JPS6361950B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6361950B2
JPS6361950B2 JP56036493A JP3649381A JPS6361950B2 JP S6361950 B2 JPS6361950 B2 JP S6361950B2 JP 56036493 A JP56036493 A JP 56036493A JP 3649381 A JP3649381 A JP 3649381A JP S6361950 B2 JPS6361950 B2 JP S6361950B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
dialkylthioxanthone
acid
carbon atoms
same
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56036493A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57163377A (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP56036493A priority Critical patent/JPS57163377A/ja
Priority to US06/354,230 priority patent/US4450279A/en
Priority to DE19823209706 priority patent/DE3209706A1/de
Priority to FR8204310A priority patent/FR2501688A1/fr
Priority to NLAANVRAGE8201071,A priority patent/NL188849C/xx
Priority to GB8207638A priority patent/GB2095248B/en
Priority to CH1642/82A priority patent/CH649997A5/de
Publication of JPS57163377A publication Critical patent/JPS57163377A/ja
Publication of JPS6361950B2 publication Critical patent/JPS6361950B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/10Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
    • C07D335/12Thioxanthenes
    • C07D335/14Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D335/16Oxygen atoms, e.g. thioxanthones
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/122Sulfur compound containing
    • Y10S430/123Sulfur in heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は式 (式中、X,Yは炭素数1〜12の直鎖又は分岐
したアルキルを表わす。X,Yは同時に同じであ
つてもよいし異つていてもよい。但しX及びYの
アルキルの炭素数の合計は3以上、15以下であ
る。)で表わされるジアルキルチオキサントン化
合物。 (2) チオサリチル酸又はジチオリルチル酸と式 (式中、X,Yは炭素数1〜12の直鎖又は分
岐したアルキル基を表わす。X,Yは同時に同
じであつてもよいし異つていてもよい。但しX
及びYのアルキルの炭素数の合計は3以上、13
以下である。)で表わされるジアルキルベンゼ
ンとを硫酸中縮合、閉環することを特徴とする
【式】又は
【式】 (式中、X,Yは式()に同じ。)で表わ
されるジアルキルチオキサントンの製造法。 (3) ラジカル的に架橋又は重合しうる不飽和二重
結合を有する光重合性樹脂組成物を活性光線の
照射下で硬化せしめるに際し光重合開始剤又は
増感剤として式 (式中、X,Yは炭素数1〜12の直鎖又は分
岐したアルキル基を表わす。X,Yは同時に同
じであつてもよいし異つていてもよい。但しX
及びYの炭素数の合計は3以上、13以下であ
る。)で表わされるジアルキルチオキサントン
を使用することを特徴とする光重合性樹脂組成
物の硬化方法に関する。 チオキサントン化合物が不飽和二重結合を有す
る光重合性樹脂組成物の光重合開始剤又は増感剤
として秀れた性質を有していることは公知であ
る。しかしそれら化合物の欠点は一般に有機溶媒
および光重合性樹脂組成物に対する溶解度が小さ
く相容性が悪いことである。このことは実用面で
いろいろなトラブルの原因となりやすい。例えば
無置換のチオキサントンは光重合性樹脂に対する
溶解度が小さく、相容性が悪いために(たとえ有
機溶媒等を使用して樹脂中に微分散させたとして
も)それを含む光重合性樹脂組成物を長期間に至
つて保存するときその結晶が析出してくる。この
ことは光重合開始剤又は増感剤としての本来の機
能を損うばかりか硬化後の塗膜の物性にも悪影響
を及ぼす。又紫外線硬化インキの製造工業に於い
てもロール等に結晶が析出し、しだいに大きな結
晶となり製造上いろいろなトラブルの原因とな
る。 これらの欠点を解決するためにしかも工業的に
より安価に製造するために、本発明者等はチオキ
サントン化合物について鋭意、研究を重ねた結
果、本発明に至つた。 即ち本発明は次に掲げる重要な事実の発見に基
くものである。 (1) チオキサントン母核にアルキル基を2個導入
