JPS63301821A - 抗不整脈剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、抗不整脈剤に関する。

発明の開示 本発明の抗不整脈剤は、下記一般式（１）で表わ、され
るカルボスチリル誘導体又はその塩を有効成分として含
有するものである。

〔式中Ｒ１は水素原子、ＣＩ　　ＣＩ８アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、フェニル低級アル
キル基、カルボキシ低級アルキル基、フェニル低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、置換基として低級ア
ルキル基を有することのあるアミド低級アルキル基又は
飽和の５員もしくは６員の複素環置換カルボニル低級ア
ルキル基を示す。Ｒ２はアジド基、カルボニルアジド基
、フタルイミド基、ピペリジニル基、ピリジル基、ピペ
リジン環上に置換基として低級アルキル基又はフェニル
低級アルキル基を有することのあるピペリジニル基、置
換基としてアミノ基又は低級アルキルアミノ基を有する
ことのあるキヌクリジニル基又は基−ＮＲ’　Ｒ５（Ｒ
４及びＲ５は同−又は異なって水素原子、置換基として
水酸基、アミノ基又は低級アルキルアミノ基を有するこ
とのある低級アルキル基、フェニル低級アルカノイル基
、イミダゾリニル基、置換基としてハロゲン原子又は低
級アルキルアミノ基を有することのある低級アルカノイ
ル基、置換基として低級アルコキシ基を有することのあ
るフェニル低級アルキル基、フェニル基、シクロアルキ
ル基、ピペリジン環上に置換基としてフェニル低級アル
キル基を有することのあるピペリジニル低級アルカノイ
ル基、低級アルケニル基、ピロリジニル低級アルカノイ
ル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有
することのあるフェノキシ低級アルキル基、モルホリン
環上に置換基としてフェニル低級アルキル基を有するこ
とのあるモルホリノ低級アルキル基又はピペリジン環上
に置換基としてフェニル低級アルキル基を有することの
あるピペリジニル基を示す。またこのＲ４及びＲ５は、
これらが結合する窒素原子と共に窒素原子、硫黄原子も
しくは酸素原子を介し又は介することなく５員〜９員の
複素′環を形成してもよい。

該複素環上にはフェニル基、水酸基、フェニル環上に置
換基として低級アルコキシ基を有していてもよいフェニ
ル低級アルキル基、置換基として水酸基、低級アルコキ
シ基又はハロゲン原子を１〜３個有していてもよい炭素
数１〜１０のアルキル基、低級アルケニル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル
低級アルキル基、チェニル低級アルキル基、シクロアル
キル低級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル環上
にハロゲン原子を有していてもよいベンゾイル低級アル
キル基、ピリジル低級アルキル基、低級アルキルアミド
基、低級アルキニル基、低級アルカノイル低級アルキル
基、フェニル低級アルコキシカルボニル基、基−（Ａ）
ｍ−ＮＲ”　Ｒ”　　Ｃ式中Ｒ１３及びＲＩＡは、同−
又は異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル環
上に置換基として低級アルコキシ基を有することのある
フェニル低級アルキル基を示す。またこのＲ１３及びＲ
ＩＡは、これらが結合する窒素原子と共に窒素原子もし
くは酸素原子を介し又は介することなく５又は６員環の
複素環を形成してもよい。

該複素環上には、置換基として低級アルキル基を有して
いてもよい。Ａは低級アルキレン基又は、基−Ａ’−Ｃ
−（Ａ’は低級アルキレン基）、ｍは０又は１を示す。

〕及びフェニル環上に低級アルコキシ基を有することの
あるベンゾイル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換
していてもよい。）を示す。Ｒ３は置換基としてハロゲ
ン原子を１〜３個有することのある低級アルキル基、低
級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシ基
、フェニル基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルケ
ニルオキシ基、低級アルカノイル低級アルコキシ基又は
低級アルキルアミノカルボニル低級アルコキシ基を示す
。ｎは０．１又は２を示す。カルボスチリル骨格の３位
及び４位の結合は一重結合又は二重結合を示す。上記Ｒ
２及びＲ３はそれぞれカルボスチリル骨格の３〜８位の
いずれに置換してしてもよいが、Ｒ２とＲ３とは同時に
同じ位置に置換していることはない。〕 上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体及
びその塩は、抗不整脈作用を有している。

上記化合物は、特に心筋の収縮力には殆んど影響を及ぼ
さず、虚血時等に生じる刺激生成異常を抑制するという
特徴を有している。

本明細書において、ＲＩ　、　Ｒ５で示される各基は、
より具体的にはそれぞれ以下の通りである。

低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ｉｅｒ’ｊ−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を挙げることができる。

低級アルケニル基としては、例えばビニル、アリル、２
−ブテニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペ
ンテニル、２−へキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルケニル基を挙げることができる。

低級アルキニル基としては、例えばエチニル、２−プロ
ピニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−２
−プロピニル、２−ペンチニル、２−ヘキシニル基等の
炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキニル基を挙げる
ことができる。

フェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、２
−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニル
プロピル、４−フェニルブチル、１゜１−ジメチル−２
−フェニルエチル、５−フェニルペンチル、６−フェニ
ルヘキシル、２−メチル−３−フェニルプロピル、ジフ
ェニルメチル、２゜２−ジフェニルエチル基等のアルキ
ル部分力（炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
であり、フェニル基が１〜２個置換していてもよいフェ
ニルアルキル基を挙げることができる。

低級アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ、
エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、
ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミ
ノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ
、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジエチルアミノ
、ジエチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−エチ゛　　ルーＮ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ
−ブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−へキシルアミノ基等
の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜２
個置換したアミノ基を挙げることができる。

置換基として水酸基、アミノ基又は低級アルキルアミノ
基を有することのある低級アルキル基としては、例えば
上記低級アルキル基の他、ヒドロキシメチル、２−ヒド
ロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシ
プロピル、４−ヒドロキシブチル、１．１−ジメチル−
２−ヒドロキシエチル、５−ヒドロキシペンチル、６−
ヒドロキシヘキシル、２−メチル−３−ヒドロキシプロ
ピル、アミノメチル、１−アミノエチル、２−アミノエ
チル、３−アミノプロピル、４−アミノブチル、５−ア
ミノペンチル、６−アミノヘキシル、１．１−ジメチル
−２−アミノエチル、２−メチル−３−アミノプロピル
、メチルアミノメチル、エチルアミノメチル、プロピル
アミノメチル、イソプロピルアミノメチル、ブチルアミ
ノメチル、ｔｅｒｔ−ブチルアミノメチル、ペンチルア
ミノメチル、ヘキシルアミノメチル、ジメチルアミノメ
チル、ジエチルアミノメチル、ジプロピルアミノメチル
、ジブチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、ジエ
チルアミノメチル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノメチ
ル、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノメチル、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ブチルアミノメチル、Ｎ−メチル−Ｎ−へキシ
ルアミノメチル、２−メチルアミノエチル、１−エチル
アミノエチル、３−プロピルアミノプロピル、４−ブチ
ルアミノブチル、１，１．−ジメチル−２−ペンチルア
ミノエチル、５−へキシルアミノペンチル、６−シメチ
ルアミノヘキシル、２−ジエチルアミノエチル、１−（
Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エチル、３−ジヘキ
シルアミノプロピル、４−ジブチルアミノブチル、２−
　（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアミノ）エチル基等の水
酸基、アミノ基又は炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基が１〜２個置換したアミノ基を置換基として有
することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基を挙げることができる。

フェニル低級アルカノイル基としては、例えば２−フェ
ニルアセチル、３−フェニルプロピオニル、４−フェニ
ルブチリル、２−フェニルブチリル、６−フェニルヘキ
サノイル、２−フェニルプロピオニル、３−フェニルブ
チリル、４−フェニル−３−メチルブチリル、５−フェ
ニルペンタノイル、２−メチル−３−フェニルプロピオ
ニル基等のアルカノイル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルカノイル基であるフェニルアルカノイル基
を挙げることができる。

ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素原子、臭
素原子及び沃素原子が挙げられる。

置換基としてハロゲン原子又は低級アルキルアミノ基を
有することのある低級アルカノイル基としては、例えば
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、２−クロロアセ
チル、３−ブロモプロピオニル、４−フルオロブチリル
、５−ヨードペンタノイル、６−クロロヘキサノイル、
３−ブロモイソブチリル、メチルアミノアセチル、エチ
ルアミノアセチル、プロピルアミノアセチル、イソプロ
ピルアミノアセチル、ブチルアミノアセチル、ｔｅｒｔ
−ブチルアミノアセチル、ペンチルアミノアセチル、ヘ
キシルアミノアセチル、ジメチルアミノアセチル、ジエ
チルアミノアセチル、ジプロピルアミノアセチル、ジブ
チルアミノアセチル、ジエチルアミノアセチル、ジエチ
ルアミノアセチル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノアセ
チル、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノアセチル、Ｎ−
メチル−Ｎ−ブチルアミノアセチル、Ｎ−メチル−Ｎ−
へキシルアミノアセチル、３−メチルアミノプロピオニ
ル、４−エチルアミノブチリル、５−ジエチルアミノペ
ンタノイル、６−ヘキジルアミノヘキサノイル、３−プ
ロピルアミノイソブチリル、３−　（Ｎ−メチル−Ｎ＝
エチルアミノ）プロピオニル、４−ジエチルアミノアチ
ル基等の置換基としてハロゲン原子又は炭素数１〜６の
直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基を１〜２個有するアミ
ノ基を有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルカノイル基を挙げることができる。

低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を挙げること
ができる。

置換基として低級アルコキシ基を有することのあるフェ
ニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、２−フ
ェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプロ
ピル、４−フェニルブチル、１．１−ジメチル−２−フ
ェニルエチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘ
キシル、２−メチル−３−フェニルプロピル、２−（３
−メトキシフェニル）エチル、１−（４−メトキシフェ
ニル）エチル、２−メトキシベンジル、３−　（２−エ
トキシフェニル）プロピル、４−　（３−エトキシフェ
ニル）ブチル、１，１−ジメチル−２−（４−エトキシ
フェニル）エチル、５−（４−イソプロポキシフェニル
）ペンチル、６−（４−へキシルオキシフェニル）ヘキ
シル、３，４−ジメトキシベンジル、３，４．５−トリ
メトキシベンジル、２．５−ジメトキシベンジル基等の
アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分技鎖状アルキ
ル基であって、フェニル環上に炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェ
ニルアルキル基を挙げることができる。

シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロ
アルキル基を挙げることができる。

ピペリジン環上に置換基としてフェニル低級アルキル基
を有することのあるピペリジニル低級アルカノイル基と
しては、例えば（１−ピペリジニル）アセチル、２−　
（１−ピペリジニル）プロピオニル、３−　（１−ピペ
リジニル）プロピオニル、４−（１−ピペリジニル）ブ
チリル、５−（１−ピペリジニル）ペンタノイル、６−
（１−ピペリジニル）ヘキサノイル、２．２−ジメチル
−３−（１−ピペリジニル）プロピオニル、２−メチル
−３−（１−ピペリジニル）プロピオニル、４−ベンジ
ル−１−ピペリジニルアセチル、２−　［４−（２−フ
ェニルエチル）−１−ピペリジニル〕プロピオニル、１
−　（４−（１−フェニルエチル）−１−ピペリジニル
〕プロピオニル、４−　（３−（３−フェニルプロピル
）−１−ピペリジニルコブチリル、５−（３−（１，１
−ジメチル−２−フェニルエチル）−１−ピペリジニル
〕ペンタノイル、６−　［２−（５−フェニルペンチル
）−１−ピペリジニル］ヘキサノイル、２，２−ジメチ
ル−３−（４−（２−メチル−３−フェニルプロピル）
−１−ピペリジニル〕プロピオニル、２−メチル−３−
（４−ベンジル−１−ピペリジニル）プロピオニル基等
のアルカノイル部分が炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルカノイル基であって、ピペリジン環上に置換基とし
てアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基であるフェニルアルキル基を有することのあるピ
ペリジニルアルカノイル基を挙げることができる。

ピロリジニル低級アルカノイル基としては、例えば（１
−ピロリジニル）アセチル、２−　（１−ピロリジニル
）プロピオニル、３−　（１−ピロリジニル）プロピオ
ニル、４−　（１−ピロリジニル）ブチリル、５−（１
−ピロリジニル）ペンタノイル、６−（１−ピロリジニ
ル）ヘキサノイル、２゜２−ジメチル−３−（１−ピロ
リジニル）プロピオニル、２−メチル−３−（１−ピロ
リジニル）プロピオニル基等のアルカノイル部分が炭素
数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるピロ
リジニルアルカノイル基を挙げることができる。

低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、例
えばメトキシカルボニルメチル、３−メトキシカルボニ
ルプロピル、４−エトキシカルボニルブチル、６−プロ
ポキシカルボニルヘキシル、５−イソプロポキシカルボ
ニルベンチル、１，１−ジメチル−２−ブトキシカルボ
ニルエチル、２−メチル−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルプロピル、２−ペンチルオキシカルボニルエチル、ヘ
キシルオキシカルボニルメチル基等のアルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニルアルキ
ル基を挙げることができる。

フェニル環上に低級アルコキシ基を有することのあるベ
ンゾイル基としては、例えばベンゾイル、２−メトキシ
ベンゾイル、３−メトキシベンゾイル、４−メトキシベ
ンゾイル、２−エトキシベンゾイル、３−エトキシベン
ゾイル、４−エトキシベンゾイル、４−イソプロポキシ
ベンゾイル、４−ベンチルオキシベンゾイル、４−へキ
シルオキシベンゾイル、３，４−ジメトキシベンゾイル
、３．４−ジェトキシベンゾイル、２．５−ジメトキシ
ベンゾイル、２，６−ジメトキシベンゾイル、３．４．
５−トリメトキシベンゾイル基等のフェニル環上に炭素
数１〜６の直鎖又は分技鎖状アルコキシ基を１〜３個有
することのあるベンゾイル基を挙げることができる。

Ｒ１３及びＲ”が結合する窒素原子と共に窒素原子もし
くは酸素原子を介し又は介することなく形成される５員
又は６員の複素環基としては、例えばピペラジニル基、
ピペリジニル基、モルホリノ基、ピロリジニル基等を挙
げることができる。

低級アルキル基が置換した上記複素環としては、例えば
、４−メチル−１−ピペリジニル、２−メチル−１−モ
ルホリノ、２−メチル−１−ピロリジニル、４−エチル
−１−ピペラジニル、３−プロピル−１−モルホリノ、
４−イソプロピル−１−ピペリジニル、３−ブチル−１
−ピロリジニル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−ピペラジ
ニル、４−ペンチル−１−ピペリジニル、３−へキシル
−１−モルホリノ、３，４−ジメチル−１−ピペラジニ
ル、２．４−ジメチル−１−ピペラジニル、３，４゜５
−トリメチル−１−ピペラジニル基等の炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖アルキル基を１〜３個置換した複素環基
を例示できる。

