JPS63290821A - 抗不整脈剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １東上Ω■里方■ 本発明は抗不整脈剤に関する。

凡ユ五…示 本発明の抗不整脈剤は、下記一般式（１）で表わされる
カルボスチリル誘導体又はその塩を有効成分として含有
する点において特徴付けられる。

テ 〔式中Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、）工二ル低級
アルキル基、フェニル基又はピペリジン環上に置換基と
してピペリジニル基もしくはフェニル低級アルキル基を
有することのあるピペリジニル低級アルキル基を示す。

Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、
ハロゲン原子、低級アルキニルオキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルコ
キシ基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を
有することのあるフェニルアミノカルボニル低級アルコ
キシ基、低級アルカノイルオキシ基、水酸基、置換基と
して低級アルキル基を有することの必るアミノ基又はヒ
ドロキシ低級アルキル基を示す。Ｒは水素原子又は基−
０−Ａ−ＮＲ３Ｒ’を示す。語基においてＡＧ、ｉｌｌ
換基として水酸基もしくはフェニル基を有することのあ
る低級アルキレン基又はカルボニル低級アルキル基を示
す。Ｒ３及びＲ４は、同−又は異なって、水素原子、低
級アルキル基、フェニル基、フェニル環上に置換基とし
て低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級・
アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はフェニル環
上に置換基として低級アルコキシ基を有することのある
フェニル低級アルキル基を示すか、或いは之等の結合す
る窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は
介することなく飽和もしくは不飽和の複素環を形成して
もよく、該複素環上にはフェニル低級アルキル基、水酸
基、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級
アルキル基、ハロゲン原子及び低級アルコキシ基よりな
る群から選ばれる置換基の１〜３個を有することのある
フェニル低級アルコキシ基、フェニル基、低級アルカノ
イル基及び基−（Ｂ）ｏＮＲ５Ｒ８（Ｂは低級アルキレ
ン基を、ＱはＯ又は１を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ
低級アルキル基を示すか、両者の結合する窒素原子と共
に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく
飽和の５員もしくは６員複素環を形成する基を示し、該
複素環基上には低級アルキル基の１〜３個が置換されて
いてもよい）よりなる群から選ばれた置換基の１〜３個
が結合していてもよい。また、カルボスチリル骨格の３
位及び４位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を示す
。但し、Ｒが水素原子のとき、Ｒ１はピペリジン環上に
置換基としてピペリジニル基もしくはフェニル低級アル
キル基を有することのあるピペリジニル低級アルキル基
であり、且つＲ２は水素原子でなければならない。〕 本発明者らは、上記一般式（１）で表わされるカルボス
チリル誘導体又はその塩が、優れた抗不整脈作用を有す
ることを初めて見出し、ここに本発明を完成するに至っ
た。また本発明において有効成分とする上記一般式（１
）の化合物は、特に心筋の収縮力には殆んど影響を及ぼ
さず、虚血時等に生じる刺激生成異常を抑制する作用を
有する特徴をも有している。

本明細書において、Ｒ１〜Ｒ’、Ａ及びＢで示される各
基は、より具体的にはそれぞれ以下の通りである。

低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン
チル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基を例示できる。

フェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、２
−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニル
プロピル、４−フェニルブチル、１゜１−ジメチル−２
−フェニルエチル、５−フェニルペンチル、６−フェニ
ルヘキシル、２−メチル−３−フェニルプロピル、ジフ
ェニルメチル、２゜２−ジフェニルエチル基等のアルキ
ル部分が炭素数１〜６の直鎮又は分枝鎖状アルキル基で
あり、フェニル基が１〜２個置換しているフェニルアル
キル基を例示できる。

ピペリジン環上に置換基としてピペリジニル基もしくは
フェニル低級アルキル基を有することのあるピペリジニ
ル低級アルキル基としては、例えばピペリジニルメチル
、１−（１−ピペリジニル）エチル、２−（１−ピペリ
ジニル）エチル、３−（１−ピペリジニル）プロピル、
４−　（１−ピペリジニル）ブチル、５−（１−ピペリ
ジニル）ペンチル、６−（１−ピペリジニル）ヘキシル
、２゜２−ジメチル−３−（１−ピペリジニル）プロピ
ル、２−メチル−３−（１−ピペリジニル）プロピル、
１−（４−ベンジル−１−ピペリジニル）エチル、２−
　（４−（２−フェニルエチル）−１−ピペリジニル〕
エチル、３−　Ｃ４−（１−）工二ルエチル）−１−ピ
ペリジニル〕プロピル、４−　（３−（３−フェニルプ
ロピル）−１−ピペリジニルコブチル、５−　（３−（
１，１−ジメチル−２−フェニルエチル）−１−ピペリ
ジニル）ペンチル、６−　（２−（５−フェニルペンチ
ル）−１−ピペリジニル）ヘキシル、２，２−ジメチル
−３−（４−（２−メチル−３−フェニルプロピル）−
１−ピペリジニル〕プロピル、２−メチル−３−（４−
ベンジル−１−ピペリジニル）プロピル、３−（４−ベ
ンジル−１−ピペリジニル）プロピル、（４−（１−ピ
ペリジニル）−１−ピペリジニルコメチル、２−　（４
−（１−ピペリジニル）−１−ピペリジニル〕エチル、
１−（４−（１−ピペリジニル）−１−ピペリジニル）
エチル、３−　（４−（１−ピペリジニル）−１−ピペ
リジニル〕プロピル、４−　（３−（１−ピペリジニル
）−１−ピペリジニル）ブチル、５−　（３−（１−ピ
ペリジニル）−１−ピペリジニルメチルチル、６−　（
２−（１−ピペリジニル）−１−ピペリジニルアルキル
基 （４−（１−ピペリジニル）−１−ピペリジニル〕プロ
ピル、２−メチル−３−（４−（１−ピペリジニル）−
１−ピペリジニル）プロピル基等の、アルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であって、ピ
ペリジン環上に置換基としてピペリジニル基もしくはア
ルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基であるフェニルアルキル基を有することのあるピペリ
ジニルアルキル基を例示できる。

低級アルケニル基としては、例えばビニル、アリル、２
−ブテニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペ
ンテニル、２−へキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルケニル基を例示できφ。

ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素原子、臭
素原子、沃素原子等を例示できる。

低級アルケニルオキシ基としては、例えばビニルオキシ
、アリルオキシ、２−ブテニルオキシ、３−ブテニルオ
キシ、１−メチルアリルオキシ、２−ペンテニルオキシ
、２−へキセニルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルケニルオキシ基を例示できる。

低級アルキニルオキシ基としては、例えばエチニルオキ
シ、２−プロピニルオキシ、２−ブチニルオキシ、３−
ブチニルオキシ、１−メチル−２−プロピニルオキシ、
２−ペンチニルオキシ、２−ヘキシニルオキシ基等の炭
素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキニルオキシ基を例
示できる。

低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる
。

カルボキシ低級アルコキシ基としては、カルボキシメト
キシ、２−カルボキシエトキシ、１−カルボキシエトキ
シ、３−カルボキシプロポキシ、４−カルボキシブトキ
シ、１，１−ジメチル−２−カルボキシエトキシ、５−
カルボキシペンチルオキシ、６−カルボキシヘキシルオ
キシ、２−メチル−３−カルボキシプロポキシ基等のア
ルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基であるカルボキシアルコキシ基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるフェニルアミノカルボニル低級アルコキシ基と
しては、例えばフェニルアミノカルボニルメトキシ、２
−フェニルアミノカルボニルエトキシ、１−フェニルア
ミノカルボニルエトキシ、３−フェニルアミノカルボニ
ルプロポキシ、４−フェニルアミノカルボニルブトキシ
、１，１−ジメチル−２−フェニルアミノカルボニルエ
トキシ、５−フェニルアミノカルボニルペンチルオキシ
、６−フエニルアミツカルボニルヘキシルオキシ、２−
メチル−３−７エニルアミノカルポニルプロボキシ、２
−　（３−メチルフェニル）アミノカルボニルエトキシ
、１−（４−メチルフェニル）アミノカルボニルエトキ
シ、（２−メチルフェニル）アミノカルボニルメトキシ
、３−　（２−エチルフェニル）アミノカルボニルプロ
ポキシ、４−（３−エチルフェニル）アミノカルボニル
ブトキシ、１，１−ジメチル−２−（４−エチルフェニ
ル）アミノカルボニルエトキシ、５−　（４−イソプロ
ピルフェニル）アミノカルボニルペンチルオキシ、６−
（４−へキシルフェニル）アミノカルボニルヘキシルオ
キシ フェニルアミノカルボニル）メトキシ、（２．　６−シ
メチルフエニルアミンカルボニル）メトキシ、（３，４
．５−トリメチルフェニルアミノカルボニル〉メトキシ
基等の、アルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシ基であって、フェニル環上に炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有すること
のあるフェニルアミノカルボニルアルコキシ基を例示で
きる。

低級アルカノイルオキシ基としては、例えばホルミルオ
キシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリル
オキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘ
キサノイルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルカノイルオキシ基を例示できる。

置換基として低級アルキル基を有することの必るアミノ
基としては、例えばアミノ、メチルアミノ、エチルアミ
ノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミ
ノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシ
ルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピ
ルアミノ、ジブチルアミノ、ジエチルアミノ、ジエチル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル−
Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミノ、
Ｎ−メチル−Ｎ−へキシルアミノ基等の炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜２個置換していても
よいアミノ基を例示できる。

ヒドロキシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシ
メチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチル
、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、１
，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５−ヒドロキ
シペンチル、６−ヒドロキシヘキシル、２−メチル−３
−ヒドロキシプロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜
６の直鎮又は分枝鎖状アルキル基であるヒドロキシ低級
アルキル基を例示できる。

置換基として水酸基もしくはフェニル基を有することの
ある低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、
トリメチレン、２−メチルトリメチレン、２，２−ジメ
チルトリメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメ
チレン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチ
レン、ヘキサメチレン、ヒドロキシメチレン、２−ヒド
ロキシエチレン、１−ヒドロキシエチレン、２−ヒドロ
キシトリメチレン、３−ヒドロキシトリメチレン、２−
ヒドロキシテトラメチレン、３−ヒドロキシペンタメチ
レン、４−ヒドロキシへキサメチレン、フェニルメチレ
ン、２−フェニルエチレン、１−フェニルエチレン、１
−フェニルトリメチレン、３−フェニルテトラメチレン
、４−フェニルペンタメチレン、５−フェニルヘキサメ
チレン等の置換基として水Ｍ基もしくはフェニル基を有
することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
レン基を例示できる。