することにより有機溶媒および光重合性組成物
に対する溶解度および相容性が著しく改善され
る。 (2) ジアルキルチオキサントンの各異性体のうち
式()で表わされる化合物が最も硬化速度が
速い。 (3) 一般にモノアルキルチオキサントンよりも硬
化速度、溶解性暗所に於ける保存安定性および
硬化塗膜の黄変化が少ない点で秀れている。 (4) ジアルキルチオキサントンの各異性体のうち
式()で表わされる化合物が製造上最も容易
でしかも高収率で得られる。 (5) モノアルキルチオキサントンの場合、その溶
解度を増大させる目的でアルキル鎖を長くして
いくとそのチオキサントンの合成収率は極端に
低下する。例えばジチオサルチル酸とトルエン
を硫酸中で縮合して得られる2−メチルチオキ
サントンの収率は約80%であるが、同様に2−
イソプロピルチオキサントンでは約10%、2−
t−プチルチオキサントンでは5%以下であ
る。従つてこれら化合物は別の合成法、例えば
J.Oilcol.chem.Assoc.1978,61258.等に記載さ
れている煩雑な方法によらねばならず工業的に
コスト高となるモノアルキルベンゼンの代りに
m−ジアルキルベンゼンを使用するm−ジアル
キルチオキサントンの場合、−その合成収率は
アルキル鎖を長くしても殆んど変らなく、しか
も高収率で得られる。 本発明の式()のm−ジアルキルチオキサン
トンは新規な化合物である。式()に於いて
X,Yは炭素数1〜12までの直鎖又は分岐したア
ルキル基でありX,Yは同時に同じであつてもよ
いし異つていてもよい。但しX及びYのアルキル
の炭素数の合計は3以上、15以下である。 このようなアルキルX,Yの例としては、メチ
ル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n
−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−アミ
ル、iso−アミル、t−アミル、n−ヘキシル、
1,1−ジメチルブチル、1−エチル−2−メチ
ルプロピル、2−エチルブチル、1,3−ジメチ
ルブチル、4−メチルペンチル、n−ヘプチル、
1−メチルヘキシル、1−エチル、1,2−ジメ
チルプロピル、n−オクチル、2−エチルヘキシ
ル、2,2,4−トリメチルペンチル、n−ノニ
ル、1,3,5−トリメチルヘキシル、n−デシ
ル、n−ヘンデシル、n−ドデシル、2,2,
4,4,6−ペンタメチルヘプチル等が挙げられ
る。これらのうち最も好しいアルキルとしては、
メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、
t−ブチル、sec−ブチルが挙げられる。 式()の化合物の原料である式()のm−
ジアルキルベンゼンのうち好ましいものはエチル
ベンゼン、トルエン、ベンゼンなどをフリーデル
クラフト反応によりモノ又はジアルキル化して得
られるm−ジアルキルベンゼンが挙げられる。最
も好ましいm−ジアルキルベンゼンとしてはm−
ジエチルベンゼン、m−エチルトルエン、m−イ
ソプロピルトルエン(m−シメン)、m−プロピ
ルトルエン、m−t−ブチルトルエン、m−sec
−ブチルトルエン、m−ジイソプロピルベンゼ
ン、m−ジプロピルベンゼン、m−イソプロピル
エチルベンゼン、m−t−ブチルエチルベンゼ
ン、m−(1,1−ジメチルプロピル)トルエン、
m−t−ブチル−イソプロピルベンゼン、m−ジ
(sec−ブチル)ベンゼン、m−ジ−t−ブチルベ
ンゼン等が挙げられる。m−ジアルキルベンゼン
の使用にあたつてその純度は必らずしも高純度の
ものでなくてもよく場合によつてはアルキル側鎖
の炭素骨格の異なる異性体、あるいは炭素数の異
なる同族体あるいはそれらのo.−p.−,m−異性
体の混合物であつてもよいが好ましくはm−異性
体を60%以上含むものであれば使用出来る。何故
ならo.−,p.−異性体は反応速度が遅く反応の最
後にそれらはスルホン化物として除去されるから
である。 又たとえ目的とするm−ジアルキルチオキサン
トン(2,4−体)の結晶中にo.−又はp.−ジア
ルキルベンゼンから誘導されるジアルキルチオキ
サントンの異性体(例えば1,4−,1,2−,
2,3−体)が混入したとしてもそのまま、光重
合開始剤又は増感剤として使用出来からである。
式()のm−ジアルキルチオキサントンは、い
ろいろな方法で得られる。例えば式 式中、Wはアルキル、アルコキシ、ハロゲン又
はニトロを表わす。ZはOH,およびハロゲン原
子を表わす。)で表わされる化合物の脱水又は脱
ハロゲン化水素による一般的な方法(J.C.S.747
(1951)又はCOLLECT.CZECH.CHEM.
COMNUN.3221611967)に準じて製造できる。
しかしながらこの方法は煩雑で工業的な製造方法
としては問題点が多くコスト高となる。 しかし本発明の方法によればチオサリチル酸又
はジチオサリチル酸とm−ジアルキルベンゼンを
硫酸中で縮合及び閉環の両方を同浴で行うことが
できるので工業的に有利に製造できる。 さらに本発明者はジアルキルベンゼンのうちm
−ジアルキルベンゼンを使用した場合にのみ、高
収率で高純度のジアルキルチオキサントンが得ら
れることを見い出したのである。すなわちo又は
p−ジアルキルベンゼンを使用した場合はジアル
キルチオキサントンの収率は極めて低い。 本発明縮合閉環反応はチオサリチル酸又はジチ
オサリチル酸を硫酸中に加え低温下(好ましくは
−5℃〜20℃)で撹拌しながらm−ジアルキルベ
ンゼンを滴下していく。チオサリチル酸又はジチ
オサリチル酸とm−ジアルキルベンゼンの添加の
順序は逆でもよい。滴下後さらに2〜20hr.撹拌
しその後、ゆるやかに好ましくは100〜150℃まで
昇温する。その際亜硫酸ガスの発生が認められ
る。反応の進行とともに反応液はしだいに暗赤色
に溶解してくる。 反応液を冷却後、氷水中にあける。生成物が室