Ｒ，４及びＲ５が結合する窒素原子と共に窒素原子、硫
黄原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく形成
される５員〜９員の複素環基としては、例えばイミダゾ
リル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、モルホリノ
基、ピロリジニル基、１．４−ジアザビシクロ［４，３
，０）ノニル基、１．４−ジアゼピニル基、１，４−オ
キサゼビニル基、１，４−チアゼピニル基、ホモピペラ
ジニル基、チオモルホリノ基、インドリニル基、インド
リル基等を挙げることができる。フェニル基、水酸基、
フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有して
いてもよいフェニル低級アルキル基、置換基として水酸
基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を１〜３個有し
ていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、チ
ェニル低級アルキル基、シクロアルキル低級アルキル基
、シクロアルキル基、フェニル環上にハロゲン原子を有
していてもよいベンゾイル低級アルキル基、ピリジル低
級アルキル基、低級アルキルアミド基、低級アルキニル
基、低級アルカノイル低級アルキル基、フェニル低級ア
ルコキシカルボニル基、基−（Ａ）ｍ−ＮＲ”　Ｒ”　
　（式中、Ｒ１３及びＲＩ４は、同−又は異なって、低
級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコ
キシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基を示
す。

またこのＲ１３及びＲＩ＆は、これらが結合する窒素原
子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介するこ
となく５又は６員環の複素環を形成してもよい。該複素
環上には置換基として低級アルキル基を有していてもよ
い。Ａは低級アルキレン基又は 基−Ａ’　−Ｃ−（Ａ’　は低級アルキレン基）、ｍは
０又は１を示す。〕及びフェニル環上に低級アルコキシ
基を有することのあるベンゾイル基なる群より選ばれた
基が１〜３個置換した上記複素環基としては、例えば４
−フェニル−１−ピペラジニル、４−フェニル−１−ピ
ペリジニル、３−フェニルモルホリノ、２−フェニル−
１−ピロリジニル、４−ヒドロキシ−１−ピペラジニル
、６−フェニル−１−インドリル、４−フェニル−１−
ホモピペラジニル、３−フェニルチオモルホリノ、４−
ヒドロキシ−１−ピペリジニル、２−ヒドロキシ−１−
モルホリノ、３−ヒドロキシ−１−ピロリジニル、５−
ヒドロキシ−１−インドリル、４−ヒドロキシ−１−ホ
モピペラジニル、３−ヒドロキシチオモルホリノ、４−
ベンジル−１−ピペラジニル、４−ベンジル−１−ピペ
リジニル、３−ベンジル−１−モルホリノ、２−ベンジ
ル−１−ピロリジニル、４−　（１−フェニルエチル）
−１−ピペラジニル、５−　（３，４，５−）リメトキ
シベンジル）−１−インドリル、４−　［６−（３，４
−ジメトキシフェニル）ヘキシル］−１−ピペラジニル
、４−　（２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル
クー１−ピペラジニル、４−ベンジル−１−ホモピペラ
ジニル、３−ベンジルチオモルホリノ、６−ベンジル−
１−インドリル、４−　（３−（３−エトキシフェニル
）プロピル〕−１−ホモピペラジニル、２−　（４−（
４−プロポキシフェニル）ブチル〕チオモルホリノ、４
−（２−フェニルエチル）−１−ピペリジニル、２−（
３−フェニルプロピル）−１−モルホリノ、３−（４−
フェニルブチル）−１−ピロリジニル、４−（５−フェ
ニルペンチル）−１−ピペラジニル、４−（６−フェニ
ルヘキシル）−１−ピペリジニル、４−　（１，１−ジ
メチル−２−フェニルエチル）−１−ピペリジニル、４
−　（２−メチル−３−フェニルプロピル）−１−ピペ
ラジニル、２−メチルチオモルホリノ、４−メチル−１
−ホモピペラジニル、４−メチル−１−ピペラジニル、
５．６−シメチルー１−インドリル、３，４−ジメチル
−１−ピペラジニル、２，４−ジメチル−１−ピペラジ
ニル、４−メチル−１−ピペリジニル、２，４．５−）
ジメチル−１−ピペラジニル、３−メチル−１，４−ジ
アザビシクロ［４，３゜０］−４−ノニル、２−メチル
−１−モルホリノ、２−メチル−１−ピロリジニル、４
−エチル−１−ピペラジニル、３−プロピル−１−モル
ホリノ、４、−イソプロピル−１−ピペリジニル、３−
ブチル−１−ピロリジニル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−１
−ピペラジニル、４−ペンチルー１−ピペリジニル、３
−へキシル−１−モルホリノ、４−へブチル−１−ピペ
ラジニル、４−オクチル−１−ピペラジニル、４−ノニ
ル−１−ピペラジニル、４−デシル−１−ピペラジニル
、３−ビニルピロリジニル、２−アリルピロリジニル、
４−（２−ブテニル）−１−ピペリジニル、４−　（１
−メチルアリル）−１−ピペラジニル、３−（２−ペン
テニル）−１−モルホリノ、３−　（２−へキセニル）
ピロリジニル、４−アリル−１−ピペリジニル、４−ア
リル−１−ピペラジニル、４−　（２−へキセニル）−
１−ピペラジニル、３−メトキシカルボニルメチルピロ
リジニル、２−（３−メトキシカルボニルプロピル）ピ
ロリジニル、４−（４−エトキシカルボニルブチル）−
１−ピペリジニル、４−（６−プロポキシカルボニルヘ
キシル）−１−ピペラジニル、３−　（５−イソプロポ
キシカルボニルベンチル）−１−モルホリノ、４−　（
１，１−ジメチル−２−ブトキシカルボニルプロビル）
−１−ピペラジニル、４−（２−メチル−３−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルプロビル）−１−ピペラジニル、
４−（２−ペンチルオキシカルボニルエチル）−１−ピ
ペリジニル、４−へキシルオキシカルボニルメチル−１
−ピペラジニル、４−エトキシカルボニルメチル−１−
ピペラジニル、４−ベンゾイル−１−ピペリジニル、３
−（４−メトキシベンゾイル）−１−モルホリノ、２−
　（３−エトキシベンゾイル−１−ピロリジニル、４−
（４−イソプロポキシベンゾイル）−１−ピペラジニル
、４−（４−ペンチルオキシベンゾイル）−１−ピペリ
ジニル、２−（４−へキシルオキシベンゾイル）−１−
モルホリノ、４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル、４−（３，４−ジェトキシベンゾイ
ル）−１−ピペリジニル、３−　（２，５−ジメトキシ
ベンゾイル）−１−モルホリノ、３−（２，６−ジメト
キシベンゾイル）−１−ピロリジニル、４−　（３，４
゜５−トリメトキシベンゾイル）−１−ピペラジニル、
３−メチル−４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル、４−（２−ヒドロキシエチル）−１
−ピペラジニル、４−ヒドロキシメチル−１−ピペラジ
ニル、３−メチル−４−（２−ヒドロキシエチル）−１
−ピペラジニル、４−（２−メチル−３−ヒドロキシプ
ロピル）−１−ピペリジニル、３−（１−ヒドロキシエ
チル）モルホリノ、３−　（３−ヒドロキシプロピル）
−１−ピロリジニル、４−（４−ヒドロキシブチル）−
１−ホモピペラジニル、３−　（５−ヒドロキシペンチ
ル）チオモルホリノ、６−（６−ヒドロキシヘキシル）
−１−インドリニル、４−　（２，２゜２−トリフルオ
ロエチル）−１−ピペラジニル、４−ヨードメチル−１
−ピペリジニル、３−トリフルオロメチルモルホリノ、
２−（１，１−ジクロロエチル）−１−ピロリジニル、
４−トリブロモメチル−１−ホモピペラジニル、３−（
３−クロロ−２−メチルエチル）チェモルホリノ、５−
（４−クロロブチル）−１−インドリル、４−〔（２−
チェニル）メチル〕−１−ピペラジニル、４−　［１−
（２−チェニル）エチル〕−１−ピペリジニル、３−　
（３”　（２−チェニル）プロピル３七ルホリノ、３−
　（４−（３−チェニル）ブチル〕−１−ピロリジニル
、ｌ−（５−（３−チェニル）ペンチルクー１−ホモピ
ペラジニル、３−　［６−（２−チェニル）ヘキシルコ
チオモルホリノ、６−〔２−メチル−３−（３−チェニ
ル）プロピルクー１−インドリニル、４−（２−シクロ
プロピルエチル）−１−ピペラジニル、４−（１−シク
ロブチルエチル）−１−ピペリジニル、３−　（３−シ
クロペンチルプロピル）モルホリノ、３−（４−シクロ
へキシルブチル）ピロリジニル、４−（５−シクロヘプ
チル）−１−ホモピペラジニル、２−（６−シクロオク
チルヘキシル）チオモルホリノ、４−シクロへキシル−
１−ピペラジニル、４−シクロプロピル−１−ピペリジ
ニル、２−シクロブチルモルホリノ、３−シクロペンチ
ル−１−ピロリジニル、４−シクロへブチル−１−ホモ
ピペラジニル、３−シクロオクチルチオモルホリノ、４
−シクロへキシル−１−インドリニル、４−（３−（４
−フルオロベンゾイル）プロピルクー１−ピペラジニル
、４−ベンゾイルメチル−１−ピペリジニル、３−　（
２−（３−ブロモベンゾイル）エチル３七ルホリノ、３
−　（４−（２，３−ジクロロベンゾイル）ブチル〕−
１−ピロリジニル、４−　（５−（３，４−ジフルオロ
ベンゾイル）ペンチルクー１−ホモピペラジニル、３−
（６−（２，４，６−）ジクロロベンゾイル）ヘキシル
コチオモルホリノ、４−　（３−（４−ピリジル）プロ
ピルクー１−ピペラジニル、４−　（２−ピリジル）メ
チル−１−ピペラジニル、２−［２−（３−ピリジル）
エチル３七ルホリノ、３−　［４−（２−ピリジル）ブ
チルコチオモルホリノ、４−　［５−（４−ピリジル）
ペンチルクー１−ホモピペラジニル、７−　（６−（２
−ピリジル）ヘキシルゴー１−インドリル、２−ジエチ
ルアミド−１−ピロリジニル、４−メチルアミド−１−
ピペラジニル、４−イソプロピルアミド−１−ピペリジ
ニル、２−ジブチルアミドモルホリノ、４−ジペンチル
アミドー１−ホモピペラジニル、３−へキシルアミド−
１−チオモルホリノ、４−（２−プロピニル）−１−ピ
ペラジニル、４−（２−ブチニル）−１−ピペリジニル
、３−（３−ブチニル）モルホリノ、２−（１−メチル
−２−プロピニル）−１−ピロリジニル、４−　（２−
ペンチニル）−１−ホモピペラジニル、３−　（２−ヘ
キシニル）チオモルホリノ、４−エチニル−１−インド
リニル、４−アセチルメチル−１−ピペラジニル、４−
（１−プロピオニルエチル）−１−ピペリジニル、２−
（３−ブチリルプロピル）モルホリノ、２−（５−ヘキ
ソノイルペンチル）−１−ピロリジニル、４−（６−ア
セチルへキシル）−１−ホモピペラジニル、３−　（２
−アセチルエチル）チオモルホリノ、４−アセチルメチ
ル−１−インドリル、４−フェニルメトキシカルボニル
−１−ホモピペラジニル、４−　（２−フェニルエトキ
シカルボニル）−１−ピペラジニル、３−（３−フェニ
ルプロポキシカルボニル）モルホ、リノ、２−（４−フ
ェニルブトキシカルボニル）−１−ピロリジニル、３−
　（５−フェニルペンチルオキシカルボニル）チオモル
ホリノ、５−　（３−フェニルプロポキシカルボニル）
−１−インドリニル、３−（６−フエニルヘキジルオキ
シカルボニル）−１−ピペリジニル、２−（ジエチルア
ミノメチル）−１−ピロリジニル、２−　（１−ピロリ
ジニルメチル）−１−ピロリジニル、２−（モルホリノ
メチル）−１−ピロリジニル、２−〔（４−メチル−１
−ピペラジニル）メチル〕−１−ピロリジニル、４−（
ピロリジニルカルボニルメチル）−１−ピペラジニル、
４−　［２−（１−ピロリジニル）エチル〕−１−ピペ
ラジニル、４−（モルホリノカルボニルメチル）−１−
ピペラジニル、４−　（２−モルホリノカルボニルエチ
ル）−１−ピペラジニル、３−モルホリノ−１−ピロリ
ジニル、２−（Ｎ−（２−（３，４−ジメトキシフェニ
ル）エチル）　−Ｎ−メチルアミノメチル）−１−ピロ
リジニル、３−（１−ピロリジニル）−１−ピロリジニ
ル、３−（４−メチル−１−ピペラジニル）−１−ピロ
リジニル、４−（１−ピロリジニル）−１−ピペリジニ
ル、３−［２−（Ｎ−（３−（４−エトキシフェニル）
プロピル）−Ｎ−エチルアミノ）エチル３七ルホリノ、
４−（３−モルホリノプロピル）−１−ホモピペラジニ
ル、３−　［３−（１−ピロリジニル）カルボニルプロ
ピルコチオモルホリノ、４−　（１−ピペリジニル）−
１−インドリニル、３−メチル−１−イミダゾリル、３
−エチル−１−イミダゾリル、４−プロピル−１−イミ
ダゾリル、４−ブチル−１−イミダゾリル、３−ペンチ
ルー１−イミダゾリル、４−へキシル−１−イミダゾリ
ル、２−ジエチルアミノメチル−１−イミダゾリル、２
−（２−ジメチルアミノエチル）−１−イミダゾリル、
４−　（３−プロピルアミノプロピル）−１−イミダゾ
リル、４−（４−ｎ−ブチルアミノブチル）−１−イミ
ダゾリル、２−（５−ペンチルアミノペンチル）−１−
イミダゾリル、４−（６−へキシルアミノヘキシル）−
１−イミダゾリル、４−（２−メトキシエチル）−１−
ピペラジニル、２−（２−メトキシエチル）−１−イミ
ダゾリル、４−（２−メトキシプロピル）−１−ピペラ
ジニル、４−（エトキシメチル）−１−ピペラジニル、
４−（１−エトキシエチル）ピペリジニル、３−（４−
ブトキシブチル）モルホリノ、３−（５−へキシルオキ
シペンチル）−１−ピロリジニル、４−アミノ−１−ピ
ペリジニル、４−メチルアミノ−１−ピペリジニル、４
−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）−１−ピペリジ
ニル、４−ベンジルアミノ−１−ピペリジニル、３−ア
ミノ−１−ピロリジニル、３−アミノ−１−ピペラジニ
ル、２−アミノモルホリノ、２−エチルアミノ−１−ピ
ペラジニル、３−ジエチルアミノモルホリノ、４−プロ
ピルアミノ−１−ピペリジニル、３−ジブチルアミノ−
１−ピペリジニル、４−ペンチルアミノ−１−ピペリジ
ニル、２−ジヘキシルアミノー１−ピペリジニル基等の
フェニル基、水酸基、フェニル環上に置換基として炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個有
していてもよく、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基、置換
基として水酸基、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝鎖状
アルコキシ基又はハロゲン原子を１〜３個有していても
よい炭素数１〜１０の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭
素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基、アルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
る炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニ
ルアルキル基、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基であるチェニルアルキル基、アルキ
ル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
である炭素数３〜８のシクロアルキルアルキル基、炭素
数３〜８のシクロアルキル基、アルキル部分の炭素数が
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニル環
上にハロゲン原子を１〜３個有していてもよいベンゾイ
ルアルキル基、アルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基であるピリジルアルキル基、炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜２個置換
したアミド基、炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ニル基、アルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基である炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルカノイルアルキル基、アルコキシカルボニル部分の
炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニ
ル基であるフェニルアルコキシカルボニル基、基−（Ａ
）ｍ−ＮＲ”　Ｒ”　　（式中ＲＩ３及びＲＩ＆は、同
−又は異なって炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基、フェニル環」−に置換基として炭素数１〜６のア
ルキル基を１〜３個有することのあるフェニルアルキル
基を示す。またこのＲＩ３及びＲ１４は、これらが結合
する窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又
は介することなく５又は６員環の複素環を形成してもよ
い。該複素環上には、置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を有していてもよい。Ａは炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基、又は基−Ａ
’　−Ｃ−（Ａ’は炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキレン基）、ｍは０又は１を示す。〕及びフェニル環
上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１
〜３個有することのあるベンゾイル基なる群より選ばれ
た基を１〜３個有する置換した複素環基を挙げることが
できる。