カルボニル低級アルキル基としては、カルボニルメチル
、２−カルボニルエチル ルエチル、３−カルボニルプロピル、４−カルボニルブ
チル、１，１−ジメチル−２−カルボニルエチル、５−
カルボニルペンチル、６−カルボニルヘキシル、２−メ
チル−３−カルボニルプロピル基等のアルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるカルボ
ニルアルキル基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるフェノキシ低級アルキル基としては、フェノキ
シメチル、２−フェノキシエチル、１−フェノキシエチ
ル、３−フェノキシプロビル、４−フェノキシブチル、
１，１−ジメチル−２＝フエノキシエチル、５−フェノ
キシペンチル、６−フェノキシエチル、２−メチル−３
−フェノキシプロビル、２−　（３−メチルフェノキシ
）エチル、１−（４−メチルフェノキシ）エチル、（２
−メチルフェノキシ）メチル、３−（２−エチルフェノ
キシ）プロピル、４−（３−エチルフェノキシ）ブチル
、１，１−ジメチル−２−（４−エチルフェノキシ）エ
チル、５−（４−イソプロピルフェノキシ）ペンチル、
６−（４−へキシルフェノキシ）ヘキシル、３，４−ジ
メチルフェノキシメチル、３．４．５−トリメチルフェ
ノキシメチル、２，５−ジメチルフェノキシメチル基等
のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基であって、フェニル環上に炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することのめるフェ
ノキシアルキル基を挙げることができる。

フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有する
ことのおるフェニル低級アルキル基としては、例えばベ
ンジル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３
−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、１，１−ジ
メチル−２−フェニルエチル、５−フェニルペンチル、
６−フェニルヘキシル、２−メチル−３−フェニルプロ
ピル、２−（３−メトキシフェニル）エチル、１−（４
−メトキシフェニル）エチル、２−メトキシベンジル、
３−（２−エトキシフェニル）プロピル、４−（３−エ
トキシフェニル）ブチル、１，１−ジメチル−２−（４
−エトキシフェニル）エチル、５−（４−イソプロポキ
シフェニル）ペンチル、６−（４−へキシルオキシフェ
ニル）ヘキシル、３．４−ジメトキシベンジル、３，４
．５−トリメトキシベンジル、２，５−ジメトキシベン
ジル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であって、フェニル環上に炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個有すること
のめるフェニルアルキル基を挙げることができる。

Ｒ３及びＲ４が之等の結合する窒素原子と共に窒素原子
もしくは酸素原子を介し又は介することなく形成する飽
和もしくは不飽和の複素環基としては、例えばイミダゾ
リル基、ピペラジニル基、ピペリジニル基、モルホリノ
基、ピロリジニル基、１．４−ジアザビシクロ（４，３
，Ｏ）ノニル基、１．４−ジアゼピニル基、１．４−オ
キサゼピニル基、ホモピペラジニル基、１，２，３．４
−テトラヒドロキノリル基、１，２，３．４−テトラヒ
ドロイソキノリル基、１，２−ジヒドロキノリル基、１
，２−ジヒドロイソキノリル基、インドリニル基、イン
ドリル基等を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基、ハロゲン
原子及び低級アルコキシ基よりなる群から選ばれる置換
基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルコキ
シ基としては、例えばベンジルオキシ、２−フェニルエ
トキシ、１−フェニルエトキシ、３−フェニルプロポキ
シ、４−フェニルブトキシ、１，１−ジメチル−２−フ
ェニルエトキシ、５−フェニルペンチルオキシ、６−フ
ェニルヘキシルオキシ、２−メチル−３−フェニルプロ
ポキシ、３−メトキシベンジルオキシ、２−（３，４−
ジメトキシフェニル）エトキシ、１−（４−エトキシフ
ェニル）エトキシ、３−（２−プロポキシフェニル）プ
ロポキシ、４−　（３−ブトキシフェニル）ブトキシ、
１．１−ジメチル−２−（４−ペンチルオキシフェニル
）エトキシ、５−（４−へキシルオキシフェニル）ペン
チルオキシ、６−　（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）へキシルオキシ、２−メチル−３−（２，５−ジメ
トキシフェニル）プロポキシ、３−メチルベンジルオキ
シ、２−　（３，４−ジメチルフェニル）エトキシ、１
−（４−エチルフェニル）エトキシ、３−（２−プロピ
ルフェニル）プロポキシ、４−（３−ブチルフェニル）
ブトキシ、１，１−ジメチル−２−（４−ペンチルフェ
ニル）エトキシ、５−（４−へキシルフェニル）ペンチ
ルオキシ、６−　（３，４，５−トリメチルフェニル）
へキシルオキシ、２−メチル−３−（２，５−ジメチル
フェニル）プロポキシ、２−クロロベンジルオキシ、２
−（３−クロロフェニル）エトキシ、１−（４−クロロ
フェニル）エトキシ、３−（２−フルオロフェニル）プ
ロポキシ、４−（３−フルオロフェニル）ブトキシ、１
，１−ジメチル−２−（４−フルオロフェニル）エトキ
シ、５−（２−ブロモフェニル）ペンチルオキシ、６−
　＜３−ブロモフェニル）へキシルオキシ、２−メチル
−３−（４−ブロモフェニル）プロポキシ、２−ヨード
ベンジルオキシ、２−　（３−ヨードフェニル）エトキ
シ、１−（４−ヨードフェニル〉エトキシ、３−　（３
，５−ジクロロフェニル）プロポキシ、４−　（２，６
−ジクロロフェニル）ブトキシ、５−（３，４−ジクロ
ロフェニル）ペンチルオキシ、６−　（３，４−ジフル
オロフェニル）へキシルオキシ、２−メチル−３−（３
，５−ジブロモフェニル）プロポキシ、３，４．５−ト
リクロロベンジルオキシ、３−メチル−４−クロロベン
ジルオキシ、２−クロロ−６−メチルベンジルオキシ、
２−メトキシ−３−クロロベンジルオキシ基等のフェニ
ル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎮又は分枝鎖状
アルキル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎮状アルコキシ基なる群より選ばれた基を１〜３個
有することのあるアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状ア“ルキル基であるフェニルアルコキシ基
を例示できる。

低級アルカノイル基としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノ
イル、ヘキサノイル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルカノイル基を例示できる。

Ｒ５及びＲ６が両者の結合する窒素原子と共に窒素原子
もしくは酸素原子を介し又は介することなく形成する５
員もしくは６員の複素環基としては、例えばピペラジニ
ル基、ピペリジニル基、モルホリノ基、ピロリジニル基
等を挙げることができる。

低級アルキル基の１〜３個が置換した上記複素環基とし
ては、例えば４−メチル−１−ピペリジニル、２−メチ
ル−１−モルホリノ、２−メチル−１−ピロリジニル、
４−エチル−１−ピペラジニル、３−プロピル−１−モ
ルホリノ、４−イソプロピル−１−ピペリジニル、３−
ブチル−１−ピロリジニル、４−　ｔｅｒｔ−ブチル−
１−ピペラジニル、４−ペンチル−１−ピペリジニル、
３−へキシル−１−モルホリノ、３．４−ジメチル−１
−ピペラジニル、３．５−ジメチル−１−ピペリジニル
、２，４−ジメチル−１−ピペラジニル、３．４．５−
トリメチル−１−ピペラジニル基等の炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜３個置換した上記複素
環基を例示できる。