温で固体の場合は、そのまま別して結晶を分離
しさらに得られた結晶をアルカリ水溶液で処理す
ることにより一般に白色〜淡黄色の結晶が得られ
る。生成物が室温で液体の場合は氷水中より有機
溶媒例えばジクロルエタン、酢酸エチル、ベンゼ
ン、トルエン、クロルベンゼン等で抽出し溶媒相
を分取する。その溶媒相から蒸留又は水蒸気蒸留
等により溶媒を留去し又、場合によつてはカラム
クロマト等で精製することによつて油状のジアル
キルチオキサントンが得られる。 m−シメンの様に非対称のm−ジアルキルベン
ゼンを使用する場合は式()又は()に相当
する2つの異性体が得られる。それらの各異性体
は再結晶法等で分離されうるが多くの場合、それ
らを分離することなくそのまま光重合開始剤又は
増感剤として使用される。 硫酸の使用量はチオサリチル酸又ジチオサリチ
ル酸の重量に対して好ましくは3〜20倍が、その
濃度は10%以下の発煙硫酸又は50〜100%硫酸、
好ましくは80〜96%硫酸が使用される。m−ジア
ルキルベンゼンはチオサリチル酸に対して1〜5
モル比、ジチオサリチル酸に対して2〜10モル比
の範囲内で使用される。 本発明の式()の新規なジアルキルチオキサ
ントンは活性光線の照射下で光架橋化および光重
合しうる光重合性樹脂組成物の増感剤又は光重合
開始剤として上記の光重合性樹脂組成物に添加す
ることによつて使用される。 上記のジアルキルチオキサントンは単独で使用
してもよいが活性光線の照射下で硬化速度をより
早めるために他の硬化促進剤と併用することが好
ましい。 光重合開始剤または増感剤として式()のジ
アルキルチオキサントンを使用する場合最も好ま
しいm−ジアルキルチオキサントン(2,4−ジ
アルキルチオキサントン)としては2,4−ジエ
チルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサ
ントン、2,4−ジプロピルチオキサントン、
2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4
−ジ−t−ブチルチオキサントン、2,4−ジ−
sec−ブチルチオキサントン、2,4−エチルメ
チルチオキサントン、2,4−メチルエチルチオ
キサントン、2,4−メチルイソプロピルチオキ
サントン、2,4−イソプロピルメチルチオキサ
ントン、2,4−メチル−t−ブチルチオキサン
トン、2,4−t−ブチルメチルチオキサント
ン、2,4−エチルイソプロピルチオキサント
ン、2,4−イソプロピルエチルチオキサントン
等が挙げられる。 硬化促進剤としては活性ハロゲンを持つ化合物
例えばクロロメチルナフタレン、2,6−ビス
(ハロアルキル)−キノリン、有機アミン類例えば
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン、ジブチルアミン、トリブチルア
ミン、N−メチルジエタノーアミン、シクロヘキ
シルアミン、モルホリンN−メチルモルホリン、
ピリジン、キノリン、p−N,N−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチルエステル、p−N,N−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p−N,
N−ジメチルアミノベンズアルデヒド、ミヒラー
ケトン等が挙げられる。本発明の式()のジア
ルキルチオキサントンは後記の光重合性樹脂組成
物に対して0.1〜15重量%の範囲内で好ましくは
0.5〜10重量%の範囲内で添加して使用される。
添加する方法としては式()で表わされる化合
物をあらかじめ硬化促進剤と混合してから光重合
性樹脂のモノマー、プレポリマーや場合によりジ
メチルフタレート等の適当な溶媒に溶解あるいは
分散させるか又は、式()の化合物及び促進剤
を別々に溶解あるいは分散させたものを使用前に
混合したのち前記の光重合性樹脂組成物に添加し
てもよい。又、ジアルキルチオキサントンと併用
してもよい硬化促進剤はジアルキルチオキサント
ン1部に対して0.1〜20部、好ましくは0.2〜4部
の範囲内で使用される。 さらに他の公知の光重合開始剤例えばベンゾフ
エノン、ベンジルベンゾインエーテル、ジアルコ
キシアセトフエノン、ベンジルケタール等と併用
して使用することも出来る。 さらに特公昭52−14277号、特公昭52−14278号
及び特公昭52−14279号などに記載されている、
アリルハロニウム塩、アリルスルホニウム塩又は
アンモニウム塩等のカチオン性光重合開始剤と併
用することもできる。 上記のジアルキルチオキサントンの助けにより
重合可能な光重合性樹脂組成物とは、例えば活性
な不飽和二重結合を有し活性光線の照射下に架橋
および重合しうるモノマー、オリゴマー、プレポ
リマー、樹脂およびそれらの混合物から構成され
るものであり又、場合によつてはこれらはインヒ
ビター、安定化剤、紫外線吸収剤、充填剤、顔
料、染料、チキソトロピー剤等の添加剤を含んで
いてもよい。 活性な不飽和二重結合を有するモノマー、オリ
ゴマー、プレポリマーおよび樹脂としては、例え
ば1価および多価アルコールのアクリル酸又はメ
タアクリル酸エステル類;エチル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、エチレン
グライコール(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリストロールトリ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリストロールテトラ(メタ)アクリレー
ト、低分子量のポリエチレングライコール(メ
タ)アクリレート、多価アルコールと一塩基酸又
は多塩基酸とから縮合して得られるポリエステル
プレポリマーに(メタ)アクリル酸を反応させて