テトラヒドロフリル低級アルキル基としては、例えば、
（２−テトラヒドロフリル）メチル、２−（３−テトラ
ヒドロフリル）エチル、１−（２−テトラヒドロフリル
）エチル、３−（３−テトラヒドロフリル）プロピル、
４−（２−テトラヒドロフリル）ブチル、１，１−ジメ
チル−２−（２−テトラヒドロフリル）エチル、５−（
３−テトラヒドロフリル）ペンチル、６−　（２−テト
ラヒドロフリル）ヘキシル、２−メチル−３−（２−テ
トラヒドロフリル）プロピル基等のアルキル部分の炭素
数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるテトラ
ヒドロフリルアルキル基を例示できる。

フェニル低級アルコキシ基としては、例えばベンジルオ
キシ、２−フェニルエトキシ、１−フェニルエトキシ、
３−フェニルプロポキシ、４−フェニルブトキシ、１．
１−ジメチル−２−フェニルエトキシ、５−フェニルペ
ンチルオキシ、６−フエニルヘキジルオキシ、２−メチ
ル−３−フェニルプロポキシ基等のアルコキシ部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるフェ
ニルアルコキシ基を挙げることができる。

チェニル低級アルキル基としては、例えば（２−チェニ
ル）メチル、２−　（３−チェニル）エチル、１−（２
−チェニル）エチル、３−（２−チェニル）プロピル、
４−　（３−チェニル）ブチル、１．１−ジメチル−２
−（２−チェニル）エチル、５−（３−チェニル）ペン
チル、６−（２−チェニル）ヘキシル、２−メチル−３
−（３−チェニル）プロピル基などのアルキル部分の炭
素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチェ
ニルアルキル基を挙げることができる。

シクロアルキル低級アルキル基としては、例えばシクロ
プロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチル
メチル、シクロヘキシルメチル、シクロへブチルメチル
、シクロオクチルメチル、２−シクロプロピルエチル、
１−シクロブチルエチル、３−シクロペンチルプロピル
、４−シクロヘキシルブチル、５−シクロへブチルペン
チル、６−シクロオクチルヘキシル、２−メチル−３−
シクロへキシルプロピル、２−シクロヘキシルエチル、
１−シクロヘキシルエチル基等のアルキル部分が炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である炭素数３〜
８のシクロアルキルアルキル基を挙げることができる。

フェニル環上にハロゲン原子を有していてもよいベンゾ
イル低級アルキル基としては、例えばベンゾイルメチル
、２−ベンゾイルエチル、１−ベンゾイルエチル、３−
ベンゾイルプロピル、４−ベンゾイルブチル、１，１−
ジメチル−２−ベンゾイルエチル、５−ベンゾイルペン
チル、６−ベンゾイルヘキシル、２−メチル−３−ベン
ゾイルプロピル（２−クロロベンゾイル）メチル、２−
（３−ブロモベンゾイル）エチル、１−（４−クロロベ
ンゾイル）エチル、３−（４−フルオロベンゾイル）プ
ロピル、４−　（２，３−ジクロロベンゾイル）ブチル
、１，１−ジメチル−２−（２゜４−ジブロモベンゾイ
ル）エチル、５−　（３，４−ジフルオロベンゾイル）
ペンチル、６−　（２゜４．６−ドリクロロベンゾイル
）ヘキシル、２−メチル−３−（２−フルオロベンゾイ
ル）プロピル基等のアルキル部分の炭素数が１〜６の直
鎖又は分枝鎖アルキル基であるフェニル環上にハロゲン
原子を１〜３個有していてもよいベンゾイルアルキル基
を例示できる。

ピリジル低級アルキル基としては、（２−ピリジル）メ
チル、２−　（３−ピリジル）エチル、１−（４−ピリ
ジル）エチル、３−（４−ピリジル）プロピル、４−（
２−ピリジル）ブチル、１，１−ジメチル−２−（３−
ピリジル）エチル、５−（４−ピリジル）ペンチル、６
−（２−ピリジル）ヘキシル、２−メチル−３−（３−
ピリジル）プロピル基等のアルキル部分の炭素数が１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピリジルアルキ
ル基を例示できる。

低級アルキルアミド基としては、例えばメチルアミド、
エチルアミド、プロピルアミド、イソプロピルアミド、
ブチルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルアミド、ペンチルアミ
ド、ヘキシルアミド、ジメチルアミド、ジエチルアミド
、ジプロピルアミド、ジブチルアミド、ジエチルアミド
、ジエチルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミド、Ｎ
−エチル−Ｎ−プロピルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチ
ルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−へキシルアミド基等の炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜２個置換
したアミド基を挙げることができる。

低級アルカノイル低級アルキル基としては、ホルミルメ
チル、２−アセチルエチル、１−プロピオニルエチル、
３−ブチリルプロピルアセチルメチル、４−イソブチリ
ルブチル、１．１−ジメチル−２−ペンタノイルエチル
、５−ヘキサノイルペンチル、６−アセチルヘキシル、
２−メチル−３−プロピオニルプロピル基等のアルキル
部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基で
ある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を
例示できる。

フェニル低級アルコキシカルボニル基としては、フェニ
ルメトキシカルボニル、２−フェニルエトキシカルボニ
ル、１−フェニルエトキシカルボニル、３−フェニルプ
ロポキシカルボニル、１−フェニルエトキシカルボニル
、４−フェニルブトキシカルボニル、１，１−ジメチル
−２−フェニルエトキシカルボニル、３−フェニルプロ
ポキシカルボニル、５−フェニルペンチルオキシカルボ
ニル、６−フエニルヘキジルオキシカルボニル、２−メ
チル−３−フェニルプロポキシカルボニル基等のアルコ
キシカルボニル部分の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシカルボニル基であるフェニルアルコキシカル
ボニル基を例示できる。

低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、２−メチルトリメチレン、２゜２−ジメチル
トリメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキレン基を例示できる。

置換基として水酸基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子を１〜３個有していてもよい炭素数１〜１０のアルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ヒドロキシメチ
ル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、３
−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、１，１
−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５−ヒドロキシペ
ンチル、６−ヒドロキシヘキシル、２−メチル−３−ヒ
ドロキシプロピル、７−ヒドロキシヘプチル、８−ヒド
ロキシオクチル、７−ヒドロキシノニル、６−ヒドロキ
シデシル、ヨードメチル、トリフルオロメチル、２，２
−ジフルオロエチル、１．１−ジクロロエチル、トリク
ロロメチル、ジクロロメチル、トリブロモメチル、２．
２．２−トリフルオロエチル、２，２．２４リクロロエ
チル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、１−フ
ルオロエチル、１．２−ジクロロエチル、３．３．３−
）ジクロロプロピル、３−フルオロプロピル、４−タロ
ロブチル、３−クロロ−２−メチルエチル、４−クロロ
ヘプチル、８−クロロオクチル、６−ブロモノニル、７
−フルオロデシル、メトキシメチル、２−メトキシエチ
ル、２−メトキシプロピル、１−エトキシエチル、３−
プロポキシプロビル、４−ブトキシブチル、１．１−ジ
メチル−２−ペンチルオキシエチル、５−ヘキシルオキ
シペンチル、６−メトキシへキシル、２−メチル−３−
エトキシプロピル、４−メトキシヘプチル、８−エトキ
シオクチル、６−メドキシノニル、７−メドキシデシル
基等の置換基として水酸基、炭素数１〜６の直鎖もしく
は分枝鎖状アルコキシ基又はハロゲン原子を１〜３個有
していてもよい炭素数１〜１０の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基を例示できる。

置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある
低級アルキル基としては、前記低級アルキル基に加えて
、ヨードメチル、トリフルオロメチル、２，２−ジフル
オロエチル、１，１−ジクロロエチル、トリクロロメチ
ル、ジクロロメチル、トリブロモメチル、２，２．２−
トリフルオロエチル、２．　２．　２−トリクロロエチ
ル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、１−フル
オロエチル、１，２−ジクロロエチル、３．３．３−ト
リクロロプロピル、３−フルオロプロピル、４−タロロ
ブチル、３−クロロ−２−メチルエチル基等の置換基と
してハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

低級アルケニルオキシ基としては、ビニルオキシ、アリ
ルオキシ、２−ブテニルオキシ、３−ブテニルオキシ、
１−メチルアリルオキシ、２−ペンテニルオキシ、２−
へキシルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルケニルオキシ基を例示できる。

低級アルカノイル低級アルコキシ基としては、ホルミル
メトキシ、２−アセチルエトキシ、１−プロピオニルエ
トキシ、３−ブチリルプロポキシ、アセチルメトキシ、
４−イソブチリルブトキシ、１．１−ジメチル−２−ペ
ンタノイルエトキシ、５−ヘキサノイルペンチルオキシ
、６−アセチルへキシルオキシ、２−メチル−３−プロ
ピオニルプロポキシ基等のアルコキシ部分が炭素数１〜
６の直鎖又分技鎖状アルコキシ基である炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルカノイルアルコキシ基を例示でき
る。

低級アルキルアミノカルボニル低級アルコキシ基として
は、メチルアミノカルボニルメトキシ、エチルアミノカ
ルボニルメトキシ、プロピルアミノカルボニルメトキシ
、イソプロピルアミノカルボニルメトキシ、ブチルアミ
ノカルボニルメトキシ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボ
ニルメトキシ、ペンチルアミノカルボニルメトキシ、ヘ
キシルアミノカルボニルメトキシ、ジメチルアミノカル
ボニルメトキシ、ジエチルアミノカルボニルメトキシ、
ジプロピルアミノカルボニルメトキシ、ジブチルアミノ
カルボニルメトキシ、ジエチルアミノカルボニルエトキ
シ、ジヘキシルアミノカルボニルメトキシ、Ｎ−メチル
−Ｎ−エチルアミノカルボニルメトキシ、Ｎ−エチル−
Ｎ−プロピルアミノカルボニルメトキシ、Ｎ−メチル−
Ｎ−ブチルアミノカルボニルメトキシ、Ｎ−メチル−Ｎ
−ヘキシルアミノカルボニルメトキシ、２−メチルアミ
ノカルボニルエトキシ、１−エチルアミノカルボニルメ
トキシ、３−プロピルアミノカルボニルプロポキシ、４
−ブチルアミノカルボニルブトキシ、１２．１−ジメチ
ル−２−ペンチルアミノカルボニルエトキシ、５−へキ
シルアミノカルボニルペンチルオキシ、６−シメチルア
ミノカルボニルへキシルオキシ、２−ジエチルアミノカ
ルボニルエトキシ、１−（Ｎ−メチル−Ｎ−へキシルア
ミノカルボニルエトキシ、３−ジヘキシルアミノカルボ
ニルアミノブロポキシ、４−ジブチルアミノカルボニル
ブトキシ、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアミノ）カ
ルボニルエトキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基が１〜２個置換したアミノカルボニル基を
置換基として有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルコキシ基を挙げることができる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるフェノキシ低級アルキル基としては、フェノキ
シメチル、２−フェノキシエチル、１−フェノキシエチ
ル、３−フェノキシプロピル、４−フェノキシブチル、
１，１−ジメチル−２−フェノキシエチル、５−フェノ
キシペンチル、６−フェノキシエチル、２−メチル−３
−フェノキシプロピル、２−　（３−メチルフェノキシ
）エチル、１−（４−メチルフェノキシ）エチル、２−
（メチルフェノキシ）メチル、３−　（２−エチルフェ
ノキシ）プロピル、４−　（３−エチルフェノキシ）ブ
チル、１．１−ジメチル−２−（４−エチルフェノキシ
）エチル、５−（４−イソプロピルフェノキシ）ペンチ
ル、６−（４−へキシルフェノキシ）ヘキシル、３．４
−ジメチルフェノキシメチル、３，４．５−トリメチル
フェノキシメチル、２．５−ジメチルフェノキシメチル
基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基であって、フェニル環上に炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することのある
フェノキシアルキル基を挙げることができる。

モルホリン環上に置換基としてフェニル低級アルキル基
を有することのあるモルホリノ低級アルキル基としては
、モルホリノメチル、２−モルホリノエチル、１−　（
３−モルホリノ）エチル、３−（２−モルホリノ）プロ
ピル、４−モルホリノブチル、５−　（２−モルホリノ
）ペンチル、６−（３−モルホリノ）ヘキシル、２，２
−ジメチル−３−モルホリノプロピル、２−メチル−３
−モルホリノプロピル、（１−ベンジル−３−モルホリ
ノ）メチル、２−　［１−（２−フェニルエチル）−２
−モルホリノ〕エチル、１−　［２−（１−フェニルエ
チル）モルホリノ〕エチル、４−（３−フエ、ニルプロ
ピル）モルホリノコブチル、５−（１−（１，１−ジメ
チル−２−フェニルエチル）−２−モルホリノエチルチ
ル、６−　（１−（５−フェニルペンチル）−３−モル
ホリノエチルシル、２．２−ジメチル−３−（１−（２
−メチル−３−フェニルプロピル）−３−モルホリノ〕
プロピル、２−メチル−３−（１−ベンジル−３−モル
ホリノ）プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であって、モルホリン環上
に置換基としてアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を有する
ことのあるモルホリノアルキル基を挙げることができる
。