Ｒ３及びＲ’が之等の結合する窒素原子と共に形成する
複素環基であって、該複素環上にフェニル低級アルキル
基、水酸基、低級アルキル基、フェニル環上に置換基と
して低級アルキル基、ハロゲン原子及び低級アルコキシ
基なる群より選ばれた基を１〜３個有することのおるフ
ェニル低級アルコキシ基、フェニル基、低級アルカノイ
ル基及び基−（Ｂ）ｏＮＲ５Ｒ６（基中Ｂｓ　２％　Ｒ
５及びＲ６は前記に同じ）よりなる群から選ばれた置換
基の１〜３個が結合した基としては、例えば４−フェニ
ル−１−ピペラジニル、４−フェニル−１−ピペリジニ
ル、３−フェニルモルホリノ、２−フェニル−１−ピロ
リジニル、４−ヒドロキシ−１−ピペラジニル、６−フ
ェニル−１−インドリル、４−フェニル−１−ホモピペ
ラジニル、４−ヒドロキシ−１−ピペリジニル、２−ヒ
ドロキシ−１−モルホリノ、３−ヒドロキシ−１−ピロ
リジニル、５−ヒドロキシ−１−インドリル、４−ヒド
ロキシ−１−ホモピペラジニル、４−ベンジル−１−ピ
ペラジニル、４−ベンジル−１−ピペリジニル、３−ベ
ンジル−１−モルホリノ、２−ベンジル−１−ピロリジ
ニル、４−　（１−）工二ルエチル）−１−ピペラジニ
ル、５−ベンジル−１−インドリル、４−　（６−フェ
ニルヘキシル）−１−ピペラジニル、４−（２−フェニ
ルエチル）−１−ピペラジニル、４−ベンジル−１−ホ
モピペラジニル、３−ベンジルチオモルホリノ、６−ベ
ンジル−１−インドリル、４−（３−フェニルプロピル
）−１−ホモピペラジニル、４−　（２−フェニルエチ
ル）−１−ピペリジニル、２−（３−フエニルブロピル
）−１−モルホリノ、３−（４−フェニルブチル）−１
−ピロリジニル、４−（５−フェニルペンチル）−１−
ピペラジニル、４−（６−フェニルヘキシル）−１−ピ
ペリジニル、４−（１，１−ジメチル−２−フェニルエ
チル）−１−ピペリジニル、４−（２−メチル−３−フ
ェニルプロピル）−１−ピペラジニル、４−メチル−１
−ホモピペラジニル、４−メチル−１−ピペラジニル、
５，６−シメチルー１−インドリル、３，４−ジメチル
−１−ピペラジニル、２゜４−ジメチル−１−ピペラジ
ニル、４−メチル−１−ピペリジニル、２，４．５−ト
リメチル−１−ピペラジニル、３−メチル−１，４−ジ
アザビシクロＣ４，３，０）−４−ノニル、２−メチル
−１−モルホリノ、２−メチル−１−ピロリジニル、４
−エチル−１−ピペラジニル、３−プロピル−１−モル
ホリノ、４−イソプロピル−１−ピペリジニル、３−ブ
チル−１−ピロリジニル、４−　ｔｅｒｔ−ブチル−１
−ピペラジニル、４−ペンチルー１−ピペリジニル、３
−へキシル−１−モルホリノ、２，６−シメチルー１−
ピペリジニル、６−フェニル−１，２，３，４−テトラ
ヒドロキノリル、７−フェニル−１，２−ジヒドロキノ
リル、６−フェニル−１，２，３，４−テトラヒドロイ
ソキノリル、７−フェニル−１，２−ジヒドロインキノ
リル、５−ヒドロキシ−１，２，３゜４−テトラヒドロ
キノリル、６−ヒドロキシ−１゜２−ジヒドロキノリル
、７−ヒドロキシ−１，２゜３．４−テトラヒドロイソ
キノリル、８−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロイソキノ
リル、６−ベンジル−１，２，３，４−テトラヒドロキ
ノリル、８−ペンシル−１，２−ジヒドロキノリル、５
−ベンジル−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリ
ル、７−ベンジル−１，２−ジヒドロイソキノリル、６
−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、８
−メチル−１，２−ジヒドロキノリル、５−メチル−１
，２，３，４−テトラヒドロイソキノリル、７−メチル
−１，２−ジヒドロイソキノリル、４−フェニル−４−
ヒドロキシ−１−ピペリジニル、４−フェニル−４−ア
セチル−１−ピペリジニル、２−ベンジルオキシ−１−
イミダゾリル、３−ベンジルオキシ−１−ピペラジニル
、２−ベンジルオキシモルホリノ、３−ベンジルオキシ
−１−ピロリジニル、３−ベンジルオキシ−１，４−ジ
アゼピニル、２−ペンシルオキシ−１，４−オキサゼビ
ニル、３−ベンジルオキシホモピペラジニル、６−ベン
ジルオキシ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、
６−ベンジルオキシ−１，２，３，４−テトラヒドロイ
ソキノリル、５−ベンジルオキシ−１，２−ジヒドロキ
ノリル、７−ベンジルオキシ−１，２−ジヒドロイソキ
ノリル、５−ベンジルオキシインドリニル、４−ベンジ
ルオキシ−１−インドリル、４−ベンジルオキシ−１−
ピペリジニル、４−（２−フェニルエトキシ）−１−ピ
ペリジニル、４−（１−フェニルエトキシ）−１−ピペ
リジニル、４−（３−フェニルプロポキシ）−１−ピペ
リジニル、４−（４−フェニルブトキシ）−１−ピペリ
ジニル、４−（１，１−ジメチル−２−）工二ルエトキ
シ）−１−ピペリジニル、４−　（５−フェニルペンチ
ルオキシ）−１−ピペリジニル、４−（６−フエニルヘ
キジルオキシ）−１−ピペリジニル、４−（２−メチル
−３−フェニルプロポキシ）−１−ピペリジニル、４−
（４−メトキシベンジルオキシ）−１−ピペリジニル、
４−（３，４−ジクロロベンジルオキシ）−１−ピペリ
ジニル、４−（２−フルオロベンジルオキシ）＝１−ピ
ペリジニル、４−（４−メチルベンジルオキシ）−１−
ピペリジニル、４−（３〜メチル＝４−クロロベンジル
オキシ）−１−ピペリジニル、４−　（２−メトキシ−
３−クロロベンジルオキシ）−１−ピペリジニル、３−
アセチル−１−イミダゾリル、４−アセチル−１−ピペ
ラジニル、４−プロピオニル−１−ピペラジニル、４−
ブチリル−１−ピペリジニル、４−ホルミル−１−ピペ
リジニル、３−ペンタノイルモルホリノ、３−ヘキサノ
イル−１−ピロリジニル、３−アセチル−１，４−ジア
ゼピニル、２−アセチル−１，４−オキサゼビニル、３
−ホルミルホモピペラジニル、４−アセチル−１，２，
３，４−テトラヒドロキノリル、６−ホルミル−１，２
−ジヒドロキノリル、６−ホルミル−１，２，３，４−
テトラヒドロイソキノリル、４−アセチル−１，２−ジ
ヒドロインキノリル、４−ホルミル−１−インドリル、
５−アセチル−１−インドリル、２−（ジエチル７ミノ
メチル）−１−ピロリジニル、２−（１−ピロリジニル
メチル）−１−ピロリジニル、２−（モルホリノメチル
）−１−ピロリジニル、２−　（（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）メチルクー１−ピロリジニル、４−（ピロ
リジニルメチル）−１−ピペラジニル、４−　（２−（
１−ピロリジニル）エチルツー１−ピペラジニル、４−
（モルホリノメチル）−１−ピペラジニル、４−　（２
−モルホリノエチル）−１−ピペラジニル、３−モルホ
リノ−１−ピロリジニル、２−メチルアミノメチル−１
−ピロリジニル、３−（１−ピロリジニル）−１−ピロ
リジニル、３−（４−メチル−１−ピペラジニル）−１
−ピロリジニル、４−（１−ピロリジニル）−１−ピペ
リジニル、３−（２−（Ｎ−エチルアミノ）エチル）モ
ルホリノ、４−（３−モルホリノプロピル）−１−ホモ
ピペラジニル、３−　（３−（１−ピロリジニル）プロ
ピルコチオモルホリノ、４−　（１−ピペリジニル）−
１−インドリニル、３−メチル−１−イミダゾリル、４
−エチル！１−イミダゾリル、３−プロピル−１−イミ
ダゾリル、４−ブチル−１−イミダゾリル、３−ペンチ
ルー１−イミダゾリル、４−へキシル−１−イミダゾリ
ル、２−ジエチルアミンメチル−１−イミダゾリル、２
−（２−ジメチルアミノエチル）−１−イミダゾリル、
４−（３−プロピルアミノプロピル）−１−イミダゾリ
ル、４−　（４−ｎ−ブチルアミノブチル）−１−イミ
ダゾリル、２−（５−ペンチルアミノペンチル）−１−
イミダゾリル、４−（６−へキシルアミノヘキシル）−
１−イミダゾリル、４−メチルアミノ−１−ピペリジニ
ル、２−エチルアミノ−１−ピペラジニル、３−ジエチ
ルアミノモルホリノ、４−プロピルアミノ−１−ピペリ
ジニル、３−ジブチルアミノ−１−ピペリジニル、４−
ペンチルアミノ−１−ピペリジニル、２−ジヘキシルア
ミノー１−ピペリジニル、３−モルホリノ−１−ピロリ
ジニル、４−（１−ピペリジニル）−１−ピペリジニル
、３−　（（４−メチル−１−ピペラジニル）メチル３
七ルホリノ、３−　（（１−−ピロリジニル）メチル３
七ルホリノ、３−（（３゜５−ジメチル−１−ピペリジ
ニル）メチル３七ルホリノ、４−（１−ピロリジニル）
−１−ピペリジニル、４−（１−ピペリジニル）−１−
ピペリジニル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基、水
酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、フ
ェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基なる群より選ばれた基を１〜
３個有することのあるアルコキシ部分が炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるフェニルアルコキ
シ基、フェニル基、炭素数１〜６の直鎖又は分校鎖状ア
ルカノイル基及び 基−（Ｂ）ｏＮＲ５Ｒ６（基中Ｂｓ　Ｑ、Ｒ５及びＲ６
は前記に同じ）よりなる群から選ばれた置換基が１〜３
個置換した上記複素環基を例示することができる。

低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、２−メチルトリメチレン、２゜２−ジメチル
トリメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキレン基を例示できる。

カルボスチリル骨格に置換する側鎖Ｒ２及び基−０−Ａ
−ＮＲａ　Ｒ４は、該骨格の３．４．５．６．７及び８
位に置換するものであるが、該側鎖Ｒ２と基−０−Ａ−
ＮＲ３Ｒ’とは同時に同じ位置に置換することはない。

上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体は
、種々の方法により製造できる。その例を示せば、例え
ば下記反応式に示す方法により製造することができる。

〈反応式−′１〉 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びカルボスチリル
骨格の３，４位結合は前記に同じ、ＸＩはハロゲン原子
を示す。） 上記反応式−１によれば、一般式（２）の化合物と一般
式（３）の化合物との反応により目的とする一般式（１
）の化合物を製造することができる。

一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物との反応
は、適当な不活性溶媒中又は無溶媒で、至温〜約２００
℃、好ましくは約５０〜１２０’Ｃ程度の温度条件下に
、約１〜２４時間を要して実施される。ここで使用でき
る不活性溶媒としては、とくに限定がなく、反応に悪影
響を与えないものであればよく、例えばジオキサン、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール
、イソプロパツール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の低級ア
ルコール類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチ
ルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド（ＨＭＰＡ）の非プロトン性極性溶媒等を例示で
きる。また、上記反応はより有利には、塩基性化合物を
脱ハロゲン化水素剤として用いて行なわれる。該塩基性
化合物としては、特に限定はなく公知のものを広く使用
できる。その例としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナ
トリウムアミド、水素化ナトリウム、等の無機塩基性化
合物、ジインプロピルエチルアミン、トリエチルアミン
、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン等の有機塩
基性化合物を例示できる。更に、上記反応は、必要に応
じて反応促進剤として、沃化カリウム、沃化ナトリウム
等の沃化アルカリ金属化合物を系内に添加して行なうこ
ともできる。

上記反応における一般式（２）の化合物と一般式（３）
の化合物との使用割合は、通常前者に対して後者を等モ
ル−過剰量、好ましくは等モル−約５倍モル量とされる
のが適当である。

〈反応式−２〉 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びカルボスチリル
骨格の３．４位結合は前記に同じ。×２はハロゲン原子
を示す。〕 この反応式−２に示す方法においては、一般式（４）の
化合物に、一般式（５）の化合物を反応させることによ
り、所望の一般式（１）の化合物を収得できる。該反応
は、塩基性化合物を脱ハロゲン化水素剤として用いて、
適当な溶媒中、ＷＡ〜約２００℃、好ましくは約５０〜
１５０℃程度の温度下で、約１〜１５時間を要して実施
される。