得られるポリエステルアクリレート、ポリオール
(ポリエステル型又はポリエーテル型)とジイソ
シアネート基を持つ化合物と反応させた後、(メ
タ)アクリル酸と反応させて得られるポリウレタ
ンアクリレート、エポキシ化樹脂(ビスフエノー
ルジグリシジルエーテル系、エポキシ化油脂、エ
ポキシ化ポリブタジエン等)と(メタ)アクリル
酸との反応生成物であるエポキシアクリレート、
シリコンオリゴマー、メラミンオリゴマーから同
様にして得られるシリコン(メタ)アクリレー
ト、メラミン(メタ)アクリレートおよびマレイ
ミド基を有するモノマー、プレポリマー、例えば
N−(メタアクリロイルオキシエチル)−ジメチル
−マレイミドとアクリル酸エステルとの共重合
物、グリセロールトリグリシジルエーテル、α−
フエニルマレイミド酢酸およびメタアクリル酸ジ
メチルアミノエチルの共重合物等が挙げられる。 活性光線の照射に用いられる光源としては各種
の水銀ランプ(低圧、高圧、超高圧)、ケミカル
ハライドランプ、キセノンランプ、ガリウムラン
プ、タリウムランプなどがある。 本発明の式()のジアルキルチオキサント
ン、p−N,N−ジメチル安息香酸イソアミルエ
ステル等の促進剤および着色剤等を含有する光重
合性樹脂組成物は金属、鉱物、ガラス、木材、
紙、プラスチツク、織物、セラミツクス等の基材
に塗布される。塗布された基材は、上記の光源ラ
ンプによつて得られる活性光線下を一定の速度で
動くコンベアー上に置かれ、通過される。その際
樹脂組成物の硬化は一般に空気中で行われるが、
勿論、窒素等の不活性ガス中で行つてもよい。 本発明の式()のジアルキルチオキサントン
を使用する場合は光重合性樹脂組成物に対する溶
解度並びに相容性が非常によく、長期間保存して
も結晶の析出、分離等の現象は全く認められな
い。さらに有利な点は従来塗料、インキに使用さ
れている無機および有機顔料を含む光重合性樹脂
組成物に於いても実用的水準以上の硬化速度、硬
化度が得られることである。特に従来困難であつ
た酸化チタン、酸化亜鉛等の不透明顔料に於いて
も良好な結果を与える。 以下に本発明を実施例によつて更に詳細に説明
する。 実施例 1 300mlの4つ口フラスコに90%硫酸142gを入れ
0℃で撹拌下にm−ジエチルベンゼン(Kp760
181−182℃純度98%以上)34g(0.25モル)を滴
下しさらにジチオサリチル酸24g(0.0784モル)
を添加する。5℃以下で3〜4時間、撹拌後ゆる
やかに約10時間で120〜130℃に昇温しその温度で
1〜2時間加熱撹拌する。反応液は暗赤色に溶解
してくる。冷却後氷水約800g中に注ぎ、析出し
た結晶を別し充分に水洗したのち得られた結晶
を苛性ソーダ水溶液で処理してアルカリ可溶物を
除く。別後水洗、乾燥して黄色結晶の式()
の2,4−ジエチルチオキサントン(m.p60℃
35.1g、収率84%(ジチオサリチル酸に対する収
率あつて以下の実施例についても同じ)を得た。 (イ) Ms.s:M+/e=268*1 (ロ) I.R.(νc=o):1630cm-1*2 (ハ) N.M.R.:*3 (Ha,Hc)2.5〜3.0.p.p.m.4H(5) (Hb,Hd)1.15〜1.45.p.p.m.6H(4) (ニ) Sの元素分析:実測値12.1%(計算値11.9
%) ※1 Ms.s.はマススペクトルの略記(以下の実
施例でも同じ。島津製作所LKB−900(イオン
源温度310℃イオン化電圧70ev)で測定。 ※2 I.R.は赤外線吸収スペクトルの略記。以下
の実施例でも同じ。 ※3 N.M.R.:日立、R−20B形高分解能核磁
気共鳴スペクトルメーターで測定。CDCI3
媒、テトラメチルシラン(T.M.S)標準( )
内の数字はピーク数を表わす。以下の実施例で
も同じ。 実施例 2 ジチオサリチル酸(0.0784モル)、m−ジイソ
プロピルベンゼン(Kp760 203℃純度98%以上)
(0.25モル)を使用し実施例1と同様に反応させ
て灰色結晶の式(2)の2,4−ジイソプロピルチオ
キサントン(m.p.74−76℃、40.5g(収率87%))
を得た。 (イ) Ms.s.:M+/e=296 (ロ) I.R.(νc=o):1630cm-1 (ハ) N.M.R.:(Ha,Hc)2.8〜3.6p.p.m.2H(8) (Hb,Hd)1.25〜1.4p.p.m.12H(4) (ニ) Sの元素分析:実測値11.1%(計算値10.81
%) 実施例 3 実施例2に於いてジチオサリチル酸の代りにチ
オサリチル酸24g(0.157モル)を使用して同様
に反応を行つても同じ結果を得た。 実施例 4 ジチオサリチル酸0.0784モル、m−イソプロピ
ルトルエン(Kp760 176℃純度98%以上))0.25
モルを使用して実施例1と同様に反応させてm−
イソプロピルメチルチオキサントンの淡渇色の結
晶の化合物35.5g(収率85%)を得た。この化合
物は78%の下式(4−a′)m.p.97℃)、の化合物
と22%の下式(4−a″)(m.p.134℃)の化合物か
らなる混合物でそれらはリグロイン溶媒で再結晶
法により分離された。 推定される構造式を以下に示す。 (イ) Ms.s.:M+/e=268 M+/e=268 (ロ) I.R.(ν=o):1630cm-1 1630cm-1 (ハ) N.M.R.:Ha:2.5p.p.m.3H(1)
Ha:2.48p.p.m.3H(1) Hb1.3p.p.m.6H(2)
Hb:1.36p.p.m.6H(2) Hc:3.0p.p.m.1H(4〜5)
Hc:3.4p.p.m.1H(4〜5) (ニ) Sの元素分析値 実測値 12.0% 12.1% 計算値 (11.9%) (11.9%) 実施例 5 ジチオサリチル酸0.0784モル、m−t−ブチル
トルエン{Kp760 189℃純度98%以上)0.25モル
を使用し実施例1と同様に反応させてメチルイソ
プロピルチオキサントンの淡褐色の結晶(m.