置換基としてフェニル低級アルキル基を有することのあ
るピペリジニル基としては、１−ベンジル−４−ピペリ
ジニル、１−（２−フェニルエチル）−４−ピペリジニ
ル、１−（１−フェニルエチル）−４−ピペリジニル、
３−　（３−フェニルプロピル）−１−ピペリジニル、
２−　（１，１−ジメチル−２−フェニルエチル）−１
−ピペリジニル、４−　（５−フェニルペンチル）−１
−ピペリジニル、１−（２−メチル−３−フェニルプロ
ピル）−２−ピペリジニル、１−（６−フェニルペンチ
ル）−３−ピペリジニル基等のピペリジン環上に置換基
としてアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基であるフェニルアルキル基を有することのあ
るピペリジニル基を挙げることができる。

カルボキシ低級アルキル基としては、カルボキシメチル
、２−カルボキシエチル、１−カルボキシエチル、３−
カルボキシプロピル、４−カルボキシブチル、１，１−
ジメチル−２−カルボキシエチル、５−カルボキシペン
チル、６−カルボキシヘキシル、２−メチル−３−カル
ボキシプロピル基等のアルキル部分の炭素数が１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるカルボキシアルキル
基を例示できる。

フェニル低級アルコキシカルボニル低級アルキル基とし
ては、フェニルメトキシカルボニルメチル、２−（２−
フェニルエトキシカルボニル）エチル、１−　（１−フ
ェニルエトキシカルボニル）エチル、３−　（３−フェ
ニルプロポキシカルボニル）プロピル、４〜（４−フェ
ニルブトキシカルボニル）ブチル、１，１−ジメチル−
２−（２＝フエニルエトキシカルボニル）エチル、５−
　（５−フェニルペンチルオキシカルボニル）ペンチル
、６−（６−フエニルヘキジルオキシカルボニル）ヘキ
シル、２−メチル−３−（３−フェニルプロポキシカル
ボニル）プロピル基等のアルキルもしくはアルコキシ部
分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルもしく
はアルコキシ基であるフェニルアルコキシカルボニルア
ルキル基を例示できる。

置換基として低級アルキル基を有することのあるアミド
低級アルキル基としては、アミドメチル、メチルアミド
メチル、２−エチルアミドエチル、１−プロピルアミド
エチル、３−イソプロピルアミドプロピル、４−ブチル
アミドブチル、１．１−ジメチル−２−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミドエチル、５−ペンチルアミドベンチル、６−へ
キシルアミドヘキシル、２−ジメチルアミドエチル、ジ
エチルアミドメチル、１−ジプロピルアミドエチル、３
−ジブチルアミドプロピル、４−ジエチルアミドメチル
、５−ジエチルアミドメチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−
エチルアミド）ヘキシル、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル
アミド）メチル、２−　（Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミ
ド）エチル、３−　（Ｎ−メチル−Ｎ−へキシルアミド
）プロピル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基が１〜２個置換することのあるアミド基が置換し
た炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示で
きる。

飽和の５員もしくは６員の複素環置換カルボニル低級ア
ルキル基としては、（１−ピロリジニルカルボニル）メ
チル、２−　（１−ピペリジニルカルボニル）エチル、
１−　（１−ピペラジニルカルボニル）エチル、３−モ
ルホリノカルボニルプロピル、４−チオモルホリノカル
ボニルブチル、１゜１−ジメチル−２−（１−ピロリジ
ニルカルボニル）エチル、５−　（１−ピペリジニルカ
ルボニル）ペンチル、６−モルホリノカルボニルペンチ
ル、２−メチル−３−チオモルホリノカルボニルプロピ
ル基等のアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基である飽和の５員もしくは６員の複素環
置換カルボニルアルキル基を例示できる。

ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基又はフェ
ニル低級アルキル基を有することのあるピペリジニル基
としては、ピペリジニル、１−メチル−２−ピペリジニ
ル、１−エチル−２−ピペリジニル、１−プロピル−２
−ピペリジニル、４−ブチル−１−ピペリジニル、４−
ペンチル−１−ピペリジニル、２−へキシル−３−ピペ
リジニル、３−メチル−２−ピペリジニル、１−ベンジ
ル−２−ピペリジニル、１−（２−フェニルエチル）−
２−ピペリジニル、１−（１−フェニルエチル）−２−
ピペリジニル、４−（３−フェニルプロピル）−１−ピ
ペリジニル、４−（４−フェニルブチル）−１−ピペリ
ジニル、２−（５−フェニルヘキシル）−３−ピペリジ
ニル、３−メチル−２−（６−フェニルヘキシル）−２
−ピペリジニル基等のピペリジン環上に置換基として炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基或いはアルキ
ル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
であるフェニルアルキル基を有することのあるピペリジ
ニル基を例示できる。

ｃ、　　Ｃ１６アルキル基としては、前記低級アルキル
基に加えて、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウ
ンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペン
タデシル、ヘキサデシル基等の炭素数１〜１６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

置換基としてアミノ基又は低級アルキルアミノ基を有す
ることのあるキヌクリジニル基としては、キヌクリジニ
ル、３−アミノ−１−キヌクリジニル、３−メチルアミ
ノ−１−キヌクリジニル、３−エチルアミノ−１−キヌ
クリジニル、２−プロピルアミノ−１−キヌクリジニル
、２−ブチルアミノ−１−キヌクリジニル、３−ブチル
アミノ−１−キヌクリジニル、２−（１，１−ジメチル
−２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）−１−キヌクリジニル
、３−（５−ペンチルアミノ）−１−キヌクリジニル、
２−（６−ヘキジルアミノ）−１−キヌクリジニル、３
−ジメチルアミノ−１−キヌクリジニル、２−ジエチル
アミノ−１−キヌクリジニル、３−ジプロピルアミノ−
１−キヌクリジニル、２−ジヘキシルアミノー１−キヌ
クリジニル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）−
１−キヌクリジニル基等の置換基としてアミノ基又は炭
素数１〜６の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基が１〜２
個置換しているアミノ基を有することのあるキヌクリジ
ニル基を例示できる。

上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体に
は、公知の化合物が含まれている。該誘導体は、種々の
方法で製造され得るが、その−例を示せば例えば下記反
応式で示される方法に依り製造される。

反応式−１ 〔式中Ｒ２、Ｒ３、ｎ並びにカルボスチリル骨格の３位
及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ８及びＲ７はそ
れぞれ低級アルキル基を示す。〕一般式（２）の化合物
の環化反応は、例えば■適当な溶媒中接触還元触媒を用
いて還元するか又は■適当な不活性溶媒中、金属もしく
は金属塩と酸又は金属もしくは金属塩とアルカリ金属水
酸化物、硫化物、アンモニウム塩等との混合物等を還元
剤として用いて還元することにより行なわれる。

■の接触還元を用いる場合、使用される溶媒としては、
例えば水、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパ
ツール等のアルコール類、ヘキサン、シクロヘキサン等
の炭化水素類、ジエチレングリコールジメチルエーテル
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル
類、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等
が挙げられる。使用される接触還元触媒としては、例え
ばパラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、白
金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等が用い
られる。触媒の使用量としては、一般式（２）の化合物
に対して０．０２〜１倍重量程度用いるのがよい。上記
反応は、通常５０〜１５０℃付近、好ましくは５０〜１
００°Ｃ付近、水素圧１〜１０気圧で行なわれ、一般に
０．５〜１０時間程時間路了する。

また■の方法を採用する場合、鉄、亜鉛、錫もしくは塩
化第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸、又は鉄、硫酸第一鉄、
亜鉛もしくは錫と水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水
酸化物、硫化アンモニウム等の硫化物、アンモニア水、
塩化アンモニウム等のアンモニウム塩との混合物が還元
剤として用いられる。使用される不活性溶媒としては、
例えば水、酢酸、メタノール、エタノール、ジオキサン
等を例示できる。上記還元反応の条件としては、用いら
れる還元剤によって適宜選択すればよく、例えば塩化第
一錫と塩酸とを還元剤として用いる場合、有利には０〜
１５０℃付近、０．５〜１０時間程時間部を行なうのが
よい。還元剤の使用量としては、化合物（２）に対して
少なくとも等モル量、通常は等モル−５倍モル量用いら
れる。

一般式（３）の化合物を一般式（１ａ）に導く反応は、
酸の存在下無溶媒又は適当な溶媒中にて行なわれる。こ
こで使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸等
の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸等を例示で
きる。斯かる酸の使用量としては、化合物（３）に対し
て通常少なくとも等モル程度、好ましくは大過創世とす
るのがよい。また溶媒としては、水、メタノール、エタ
ノール、イソプロパツール等のアルコール類、ベンゼン
、トルエン、キシレン、テトラリン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジグライム、モノグライム等のエーテル類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド等の極性溶媒等を例示できる。上記反
応は、通常室温〜２００℃程度、好ましくは室温〜１５
０°Ｃ程度にて好適に進行し、一般に１〜１０時間程度
で完結する。

反応式−２ 〔式中Ｒ１１Ｒ２、Ｒ３、ｎ並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（４）の化合物の環化反応は、適当な塩基性化合
物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。ここで使用
される塩基性化合物としては、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、金属ナトリウム、金属カリ
ウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム等の無機塩
基、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート等の
アルコラード類、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジン等の有機塩基等
を例示できる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、
化合物（４）に対して通常少なくとも等モル程度、好ま
しくは等モル−２倍モル程度とするのがよい。また溶媒
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパツール
等のアルコール類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン
酸トリアミド、無水酢酸等の極性溶媒等を例示できる。

上記反応は、通常室温〜１５０℃程度、好ましくは室温
〜１００℃程度にて好適に進行し、一般に１〜１０時間
程度で完結する。

反応式−３ 〔式中Ｒ’　、Ｒ３、ｎ並びにカルボスチリル骨格の３
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。

Ｒ８はフェニル低級アルカノイル基、置換基としてハロ
ゲン原子もしくは低級アルキルアミノ基を有することの
ある低級アルカノイル基、ピペリジン環上にフェニル低
級アルキル基を有することのあるピペリジニル低級アル
カノイル基、又はピロリジニル低級アルカノイル基を示
し、Ｘｌは水酸基を示す。Ｒ１０′は後記に同じ。〕一
般式（１ｃ）の化合物と一般式（５）の化合物との反応
には、通常のアミド結合生成反応の条件を広く適用でき
、例えば（イ）混合酸無水物法即ちカルボン酸（５）に
アルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし
、これにアミン（１ｃ）を反応させる方法、（ロ）活性
エステル法即ちカルボン酸（５）をｐ−ニトロフェニル
エステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１
−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル等の活性エス
テルとし、これにアミン（１ｃ）を反応させる方法、（
ハ）カルボジイミド法即ちカルボン酸（５）にアミン（
１ｃ）をジシクロへキシルカルボジイミド、カルボニル
ジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合させる方法
、（ニ）その他の方法としてカルボン酸（５）を無水酢
酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これにアミ
ン（１ｃ）を反応させる方法、カルボン酸（５）と低級
アルコールとのエステルにアミン（１ｃ）を高圧高温下
に反応させる方法、カルボン酸（５）の酸ハロゲン化物
即ちカルボン酸ハライドにアミン（１ｃ）を反応させる
方法等を挙げることができる。

混合酸無水物法において用いられる混合酸無水物は、通
常のショツテン−バウマン反応により得られ、これを通
常単離することなくアミン（１ｃ）と反応させることに
より一般式（１ｄ）の化合物が製造される。ショツテン
−バウマン反応は塩基性化合物の存在下に行なわれる。

用いられる塩基性化合物としては、ショツテン−バウマ
ン反応に慣用の化合物が用いられ、例えばトリエチルア
ミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン
、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４
，３，０）ノネン−５（ＤＢＮ）　、１゜８−ジアザビ
シクロ（５，４，０３ウンデセン−７（ＤＢＵ）　、１
．４−ジアザビシクロ（２，２゜２〕オクタン（ＤＡＢ
ＣＯ）等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基等
が挙げられる。

該反応は、通常−２０〜１００℃程度、好ましくは０〜
５０°Ｃ程度において行なわれ、反応時間は通常５分〜
１０時間、好ましくは５分〜２時間である。得られた混
合酸無水物とアミン（１ｃ）との反応は、通常−２０〜
１５０°Ｃ程度、好ましくは１０〜５０°Ｃ程度におい
て行なわれ、反応時間は通常５分〜１０時間、好ましく
は５分〜５時間である。混合酸無水物法は、一般に溶媒
中で行なわれる。用いられる溶媒は、混合酸無水物法に
慣用の溶媒がいずれも使用可能であり、具体的には塩化
メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸
エチル等のエステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。混合酸無
水物法において使用されるアルキルハロカルボン酸とし
ては、例えばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、ク
ロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブ
チル等が挙げられる。該法におけるカルボン酸（５）、
アルキルハロカルボン酸及びアミン（１ｃ）の使用割合
は、通常当モルづつ使用されるが、アミン（１ｃ）に対
してアルキルハロカルボン酸及びカルボン酸（５）を１
〜１．５倍モル使用してもよい。

またカルボン酸ハライドにアミン（１ｃ）を反応させる
方法を採用する場合、該反応は塩基性化合物の存在下適
当な溶媒中にておこなわれる。用いられる塩基性化合物
としては公知のものを広く使用でき、例えば上記ショツ
テン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物の他に水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルコラード等を挙げることがで
きる。用いられる溶媒としては、例えば上記混合酸無水
物法に用いられる溶媒の他に、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール、３−メトキシ−１−ブタ
ノール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等のアル
コール類、ピリジン、アセトン、アセトニトリル等やこ
れらの混合溶媒等を挙げることができる。アミン（１ｃ
）とカルボン酸ハライドとの使用割合としては、特に限
定がなく広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常前者
に対して後者を少なくとも等モル量程度、好ましくは等
モル−５倍モルロ程度とするのがよい。該反応は、通常
−３０〜１８０℃程度、好ましくは０〜１５０℃程度に
て好適に進行し、一般に５分〜３０時間程度で完結する
。