上記において、溶媒としては、反応に悪影響を与えない
ものであれば特に限定がな（使用することができる。そ
の例としては、例えば前述した低級アルコール類、エー
テル類、芳香族炭化水素類、ＤＭＦＳＤＭＳＯ等やアセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類等を例示するこ
とができる。また脱ハロゲン化水素剤としても、特に限
定がなく公知のものを広く使用できる。その例としては
、前述した各種の塩基性化合物のほか、例えばナトリウ
ムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、カリウム−
ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムエトキサイド、金属カ
リウム等を例示できる。上記反応においてもまた、反応
促進剤として、沃化カリウム、沃化ナトリウム等の沃化
アルカリ金属化合物を添加使用することができる。上記
反応における一般式（４）の化合物と一般式（５）の化
合物との使用割合は、通常前者１モル当たり、後者を１
モル程度以上、好ましくは１〜５モル量程度とするのが
よい。かくして一般式（１）の化合物を収得できる。

〈反応式−３〉 （１ａ） 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びカルボスチリル骨格
の３．４位結合は前記に同じ。Ｘ３はハＣＨＣＨ２Ｘ３
基（×３は上記に同じ）を示す。〕 上記反応式−３において、一般式（４）の化合物と一般
式（６）のエピハロゲノヒドリンとの反応は、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、水素化ナトリウム、金属ナトリウム、金属カ
リウム、ナトリウムアミド等の無機塩基性化合物、ピペ
リジン、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基性化
合！Ｉ病等の通常の塩基性化合物の存在下、無溶媒にて
、又は適当な溶媒、例えば前述した低級アルコール類、
ケトン類、エーテル類、芳香族炭化水素類、水等の不活
性溶媒中で行なわれる。一般式（６）の化合物の使用割
合は、一般式（４）の化合物に対して通常等モル−過剰
量、好ましくは約５〜１０倍モル量とするのがよい。反
応は、通常的Ｏ〜１５０℃程度、好ましくは約５０〜１
００’Ｃ付近の温度にて進行する。上記反応によれば、
一般式（６）のエビハロヒドリンは、一般式（４）の化
合物の水酸基と反応して、通常核化合物に（２゜３−エ
ポキシ）プロポキシ基又は３−ハロゲノ−２−ヒドロキ
シプロポキシ基を与え、一般に反応生成物は、之等の混
合物として得られる。

かくして帰られる反応生成物は、特に分離精製すること
なく混合物のまま引続き一般式（３）のアミン誘導体と
の反応に供してもよく、また一般に用いられている精製
法、例えば分別再結晶法、カラムクロマトグラフィー等
を適用して２，３−エポキシプロポキシ基を有する化合
物と３−ハロゲノ−２−ヒドロキシプロポキシ基を有す
る化合物とをそれぞれ分離精製した後、之等をそれぞれ
一般式（３）のアミン誘導体との反応に供してもよい。

かかる反応生成物、即ち一般式（７）の化合物の混合物
又はそれらの分離精製物と一般式（３）のアミン誘導体
との反応は、無溶媒もしくは慣用の不活性溶媒中で、室
温〜２００’Ｃ程度、好ましくは約６０〜１２０℃程度
で行なわれ、通常１時間〜２４時間程度で完結する。上
記反応において不活性溶媒としては、特に限定されず反
応に悪影響を与えないものであればよく、例えば前述し
たエーテル類、芳香族炭化水素類、低級アルコール類、
アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等を使用できる。ま
た上記反応においては、必要に応じて通常の塩基性化合
物を添加使用することもできる。

該塩基性化合物としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリ”ラム、
ナトリウムアミド、水素化ナトリウム等の無機塩基性化
合物、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジ
ン、キノリン等の有機塩基性化合物を例示できる。一般
式（７）の化合物に対する一般式（３）の化合物の使用
割合は、通常等モル−過剰量、好ましくは等モル−５倍
モル程度とされるのがよい。

〈反応式−４〉 （１ｂ） （１Ｃ） 〔式中Ｒ，Ｒ２及びカルボスチリル骨格の３，４位結合
は前記に同じ。Ｒ１′は水素原子以外の前記Ｒ１基を示
し、またｘ４はハロゲン原子を示す。〕 一般式（１ｂ）の化合物と一般式（８）の化合物との反
応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下に行なうこ
とができる。ここで用いられる塩基性化合物としては、
例えば水素化ナトリウム、金属ナトリウム、金属カリウ
ム、ナトリウムアミド、カリウムアミド等を例示できる
。また溶媒としては、ジオキサン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ
ｌＨＭＰＡ等を使用することができる。

一般式（１ｂ）の化合物と一般式（８）の化合物との使
用割合は、特に限定がなく広い範囲内で適宜選択するこ
とができるが、通常前者に対して後者を少なくとも等モ
ル量程度、好ましくは等モル量〜２倍モル量程度とする
のがよい。反応は、通常約Ｏ〜７０℃程度、好ましくは
約り℃〜室温付近の温度下に進行し、一般に約０．５〜
１５時間程時間線了する。

〈反応式−５〉 （１ｄ） （１ｅ） 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ａ、×１及びカルボスチリル骨格の
３，４位結合は前記に同じ。Ｒ７は低級アルキル基、フ
ェニル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基
を有することのあるフェノキシ低級アルキル記、ヒドロ
キシ低級アルキル基又はフェニル環上に置換基として低
扱アルコキシ基を有することのあるフェニル低級アルキ
ル基を示す。Ｒ７／はＲ７と同一の基又は水素原子を示
す。〕 一般式（１ｄ）の化合物と一般式（９）の化合物との反
応は、無溶媒で又は通常の不活性溶媒中で行なわれる。

用いられる不活性溶媒としては、反応に悪影響を与えな
い各種のもの、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、メタノール、エタノール、インプロパツール等の低級
アルコール類、酢酸、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトン、アセトニトリル
、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の極性溶媒等を例示することができる。上記反応は
、より有利には塩基性化合物を脱酸剤として用いて実施
される。ここで塩基性化合物としては、例えば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミド、水素化
ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムエチラート、ナト
リウムメチラート等の金属アルコラード類、トリエチル
アミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン、１
．５−ジアザビシクロ（４，３，Ｏ）ノネン−５（ＤＢ
Ｎ）、１．８−ジアザビシクロ（５，４，Ｏ）ウンデセ
ン−７（ＤＢＬＪ＞、１．４−ジアザビシクロ（２，２
゜２）オクタン（ＤＡＢＧＯ＞等の有機塩基等を例示で
きる。また、上記反応は、必要に応じて反応促進剤とし
ての例えば沃化ナトリウム、沃化カリウム等の沃化アル
カリ金属化合物の存在下に行なうこともでき、更に反応
系内に沃化鋼等のハロゲン化銅、銅粉等を添加すること
もできる。

上記反応における一般式（１ｄ）の化合物と一般式（９
）の化合物との使用割合は、特に限定されず、広範囲の
中から適宜選択されるが、通常前者に対して後者を等モ
ル−過剰量、好ましくは等モル−５倍モル量程度とする
のが望ましい。反応温度としては、特に限定されるもの
ではないが、通常室温付近〜２００’Ｃ程度、好ましく
は６０〜１２０’Ｃ程度の範囲から選択されるのがよく
、反応時間は一般に数時間〜３０ｖｆ間程度とされるの
が適当である。

〈反応式−６〉 （１ｄ） （１ｆ） （式中Ｒ１、Ｒ２、Ａ、Ｘｌ、Ｘ２及びカルボスチリル
骨格の３．４位結合は前記に同じ。Ｒ８はフェニル低級
アルキル基、水酸基、低級アルキル基、フェニル環上に
置換基として低級アルキル基、ハロゲン原子及び低級ア
ルコキシ基なる群より選ばれる基の１〜３個を有するこ
とのあるフェニル低級アルコキシ基、フェニル基、低級
アルカノイル基及び−（Ｂ）ＱＮＲ５Ｒ８基（式中Ｂ　
ＳＱ　ｓ　Ｒ”及びＲ６は前記に同じ）から選ばれる基
を示し、ｍはＯ又は１〜３の整数を示す。〕 一般式（１ｄ）の化合物と一般式（１０）の化合物との
反応は、前記反応式−５に示した一般式（１ｄ）の化合
物と一般式（９）の化合物との反応と同様の条件下に実
施することができる。

Ｒ１ （１ｄ） （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８、Ａｌｍ、×１、Ｘ２及びカル
ボスチリル骨格の３，４位結合は前記に同シ。Ｗは　（
ＣＨ２＞５−基、　（、ＣＨ２）ｓ−基、（ＣＨ２）−
ＮＨ−（ＣＨ２）２−基、（ＣＨ２）２−ＮＨ−（ＣＨ
２＞３−基、（ＣＨ２）２　０−　（ＣＨ２）２−基又
ハ（ＣＨ２＞２−０−　（ＣＨ２＞３−基ヲ示シ、Ｒ８
Ｇ、を２等各基のいずれかの水素原子と置換するものと
する。〕 一般式（１ｄ）の化合物と一般式（１１）の化合物との
反応は、前記反応式−５に示した一般式（１ｄ）の化合
物と一般式（９）の化合物との反応と同様の条件下に実
施することができる。

かくして得られる一般式（１Ｑ）の化合物において、Ｗ
が窒素原子且つｍがＯでおる化合物は、これに一般式 ％式％（１２） 〔式中×１は前記に同じ。Ｒ８１はフェニル低級アルキ
ル基、低級アルキル基、フェニル基又は−（Ｂ）　Ｑ／
　ＮＲ５Ｒｅ基（式中Ｂ、Ｒ５及びＲ６は前記に同じ。

Ｑ′は１を示す。〕で表わされる化合物を反応させるこ
とにより、Ｗが窒素原子であり且つ該窒素原子上にＲ８
′基が置換した対応する化合物（１ｇ）に誘導すること
ができる。

