの
等、種々の形状のものが提案されている。
第5図は従来技術による金属m性材を用いた磁気ヘッド
の他の例を示す概略斜視図であって、1゜1′は基板、
3.3′は金属磁性層、4はギャップ。
5は巻線用窓、6は充てん補強材である。
第6図は従来技術による金属磁性材を用いた磁気ヘッド
のさらに他の9′I]を示す概略斜視図であって、第5
図と同一符号は同一部材を示す。
第4図〜第5図に示した従来例の磁気ヘッドは、トラッ
ク1llli!狭くするためにギャップ4部分に絞り効
果を持たせた構造である。
第7図は従来技術による磁気ヘッドのさら忙まに他の例
を示す概略斜視図であって、前記従来例と同一符号は同
一部分を示す。なお、第7図釦示しり磁気ヘッドも、ギ
ャップ部となる基板部分を適宜加工して絞り効果を持た
せることカーできろことはもちろんである。
上記各従来例において用いる基板としては、ガラス、セ
ラミック等の非磁性材%M n −Z nフェライト、
Ni−Znフェライト等の高透@率材料で上に、また、
金属磁性材としてはp6−8i合金、Fe−Al−84
合金、Ni−Fe合金等の結晶質磁性合金、あるいは非
晶質磁性合金なとt挙げることができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
以上のように、従来のこの種の磁気ヘッドは。
金属磁性層の材料成分とは異なる成分の材料からなる基
板上に、スパッタリング法、蒸着法などの薄膜形成技術
により前記金属磁性層l堆積して形成するものであるた
め、薄層形成後の後工程におげろ機械加工、磁気ギャッ
プの接合のための熱処理等において、金属磁性層が基板
から剥離するという問題かあった。また、使用時尤おけ
る磁気記録媒体と磁気ヘッドとの長時間の摺動によって
、金属磁性層が基板から剥離して、耐久性、信頼性の低
下を招くという問題があった。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、耐久性を向
上させ、信頼性疋優れた磁気ヘッドおよびその製造方法
を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的ン達成するkめに、本発明は、基板と成る中間
層を形成することにより達成されろ。
〔作 用〕
金属磁性層が基板から剥離するのは1両者の接着力より
も大きな力が、機械加工中の熱履歴や基板と金属磁性層
の熱膨張率の差あるいは金属磁性層の内部応力などによ
って、両者の界面和加わる1こめである。本発明による
中間層は、上記の力を緩衝させて基板と金属磁性層の接
着力を高めるよう九作用する。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面Y参照して説明する。
第1図は本発明による磁気ヘッドの一実施例な示す[a
)概略斜視図、(b)上面図(摺動面)であって。
1.1′は基板、2,2′は中間層、3.3’は金属磁
性層、4はギャップ、5は巻線用窓、6は充てん補強材
であり、2つのコア半体人、Bから磁気ヘッドが構成さ
れる。
同図において、基板1.1′はMn−Zn7エライト、
中間層2.2′は高分子化合物例えばポリイミドとコバ
ルトを含む磁性金属材例えばCo−N b −Z rの
混在層、金属磁性層3は例えばCOを主成分とする非晶
質合金層である。
ギャップ4は、後述するよう(、コア半体人とコア半体
Bを接合する際に5例えば5in2.ガラス等のスパッ
タリング膜から成るギャップ形成膜により形成され、ま
た巻線用窓5 t’!、コア半体A。
Bの接合前に加工形成されるものである。
以上のようく構成された磁気ヘッドは、基板1゜1′と
金属磁性層3.3′とが中間層2.2′によって強固く
接着されろ。中間層2.2′は前記した成分’k fl
J 、!−ばスパッタリング法によつ℃α1〜3.0μ
mの厚さに形成され、それを形成する際に、磁性金属材
を20〜80%(高分子化合物は80〜2゜チ)含むよ
うにすれば上に、また、その高分子化合物濃度か基板側
で高く、そのffl性金属材の濃度が金属磁性層側で高
くなるよ5にすればさらく基板と金属磁性層との接着強
度を上げろことができる。
なお、中間層の高分子化合物としては前記したポリイミ
ドの他、ポリエチレン、ポリスチレン。
ポリプロピレン、テフロン等を挙げろことができろ。ま
た母性金属材としては、Coを84−1Nbを12−5
チ、Zrをλ5チ含むコバルト合金を代表例とするが、
本発明はこれ九限るものではない。
この他K、適用可能な材料としては、Fe。
Co、Njのうちの少なくとも1つt主成分とする強磁
性金属材料を挙げろことができる。
第2図は木兄BAKよろ磁気ヘッドの他の実施例を示す
概略斜視因であって、上記実施例と同一符号は同一部材
を示す。同図示した磁気ヘッドは前記第7図忙示した従
来例の型の磁気ヘッドに本発明を適用したものである。
次忙、本発明の磁気ヘッドの製造方法を説明する。
第3図イ)〜(す)は本発明の磁気ヘッドの製造方法の
一実施fF[l示す製造工程図であって、第1図に示し
た本発明の第1の実施例の磁気ヘッドの製造工程Vtt
明するものである。
同図において、先ずM n −Z nフェライト。
Ni−Znフェライト等の基板1を用意し、そのギャッ
プ突き合わせ面となる面7にトjツタ幅より狭い突起を
残して隣接する2本の溝8.8”Y組とする複数組の溝
を千行く設ける(イ)、溝8,8′はV字もしくはU字
状に高速ダイサ等を用いて加工する。工程(イ)で形成
した溝を有する基板面上に、ポリイミドとコバルト合金
(例えば、 Co : 84qblNb:IZ5%I 
 Zr:a、s%;いずれも原子パーセント)との混在