上記反応式−３において、一般式（１ｄ）の化合物を一
般式（１ｃ）の化合物に導（反応は、塩酸、硫酸、臭化
水素酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸等
の存在下、水、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール等のアルコール類中にて行なわれる。該反応は、通
常室温〜２００°Ｃ程度、好ましくは室温〜１５０℃程
度にて好適に進行し、一般に３０分〜１０時間程度で終
了する。

Ｒ８がハロゲン置換低級アルカノイル基を示す一般式（
１ｄ）の化合物である場合、該化合物に、アミン類（即
ち低級アルキルアミン、ピペリジン環上に置換基として
フェニル低級アルキル基を有することのあるピペリジン
又はピロリジン）を反応させることにより　Ｒ８が低級
アルキルアミノ低級アルカノイル基、ピペリジン環上に
置換基としてフェニル低級アルキル基を有することのあ
るピペリジニル低級アルカノイル基又はピロリジニル低
級アルカノイル基である一般式（１ｄ）の化合物に誘導
することができる。この反応は、一般に適当な不活性溶
媒中塩基性縮合剤の存在下又は不存在下にて行なわれる
。用いられる不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール等のアルコール類、酢酸、酢酸
エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を例示できる。また
塩基性縮合剤としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、
ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート等の金属
アルコラード、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩
基等を例示できる。アミン類の使用貴としては、処理す
べき化合物（１ｄ）に対して通常少なくとも等モル程度
、好ましくは等モル−１０倍モル程度とするのがよい。

該反応は、通常４０〜１５０℃程度、好ましくは５０〜
１２０℃程度にて好適に進行し、一般に５〜３０時間程
度で完結する。

反応式−４ 〔式中Ｒ１、Ｒ３、ｎ並びにカルボスチリル骨格の３位
及び４位の炭素間結合は前記に同じ。

Ｒ９は基−ＮＲ＆’　Ｒ５’　　（Ｒ”及びＲ５／は同
−又は異なって水素原子、置換基として水酸基、アミノ
基又は低級アルキルアミノ基を有することのある低級ア
ルキル基、置換基として低級アルコキシ基を有すること
のあるフェニル低級アルキル基、フェニル基、低級アル
ケニル基、イミダゾリニル基、フェニル環上に置換基と
して低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級
アルキル基、モルホリン環上に置換基としてフェニル低
級アルキル基を有することのあるモルホリノ低級アルキ
ル基、ピペリジン環上に置換基としてフェニル低級アル
キル基を有することのあるピペリジニル基又はシクロア
ルキル基を示す。またこのＲＡ／及びＲ５／　は、これ
らが結合する窒素原子と共に窒素原子酸素原子、もしく
は硫黄原子を介し又は介することなく５員〜９員の複素
環を形成してもよい。該複素環上にはフェニル基、水酸
基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有
していてもよいフェニル低級アルキル基、置換基として
水酸基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を１〜３個
有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
、テトラヒドロフリル低級アルキル基、チェニル低級ア
ルキル基、シクロアルキル低級アルキル基、シクロアル
キル基、フェニル環上にハロゲン原子を有していてもよ
いベンゾイル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基
、低級アルキルアミド基、低級アルキニル基、低級アル
カノイル低級アルキル基、フェニル低級アルコキシカル
ボニル基、基−（Ａ）ｍ−ＮＲ”　Ｒ”　　［：式中Ｒ
Ｉ３及びＲＩＡは、同−又は異なって、低級アルキル基
、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有す
ることのあるフェニル低級アルキル基を示す。またこの
ＲＩ３及びＲＩＡは、これらが結合する窒素原子と共に
窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく５
又は６員環の複素環を形成してもよい。該複素環上には
、置換基として低級アルキル基を有していてもよい。

Ａは低級アルキレン基又は、基−Ａ’　−Ｃ−（Ａ’　
は低級アルキレン基）、ｍは０又は１を示す。〕及びフ
ェニル環上に低級アルコキシ基を有することのあるベン
ゾイル基なるＲ羊より選ばれた基が１〜３個置換してい
てもよい。）を示す。Ｘ２はハロゲン原子を示す。〕 一般式（１ｅ）の化合物と一般式（６）の化合物との反
応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下又は非存在
下にて行なわれる。ここで使用される溶媒としては、Ｎ
−メチルピロリドンに加えて、上記反応式−３における
カルボン酸ハライドと化合物（５）との反応において使
用される溶媒がいずれも使用可能である。また塩基性化
合物としても、溶媒と同様、上記反応式−３におけるカ
ルボン酸ハライドと化合物（５）との反応において使用
される塩基性化合物をいずれも使用することができる。

該反応においては、反応系内に沃化鋼等のハロゲン化銅
、銅粉等を添加すると該反応が有利に進行する。該反応
は、通常室温〜２５０℃程度、好ましくは室温〜２００
℃程度にて好適に進行し、一般に５〜２０時間程時間先
結する。

反応式−５ （ＩＣ） （１ｇ） 〔式中Ｒ’　、Ｒ３、ｎ、Ｘ”並びにカルボスチリル骨
格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。ＲＩＯは
置換基として水酸基もしくは低級アルキル基を有するこ
とのある低級アルキル基、置換基として低級アルコキシ
基を有することのあるフェニル低級アルキル基、フェニ
ル基、低級アルケニル基、イミダゾリニル基、フェニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
フェノキシ低級アルキル基、モルホリン環上に置換基と
してフェニル低級アルキル基を有することのあるモルホ
リノ低級アルキル基、ピペリジン環上に置換基としてフ
ェニル低級アルキル基を有することのあるピペリジニル
基又はシクロアルキル基を示す。Ｒ１０′はＲＩＯと同
一の基又は水素原子を示す。〕 一般式（ＩＣ）の化合物と一般式（７）の化合物との反
応は、無溶媒で又は通常の不活性溶媒中にて行なわれる
。不活性溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒド
ロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパツール
等の低級アルコール類、酢酸、酢酸エチル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、アセト
ニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸
トリアミド等の極性溶媒等を挙げることができる。上記
反応は、より有利には塩基性化合物を脱酸剤として用い
て行なわれる。該塩基性化合物としては、例えば炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミド、水素
化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナ
トリウムエチラート等の金属アルコラード類、ＤＢＵｌ
　トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、
キノリン等の有機塩基等を挙げることができる。また上
記反応は、必要に応じ反応促進剤として、沃化カリウム
、沃化ナトリウム等の沃化アルカリ金属化合物を添加し
て行ない得る。更に該反応においては、反応系内に沃化
銅等のハロゲン化銅、銅粉等を添加してもよい。上記反
応における化合物（１ｃ）と化合物（７）との使用割合
としては、通常前者に対して後者を等モル−過・　　測
量、好ましくは等モル−５倍モル程度とするのがよい。

該反応は、通常室温〜２００℃程度、好ましくは６０〜
１２０℃程度にて好適に進行し、一般に数時間〜３０時
間程度で完結する。

反応式−６ （ｌｈ）　　　　　　　　　　　　（ｌｉ）（１ｊ） （１ｋ） 〔式中Ｒ１、Ｒ３、ｎ５Ｘ２並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の結合は前記に同じ。

Ｒ１ｌは低級アルキル基、Ｍはナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属を示す。〕 一般式（１ｈ）の化合物と一般式（８）の化合物との反
応は、適当な溶媒中塩基性化合物の存在下又は非存在下
で行なわれる。ここで使用される溶媒としては、例えば
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエ
ステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、スルホキシ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極
性溶媒、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジン、
アセトン、アセトニトリル、水等やこれらの混合溶媒等
を挙げることができる。また塩基性化合物としては、例
えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＮＳＤ
ＢＵ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化カリウム、水
素化ナトリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルコラード類等の無機塩基等を
挙げることができる。化合物（８）の使用量としては、
化合物（１ｈ）に対して通常少なくとも等モル量程度、
好ましくは等モル−１，５倍モル量程度とするのがよい
。該反応は、通常−３０〜１８０℃程度、好ましくは０
〜１５０℃付近にて好適に進行し、一般に５分〜３０時
間で完結する。

一般式（１１）の化合物と一般式（９）の化合物との反
応は、適当な溶媒中又は無溶媒下、通常０〜１５０℃程
度、好ましくは室温〜１００°Ｃ付近にて行なわれる。

ここで使用される溶媒としては、上記化合物（１ｈ）と
化合物（８）との反応において用いられる溶媒をいずれ
も使用することができる。化合物（９）の使用量として
は、化合物（１１）に対して通常大過剰量とするのがよ
い。

該反応は、一般に１〜５時間程度で完了する。

一般式（１ｊ）の化合物を一般式（１ｋ）の化合物に導
く反応は、前記反応式−１における一般式（３）の化合
物を一般式（１ａ）の化合物に導く反応と同様の反応条
件下にて行なわれる。

反応式−７ （１ｃ） （１Ｑ） 〔式中ＲＩＳＲ３、ｎ５Ｘ２並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の結合は前記に同じ。

Ｒ１２はフェニル基、水酸基、フェニル環上に置換基と
して低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル低級
アルキル基、置換基として水酸基、低級アルコキシ基又
はハロゲン原子を１〜３個有していてもよい炭素数１〜
１０のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級ア
ルキル基、チェニル低級アルキル基、シクロアルキル低
級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル環上にハロ
ゲン原子を有していてもよいベンゾイル低級アルキル基
、ピリジル低級アルキル基、低級アルキルアミド基、低
級アルキニル基、低級アルカノイル低級アルキル基、フ
ェニル低級アルコキシカルボニル基、基−（Ａ）ｍ−Ｎ
Ｒ”　Ｒ”　　［式中ＲＩ３及びＲＩ４は、同−又は異
なって、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として
低級アルコキシ基を有することのあるフェニル低級アル
キル基を示す。またこのＲ１３及びＲＩ４は、これらが
結合する窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介
し又は介することなく５又は６員環の複素環を形成して
もよい。該複素環上には、置換基として低級アルキル基
を有していてもよい。

Ａは低級アルキレン基又は、基−Ａ′−６−（Ａ’　は
低級アルキレン基）、ｍは０又は１を示す。〕及びフェ
ニル環上に低級アルコキシ基を有することのあるベンゾ
イル基を、Ｑは０又は１〜３の整数を、Ｘ３はハロゲン
原子を示す。〕 一般式（１ｃ）の化合物と一般式（１ｏ）の化合物との
反応は、前記一般式（１ｃ）の化合物と一般式（７）の
化合物との反応と同様の反応条件下にて行なうことがで
きる。

反応式−８ Ｒ１ （ＩＣ） 〔式中Ｒ’、Ｒ’、Ｒ１２，９Ｓｎ、Ｘ２、Ｘ’並びに
カルボスチリル骨格の３位及び４位の結合は前記に同じ
。Ｚはメチン基、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を示
す。ａは２又は３を示す。〕 一般式（ＩＣ）の化合物と一般式（１１）の化合物との
反応は、前記一般式（１ｃ）の化合物と一般式（７）の
化合物との反応と同様の反応条件下にて行なうことがで
きる。

斯くして得られる一般式（１ｍ）の化合物において、Ｚ
が窒素原子且つＱが０である化合物は、これに一般式　
Ｒ１２／　Ｘ２ 〔式中Ｒ１２′はフェニル基、フェニル環上に置換基と
して低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル低級
アルキル基、置換基として水酸基又はハロゲン原子を１
〜３個有してもよい炭素数１４１０のアルキル基、低級
アルケニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、チェニル低級アルキル基、シクロアルキル低級アル
キル基、シクロアルキル基、フェニル環上にハロゲン原
子を有していてもよいベンゾイル低級アルキル基、ピリ
ジル低級アルキル基、低級アルキニル基、低級アルカノ
イル低級アルキル基、又は基−（Ａ）ｍ’　−ＮＲ”　
Ｒ”　　（式中Ｒ１３、Ｒ１４及びＡは前記に同じ。ｍ
′は１を示す。）を示す。Ｘ２は前記に同じ。〕で表わ
される化合物を反応させることにより、Ｚが窒素原子で
あり且つ該窒素原子上にＲ１２′基が置換した化合物（
１ｍ）に誘導することができる。この反応は、前記反応
式−５における化合物（ＩＣ）と化合物（７）との反応
と同様の反応条件下にて行なうことができる。

また一般式（１ｍ）の化合物において、Ｚが窒素原子且
つＱが０である化合物は、これに一般式％式％）（ 〔式中Ｒ１２″はフェニル環上に置換基として低級アル
コキシ基を有することのあるベンゾイル基、低級アルキ
ルアミド基又はフェニル低級アルコキシカルボニル基を
示す。Ｘｌは前記に同じ。〕 で表わされる化合物を反応させることにより、Ｚが窒素
原子であり且つ該窒素原子上にＲＩ２″基が置換した化
合物（１ｍ）に誘導することができる。この反応は、前
記反応式−３における化合物（１ｃ）と化合物（５）と
の反応と同様の反応条件下にて行なうことができる。

一般式（１）において、Ｒ２が−ＮＲ’　Ｒ５であり且
つＲ４及びＲ５が同−又は異なって、フェニル低級アル
カノイル基、置換基として低級アルキルアミノ基を有す
ることのある低級アルカノイル基を示す化合物或いはこ
のＲ４とＲ５とがこれらが結合する窒素原子と共に複素
環を形成し、その複素環の置換基が低級アルキルアミド
基又は基−Ａ’　−Ｃ−ＮＲＩ　３　Ｒ１’　　（Ａ’
　、Ｒ１３及びＲＩ４は前記に同じ）であるか又はその
複素環の窒素原子上にフェニル環上に低級アルコキシ基
を有することのあるベンゾイル基が置換している化合物
は、これを還元することによりそれらの置換基のカルボ
ニル基を−ＣＨ２−基に導くことができる。

該還元反応は、適当な溶媒中、水素化還元剤の存在下に
行われる。使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化アルミニウムリチウム、ジボラン等を
例示できる。還元剤の使用量は、出発原料に対して少な
くとも等モル、好ましくは等モル−３倍モル使用するの
がよい。水素化アルミニウムリチウムを還元剤として使
用する場合には、好ましくは出発原料に対して等重量使
用するのがよい。使用される溶媒としては、例えば、水
、メタノール、エタノール、イソプロパツール等の低級
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジグライム等エーテル類等を例示できる。該反応は、
通常−６０〜５０℃、好ましくは一３０°Ｃ〜室温付近
にて、１０分〜５時間程度で終了する。水素化アルミニ
ウムリチウム又は、ジボランを還元剤として使用する場
合は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグラ
イム等の無水溶媒を使用するのがよい。

反応式−９ （１ｎ） Ｒ１／ 〔式中Ｒ２、Ｒ３、ｎ、Ｘ２並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の結合は前記に同じ。