p.134−6℃、36.2g収率82%)を得た。ガスク
ロマトグラフー質量分析法による分析の結果、
M+/e=282に相当する成分は1成分のみで異性
体は得られなかつた、推定される構造を式(5)とし
て示す。 (イ) Ms.s:M+/e=282 (ロ) I.R.(νc=o):1630cm-1 (ハ) N.M.R.:Ha;2.5p.p.m.3H(1)Hb;1.38p.p.
m.9H(1) (ニ) Sの元素分析 実測値 11.20% 計算値 (11.34%) 実施例 6〜13 チオサリチル酸0.08モル、下記に示すm−ジア
ルキルベンゼン0.15モルを使用し次の反応式に従
い実施例1と同様に反応させて下記の表1に示す
2,4−ジアルキルチオキサントンを得た。
【表】 上記の結果は硫酸溶媒中でチオサリチル酸又は
ジチオサリチル酸とm−ジアルキルベンゼンとの
反応によつて対応する2,4−ジアルキルチオキ
サントンが好収率で得られることを示している。 実施例 14〜22 下記の配合により光重合性樹脂組成物を調製し
た。 ビスフエノールA−ジグリシジルエーテルアク
リレート 55部 トリメチロールプロパントリアクリレート 45部 トリエタノールアミン 2.5部 式()の光重合開始剤(ジアルキルチオキサ
ントン誘導体) 2.5部 上記の光重合性樹脂組成物をガラス板上に厚さ
25μに塗布しそれをキセノンランプ下、9cmの所
に置き、連続発光下で塗膜面がべとつかなくなる
(指触による)までの時間でその感度を判定した。
その結果を表に示す。表には皮膜の耐黄変
性、保存安定性も併記した。
【表】 上記の結果は本発明の式()の2.4−ジアル
キルチオキサントンが感度、耐黄変性、保存安定
性に於いて秀れていることを示している。このこ
とは次表()に示した。 o−又はp−ジアルキルチオキサントン、モノ
アルキルチオキサントン及び無置換のチオキサン
トンの試験例と比較しても明らかである。 参考例 1
【表】
【表】 ※ 耐黄変性、保存安定性は表に同じ
又、有機溶媒に対する溶解度を比較しても、本
発明の化合物の方が公知のチオキサントン化合物
より秀れていることが表より明らかである。
【表】 実施例 23〜28 下記の配合により光重合性樹脂組成物A),
B),を調製しアルミ板上に25μの厚さに塗布し、
次に80W/cmの高圧水銀灯下20cmの所を通過する
ベルトコンベアー(18m/min)の上に上記の塗
布したものを乗せ通過回数と塗膜の物性を測定し
た。(表) 光重合性樹脂組成物 (A) カーボンブラツクを含む エポキシアクリレートレジン(シエル
DRH303) 59.3部 トリメチロールプロパントリアクリレート
20.4部 ヘキサンジオールジアクリレート 14.8部 カーボンブラツク 2.5部 メチルジエタノールアミン 2.0部 式()の光重合開始剤(ジアルキルチオキサ
ントン) 1.0部 (B) 酸化チタンを含む ウレタンアクリレートレジン(チオコールユビ
タン788) 35.8部 トリメチロールプロパントリアクリレート
9.4部 ブチルアクリレート 18.8部 ビニルピロリドン 9.4部 酸化チタン(ルチル型) 24.4部 メチルジエタノールアミン 1.5部 式()の光重合開始剤(ジアルキルチオキサ
ントン) 0.75部
【表】 上記の結果は顔料を含む系に於いても優秀な強
度の塗膜が得られることを示している。 実施例 29 ジグリセロールトリグリシジルエーテル16部、
α−フエニルマレイド酢酸23部、メタアクリル酸
ジメチルアミノエチル0.2部、酢酸ブチル40部を
90〜100℃で2時間反応させて実質的に全てのグ
リシジル基にα−フエニルマレイシド酢酸を付加
させた三官能性の光重合性樹脂を得た。この樹脂
100部に本発明による2,4−ジイソプロピルチ
オキサントン2.5部を加え充分に練りそれをガラ
ス板上に厚さ50μに塗布し80W/cmの高圧水銀灯
下、10cmの場所で20秒間照射したところジクロル
エタン、アセトンに不溶性の皮膜が得られた。
2,4−ジイソプロピルチオキサントンを添加し
ない場合は60秒でも硬化しなかつた。2,4−ジ
イソプロピルチオキサントンは秀れた増感剤であ
ることを示している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、X,Yは炭素数1〜12の直鎖状又は分
    岐したアルキルを表わす。X,Yは同時に同じで
    あつてもよいし異なつていてもよい。但しX及び
    Yのアルキルの炭素数は合計して3以上15以下で
    ある。)で表わされるジアルキルチオキサントン
    化合物。 2 チオサリチル酸又はジチオサリチル酸と式 (式中、X,Yは炭素数1〜12の直鎖又は分岐
    したアルキルを表わす。X,Yは同時に同じであ
    つてもよいし異つていてもよい。但しX及びYの
    アルキルの炭素数は合計して3以上、15以下であ
    る。)で表わされるジアルキルベンゼンとを硫酸
    中で縮合閉環することを特徴とする式
    【式】又は 【式】 (式中、X,Yは式()に同じ)で表わされ
    るジアルキルチオキサントン化合物の製造法。 3 ラジカル的に架橋又は重合しうる不飽和二重
    結合を有する光重合性樹脂組成物を活性光線の照
    射下で硬化せしめるに際し、光重合開始剤又は増
    感剤として式 (式中、X,Yは炭素数1〜12の直鎖又は分岐
    したアルキルを表わす。X,Yは同時に同じであ
    つてもよいし異つていてもよい。但し式()に
    おいてX及びYのアルキルの炭素数の数は合計し
    て3以上、15以下である。)で表わされるジアル
    キルチオキサントン化合物を使用することを特徴
    とする光重合性樹脂組成物の硬化方法。
JP56036493A 1981-03-16 1981-03-16 Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it Granted JPS57163377A (en)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56036493A JPS57163377A (en) 1981-03-16 1981-03-16 Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it
US06/354,230 US4450279A (en) 1981-03-16 1982-03-02 Dialkylthioxanthones
DE19823209706 DE3209706A1 (de) 1981-03-16 1982-03-13 Dialkylthioxanthon-verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
FR8204310A FR2501688A1 (fr) 1981-03-16 1982-03-15 Dialkylthioxanthones, procede de leur preparation, procede de photopolymerisation et composition de resine photopolymerisable utilisant ces composes
NLAANVRAGE8201071,A NL188849C (nl) 1981-03-16 1982-03-15 Dialkylthioxanthonderivaten, bereidingswijze daarvoor, fotopolymeriseerbaar harspreparaat dat een dergelijk derivaat als foto-initiator bevat, en werkwijze voor het harden van een dergelijk preparaat.