層を厚さ0.1〜3.0μm(同時スパッタリングして
中間層2を形成する(口)。
中間層2はポリイミド中にコバルト合金がおおよそ20
チ〜80%含むようスパッタリング条件を調整する。中
間層2y!−形成した後、その上に例えばコバルトZ主
成分とする金属磁性体の非晶質合金の層3(金属磁性層
)χ形成するピ→。
次に、上記金属磁性層3を覆ってガラス、セラミック系
無機接着材あるいは硬質の樹脂から成る充てん補強材6
を被着しくニ)、充てん補強材6と金属磁性層3”i研
摩して所要のトラック幅tとなるまで金属磁性層3を露
呈させ、これをコア半体囚とする。
一方、上記(イ)〜(ホ)の工程で製作した(ホ)と同
様のコア半体IBIに巻線用窓5となる溝5′を加工し
、ギャップ形成面に8102.ガラス等の非磁性材を所
要の厚さにスパッタリングしてギャップ形成膜とする(
へ)。
工程(ホ)と工程(へ)で得た一対のコア半体A、Bの
ギャップ突き合わせ面7ビ互いに突き合わせて(ト)、
接合一体化する。この場合、接合は溝に充てんされてい
る非磁性材6がガラスならば互いのガラスによって行わ
れ、樹脂を用いた場合には別途巻線用窓の一部、および
後部接合部に切り欠き?1!を設けて樹脂によって行な
われる。次lて、工程−に示すよう九、記録媒体摺動面
からみてトラック4tを中心にして点線で示す所望のコ
ア幅Tになるように切断して複数個の磁気ヘッドを得る
団。場合忙よっては、ギャップ4をアジマス角だけ傾げ
て切断してもよい。開に示すように記録媒体摺動面は、
基板1.1′に中間層2,2′で強固く接着された金属
磁性層3.3′により形成されたギャップ41有し、金
属磁性層3.3′間には非磁性の充てん補強材6が充て
んされた構造となっており、この型の磁気ヘッドは第1
図に示したものである。
なお、第2図圧水した型の磁気ヘッドも若干の工程変更
で製造できろ。
そして、第5図、第6図に示した従来例の磁気ヘッドも
同様である。要は、基板に金属磁性層を形成する前に中
間層を形成することが本発明の要点である。
以上の製造方法は一例であって、本発明はこれく限らず
既知の技術手段をもって多様の製造方法l構成できるも
のである。
〔発明の効果〕
以上説明したようく、本発明によれば、基板と金属磁性
層との界面圧設けた高分子化合物と磁性金属材を含む中
間層が、製造工程における熱履歴やストレスを緩和させ
、金属母性層の剥離を防止し、歩留りを格段和向上でき
ると共に、耐久性の高い高信頼性の磁気ヘッドを提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は木兄明尤よる磁気ヘッドの一実施例を示すta
)概略斜視図、(b)上面図(摺動面)、第2図は本発
明による磁気ヘッドの他の実施例〉示す概略斜視図、第
3図1−()〜凹は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を示す製造工程図、第4図(a)。 lblは従来技術による磁気ヘッドの一例を示す概略斜
視図、上面図、第5図、第6図および第7図は従来技術
による磁気ヘッドの他の例を示す概略斜視図である。 1.1′・・・・・・基板、2,2′・・・・・・中間
層、3.3′・・・・・・金属磁性層、4・・・・・・
ギャップ、5・・・・・・巻線用窓、6・・・・・・非
磁性光てん補強材、A、B・・・・・・コア半体。 第1口 5・・・・j!:緯pA泡 6 ・・・・ 九てにイN弥才才 A、B・・・コア半体 第2図 第3図 /l−ノ                     
      tラーノバ5′ン tワノ 第4図 tσノ (b) 第5図 第6図 第7図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に金属磁性層を形成したコアを具備した磁
    気ヘッドにおいて、前記基板と前記金属磁性層との間に
    磁性金属材の成分と高分子化合物の成分との混在層を設
    け、前記基板と前記金属磁性層の剥離を防止するよう構
    成したことを特徴とする磁気ヘッド。
  2. (2)基板上に中間層を介在させて金属磁性層を形成し
    て成る磁気ヘッドの製造方法において、前記基板上に磁
    性金属材と高分子化合物とを同時にスパッタリングして
    前記中間層を形成する工程と、前記中間層の上に金属磁
    性層を形成する工程と、前記工程により製作した一対の
    コア半体を、その金属磁性層を互いに突き合わせて接合
    することによつてギャップを形成する工程と、を有する
    ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
JP20584486A 1986-09-03 1986-09-03 磁気ヘツドおよびその製造方法 Pending JPS6363104A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02144925A (ja) * 1988-11-26 1990-06-04 Nec Corp 半導体装置
JPH02172007A (ja) * 1988-12-26 1990-07-03 Hitachi Maxell Ltd マルチトラック磁気ヘッド

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02144925A (ja) * 1988-11-26 1990-06-04 Nec Corp 半導体装置
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