Ｒ１／　は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基又はフェニル低級アルキル基を示す。〕 一般式（１ｎ）の化合物と一般式（１１）の化合物との
反応は、例えば塩基性化合物の存在下適当な溶媒中にて
行なうのがよい。ここで塩基性化合物としては、例えば
水素化ナトリウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウム
アミド、カリウムアミド等を挙げることができる。また
溶媒としては、例えばジオキサン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を
挙げることができる。化合物（１ｎ）と化合物（１１）
との使用割合としては、特に限定がなく広い範囲内で適
宜選択すればよいが、通常前者に対して後者を少なくと
も等モル程度、好ましくは等モル−２′倍モル程度とす
るのがよい。

該反応は、通常０〜７０℃程度、好ましくは０℃〜室温
付近にて行なわれ、一般に０．５〜１２時間程時間路了
する。

反応式−１０ （１ｐ）　　　　　　　　　　　　　　（１ｑ）〔式中
Ｒｌ　、Ｒ２、Ｒ３及びｎは前記に同じ。〕一般式（１
ｑ）の化合物の還元には、通常の接触還元条件が適用さ
れる。用いられる触媒としては、パラジウム、パラジウ
ム−炭素、プラチナ、ラネーニッケル等の金属を例示で
き、斯かる金属を通常の触媒量で用いるのがよい。また
用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ヘキサン、シクロヘキサン、酢酸エチル等を挙げる
ことができる。該還元反応は、常圧及び加圧下のいずれ
でも行なうことができるが、通常常圧〜２０Ｋｇ／ｃｍ
２、好ましくは常圧〜１０Ｋｇ／ｅｌｌ１２にて行なう
のがよい。また反応温度としては、通常Ｏ〜１５０℃程
度、好ましくは室温〜１００℃とするのがよい。

また一般式（１ｐ）の化合物の脱水素反応は、適当な溶
媒中酸化剤を使用して行なわれる。用いられる酸化剤と
しては、例えば２．３−ジクロロ−５，６−ジシアツベ
ンゾキノン、クロラニル（２，３，５，６−チトラクロ
ロペンゾキノン）等のベンゾキノン類、Ｎ−ブロモコハ
ク酸イミド、Ｎ−クロロコハク酸イミド、臭素等のハロ
ゲン化剤、二酸化セレン、パラジウム−炭素、パラジウ
ム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケル等の水素化触媒
等を挙げることができる。ハロゲン化剤の使用量として
は、特に限定されず広い範囲内から適宜選択すればよい
が、通常化合物（１ｐ）に対して通常等モル〜５倍モル
量、好ましくは等モル−２倍モル量とするのがよい。ま
た水素化触媒を用いる場合には通常の触媒量とするのが
よい。溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロ
フラン、メトキシエタノール、ジメトキシメタン等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の
芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ブタノール、アミルアルコール、ヘキサノール等のアル
コール類、酢酸等の極性プロトン溶媒、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミド等の極性非プロトン溶媒類等を例示できる。

該反応は、通常室温〜３００℃程度、好ましくは室温〜
２００℃にて行なわれ、一般に１〜４０時間程度で完結
する。

更に一般式（１）で表わされる化合物のうち、Ｒ１が水
素原子を示し且つカルボスチリル骨格の３位及び４位の
炭素間結合が二重結合である化合物は、下記反応式−１
１に示すようにラクタムーラクチム型の互変異性をとり
得る。

反応式−１１ 〔式中Ｒ２、Ｒ３及びｎは前記に同じ。〕反応式−１２ Δ （１４）　　　　　　　　　　　　　　　　（１ｒ）〔
式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。ｎ′及びｎ″は
０．１又は２の整数を示す。但し、ｎ’　＋ｎ＃≦２で
なければならない。ｂ及びＣはそれぞれ０又は１を示す
。但し、ｂ及びＣは同時に０であってはならない。Ａは
ＲＩ５Ｃ＝Ｃ−１（式中Ｒ１５はフェニル基、低級アル
コキシ基、又はハロゲン原子を示す。） （Ｒ１”　　Ｏ）　　　（Ｒ言　７　０）　　Ｃ−ＣＨ
−（Ｒ１８及びＲ１７はそれぞれ低級アルキル基を示す
。）又は基ＣＥＣ−を示す。〕 一般式（１２）の化合物と一般式（１３）の化合物の反
応は、前記反応式−３の一般式（１ｃ）の化合物と一般
式（５）の化合物との反応と同様の条件下に行われる。

一般式（１４）の化合物の環化は、酸の存在下無溶媒下
で又は適当な溶媒中にて行われる。酸としては特に限定
されず通常め無機酸や有機酸を広（使用でき、具体的に
は塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、塩化アルミニウ
ム、三弗化酸素、四塩化チタン等のルイス酸、ギ酸、酢
酸、エタンスルホン酸、Ｉ）−）ルエンスルホン酸等の
有機酸等を例示し得る。これらの酸のうちで塩酸、臭化
水素酸、硫酸等が好ましい。斯かる酸の使用量としては
、通常一般式（１４）の化合物に対して少なくとも等重
量、好ましくは１０〜５０倍重量の酸を用いるのがよい
。また溶媒としては通常の不活性溶媒を広く使用でき、
例えば水、メタノール、エタノール、プロパツール等の
低級アルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、クロロベンゼン、ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド等を例示できる。これらのうちで前記
低級アルコール類、エーテル類、アセトン、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミド等の水溶性溶媒が好ましい。該反応は通常
０〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃にて行われ、
通常５分〜６時間程度で反応は終了する。

一般式（１ｒ）において基−ＮＨＲ８（Ｒ８は前記に同
じ。）を示す化合物の場合には、反応式−３の化合物（
１ｄ）を化合物（１ｃ）に導く反応と同様の条件下に反
応して、Ｒ２が−ＮＨ２の化合物に導くことができる。

本発明の一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導
体は、医薬的に許容される酸を作用させることにより容
易に酸付加塩を形成させることができる。該酸としては
、例えば塩′酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸
、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸を挙げることができ
る。

本発明の一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導
体は、医薬的に許容される塩基性化合物を作用させるこ
とにより容易に塩を形成させることができる。該塩基性
化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等を挙げることができる。また、ヨウ化メチル、
塩化エチル等のハロゲン化アルキル等を作用させたり、
三級アミンと反応させることにより、四級塩を形成させ
ることができる。

斯くして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。

尚本発明は光学異性体も当然に包含するものである。

一般式（１）の化合物は通常、一般篩な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、
結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈
剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤と
しては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代
表的なものとして錠剤、火剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤、カプセル剤、平削、注射剤（液剤、懸濁剤
等）等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては
、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき
、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素
、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロー
ス、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール
、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液
、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセル
ロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結
合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、
ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド
、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカ
オバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニ
ウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グ
リセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオ
リン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精
製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレング
リコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必要
に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチ
ン被包錠、腸溶破錠、フィル−ムコーティング錠あるい
は二重錠、多層錠とすることができる。火剤の形態に成
形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のも
のを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、
カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、
アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール
等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例示で
きる。平削の形態に成形するに際しては、担体として従
来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチレングリ
コール、カカオ脂、高級アルコ−“ル、高級アルコール
のエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げ
ることができる。注射剤として調製される場合には、液
剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好
ましく、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形する
に際しては、希釈剤としてこの分野において慣用されて
いるものをすべて使用でき、例えば水、エチルアルコー
ル、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリル
アルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙
げることができる。なお、この場合等張性の溶液を調製
するに充分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを
強心剤中に含有せしめてもよく、゛また通常の溶解補助
剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に
応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の
医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。

本発明の抗不整脈剤中に含有されるべき一般式（１）の
化合物の量は、特に限定されず広範囲に適宜選択される
が、通常全組成物中１〜７０重量％、好ましくは１〜３
０重量％である。

本発明の抗不整脈剤の投与方法は特に制限はなく、各種
製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度
等に応じた方法で投与される。例えば錠剤、火剤、液剤
、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口
投与される。また注射剤の場合には単独であるいはブド
ウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与さ
れ、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もし
くは腹腔的投与される。平削の場合には直腸内投与され
る。

本発明の抗不整脈剤の投与量は用法、患者の年齢、性別
その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、
通常有効成分である一般式（１）の化合物の量は１日当
り体重１ｋｇ当り約０．１〜１０ｍｇとするのがよい。

また、投与単位形態中に有効成分を２〜２００ｍｇ含有
せしめるのがよい。

製剤例１ ３−ジエチルアミノ−８−５ｍｇ メチル−３，４−ジヒドロ カルボスチリル デンプン　　　　　　　　　　　　　１３２ｍｇマグネ
シウムステアレート　　　　　１８ｍｇ乳　　　　糖　
　　　　　　　　　　　　　　４５ｍｇ計　　　　　　
　　　　　　　　２００ｍｇ常法により１錠中、上記組
成物の錠剤を製造した。

製剤例２ ３−（Ｎ−メチル−Ｎ−１０ｍｇ （２−（３，４−ジメトキ シフェニル）エチル〕）− ８−メチルカルボスチリル デンプン　　　　　　　　　　　　　１２７ｍｇマグネ
シウムステアレート１８ｍｇ 乳　　　　糖　　　　　　　　　　　　　　　４５ｍｇ
計　　　　　　　　　　　　　　２００ｍｇ常法により
１錠中、上記組成物の錠剤を製造した。

製剤例３ ３−（４−ベンジル−１−５００ｍｇ ピペリジニル）−８−メチ ルカルボスチリル ポリエチレングリコール　　　　　０．３ｇ（分子量：
４０００） 塩化ナトリウム　　　　　　　　　０．９ｇポリオキシ
エチレンソルビタン　　０．４ｇモノオレート メタ重亜硫酸ナトリウム　　　　　０．１ｇメチル−パ
ラベン　　　　　　　　０．　１８ｇプロピル−パラベ
ン　　　　　　　０．　０２ｇ注射用蒸留水　　　　　
　　　　　１００醇」二記パラベン類、メタ重亜硫酸ナ
トリウム及び塩化ナトリウムを攪拌しながら８０℃で上
記の蒸留水に溶解する。得られた溶液を４０℃まで冷却
し、本発明化合物、次にポリエチレングリコールし及び
オキシエチレンソルビタンモノオレエートをその溶液中
に溶解した。次にその溶液に注射用蒸留水を加えて最終
の容合に調製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅
菌濾過することにより滅菌してｉ　ｍＱずつアンプルに
分注し、注射剤を調製する。

参考例１ ジエチル　２−アセチルアミノ−２−（２−ニトロ−３
−メチルベンジル）マロネイト１０ｇ及び１０％Ｐｄ−
Ｃ１ｇを酢酸５０ｍ１に懸濁し、３〜３．５気圧、６０
〜７０℃にて接触還元を行なう。水素添加終了後、触媒
を枦去、溶媒を留去する。得られた残渣をエタノールよ
り再結晶して、２．７ｇのエチル　３−アセチルアミノ
−８−メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル−３−
カルボキシレイトを得る。

ｍｐ、２３６．５〜２３８．５℃ 白色粉末状 実施例１ エチル　３−アセチルアミノ−８−メチル−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリル−３−カルボキシレイト２．７ｇ
に２０％塩酸６０ｍ１２を加え、２時間加熱還流する。

溶媒を減圧留去後、更にエタノール共沸により水を除去
する。得られた残渣をメタノール−ジエチルエーテルよ
り再結晶して、１．７４ｇの３−アミノ−８−メチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリル塩酸塩を得る。

ｍｐ、３００℃以上 無色リン片状晶 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　　δ： ２、　２６　　（３ＨＳ　ｓ） ３、・　０３〜３．４５　　（２ＨＳ　ｍ）４、　１６
　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ　、１２Ｈｚ　）６．８
０〜７．２０　　（３Ｈ，ｍ） ８．８０　　（２Ｈ，ｂｒ、） １０、　１０　　（Ｉ　Ｈ，ｂｒｓ、）適当な出発原料
を用い、実施例１と同様にして下記第１表に示す化合物
を得る。

実施例３５ ２−　［２−（４−ベンジル−１−ピペリジニル）アセ
チルコアミノ−３−メチルベンズアルデヒド０．５ｇを
エタノール１０−に溶解し、ナトリウムエチラートＯ，
ｌ１ｇを加え、２時間加熱還流する。反応混合物に水を
加え、ジクロロメタンで抽出する。水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。

溶媒を減圧留去して、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メタノ
ール＝１００　：　１）で精製する。エタノール−Ｈ（
ｌで塩酸塩とし、ジクロロメタン−エタノールより再結
晶して、０．２２ｇの３−（４−ベンジル−１−ピペリ
ジニル）−８−メチルカルボスチリル塩酸塩を得る。

淡黄色粉末状 ｍｐ、２２１〜２２２℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例３５と同様にして下記第
２表に示す化合物及び後記実施例９０の化合物を得る。

実施例８３ ４−クロロ−８−メチルカルボスチリル２．０ｇ、ジエ
チルアミン５ｍＧ、ヨウ化銅、銅粉末０．２ｇ及びＮ−
メチルピロリドン２０１ＴＩＱをオートクレーブ中１８
０〜１９０℃で１０時間加熱する。反応混合物に水を加
え、酢酸エチルにて抽出する。水洗、乾燥後、溶媒を留
去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出液；ジクロロメタン）にて精製する。エタ
ノール−Ｈ（、Ｑにて塩酸塩とし、アセトン−ジエチル
エーテルより再結晶して、０．６ｇの４−ジエチルアミ
ノ−８−メチルカルボスチリル塩酸塩を得る。

淡褐色粉末状 ｍｐ、１８３〜１８６℃ 適当な出発原料を用い、実施例８３と同様にして下記第
３表に示す化合物及び前記実施例１〜９．１１〜１９．
２３〜２８．３０〜４３．５０〜６３．６５〜７２．７
７〜８２、及び後記実施例９８．１００〜１６６．１６
８〜１７３．１７５〜１８０．１８７〜１９０．１９５
〜２２９．２３２〜２４０．２４４〜２４６．２５１〜
２５４．２５６〜２６３の化合物を得る。

実施例９０ ３−アミノ−８−メチルカルボスチリル２．９ｇ１　ト
リエチルアミン３．５ｍ１２及びジクロロメタン５０ｍ
Ｑの溶液に、水冷下クロロアセチルクロライド１．９ｍ
Ｑのジクロロメタン１０ｍ（２溶液を滴下する。滴下後
、室温にて３０分攪拌する。溶媒を減圧濃縮後、アセト
ンに懸濁させ、氷水中に注ぎ込む。析出品を消散、水洗
後、乾燥、アセトン−水より再結晶して、３−クロロア
セチルアミノ−８−メチルカルボスチリル３．６ｇを得
る。