GB8207638A GB2095248B (en) 1981-03-16 1982-03-16 Thioxanthones for use as photopolymerization initiator or sensitiser
CH1642/82A CH649997A5 (de) 1981-03-16 1982-03-16 Dialkylthioxanthon-verbindungen.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56036493A JPS57163377A (en) 1981-03-16 1981-03-16 Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57163377A JPS57163377A (en) 1982-10-07
JPS6361950B2 true JPS6361950B2 (ja) 1988-11-30

Family

ID=12471345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56036493A Granted JPS57163377A (en) 1981-03-16 1981-03-16 Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4450279A (ja)
JP (1) JPS57163377A (ja)
CH (1) CH649997A5 (ja)
DE (1) DE3209706A1 (ja)
FR (1) FR2501688A1 (ja)
GB (1) GB2095248B (ja)
NL (1) NL188849C (ja)

Cited By (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate
EP1728838A1 (en) 2005-05-31 2006-12-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same
EP1955850A2 (en) 2007-02-07 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
EP1955858A1 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
EP1964893A1 (en) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set
EP1975160A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method
EP1975211A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition and image recording method and image recorded matter using same
EP1975213A1 (en) 2006-07-03 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate
EP1988136A1 (en) 2007-03-01 2008-11-05 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate
EP2042243A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Coater and ink-jet recording device using the same
EP2042335A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method
EP2042572A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2088176A1 (en) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material
EP2093265A1 (en) 2008-02-25 2009-08-26 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
EP2100925A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative
EP2105478A1 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method and inkjet recording system
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2130881A1 (en) 2008-06-02 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion and ink composition using the same
EP2166049A1 (en) 2008-09-19 2010-03-24 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article
EP2169021A1 (en) 2008-09-25 2010-03-31 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2216377A1 (en) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2216378A1 (en) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article
EP2228417A1 (en) 2009-03-09 2010-09-15 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230285A1 (en) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2230284A1 (en) 2009-03-17 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2236570A2 (en) 2009-03-31 2010-10-06 Fujifilm Corporation Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method
EP2298841A1 (en) 2009-09-18 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2311918A1 (en) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2371911A1 (en) 2010-03-29 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter
EP2371912A1 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
EP2412769A1 (en) 2010-07-27 2012-02-01 Fujifilm Corporation Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method
EP2423277A2 (en) 2010-08-27 2012-02-29 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
DE112010000772T5 (de) 2009-02-13 2012-06-14 Mitsubishi Paper Mills Limited Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
WO2012117944A1 (ja) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
EP2505622A1 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
WO2012133335A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
WO2013008626A1 (ja) 2011-07-08 2013-01-17 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
WO2013133123A1 (ja) 2012-03-09 2013-09-12 富士フイルム株式会社 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法
EP2653511A1 (en) 2012-04-19 2013-10-23 Fujifilm Corporation Active energy ray-curable ink composition, inkjet recording method, and method for producing in-molded product
WO2014041940A1 (ja) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 硬化性組成物および画像形成方法
WO2014050993A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014050992A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014125942A1 (ja) 2013-02-15 2014-08-21 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014136697A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136924A1 (ja) 2013-03-08 2014-09-12 富士フイルム株式会社 多層構成物、多層構成物の製造方法、及び、組成物セット
WO2014142101A1 (ja) 2013-03-12 2014-09-18 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、インクセット、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
EP2842763A2 (en) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set
US9034427B2 (en) 2008-02-29 2015-05-19 Seiko Epson Corporation Method of forming opaque layer, recording process, ink set, ink cartridge, and recording apparatus
US9169410B2 (en) 2006-11-30 2015-10-27 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP2949710A1 (en) 2014-05-30 2015-12-02 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink composition, ink set, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
WO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135088A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135085A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017138434A1 (ja) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
WO2018139658A1 (ja) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2018155174A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018155515A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法
WO2018179947A1 (ja) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018186224A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018198993A1 (ja) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018235534A1 (ja) 2017-06-20 2018-12-27 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2019021639A1 (ja) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019044511A1 (ja) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019064979A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
WO2019188481A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2020058666A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020058665A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
EP3686225A1 (en) 2015-08-27 2020-07-29 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
WO2020201714A1 (en) 2019-04-02 2020-10-08 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes and processes for their preparation and use
WO2020202628A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像記録方法
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2022014292A1 (ja) 2020-07-15 2022-01-20 富士フイルム株式会社 セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物