この反応は、前記反応式−５に示した一般式（１ｄ）の
化合物と一般式（９）の化合物との反応と同様の条件下
に行なうことができる。

また一般式（１ｇ）の化合物において、Ｗが窒素原子且
つｍｆｆ１Ｏである化合物は、これに一般式％式％（１
３） 〔式中Ｒ８″は低級アルカノイル基を示す。Ｘ５は水酸
基を示す。〕 で表わされる化合物（カルボン酸）を反応させることに
より、Ｗが窒素原子であり且つ該窒素原子上にＲ８″が
置換した対応する化合物（１ｑ）に誘導することができ
る。

この反応は、通常のアミド結合生成反応に従い行なうこ
とができる。アミド結合生成反応としては、公知のアミ
ド結合生成反応の条件を広く適用することができる。例
えば（イ）混合酸無水物法、即ち一般式〈１３〉の化合
物（以下「カルボン酸（１３）Ｊという）に、アルキル
ハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし、これに
他方の原料とする化合物（１ｇ）（以下「アミン（”Ｉ
ｇ）Ｊという）を反応させる方法、（ロ）活性エステル
法、即ちカルボンＭ（１３）をｐ−ニトロフェニルエス
テル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾールエステル等の活性エステル
とし、これにアミン（１ｑ）を反応させる方法、（ハ）
カルボジイミド法、即ちカルボン１（１３）にアミン（
１ｇ）をジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニル
ジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合させる方法
、（ニ）その他の方法としてカルボン１（１３）を無水
酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これにア
ミン（１ｇ）を反応させる方法、カルボン１（１３）と
低級アルコールとのエステルにアミン（１Ｑ）を高圧高
温下に反応させる方法、カルボン酸（１３）の酸ハロゲ
ン化物即ちカルボン酸ハライドにアミン（１ｇ）を反応
させる方法等を挙げることができる。

混合酸無水物法において用いられる混合酸無水物は、通
常のショツテン−バウマン反応により得られ、これを通
常単離することなくアミン（１ｇ）と反応させることに
より目的の化合物が製造される。ショツテン−バウマン
反応は塩基性化合物の存在下に行なわれる。用いられる
塩基性化合物としては、ショツテン−バウマン反応に慣
用の各種の化合物、例えばトリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、ＤＢＮ、ＤＢＵ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基性
化合物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基性化合物等を例
示できる。該反応は、通常約−２０〜１００℃、好まし
くは約Ｏ〜５０℃において行なわれ、反応時間は右条約
５分〜１０時間、好ましくは約５分〜２時間でおる。得
られた混合酸無水物とアミン（１ｇ）との反応は、通常
約−２０〜１５０°Ｃ１好ましくは約１０〜１００℃に
おいて行なわれ、反応時間は通常約５分〜１０時間、好
ましくは約５分〜５時間でおる。

混合酸無水物法は、一般に溶媒中で行なわれる。

用いられる溶媒は、混合酸無水物法に慣用の各種溶媒の
いずれでもよい。興体的には塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の非プロ
トン性極性溶媒等を例示できる。混合酸無水物法におい
て使用されるアルキルハロカルボン酸としては、例えば
クロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチ
ル、ブロモ蟻酸エチル、クロロａｉ酸イソブチル等を例
示できる。該法におけるカルボン酸（１３）、アルキル
ハロカルボン酸及びアミン（１Ｑ）の使用割合は、通常
当モルずつとするのがよいが、アミン（１ｇ）に対して
アルキルハロカルボン酸及びカルボン酸（１３）をそれ
ぞれ１〜１．５倍モル量使用してもよい。

またカルボン酸ハライドにアミン（１ｇ）を反応させる
方法を採用する場合、該反応は塩基性化合物の存在下に
、適当な溶媒中で行なわれる。用いられる塩基性化合物
としては、公知のものを広く使用でき、例えば上記ショ
ツテン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物の他に
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート等のアルカリ金属アルコラード等
を例示できる。また溶媒としては、例えば上記混合酸無
水物法に用いられるそれらと同様の各種の溶媒の他に、
メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール、
３−メトキシ−１−ブタノール、エチルセロソルブ、メ
チルセロソルブ等のアルコール類、ピリジン、アセトン
、アセトニトリルや之等の混合溶媒等を挙げることがで
きる。アミン（１Ｑ）とカルボン酸ハライドとのイ吏用
割合としては、特に限定がな（広い範囲内で適宜選択す
ればよいが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル
量程度、好ましくは等モル−約５倍モル量程度用いるの
がよい。該反応は、通常約−３０〜１８０℃程度、好ま
しくは約Ｏ〜１５０℃程度にて好ましく進行し、一般に
約５分〜１０時間程度で完結する。

く反応式−８〉 Ｒ１ Ｈ （１ａ） 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｚ及びカルボスチリル
骨格の３，４位結合は前記に同じ。〕一般式（４）の化
合物と一般式（１４）の化合物との反応は、前記反応式
−３に示した一般式（７）の化合物と一般式（３）の化
合物との反応と同様の条件下に行なうことができる。

く反応式−９〉 −ＯＨ Ｈ２ ■ Ｒ’　　　（１ｈ） 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ＋及びカルボスチリル骨格の３，
４位結合は前記に同じ。Ａ′は低級アルキレン基及びＲ
９は低級アルキル基をそれぞれ示す。但し、−Ａ’　Ｃ
０Ｒ９基の炭素数は６を越えないものとする。〕 一般式（４）の化合物と一般式（１５）の化合物との反
応は、前記反応式−１に示した一般式（２）の化合物と
一般式（３）の化合物との反応と同様の条件下に行なう
ことができる。

一般式（１６）の化合物と一般式（１７）のヒドロキシ
アミンとの反応は、適当な不活性溶媒中、塩基性化合物
の存在下又は非存在下に行なうことができる。この際用
いられる塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
の無機塩基性化合物、ピペリジン、ピリジン、トリエチ
ルアミン、ＤＢＮ、ＤＢＵ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基性
化合物等を例示できる。また不活性溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであればいずれでもよく、例
えばメタノール、エタノール、イソプロパツール等の低
級アルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ピリジン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯｌＨＭＰＡ等を例示できる
。一般式（１７）の仁ドロキシアミンの使用量は、一般
式（１６）の化合物に対して通常少なくとも等モル量、
好ましくは等モル〜約５倍モル量の範囲から選択するの
がよい。反応温度は、通常至温〜約２００’Ｃ１好まし
くは約５０〜１５０℃とするのがよく、一般に約１〜１
０時間で反応は終了する。

かくして得られる一般式（１８）の化合物の還元反応は
、適当な溶媒中、触媒の存在下に、接触水素添加するこ
とにより行なうことができる。使用される溶媒としては
、反応に悪影響を及ぼさない各種の不活性溶媒から選択
される。その例としては、例えば水、酢酸、メタノール
、エタノール、イソプロパツール等のアルコール類、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル
、酢酸メチル等のエステル類、ＤＭＦ等の非プロトン性
極性溶媒等を例示できる。また使用される触媒としては
、例えばパラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭
素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等
を例示できる。触媒の使用量としては、特に限定される
ものではないが、通常一般式（１８）の化合物に対して
約０．０２〜１倍重量程度とするのが適当である。反応
温度は通常約−２０°Ｃ−空温付近、好ましくは約り℃
〜室温付近とされ、水素圧力は通常約１〜１０気圧程度
とされるのがよく、反応は一般に約０．５〜１０時間程
時間線了する。

〈反応式−１０＞ （１ｊ） 〔式中Ｒ，Ｒ’及びＲ２は前記に同じ。〕一般式（１１
）の化合物の還元反応には、通常の接触還元条件が採用
できる。ここで触媒としては、パラジウム、パラジウム
−炭素、プラチナ、ラネーニッケル等の通常の接触還元
用金属触媒をいずれも使用でき、その使用量も通常の触
ｔｓ量とすることができる。溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール、イソプロパツール、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、酢酸
エチル等を例示できる。上記還元反応は、常圧及び加圧
下のいずれでも実施でき、通常常圧〜約２０ｋｇ／ｃｍ
２、好ましくは常圧〜約１０ｋｇ／ｃｍ２が好適に採用
できる。温度条件としては、通常約１〜１０気圧程度、
好ましくはｖ温〜１００℃程度が採用され得る。

また、一般式（１１）の化合物の脱水素反応は、適当な
溶媒中、酸化剤を使用して行なわれる。用いられる酸化
剤としては、例えば２，３−ジクロロ−５，６−ジシア
ツベンゾキノン、クロラニル（２，３，５，６−チトラ
クロロペンゾキノン）等のベンゾキノン類、Ｎ−ブロモ
コノ１り酸イミド、Ｎ−クロロコハク酸イミド、臭素等
のノへロゲンイヒ剤、二酸化セレン、パラジウム−炭素
、）＜ラジウム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケル等
の水素化触媒等を挙げることができる。ハロゲン化剤の
使用量としては、特に限定されず広い範囲内から適宜選
択すればよいが、通常一般式（１１）の化合物に対して
等モル−５倍モル量程度、好ましくは等モル−２倍モル
程度とするのがよい。また水素化触媒を用いる場合には
、通常の触ｒｓ量とするのがよい。溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、メトキシエタノー
ル、ジメトキシメタン等のエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素類、ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ブタノール、アミルアルコ
ール、ヘキサノール等のアルコール類、酢酸等の極性プ
ロトン溶媒類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の非プロ
トン性極性溶媒類等を例示できる。反応は、通常空温〜
３００℃程度、好ましくは空温〜２００　’Ｃ程度にて
行なわれ、一般に約１〜４０ｖｆ間程度で完結する。

上記各反応式に示す方法により所望の一般式（１）で表
わされるカルボスチリル誘導体を製造することができる
。

なお、一般式（１）で表わされる化合物のうち、Ｒ１が
水素原子でおり且つカルボスチリル骨格の３．４位結合
が二重結合でおる化合物は、下記反応式−１１に示すよ
うに、ラクタムーラクチム型の互変異性をとり得る。

〈反応式−１１〉 Ｃ式中Ｒ及びＲ２は前記に同じ。〕 本発明の一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導
体のうち、塩基性基を有する化合物は、これに適当な酸
を作用させることにより容易に医薬的に許容される酸付
加塩とすることができる。

談義としては、例えば塩酸、Ｗｔ酸、リン酸、臭化水素
酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸を挙げ
ることができる。