白色粉末状 ｍｐ、２７１．５〜２７２℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例９０と同様にして前記実
施例２０〜２２．４６〜４８．６４．７３〜７６及び後
記実施例９９．２３０〜２３１．２４１〜２４３の化合
物を得る。

実施例９１ ３−クロロアセチルアミノ−８−メチル力ルボスチリル
０．７ｇ、ジエチルアミン２．０４ｇ。

トリエチルアミン１．　１６ｆｌｌ１２及びアセトニト
リル３０ｍＱの懸濁液を７．５時間加熱還流する。反応
混合物を氷水中に注ぎ込み、析出物を炉底、水洗、乾燥
する。メタノールに溶解し、濃塩酸−エタノールを用い
て塩酸塩とする。エタノール−水より再結晶して、０．
５２ｇの３−（２−ジエチルアミノアセチル）アミノ−
８−メチルカルボスチリル塩酸塩を得る。

淡黄色粉末状 ｍｐ、２５０〜２５２℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例９１と同様にして前記実
施例２０〜２２．４６〜４８．６４及び後記実施例２４
１〜２４３の化合物を得る。

実施例９２ ３−アミノ−８−メチル−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル塩酸塩１．６ｇをアセトン３０ｍＱに懸濁し、ヨウ
化エチル２．６ｇ及び炭酸カリウム２．６ｇを加えて、
封管中１２０℃にて１０時間加熱反応させる。次に反応
液にジクロロメタン−水を加え、有機層を分取する。有
機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
液；ジクロロメタン：メタノール−１００：１）にて精
製する。エタノール−塩酸により塩酸塩とした後、エタ
ノール−ジエチルエーテルより再結晶して、１．５ｇの
３−ジエチルアミノ−８−メチル−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩を得る。

白色粉末状 ｍｐ、２３１．５〜２３３°Ｃ 適当な出発原料を用い、実施例９２と同様にして前記実
施例５〜６．８．１１．１４．１６．１９．２３．２５
．３２．３７〜４２．４９〜５０．５３．５６．５９．
〜６０．６８〜７２．７７．８３及び後記実施例９８．
１０１．１０４．１１３．１２０．１２７．１３７．１
３９〜１４１．１４３．１４８．１７８．１８９〜１９
０．２０６°、２１５．２１７．２２３．２２７〜２２
９．２３４．２３７〜２４０の化合物を得る。

実施例９３ １−メチル−８−アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルＩｇ、１．４−ジブロモブタン１．３５ｇ、ヨウ化
ナトリウム１．９ｇ、炭酸カリウム１．７５ｇ及びアセ
トニトリルｌ０ＩＩＩＧの懸濁液を２０時間加熱還流す
る。反応液にジクロロメタン−水を加え、有機層を分取
、水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を留去後、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
溶出液；ジクロロメタン：メタノール−５０：１）にて
精製する。ジエチルエーテルに溶解し、エタノール−濃
塩酸を加えて塩酸塩とし、エタノール−ジエチルエーテ
ルより再結晶して、１．　１５ｇの１−メチル−８−ピ
ロリジノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル塩酸塩を得
る。

白色粉末状 ｍｐ−１７４，５〜１７７℃ 適当な出発原料を用い、実施例９３と同様にして前記実
施例２．４．７．１２．１７〜１８．２６〜２８．３１
．３４．５４〜５５．５７〜５８．６１〜６３．６５〜
６７．７８〜８２．８４〜８５及び後記実施例１００．
１０２．１０５〜１１０．１１２．１１４〜１１９．１
２１．１２３〜１２６．１２８〜１３２．１３４〜１３
６．１３８．１４２．１４４〜１４７．１４９〜１６６
．１６８〜１７３．１７５〜１７７．１８０．１８８．
１９７〜１９９．２０１〜２０５．２０７〜２１４．２
１６．２１９〜２２２．２２４〜２２６．２３２〜２３
３．２３５〜２３６．２４４〜２４６．２５１〜２５４
．２５６〜２６３の化合物を得る。

実施例９４ 水素化リチウムアルミニウム０．１９ｇを乾燥テトラヒ
ドロフラン２７ｍＱに懸濁し、３−アセチルアミノ−８
−メチルカルボスチリル０．９ｇを加え、アルゴン雰囲
気下、２時間加熱還流する。

反応液に水を加え、クロロホルム抽出する。水洗、硫酸
マグネシウムにて乾燥する。溶媒を留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメ
タン：メタノール＝５０　：　１）にて精製する。エタ
ノール−濃塩酸を用いて塩酸塩とし、エタノールより再
結晶して、０．２７ｇの３−エチルアミノ−８−メチル
カルボスチリル塩酸塩を得る。

淡黄色針状晶 ｍｐ、２３０〜２３２℃ 適当な出発原料を用い、実施例９４と同様にして前記実
施例５．６．８．９．１１．１４．１６．１９．２３．
２５．３２．３７．３８．３９．４１．４９．５０．５
３．５６．５９．６０．６８．６９．７０．７１．７２
．７７．８７及び後記実施例９８．１０１．１０４．１
１３．１２０．１２７．１３７．１３９．１４０．１４
１．１４３．１４８．１８９．２０６．２１５．２１７
〜２１８．２２３．２２８．２３４．２３７〜２４０の
化合物を得る。

実施例９５ ８−メチルカルボスチリル−３−カルボニルクロライド
５．３ｇ、ナトリウムアジド１．７ｇ及びアセトニトリ
ル１００ｍＧ懸濁液を室温にて一夜攪拌する。溶媒を留
去後、残渣にクロロホルムを加え、不溶物を消去、炉液
を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去して、
０．９ｇの８−メチルカルボスチリル−３−カルボキシ
アジドを得る。

ＮＭＲＣＣＤＣＱ３）　δ： ２．５１　　（３Ｈ，ｓ） ７．１９　　（ＩＨＳ　ｔＳ　Ｊ＝７．５Ｈｚ）７．５
０　　（ＩＨＳ　ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）７．５５　　（
ＩＨＳ　ｄＳ　Ｊ＝７．５Ｈｚ）８．６５　　（ＩＨ，
ｓ） ９．５１　　（ＩＨＳｂｒｓ、） 実施例９６ ８−メチルカルボスチリル−３−カルボキシアジド０．
９ｇのｔ−ブチルアルコール２０ｍ１２溶液を３時間加
熱還流する。反応液に水を加え、析出物を消散、このも
のに濃塩酸５戒、エタノール２０ｍ（２を加えて２時間
加熱還流する。溶媒を留去し、残渣をクロロホルムにて
再結晶して、０．５３ｇの３−アミノ−８−メチルカル
ボスチリルを得る。

淡褐色粉末状 ｍｐ、２５５〜２６０℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例９６と同様にして前記実
施例１．３．１３．１５．３０．３３及び後記実施例１
０３．１８７の化合物を得る。

実施例９７ ３−ジエチルアミノ−８−メチル−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩１２．３ｇの無水ジメチルホルムア
ミド１００ｍＱ溶液に６０％水素化ナトリウム１．９ｇ
を加え５０℃で３０分間加熱する。次に水冷下ヨウ化メ
チル６．５３ｇを滴下する。滴下後５０〜６０℃にて２
時間加熱攪拌する。反応液を水に注ぎ込み、クロロホル
ムにて抽出する。クロロホルム層を水洗後、乾燥する。

クロロホルムを留去後、得られた残渣を塩酸塩とし、ア
セトン−〇−ヘキサンより再結晶して、１２ｇの１−メ
チル−３−ジエチルアミノ−８−メチル−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル塩酸塩を得る。

淡褐色粉末状 ｍｐ、１６２．５〜１６４．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例９７と同様にして前記実
施例１８．２３〜２５．８５及び後記実施例１９６．２
２４．２３２〜２３７．２５４．２５６〜２６３の化合
物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例１と同様にして下記第４
表に示す化合物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例３５と同様にして下記第
５表に示す化合物を得る。

実施例１８１ ３−　（４−（１−ピロリジニルカルボニルメチル）、
−１−ピペラジニル−８−メチルカルボスチリル・塩酸
塩（２，０ｇ）のＴＨＦ（２０ｍｆ２）懸濁液に窒素雰
囲気下に水冷下、水素化リチウムアルミ＝ｆｙム（０，
３２ｇ）（７）ＴＨＦ　（２０ｍＧ）を溶液を滴下する
。同温度で３０分間攪拌後、油浴上２時間加熱還流する
。反応液に水、塩化メチレンを加えセライト濾過する。

滑液から塩化メチレン抽出、飽和食塩水洗浄、硫酸ナト
リウム乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム分
離する（塩化メチレン；メタノール＝１０：１）。

ＥｔＯＨ−ＨＣＱにより二塩酸塩とし、エタノール−水
より再結晶して淡黄色針状晶の３−　＋４−（２−（１
−ピロｉ）ジニル）エチル〕−１−ピペラジニル）−８
−メチルカルボスチリル・２塩酸塩１．１５ｇを得る。

ｍｐ、３００℃以上 適当な出発原料を用い、実施例１８１と同様にして前記
実施例７９．１４２及び１６１の化合物を得る。

実施例１８２ ａ）　　２−メチル−３−アミノアセトアニリド５．１
ｇをアセトン１５０ｍＧに溶解し、シンナモイルクロリ
ド５．７ｇのアセトン３０１１１Ｑ溶液及び炭酸カリウ
ム５．２ｇの水５０ｍＱ溶液を水冷攪拌下に同時に滴下
、同温度にて２時間攪拌後、反応混合物を水冷中に注ぎ
込み析出物を消散、水洗、乾燥して、８．６４ｇのＮ−
（３−アセチルアミノ−２−メチル）フェニルシンナモ
イルアミドを得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　）δ： ２．１０　（３Ｈ，ｓ） ２．１４　（３Ｈ，ｓ） ６．９２　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１５Ｈｚ）７．０５−７．
６５　（８Ｈ，ｍ） ７、　６０　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝１５Ｈｚ）９、　
２８　　（ＩＨ，ｂｒｓ　） ９、−　４４　　（ＬＨ，ｂｒｓ　） ｂ）　塩化アルミニウム２４ｇをクロロベンゼン２５戒
に懸濁し、Ｎ−（３−アセチルアミノ−２−メチル）フ
ェニルシンナモイルアミド８ｇを加え、１１０−１２０
℃にて、５時間加熱攪拌する。反応混合物を氷水中に注
ぎ込み、析出物を消散する。ｎ−ヘキサン、ジエチルエ
ーテル、水の順に洗浄後、ジメチルホルムアミドより再
結晶して、４．０９ｇの７−アセチルアミノ−８−メチ
ルカルボスチリルを得る。

ＮＭＲ＜ＤＭＳＯｄｓ　）δ； ２．１０　（３Ｈ，ｓ） ２．３０　（３Ｈ，ｓ） ６．４５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．２３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ７．４７　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ７．８５　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）９．　６０　　
（ＩＨ，ｂｒｓ　） 実施例１８３ ７−アセチルアミノ−８−メチルカルボスチリルの５ｇ
に２０％ＨＣ９６０ｍＧを加え油浴上１１０−１２０℃
に加熱攪拌する。４時間加熱後、減圧で溶媒留去し残渣
を熱メタノール洗浄、乾燥後、メタノール−水より再結
晶して、７−アミノ−８−メチルカルボスチリル塩酸塩
５．２５ｇを得る。

ｍｐ、２９０−２９３℃（分解） 淡黄色針状晶 適当な出発原料を用い、実施例１８２と同様にして前記
実施例１．３．１３．１５．３０．３３．４５及び１０
３の化合物を得る。

実施例１８４ ２−メチル−３−（β−ブロモアクリロイル）アミノ−
アセトアニリド２．０７ｇの濃塩酸１０ｍＱを加え７０
°Ｃに加熱する。氷水にあけハルツ状物を除去し、ｌ０
Ｎ−ＮａＯＨで中和する。析出品を消散、水洗してジメ
チルホルムアミドより再結晶して７−アセチルアミノ−
８−メチルカルボスチリル０．７５ｇを得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ； ２．１０　（３Ｈ，ｓ） ２．３０　（３Ｈ，ｓ） ６．４５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．２３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ７．４７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ７．８５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ９、６０　（ＩＨ，ｂｒｓ　） 実施例１８５ ２−メチル−３−（β、β−ジェトキシプロピオニル）
アミノ−アセトアニリド２．１５ｇのアセトン３戒溶液
を６０℃で攪拌しながら濃塩酸２０−に滴下する。３０
分間反応して溶媒を留去しｌ０Ｎ−ＮａＯＨで中和する
。析出する結晶を消散、水洗後ジメチルホルムアミドよ
り再結晶して、７−アセチルアミノ−８−メチルカルボ
スチリル１．２５ｇを得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ； ２．１０　（３Ｈ，ｓ） ２．３０　（３Ｈ，ｓ） ６．４５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ） ７．２３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ７．４７　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ７．８５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ９、　６０　（ＩＨ，ｂｒｓ　） 実施例１８６ ａ）　　２−メチル−３−アミノアセトアニリド１０．
７ｇをジメチルスルホキシド１５０−に溶解し、水素化
ナトリウム３．１２ｇ　（５０％含量、オイル分散）を
徐々に加える。室温にて３０分攪拌後エチルプロピオレ
ート６．４ｇを徐々に加える。室温にて１２時間攪拌す
る。多量の飽和食塩水に注ぎクロロホルム抽出する。

飽和食塩水で洗浄後クロロホルムを減圧留去して３−エ
チニルカルボニルアミノ−２−メチルアセトアニリドを
得る。

ｂ）　上記（ａ）で得られる３−エチニルカルボニルア
ミノ−２−メチルアセトアニリドをエタノール５ｍＧに
溶解し、６０〜７０℃にて攪拌下の濃硫酸に徐々に滴下
する。滴下後更に３０分間攪拌する。反応終了後氷に注
ぎ、１ＯＮ−ＮａＯＨにて中和し析出する結晶を消散す
る。

ジメチルホルムアミドから再結晶して７−アセチルアミ
ノ−８−メチルカルボスチリル８．８５ｇを得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ； ２．１０　（３Ｈ，ｓ） ２．３０　（３Ｈ，ｓ） ６．４５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７、　２３　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝８Ｈｚ）７．４７
　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝８Ｈｚ）７．８５　　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）９、　６０　　（ＩＨ，ｂｒｓ　） 適当な出発原料を用い、実施例１８２〜１８６と同様に
して前記実施例３５〜８９．９５．１０９〜１８０の化
合物、下記第６表に示す化合物、及び後記実施例２３８
〜２４３の化合物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例１と同様にして下記第７
表に示す化合物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例３５と同様にして下記第
８表に示す化合物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例１と同様にして下記第９
表に示す化合物を得る。