WO2022069384A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compositions and polymer films
WO2022069383A1 (en) 2020-09-29 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069386A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069385A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
WO2022162083A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207469A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207470A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Cationically charged membranes
WO2023052225A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023052052A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Films and their uses
WO2023151941A1 (en) 2022-02-11 2023-08-17 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186622A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023186620A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186619A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023227502A1 (en) 2022-05-24 2023-11-30 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4418138A (en) * 1981-11-03 1983-11-29 Sericol Group Limited Photopolymerizable materials for use in producing stencils for screen printing
US4585876A (en) * 1982-11-25 1986-04-29 Ciba-Geigy Corporation Novel xanthones and thioxanthones
DE3606155A1 (de) * 1986-02-26 1987-08-27 Basf Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes lichtempfindliches aufzeichnungselement sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckform mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungselements
US4791045A (en) * 1988-01-25 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts
JP2798261B2 (ja) * 1988-02-29 1998-09-17 三菱レイヨン株式会社 紫外線硬化型ポリカーボネート樹脂被覆用組成物および表面特性を改質した硬化被膜を有するプラスチック成形品の製造方法
JPH01238656A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Nippon Paint Co Ltd 高感度光重合性組成物
DE3824550A1 (de) * 1988-07-20 1990-01-25 Basf Ag Lichtempfindliche, negativ arbeitende aufzeichnungsschicht
GB9123914D0 (en) * 1991-11-11 1992-01-02 Ici Plc Polymerisable compositions
US5712401A (en) * 1996-04-29 1998-01-27 First Chemical Corporation Processes for preparing thioxanthone and derivatives thereof
US6025408A (en) * 1997-03-27 2000-02-15 First Chemical Corporation Liquid thioxanthone photoinitiators
GB0216311D0 (en) * 2002-07-13 2002-08-21 Great Lakes Uk Ltd An improved process for the production of substituted thioxanthones
JP4967378B2 (ja) * 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP4816976B2 (ja) * 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
JP4766281B2 (ja) * 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP2011152747A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5692490B2 (ja) * 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
CN102260238B (zh) * 2010-05-27 2013-04-03 邵阳市佳青医药原料有限公司 2,4-二乙基噻唑酮精制工艺
CN102250060A (zh) * 2011-05-27 2011-11-23 连云港升南化学有限公司 一种2,4-二乙基硫杂蒽酮的制备方法
JP6022277B2 (ja) * 2012-09-20 2016-11-09 富士フイルム株式会社 インク組成物の光硬化方法、インク組成物からなるインクセット、画像形成方法およびインク組成物
US10619007B2 (en) 2015-01-27 2020-04-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric amine synergists
JP6523466B2 (ja) 2015-01-27 2019-06-05 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. 高分子光活性剤
WO2016122454A1 (en) 2015-01-27 2016-08-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric photo active agents
US10414862B2 (en) 2015-07-09 2019-09-17 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric amine synergist
CN110845471A (zh) * 2019-11-20 2020-02-28 吉安市东庆精细化工有限公司 一锅法合成光引发剂2,4-二乙基硫杂蒽酮的工艺

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3759807A (en) * 1969-01-28 1973-09-18 Union Carbide Corp Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines
US3926643A (en) * 1974-05-16 1975-12-16 Du Pont Photopolymerizable compositions comprising initiator combinations comprising thioxanthenones
CH628343A5 (en) * 1977-03-24 1982-02-26 Sandoz Ag Process for preparing thioxanthones
JPS55105678A (en) * 1979-02-09 1980-08-13 Nippon Kayaku Co Ltd Production of halogenated thioxanthenone
DE3010148A1 (de) * 1980-03-15 1981-09-24 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische
JPS5723602A (en) * 1980-07-17 1982-02-06 Nippon Kayaku Co Ltd Method for curing photosetting resin composition

Cited By (111)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate
EP1728838A1 (en) 2005-05-31 2006-12-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same
EP1975213A1 (en) 2006-07-03 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate
US9169410B2 (en) 2006-11-30 2015-10-27 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
US9790386B2 (en) 2006-11-30 2017-10-17 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP1955858A1 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
EP1955850A2 (en) 2007-02-07 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
EP1964893A1 (en) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set
EP1988136A1 (en) 2007-03-01 2008-11-05 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate
US9616675B2 (en) 2007-03-01 2017-04-11 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
EP1975160A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method
EP1975211A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition and image recording method and image recorded matter using same
EP2042335A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method
EP2042572A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2042243A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Coater and ink-jet recording device using the same
EP2088176A1 (en) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material
EP2093265A1 (en) 2008-02-25 2009-08-26 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
US9034427B2 (en) 2008-02-29 2015-05-19 Seiko Epson Corporation Method of forming opaque layer, recording process, ink set, ink cartridge, and recording apparatus
EP2100925A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative
EP2105478A1 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method and inkjet recording system
EP2130881A1 (en) 2008-06-02 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion and ink composition using the same
EP2166049A1 (en) 2008-09-19 2010-03-24 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article
EP2169021A1 (en) 2008-09-25 2010-03-31 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2216378A1 (en) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article
EP2216377A1 (en) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
DE112010000772T5 (de) 2009-02-13 2012-06-14 Mitsubishi Paper Mills Limited Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
EP2228417A1 (en) 2009-03-09 2010-09-15 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230284A1 (en) 2009-03-17 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230285A1 (en) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2236570A2 (en) 2009-03-31 2010-10-06 Fujifilm Corporation Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method