また、本発明の一般式（１）で表わされるカルボスチリ
ル誘導体のうち、酸性基を有する化合物は、これに適当
な塩基性化合物を作用させることにより容易に医薬的に
許容される塩を形成させることができる。該塩基性化合
物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム等を挙げることができる。また沃化メチル、塩化エチ
ル等のハロゲン化アルキル等を作用させたり、三級アミ
ンと反応させることにより、四級塩を形成させることも
できる。

かくして得られる各々の工程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレバラテイプ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。

尚、本発明に利用される一般式（１）のカルボスチリル
誘導体は、光学異性体及び立体異性体も当然に包含する
ものである。

上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体の
内には、種々の新規化合物が包含されている。かかる新
規な化合物は、より詳細には、下記一般式（ＩＡ）、（
１百）及び（１Ｃ）に分類される。

１ａ 〔Ｒｌａは水素原子、低級アルキル基、フェニル低級ア
ルキル基又はフェニル基を示す。

Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、
ハロゲン原子、低級アルキニルオキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルコ
キシ基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を
有することのあるフェニルアミノカルボニル低級アルコ
キシ基、低級アルカノイルオキシ基、水酸基、置換基と
して低級アルキル基を有することのあるアミノ基又はヒ
ドロキシ低級アルキル基を示す。

Ｒ３ａ及びＲ４ａは、同−又は異なって、水素原子、低
級アルキル基、フェニル基、フェニル環上に置換基とし
て低級アルキル基を有することの必るフェノキシ低級ア
ルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はフェニル環上
に置換基として低級アルコキシ基を有することのあるフ
ェニル低級アルキル基を示す。

Ａ１は置換基としてフェニル基を有することのめる低級
アルキレン基を示す。

また、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合
は一重結合又は二重結合を示す。但し、Ｒｌａが水素原
子で、Ｒ２がカルボスチリル骨格の８位に置換する水酸
基又は低級アルコキシ基であり、ＡＩが非置換の低級ア
ルキレン基の場合、！−０−Ａ−ＮＲ３”Ｒ４ａが力／
Ｌ、ボスチＩ、Ｉルａ 骨格の５位に置換し、Ｒ及びＲ４ａが同−又は異なって
、水素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル
基であってはならない。またＲ２が水素原子で、Ｒｌａ
が水素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル
基で、Ｒ３ａ及びＲ４ａが同−又は異なって、水素原子
、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、フェニ
ル環上に置換基として低級アルコキシ基を有することの
めるフェニル低級アルキル基又はフェノキシ低級アルキ
ル基で、Ａ１が非置換の低級アルキレン基の場合、 ！−０−Ａ＋　　ＮＲ３ａＲ”’は、力／Ｌ、　ホスチ
Ｉ、Ｊ　ル骨格の３位又は４位に置換するものとする。

〕〔式中Ｒ１ａは水素原子、低級アルキル基、フェニル
低級アルキル基又はフェニル基を示す。

Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、
ハロゲン原子、低級アルキニルオキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルコ
キシ基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を
有することのめるフェニルアミノカルボニル低級アルコ
キシ基、低級アルカノイルオキシ基、水酸基、置換基と
して低級アルキル基を有することのあるアミノ基又はヒ
ドロキシ低級アルキル基を示す。

Ａ１は置換基としてフェニル基を有することのある低級
アルキレン基を示す。

Ｒ及びＲ４ｂは、之等の結合する窒素原子と共ｂ にピペリジニル、モルホリノ、ピロリジニル、１．２，
３．４−テトラヒドロイソキノリル及びイミダゾリル基
からなる群から選ばれる複素環を形成し、該複素環上に
はフェニル低級アルキル基、水酸基、低級アルキル基、
フェニル環上に置換基として低級アルキル基、ハロゲン
原子及び低級アルコキシ基よりなる群から選ばれる置換
基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルコキ
シ基、フェニル基、低級アルカノイル基及び基−（Ｂ）
ｏＮＲ５Ｒ６（Ｂは低級アルキレン基を、ＱはＯ又は１
を示し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ低級アルキル基を示す
か、両者の結合する窒素原子と共に窒素原子もしくは酸
素原子を介し又は介することなく飽和の５員もしくは６
員複素環を形成する基を示し、該複素環基上には低級ア
ルキル基の１〜３ｇが置換されていてもよい）よりなる
群から選ばれた置換基の１〜３個が結合していてもよい
。また、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結
合は一重結合又は二重結合を示す。但し、Ｒ１が水素原
子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基で、Ａ
Ｉが非置換の低級アルキレン基で、Ｒ２が水素原子、カ
ルボスチリル骨格の４位に位置する低級アルキル基又は
カルボスチリル骨格の５〜８位のいずれかに位置するハ
ロゲン原子で、且つＲ３ｂ及びＲ４ｂが之等の結合す素
原子、水酸基又は低級アルカノイル基及びＲ８はフェニ
ル低級アルキル基又はフェニル基を示す）を形成する場
合、 基−０−Ａｚ　−ＮＲ３ｂＲ４ｂはカルボスチリル骨格
の３位又は４位に置換するものとする。またＲ１が水素
原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基で、
Ａ１が非ａ換の低級アルキレン基で、Ｒ２が水素原子で
、且つＲ３ｂ及びＲ４ｂが置換基としてフェニル基、低
級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を有すること
のあるモルホリノ基もしくはピロリジニル基又は置換基
として低級アルキル基を有することのあるピペリジニル
基の場合、 基−〇−Ａ１−ＮＲ３ｂＲ４ｂはカルボスチリル骨格の
３位又は４位に置換するものとする。〕■ １ｂ 〔式中Ｒ１ｂはピペリジン環上に置換基としてピペリジ
ニル基又はフェニル低級アルキル基を有することのある
ピペリジニル低級アルキル基を示す。〕 上記一般式（１Ａ）、（１Ｂ）及び（１Ｃ）で表わされ
るカルボスチリル骨格体は、本発明の抗不整脈剤有効成
分化合物として用いられるのみならず、例えば中枢神経
抑制作用及び抗ヒスタミン作用を有しており、中枢神経
抑制剤及び抗ヒスタミン剤として有用である。

上記カルボスチリル誘導体は、殊に中枢神経抑制剤とし
て次の特徴を備えている。即ち、該化合物は長期間単独
隔離マウスの闘争行動抑制作用が強く、この効果は従来
この作用が強いとされているジアゼパムに比しても顕著
である。従って、特に静穏薬、抗不安薬、抗踵うつ病薬
として優れている。また、上記化合物は各種麻酔薬及び
睡眠薬等の麻酔及び睡眠増強作用が強く、上記マウス闘
争行動抑制効果が強いことと併せて、前麻酔薬、睡眠導
入薬としても優れている。

更に上記カルボスチリル誘導体は中枢神経抑制作用とし
て筋弛緩作用、眼瞼下垂作用、体温降下作用、自発運動
抑制作用、嗅球摘出ラット（０８ラツト）情動過多抑制
作用、抗メタンフエタミン作用、メタンフェタミン群毒
性定価作用、鎮痛作用、抗エピネフリン作用等を有して
いるが、抗コリン作用、心臓抑制作用及びカタレプシー
誘発作用は極めて弱い。従って、これを有効成分とする
中枢神経抑制剤は、従来の中枢神経抑制剤に見られる副
作用、例えばのどの渇き、便秘、頻脈、バーキンソニズ
ム及び運動側ジスキネーシフ等を殆んど有さないもので
あり、例えば中枢神経弛緩薬、睡眠導入薬、手術前薬、
抗分裂病薬、鎮静及び静穏薬、抗不安薬、抗踵うつ病薬
、解熱鎮痛薬、降圧薬等として有効である。

また、上記一般式（１Ａ）〜（１Ｃ）で表わされるカル
ボスチリル誘導体は、抗ヒスタミン剤として次の特徴を
備えている。即ち、一般に抗ヒスタミン剤は、グツドマ
ン・ギルマン　薬理店［上］薬物治療の基礎と臨床、第
７８１〜８３５頁、床用書店発行（１９７４年）、新店
用薬理学　羽野寿著、第３０７〜３１９頁、永井書店（
１９７０年）発行、新薬と臨床、第２０巻、第１１号、
第１２９〜１３３頁（１９７１年）及び基礎と臨床、第
１０巻、第１０号、第１７〜２７頁（１９７６年）にも
記載されている通り、アレルギーのＭ原抗体反応による
結合型ヒスタミンの遊離を抑制するのではなく、遊離し
た活性型ヒスタミンとヒスタミン受容体との結合を阻止
（競合的拮抗）して、抗ヒスタミン作用を発現するもの
でおる。それ故、上記化合物を有効成分とする抗ヒスタ
ミン剤は、ヒスタミンとヒスタミン受容体との結合に起
因する種々の疾病、例えばくしやみ、鼻水、目と鼻と喉
のかゆみ等の呼吸気道のアレルギー症状、枯草熱、花粉
症、急性ジンマシン（かゆみ、浮腫、発赤等）、血管浮
腫、掻痒症、アトピー性皮膚炎、昆虫の刺傷、ウルシか
ぶれ等の接触性皮膚炎、血清病の際のジンマシンや浮腫
性障害、アレルギー性鼻炎、アレルギー性結膜炎や角膜
炎等のアレルギー性疾患の治療薬又は予防薬として有効
である。

更に上記抗ヒスタミン剤はヒスタミン以外のオータコイ
ド類が重要な役割を果していると思われる全身性アナフ
ィラキシ−を治療する際に、補助薬としても用いること
ができ、加えて胃の酸分泌能を測定するための診断薬と
しても利用することができる。

更に、上記一般式（１Ａ）〜（１Ｃ）で表わされるカル
ボスチリル誘導体及びその塩は、心筋の収縮を増強する
作用（陽性変力作用）、冠血流量増加作用、降圧作用、
ノルエピネフィリンによる血管収縮抑制作用及び消炎作
用を有しており、例えばうつ血性心不全、僧帽弁膜症、
心房性細動、粗動、発作性心房性頻脈等の各種心臓疾患
の治療のための強心剤、降圧剤及び消炎剤として有用で
おる。特に上記化合物及びその塩は、優れた陽性変力作
用、冠血流量増加作用、降圧作用等を奏する半面、心拍
数の増加作用は殆んど有していない点において特徴づけ
られる。