適当な出発原料を用い、実施例１８２〜１８６と同様に
して下記第１０表に示す化合物を得る。

３）　　ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）　　δ：１．　１４　
　（３ＨＳ　ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）１、　３３　　（３ＨＳ
　ｔＳ　Ｊ＝７Ｈｚ）２、　３７　　（３ＨＳ　ｓ） ２、　５５−２．　７５　　（４ＨＳ　ｍ）３、　２７
　　（４ＨＳ　ｂｒ、） ３．３９　　（２Ｈ，ｑＳ　Ｊ＝７Ｈｚ）３、　５１　
　（２ＨＳ　ｑＳ　Ｊ＝７Ｈｚ）５、　１６　　（２Ｈ
Ｓ　ｓ） ７、　００　　（ＩＨＳ　ｓ） ７．０９　　（ＩＨ，ｄＳ　Ｊ＝７．　５Ｈｚ）７、　
１７　　（ＬＨ，ｔＳ　Ｊ＝７．　５Ｈｚ）７、　３５
　　（ＩＨＳ　ｔＳ　Ｊ＝７．　５Ｈｚ）７．４８　　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７．　５Ｈｚ）薬理試験 手間等（Ｃ１ｒｃ、Ｒｅｓ、　、第４８巻、第５１０〜
５１８頁（１９８０年）〕がイヌ心室筋に用いた方法に
準じて行なった。即ち、ネコ（体重１．５〜５　ｋｇ）
をケタミン３０　ｍｇ／　ｋｇの筋肉内注射とベンドパ
ルビタール２０　ｌｌ１ｇ／　ｋｇの腹腔的投与により
麻酔後、心臓を冷したタイロード液中に摘出した。

常法に従い右心室の乳頭筋を摘出し、タイロード液（Ｎ
ａＣＱ　１３７ミリモル、Ｎ　ａ　ＨＣ０３１５，９ミ
リモル、グルコース　５，５ミリモル、Ｍｇ（１２１，
０ミリモル、ＮａＨ２Ｐｏ。

０．４２ミリモル、ＫＣ９２，７ミリモル及びＣａＣ＆
！２　１．８ミリモル）で満たしたマグナス装置に吊し
た。タイロード液を酸素９５％及び二酸化炭素５％の混
合ガスで電気し、温度を３７℃に維持した。静止張力は
０．５ｇに合わせた。

０．５Ｈｚの頻度で電気刺激を加えながら約３０分開襟
本の安定化を図った。刺激を止め、タイロ−ド液をにフ
リーのタイロード液で置換した。

３０分後、Ｋ及びＣａフリーのタイロード液に置換し、
更に３０分後にフリー且つＣａ　（３，６ミリモル）の
タイロード液で置換した。１０分後より５分毎に刺激間
隔３２０　ｍ５ｅｃで１０回トレイン刺激を与えると、
約半数例で刺激停止後に後収縮が認められた。電気刺激
による収縮及び後収縮が一定した後、供試化合物を２０
分間隔で累積的に投与し、１０回目の収縮及び後収縮に
対する作用を検討した。結果を下記第９表に示す。

供試化合物 １３−ジエチルアミノ−８−メチル−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル塩酸塩 ２３−ジエチルアミノ−８−メチルカルボスチリル蓚酸
塩 ３６−ビロリジニルー８−メチル−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩 ４３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（２−（３，４−ジメトキシ
フェニル）エチル〕）−８−メチルカルボスチリル ５３−ピロリジニル−８−フルオロカルボスチリル ６３−ジエチルアミノ−６，８−ジクロロ−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリル塩酸塩 ７３−エチルアミノ−８−メチル−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩 ８　３−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ベンジ
ルアミノコ−８−メチルカルボスチリル ９３−ホルミルアミノ−８−メチル−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル １０３−ジエチルアミノアセチルアミノ−８−メチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリル蓚酸塩 １１３−（４−ベンジル−１−ピペリジニル）−８−メ
チルカルボスチリル塩酸塩 １２３−（４−メチル−１−ピペラジニル）−８−メチ
ルカルボスチリル塩酸塩 １３８−フェニル−６−ビロリジノー３．４−ジヒドロ
カルボスチリル塩酸塩 １４５−ピロリジノ−８−メチル−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩 １５３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル）−８−メ
チルカルボスチリル塩酸塩 １６４−ピロリジノ−８−メチルカルボスチリル蓚酸塩 １７３−（Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルアミノ）−８−メ
チルカルボスチリル １８３−（４−ベンジル−１−ピペリジニルアセチルア
ミノ）−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 １９３−（ピロリジノアセチルアミノ）−８−メチルカ
ルボスチリル塩酸塩 ２０３−（４−フェニル−１−ピペラジニル）−−メチ
ル力ルポスチリル ２１　３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−８−メチルカルボス
チリル塩酸塩 ２２３−ピロリジノ−８−イソプロピルカルボスチリル
塩酸塩 ２３　３−　［４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）
−１−ピペラジニル］−８−メチルカルボスチリル ２４３−（４−ヒドロキシ−１−ピペリジニル）−８−
メチルカルボスチリル塩酸塩 ２５３−モルホリノ−８−メチル−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩 ２６３−アミノ−６，８−ジクロロ−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル塩酸塩 ２７３−ピロリジノ−８−メトキシカルボスチリル塩酸
塩 ２８３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ジエチルアミノエチ
ル）］−８−メチルカルボスチリルフマル酸塩 ２９３−（４−ベンジル−１−ピペラジニル）−８−メ
チルカルボスチリル塩酸塩 ３０４−（４−メチル−１−ピペラジニル）−８−フル
オロカルボスチリル塩酸塩 ３１３−（４−アリル−１−ピペラジニル）−８＝メチ
ルカルボスチリル塩酸塩 ３２３−（４−エトキシカルボニルメチル−１−ピペラ
ジニル）−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ３３　３−　＋４−　（３−（４−フルオロベンゾイル
）プロピル〕−１−ピペラジニル）　−８−メチルカル
ボスチリル塩酸塩 ３４３−（４−メチル−１−ピペラジニル）−８−フル
オロカルボスチリル塩酸塩 ３５３−（４−メチル−１−ピペラジニル）−８−クロ
ロカルボスチリル塩酸塩 ３６３−モルホリノ−８−メチルカルボスチリル３７３
−チオモルホリノ−８−メチルカルボスチリル ３８　３−　（１，４−ジアザビシクロＣ４，３，０］
ノナン−４−イル）−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ３９３−（４−ｎ−プロピル−１−ピペラジニル）−８
−メチルカルボスチリル塩酸塩 ４０３−（４−メチル−１−ホモピペラジニル）−８−
メチルカルボスチリル塩酸塩 ４１　３−　（４−（２，２，２−トリフルオロエチル
）−１−ピペラジニル〕−８−メチルカルボスチリル塩
酸塩 ４２３−（２−ジエチルアミノメチル−１−ピロ。

リジニル）−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ４３３−（４−メチル−１−ピペラジニル）−８−トリ
フルオロメチルカルボスチリル塩酸塩４４３−（４−メ
チル−１−ピペラジニル）−８−ベンジルオキシ力ルポ
スチリル塩酸塩４５３−（４−メチル−１−ピペラジニ
ル）−８−エチルカルボスチリル塩酸塩 ４６　３−　（２−（１−ピロリジニルメチル）−１−
ピロリジニルクー８−メチルカルボスチリル蓚酸塩 ４７３−（２−モルホリノメチル−１−ピロリジニル）
−８−メチルカルボスチリル塩酸塩４８５−（４−メチ
ル−１−ピペラジニル）−８−メチル−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル塩酸塩 ４９　３−（２，４−ジメチル−１−ピペラジニル）−
８−メチルカルボスチリル塩酸塩。

５０３−（３−モルホリノ−１−ピロリジニル）−８−
メチルカルボスチリル塩酸塩 ５１３−（Ｎ−メチル−Ｎ−［：２−　（３，４−ジメ
トキシフェニル）エチルコアミノメチル）−８−メチル
カルボスチリル ５２　３−　（３−（１−ピロリジニル）−１−ピロリ
ジニル〕−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ５３　３−　（４−（１−ピペリジニル）−１−ピペリ
ジニル〕−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ５４　３−　　＋４−　（３−（４−ピリジル）プロピ
ル−１−ピペラジニル］−８−メチルカルボスチリル・
２塩酸塩 ５５３−（１−ピリジニウム）−８−メ・チルカルボス
チリルクロリド ５６３−（１−ピロリジニル）−８−アリルオキシカル
ボスチリル塩酸塩 ５７　３−　（４−（２−ヒドロキシエチル）−１＝ピ
ペラジニル〕−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ５８３−（２−ジエチルアミド−１−ピロリジニル）−
８−フルオロカルポスチリル ５９３−（４−プロパルギル−１−ピペラジニル）−８
−メチルカルボスチリル塩酸塩 ６０３−（４−アセチルメチル−１−ピペラジニル）−
８−メチルカルボスチリル塩酸塩６１Ｂ−（１−インド
リニル）−８−メチルカルボスチリル ６２３−ジエチルアミノ−８−アセチルメトキシカルボ
スチリル塩酸塩 ６３　３−　［４−（１−ピロリジニルカルボニルメチ
ル）−１−ピペラジニルクー８−メチルカルボスチリル
塩酸塩 ６４　３−　［４−（２−モルホリノエチル）−１−ピ
ペラジニル〕−８−メチルカルボスチリル・２塩酸塩 ６５　３−　（４−（（２−チェニル）メチル〕−１−
ピベラジニルコ−８−メチルカルボスチリル塩酸塩 ６６３−（４−シクロへキシル−１−ピペラジニル）−
８−メチルカルボスチリル塩酸塩６７　３−　（２−（
４−メチル−１−ピペラジニルメチル）−１−ピロリジ
ニル〕−８−メチルカルボスチリルや２蓚酸塩 ６８　３−　［３−（４−メチル−１７ピペラジニル）
−１−ピロリジニル］−８−メチルカルボスチリル・２
塩酸塩 ６９　３−　（３−（３，５−ジメチル−１−ピペリジ
ニルメチル）モルホリノ〕−８−メチルカルボスチリル
塩酸塩 ７０３−（４−ジエチルアミノ−１−ピペリジニル）−
８−メチルカルボスチリル赤塩酸塩７１３−（４−メチ
ル−１−ピペラジニル）−６−メドキシー８−メチルカ
ルボスチリル・塩酸塩 ７２１．８−ジメチル−３−（１−ピロリジニル）カル
ボスチリル ７３３−（４−シクロプロピルメチル−１−ピペラジニ
ル）−８−メチルカルボスチリル・塩酸塩 第　　１１　　表 米ＬＣ，１０番目の収縮 Ａ−１；１回目の後収縮 （以　上）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は水素原子、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿６アルキル
   基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、フェニル低
   級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、フェニル低
   級アルコキシカルボニル低級アルキル基、置換基として
   低級アルキル基を有することのあるアミド低級アルキル
   基又は飽和の５員もしくは６員の複素環置換カルボニル
   低級アルキル基を示す。Ｒ＾２はアジド基、カルボニル
   アジド基、フタルイミド基、ピロリチジニル基、ピリジ
   ル基、ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基又
   はフェニル低級アルキル基を有することのあるピペリジ
   ニル基、置換基としてアミノ基又は低級アルキルアミノ
   基を有することのあるキヌクリジニル基又は基−ＮＲ＾
   ４Ｒ＾５（Ｒ＾４及びＲ＾５は同一又は異なつて水素原
   子、置換基として水酸基、アミノ基又は低級アルキルア
   ミノ基を有することのある低級アルキル基、フェニル低
   級アルカノイル基、イミダゾリニル基、置換基としてハ
   ロゲン原子又は低級アルキルアミノ基を有することのあ
   る低級アルカノイル基、置換基として低級アルコキシ基
   を有することのあるフェニル低級アルキル基、フェニル
   基、シクロアルキル基、ピペリジン環上に置換基として
   フェニル低級アルキル基を有することのあるピペリジニ
   ル低級アルカノイル基、低級アルケニル基、ピロリジニ
   ル低級アルカノイル基、フェニル環上に置換基として低
   級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級アルキ
   ル基、モルホリン環上に置換基としてフェニル低級アル
   キル基を有することのあるモルホリノ低級アルキル基又
   はピペリジン環上に置換基としてフェニル低級アルキル
   基を有することのあるピペリジニル基を示す。またこの
   Ｒ＾４及びＲ＾５は、これらが結合する窒素原子と共に
   窒素原子、硫黄原子もしくは酸素原子を介し又は介する
   ことなく５員〜９員の複素環を形成してもよい。該複素
   環上にはフェニル基、水酸基、フェニル環上に置換基と
   して低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル低級
   アルキル基、置換基として水酸基、低級アルコキシ基又
   はハロゲン原子を１〜３個有していてもよい炭素数１〜
   １０のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ
   カルボニル低級アルキル基、テトラヒドロフリル低級ア
   ルキル基、チエニル低級アルキル基、シクロアルキル低
   級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル環上にハロ
   ゲン原子を有していてもよいベンゾイル低級アルキル基
   、ピリジル低級アルキル基、低級アルキルアミド基 A低級アルキニル基、低級アルカノイル低級アルキル基
   、フェニル低級アルコキシカルボニル基、 基−（Ａ）ｍ−ＮＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４〔式中Ｒ＾１＾
   ３及びＲ＾１＾４は、同一又は異なつて、水素原子、低
   級アルキル基、フェニル環ル環上に置換基として低級ア
   ルコキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基
   を示す。またこの Ｒ＾１＾３及びＲ＾１＾４は、これらが結合する窒素原
   子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介するこ
   となく５又は６員環の複素環を形成してもよい。該複素
   環上には、置換基として低級アルキル基を有していても
   よい。Ａは低級アルキレン基又は、基▲数式、化学式、
   表等があります▼ （Ａ′は低級アルキレン基）、ｍは０又は１を示す。〕
   及びフェニル環上に低級アルコキシ基を有することのあ
   るベンゾイル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換し
   ていてもよい。）を示す。Ｒ＾３は置換基としてハロゲ
   ン原子を１〜３個有することのある低級アルキル基、低
   級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシ基
   、フェニル基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルケ
   ニルオキシ基、低級アルカノイル低級アルコキシ基又は
   低級アルキルアミノカルボニル低級アルコキシ基を示す
   。ｎは０、１又は２を示す。カルボスチリル骨格の３位
   及び４位の結合は一重結合又は二重結合を示す。上記Ｒ
   ＾２及びＲ＾３はそれぞれカルボスチリル骨格の３〜８
   位のいずれに置換してしてもよいが、Ｒ＾２とＲ＾３と
   は同時に同じ位置に置換していることはない。〕で表わ
   されるカルボスチリル誘導体又はその塩を有効成分とす
   る抗不整脈剤。