EP2298841A1 (en) 2009-09-18 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2311918A1 (en) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2371911A1 (en) 2010-03-29 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter
EP2371912A1 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
EP2412769A1 (en) 2010-07-27 2012-02-01 Fujifilm Corporation Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method
EP2423277A2 (en) 2010-08-27 2012-02-29 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
WO2012117944A1 (ja) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
EP3124557A1 (en) 2011-02-28 2017-02-01 Fujifilm Corporation Ink composition, image forming method, and printed matter
WO2012133335A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
EP2505622A1 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
WO2013008626A1 (ja) 2011-07-08 2013-01-17 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
WO2013133123A1 (ja) 2012-03-09 2013-09-12 富士フイルム株式会社 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法
EP2653511A1 (en) 2012-04-19 2013-10-23 Fujifilm Corporation Active energy ray-curable ink composition, inkjet recording method, and method for producing in-molded product
WO2014041940A1 (ja) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 硬化性組成物および画像形成方法
WO2014050992A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014050993A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014125942A1 (ja) 2013-02-15 2014-08-21 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136697A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置
WO2014136924A1 (ja) 2013-03-08 2014-09-12 富士フイルム株式会社 多層構成物、多層構成物の製造方法、及び、組成物セット
WO2014142101A1 (ja) 2013-03-12 2014-09-18 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、インクセット、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
EP2842763A2 (en) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set
EP2949710A1 (en) 2014-05-30 2015-12-02 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink composition, ink set, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
EP3686225A1 (en) 2015-08-27 2020-07-29 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135088A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135085A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017138434A1 (ja) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
WO2018139658A1 (ja) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2018155174A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018155515A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法
WO2018179947A1 (ja) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018186224A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018198993A1 (ja) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018235534A1 (ja) 2017-06-20 2018-12-27 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2019021639A1 (ja) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019044511A1 (ja) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019064979A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2019188481A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2020058665A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
WO2020058666A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
WO2020202628A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像記録方法
WO2020201714A1 (en) 2019-04-02 2020-10-08 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2021110468A1 (en) 2019-12-04 2021-06-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2021110467A1 (en) 2019-12-04 2021-06-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2022014292A1 (ja) 2020-07-15 2022-01-20 富士フイルム株式会社 セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
WO2022049193A1 (en) 2020-09-03 2022-03-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Composite membrane
WO2022069383A1 (en) 2020-09-29 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069384A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compositions and polymer films
WO2022069386A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069385A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
WO2022122931A1 (en) 2020-12-10 2022-06-16 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Purifying polar liquids
WO2022162083A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207469A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207470A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Cationically charged membranes
WO2023052226A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2023052506A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023052225A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023052052A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Films and their uses
WO2023151941A1 (en) 2022-02-11 2023-08-17 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186622A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023186620A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186619A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023227502A1 (en) 2022-05-24 2023-11-30 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Also Published As

Publication number Publication date
CH649997A5 (de) 1985-06-28
GB2095248A (en) 1982-09-29
NL188849C (nl) 1992-10-16
NL8201071A (nl) 1982-10-18
FR2501688A1 (fr) 1982-09-17
US4450279A (en) 1984-05-22
GB2095248B (en) 1985-02-20
NL188849B (nl) 1992-05-18
FR2501688B1 (ja) 1984-11-30
DE3209706A1 (de) 1982-10-07
JPS57163377A (en) 1982-10-07
DE3209706C2 (ja) 1989-11-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6361950B2 (ja)
TW452575B (en) New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators
KR100698799B1 (ko) 신규한 광개시제 및 블록 공중합체
US4582862A (en) Ketone with morpholino and s-phenyl groups as photoinitiator in pigmented coating
US6855745B2 (en) Polymerization processes using aliphatic maleimides
KR102385824B1 (ko) 신규한 3-케토쿠마린, 이들의 제조방법 및 광중합 반응에서 광개시제로서의 이들의 용도
US7709545B2 (en) Benzophenone/thioxanthone derivatives and their use in photopolymerizable compositions
TWI244495B (en) Process for producing coatings siloxane photoinitiators
JPH0635427B2 (ja) 光硬化性着色組成物のための光開始剤
KR20010102461A (ko) 옥심 유도체 및 광개시제로서의 이의 용도
JPS6281345A (ja) 共重合性光開始剤
JPS61194062A (ja) チオ置換ケトン化合物を用いる光重合開始剤
EP1032576B1 (en) Photoactivatable nitrogen-containing bases based on alpha-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
JPS63239253A (ja) ベンゾフエノン誘導体
TWI701255B (zh) 具有耐酸性之鹼或/及自由基產生劑,以及含有該鹼或/及自由基產生劑之硬化性樹脂組成物
KR100406016B1 (ko) 티오잰톤및그유도체를제조하는방법
EP0520574A1 (en) Thioxanthone derivatives
CN113518805B (zh) 光引发剂
JP2005517055A (ja) 界面活性シロキサン光開始剤
JP5842566B2 (ja) 10−(2−ナフチル)アントラセントリエーテル化合物、その製造法及びその用途
TWI745897B (zh) 一種含有醯基哢唑衍生物和哢唑基肟酯的光引發劑組合物及其在光固化組合物中的應用
US4088554A (en) Initiators for photopolymerization
CN108794315B (zh) 混杂型光引发剂及其制备方法和应用
JP6861943B2 (ja) {(3−メチルオキセタン−3−イル)メチルオキシ}基を有するアントラセン型化合物、その製造法及びその用途
CN112079813B (zh) 一种uv led光引发剂及其制备方法