一般式（１）の化合物及びその塩は、通常一般的な医薬
製剤の形態で用いられる。製剤は通常使用される充填剤
、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢
剤等の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調整される。この
医薬製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択で
き、その代表的なものとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液
剤、懸濁剤等）等が挙げられる。錠剤の形態に成形する
に際しては、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリ
ウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カ
オリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタ
ノール、プロパツール、単シロップ、ブドウ糖液、デン
プン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、
セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビ
ニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸
ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステア
リン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白
糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑
制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウ
ム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、
デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状
ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ
酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用でき
る。ざらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、
例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコ
ーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができ
る。乳剤の形態に成形するに際しては、担体として例え
ばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、
カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガ
ント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン
、カンテン等の崩壊剤等を使用できる。

坐剤の形態に成形するに際しては、担体として例えばポ
リエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高
級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセラ
イド等を使用できる。カプセル剤は常法に従い通常本発
明化合物又はその塩を上記で例示した各種の担体と混合
して硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して
調整される。注射剤として調整される場合、液剤、乳剤
及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ま
しく、これらの形態に成形するに際しては、希釈剤とし
て例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プロピ
レングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール
、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を使用できる。

なお、この場合等仮性の溶液を調整するに充分な量の食
塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せ
しめてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化
剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着色剤、保存
剤、香料、用味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中
に含有せしめてもよい。

本発明の抗不整脈剤中に含有されるべき一般式（１）の
化合物又はその塩の量としては、特に限定されず広範囲
に適宜選択されるが、通常医薬製剤中に１〜７０重量％
、好ましくは１〜３０重量％とするのがよい。

本発明抗不整脈剤の投与方法は特に制限がなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じて決定される。例えば錠剤、乳剤、液剤、懸濁剤
、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与される。注射
剤は単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混
合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内
、皮肉、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直腸内
投与される。

本発明抗不整脈剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別
その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、
通常有効成分である本発明化合物又はその塩の量が１日
当り体重１ｋＣＩ当り約０．１〜１０ｍ（Ｉｔ程度とす
るのがよい。また、投与単位形態中に有効成分を２〜２
００ｍｇ含有せしめるのがよい。

大−一五一−１ 以下に本発明抗不整脈剤有効成分化合物（一般式（１）
のカルボスチリル誘導体）の製造例を実施例として挙げ
、次いで本発明抗不整脈剤の製剤例及び上記有効成分化
合物につき行なわれた薬理試験例を挙げる。

実施例１ ８−クロロプロポキシカルボスチリル１．３Ｃ１゜４−
ベンジルオキシピペリジン１．５Ｃ１，ジイソプロピル
エチルアミン１．５ｎ１２及びＮａ１１．３ｑをＤＭＦ
３０ｍｆ２に懸濁させ、油浴上１００℃で２時間加熱撹
拌後、溶媒を留去し、残渣を塩化メチレンで抽出した。

有機層を水洗、乾燥後、溶媒を留去し、残漬をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液：塩化メチレン：
メタノール−５０：　１　）にて精製し、溶媒を留去後
、残渣を塩酸塩とし、エタノール−ジエチルエーテルよ
り再結晶して、無色粉末の８−　（３−（４−ベンジル
オキシ−１−ピペリジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリル・塩ａ塩１．１５ｇ得た。融点　
１６２〜１６４℃（分解）実施例２〜７５ 実施例１と同様にして、適当な出発原料を用いて、下記
第１表に示す各化合物を得た。

また、得られた各化合物の内のおる種のものにつき、測
定したＮＭＲ分析結果を第２表に示す。

実施例７６ ６０％油性水素化ナトリウム０．２ｑをＤＭＦ１５ｍＱ
に懸濁させ、これに７−　（３−（４−ベンジル−１−
ピペリジニル）プロポキシ〕カルボスチリル・塩酸塩１
．Ｏｑを加え、室温で２０分間撹拌した。次にヨウ化メ
チル０．１’５ｍＱを氷水浴上で冷却撹拌下に加え、添
加終了後、室温で１４時間撹拌した。反応液を水中にあ
け、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗し、飽和食塩水
で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、
残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（）容量液
；塩化メチレン：メタノール−５０：　１　）にて精製
し、更に溶媒を留去後、残渣を塩酸塩とし、エタノール
より再結晶して、白色粉末としての１−メチル−７−（
３−（４−ベンジル−１−ピペリジニル）プロポキシ）
カルボスチリル・塩酸塩０．２５ＣＪを得た。

融点：１８４−１８６℃　゛ 実施例７７及び７８ 実施例７６と同様にして、適当な出発原料を用いて、前
記実施例３．８．１０〜１３．１６．１９及び２０の各
化合物並びに下記第３表に示す実施例７７及び７８の各
化合物を得た。

第　　３　　表 実施例７９ ４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチル−１−フェニルカルボ
スチリル トキシド１．２０及びジメチルアミノエチルクロリド・
塩酸塩０．７（７のｔｅｒｔ−ブタノール３０ｍｌ溶液
を１０時間加熱還流させた。反応液に水を加え、酢酸エ
チルで抽出し、水洗後、乾燥し、溶媒を留去した。蓚酸
を用いて蓚酸塩とし、エタノールより再結晶して、０．
７５Ｃｌの４−（２−ジメチルアミノエトキシ）−３−
ｎ−ブチル−１−フェニルカルボスチリル・蓚酸塩を得
た。

融　点：２０７．５−２０８℃（分解）性　状：無色針
状晶 上記実施例７９と同様にして、前記実施例１〜１８及び
２０〜７５の各化合物を得た。

実施例８０ ８−ヒドロキシ−３．４−ジヒドロカルボスチリル１０
ｇを、−金属ナトリウム１．５０及びエタノール１００
鵬から調整したＮａＯＥｔ溶液に懸濁させ、これにエビ
クロロヒドリン２４鵬を加え、４時間加熱還流させた。

水及びヘキサンを加え、結晶を戸数し、水洗、乾燥後、
粗結晶１０．５１を得た。

このうち１０Ｃｌをアセトニトリル１００ｍＱ及び４−
ベンジルピペリジン２５ｇ中に懸濁させ、６時間加熱還
流させ、水を加えて結晶を戸数し、水洗した。希塩酸水
中で加熱し、不溶物を熱時濾過し、冷却後、析出した結
晶を液収した。これを水−エタノールより再結晶して、
８−　（３−　（４−ベンジル−１−ピペリジニル）−
２−ヒドロキシプロポキシ〕３，４−ジヒドロカルボス
チリル塩酸塩を淡黄色粉末として１．３０得た。

融点：２２８−２３２℃（分解） 実施例８１ ８−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル５．
　０ＣＩ，モノクロロアセトン２．７鵬及び炭酸カリウ
ム４．７ｇのアセトン５０＋１１１１２溶液を４時間加
熱還流させた。溶媒を留去し、ジクロロメタンで抽出し
た。水洗、乾燥後、溶媒を留去し、８−アセチルメトキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリル７、０Ｑを得た。

このものをピリジン３０−に溶かし、塩酸ヒドロキシア
ミン３．ＯＣＪを加え、３時間加熱還流させた。ピリジ
ンを留去し、ジクロロメタンで抽出し、硫酸銅水溶液及
び水で順次洗浄後、乾燥し、溶媒を留去して、８−（２
−ヒドロキシイミノプロポキシ）−３．４−ジヒドロカ
ルボスチリル５、４ｇを得た。

このものはｓｙｎ−及びａｎｔ　ｉ一体の混合物であり
、これを精製することなく、次いで酢酸５０ｍ１２中、
ＰｔＣｈＯ．３Ｑを用いて接触還元を行なった。

触媒を液収後、溶媒を留去し、残渣をジクロロメタンで
抽出した。希水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄
後、乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出液：塩化メチレン−塩化メチレ
ン：メタノール＝１０：１）にて精製した後、蓚酸塩と
し、水−メタノールから再結晶して、８−（２−アミノ
プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・Ｍ酸
塩０、２５ｇを得た。

融点：２１０−２１１℃ 性　状：白色粉末 実施例８２ ８−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルホスチリル１０
（Ｊ及び４−ベンジル−１−（２．３−エポキシプロピ
ル）ピペリジン３３ＣＩのアセトニトリル１００１Ｔｌ
１２溶液を６時間加熱還流させた。反応混合物に水を加
えて結晶を戸数し、水洗した。希塩酸水中で加熱し、不
溶物を熱時濾過し、冷却後、析出した結晶を枦取した。

これを水−エタノールより再結晶して、８−　（３−　
（４−ベンジル−１−ピペリジニル）−２−ヒドロキシ
プロポキシ〕３．４−ジヒドロカルボスチリル・塩蔵塩
１．２０を得た。

融　点：　２２８−２３２℃（分解） 性　状：淡黄色粉末状 製剤例１ ８−　（３−（４−ベンジル−１− ピペリジニル）プロポキシ）　−３，５ｍｇ４−ジヒド
ロカルボスチリル デンプン　　　　　　　　　　　　　１３２ｍｇマグネ
シウムステアレート　　　　　１８ｍｃ＋字　　　　　
　　　　　　　　　　　４５ｍｇ計　　　　　　　　　
　　　　　　　２００ｍＣｌ常法により１錠中、上記組
成物の錠剤を製造した。

製剤例２ ８−（３−（４−ベンジルオキシ −１−ピペリジニル）プロポキシ）　　’＋ｏｍｇ−３
，４−ジヒドロカルボスチリル デンプン　　　　　　　　　　　　１２７ｍσマグネシ
ウムステアレート　　　　　１Ｂｍｇ乳　　　’　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　４５ｍｇ計　　　
　　　　　　　　　　　　　２００町常法により１錠中
、上記組成物の錠剤を製造した。

製剤例３ ８−　（３−’（４’−ベンジル−１−ピベリジニル）
プロポキシ）−３，５００ｍ（１４−ジヒドロカルボス
チリル ポリエチレングリコール　　　　　　０．３ｑ（分子量
：４０００） 塩化ナトリウム　　　　　　　　　　０．（１ポリオキ
シエチレンソルビタンモノ　０．４ｑオレエート メタ重亜硫酸ナトリウム　　　　　　０．１９メチル−
パラベン　　　　　　　　０．１８０プロピル−パラベ
ン　　　　　　　０．０２に］注射用・、留　　　　　
　　　　　　　１００鵬上記パラベン類、メタ重亜Ｆａ
酸ナトリウム及び塩化ナトリウムを撹拌しながら８０℃
で上記の蒸留水に溶解する。得られた溶液を４０℃まで
冷却し、本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポ
リオキシエチレンソルビタンモノオレエートを順次溶解
させ、次にその溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量
に調製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾過
することにより滅菌して１−ずつアンプルに分注し、注
射剤を調製する。

薬理試験例 平岡等（Ｃｉｒｃ、Ｒｅｓ、、第４８巻、第５１０−５
１８頁（１９８０年）〕が、イヌ心室筋に用いた方法に
準じて、この試験を行なった。

即ち、ネコ（体重１．５〜５ｋ（１）をケタミン３０ｍ
ＭｋＯの筋肉的注射とベンドパルビタール２０ｍＱ／ｋ
ｌＪの腹腔内投与により麻酔させた後、心臓を冷やした
タイロード液ｆＮａｃ１３７ミリモル、ＮａＨＣＯ３１
５，９ミリモル、グルコース５．５ミｌ、Ｊ−Ｅル、Ｍ
ＱＣ９２１，Ｃ）ミ’）モル、ＮａＨ２Ｐｏｔ　０．４
２ミリモル、ＫＣ９２，７ミリモル及びＣａＣＱ２１．
８ミリモルコ中に摘出した。常法に従い右心空の乳頭筋
を摘出し、タイロード液で満たしたマグナス装置に吊し
た。タイロード液を酸素９５％及び二酸化炭素５％の混
合ガスで曝気し、温度を３７℃に維持した。静止張力は
０．５ｋｇに合わせた。０．５Ｈｚの頻度で電気刺激を
加えながら、約３０分開襟本の安定化を図った。刺激を
止め、タイロード液をにフリーのタイロード液で置換し
た。その３０分後、Ｋ及びＣａフリーのタイロード液に
Ｍ換し、更に３０分後、Ｋフリー且つＣａ　（３，６ミ
リモル）のタイロード液で置換した。１０分後より５分
毎に刺！！！間隔３２Ｑｍｓｅｃで７０回トレイン刺激
を与えると、約半数例で刺激停止後に後収縮が認められ
た。電気刺激による収縮及び後収縮が一定した後、供試
化合物を２０分間隔で累積的に投与し、１０回目の収縮
（第４表中ｒＬＣゞＪとして示す）及び１回目の後収縮
（第４表中ｒＡ−１ＸＪとして示す）に対する作用を検
討した。

供試化合物として、下記各化合物を用いて、得られた結
果を第４表に示す。

〈供試化合物〉 １　８−（３−（４−ベンジル−１−ピペリジニル）プ
ロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩 ２　８−（３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）プ
ロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸塩 ３１−メチル−８−（３−（４−ベンジル−１−ピペリ
ジニル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル・蓚酸塩 ４１−ベンジル−６−（３−（４−ベンジル−１−ピペ
リジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカルボスチ
リル・蓚酸塩 ５１−メチル−７−（３−（４−ベンジル−１−ピペリ
ジニル）プロポキシ〕カルボスチリル・塩酸塩 ６８−フルオロ−４−（３−（４−ベンジル−１−ピペ
リジニル）プロポキシ〕カルボスチリル・塩酸塩 ７８−プロパルギルオキシ−５−（３−（４−ベンジル
−１−ピペリジニル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル・塩酸塩 ８１−フェニル−３−ｎ−ブチル−４−（３−ジメチル
アミノプロポキシ）カルボスチリル・蓚酸塩 ９　８−（４−（４−ベンジル−１−ピペリジニル）ブ
トキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸塩 １０　８−（３−ｎ−ブチルアミノプロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル・８Ｍ塩 １１　８−　（３−（４−ヒドロキシ−１−ピペリジニ
ル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・
塩酸塩 １２５−アリルオキシ−８−（３−（４−ベンジル−１
−ピペリジニル）プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル・塩酸塩 １３　８−（３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（２−（３゜４−
ジメトキシフェニル）エチル〕アミン）プロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸塩 １４５−プロポキシ−８−（３−（４−ベンジル−１−
ピペリジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカルボ
スチリル・塩酸塩 １５５−カルボキシメトキシ−８−（３−（４−ベンジ
ル−１−ピペリジニル）プロポキシ）−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル・塩酸塩 １６　５−（２，６−シメチルフエニルアミンカルポキ
ニルメトキシ）−８−（３−（４−ベンジル−１−ピペ
リジニル）プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル・塩酸塩 １７５−ヒドロキシ−８−（３−（４−ベンジル−１−
ピペリジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカルボ
スチリル・塩酸塩 １８　８−　（３−（２，６−シメチルー１−ピペリジ
ニル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル １９３−ジエチルアミノ−８−（３−（４−ベンジル−
１−ピペリジニル）プロポキシ〕カルボスチリル・フマ
ール酸塩 ２０　８−（３−（４−メチル−１−ピベラジニル）プ
ロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸
塩 ２１　８−（３−（４−ベンジル−１−ピペラジニル）
プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・２塩
酸塩 ２２　８−　（３−（２−（１−ピロリジニルメチル）
−１−ピロリジニル〕プロポキシ）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル・２８ｍ塩 ２３　８−（３−（３−モルホリノ−１−ピロリジニル
）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２４　　８−（３−（４−フェニルメトキシ−１−ピベ
リジニル）プロポキシ）−３．４−ジヒドロカルボスチ
リル・塩酸塩 ２５　　８−（３−（４−（１−ピペリジニル）−１−
ピペリジニルジプロポキシ）−３．４−ジヒドロカルボ
スチリル・２塩酸塩 ２６　　８−（３−（１，２，３．４−テトラヒドロ化
イソキノリン−２ーイル）プロポキシ〕ー３，４ージヒ
ドロカルボスチリル 塩 ２７　　８−（３−　（３−　（４−メチル−１−ピペ
リジニルメチル）−１−モルホリノ）プロポキシ）−３
．４−ジヒドロカルボスチリル・３塩酸塩 ２８　　８−（３−（３−（１−モルホリノメチル）−
１−モルホリノ〕プロポキシ）−３．４−ジヒドロカル
ボスチリル・２塩酸塩 ２９　　８−　（３−　（３−　（１−ピロリジニルメ
チル）−１−モルホリノ）プロポキシ）−３。

４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸塩３０　　８−（
３−（４−ジエチルアミン−１−ピペリジニル〉プロポ
キシ）−３．４−ジヒドロカルボスチリル・２フタール
酸塩 ３１　　８−（３−（３−（３．５〜ジメチル−１−ビ
ペリジニルメチル）−１−モルホリノ〕プロポキシ）−
３．４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸塩 ３２　　８−（３−（４−（１−ピロリジニル）−１−
ごペリジニル）プロポキシ）−３．４−ジヒドロカルボ
スチリル・２塩酸塩 ３３　　８−（３−（２−（２．６−シメチルフエノキ
シ）−１−メチルエチルアミノコプロポキシ）−３．４
−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸塩 ３４　　８−（３−（４−ベンジル−１−ピペリジニル
）−２−ヒドロキシプロポキシ〕−３。

４−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩 ３５　　８−（２−アミノプロポキシ）−３．４−ジヒ
ドロカルボスチリル・蓚酸塩 ３６　　８−　（３−　（４−　（４−メチルフェニル
）メトキシ−１−ピペリジニル）プロポキシ）−３．４
−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸３７　７−アリル−８
−　（３−　（４−　（１−とペリジニル）−１−ピペ
リジニルジプロポキシ）−３．４−ジヒドロカルボスチ
リル２塩酸塩 ３８　　７−ｎ−プロピル−８−　（３−　（４−　（
１−ピペリジニル）−１−ピペリジニルジプロポキシ）
−３．４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸塩 ３９　　８−　（３−　（４−　（２−フルオロフェニ
ル）メトキシ−１−ピペリジニルジプロポキシ〕−３，
４−ジヒドロカーレボスチリル・蓚酸塩 ４０　　８−　（３−　（４−　（４−メトキシフェニ
ル）メトキシ−１−ピペリジニルジプロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸塩 ４１　　８−（３−（４−ベンジル−１−ピベリジニル
〕−２−メチルプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル・塩酸塩 ４２　８−　（３−（４−フェニル−４−ヒドロキシ−
１−ピペリジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル 塩 ４３　　８−（３−（４−フェニル−４−アセチル−１
−ピペリジニル）プロポキシ〕−３。

４−ジヒドロカルボスチリル 塩 ４４　　７−（１−ヒドロキシエチル）−８−（３−（
４−フェニルメトキシ−１−ピペリジニル）プロポキシ
）−３．４−ジヒドロカルボスチリル・蓚酸塩 ４５　　８−（２−（４−メチル−１−ピペラジニル）
カルボニルエトキシ ドロカルボスチリル・蓚酸塩 手続補正書（自発） 昭和６２年９月９日 特許庁長官　　小　川　邦　夫　殿 １　事件の表示　　　　　　　　　　　　　可昭和６２
年特許願第１２９２５７号 ２　発明の名称 抗不整脈剤 ３　補正をする者 ４代理人 大阪市東区平野町２の１０　沢の鶴ビル自　　　発 ６　補正の対象 明細書中「発明の詳細な説明」の項 ７　補正の内容 補正の内容 １　明細書第４８頁に記載の反応式−３中、（１ａ＞、
Ｊ （ｌａ）Ｊ と訂正する。

２　明細書第５２頁に記載の反応式−４中、（１ｃ）Ｊ
とおるのを （１Ｇ）Ｊと訂正する。

３　明細書第５４頁に記載の反応式−５中、（１ｅ）　
　　　　Ｊとあるのを （１ｅ）　　　　　Ｊと訂正する。

４　明細書第５７頁に記載の反応式−６中、Ｒ’　　（
ｉｆ）　　　　　　　　Ｊ とあるのを 電 Ｒ１（１ｆ）　　　　　　　　Ｊ と訂正する。

５　明細書第５９頁に記載の反応式−７中、Ｒ’　　（
１Ｑ）　　　　　　　　　Ｊとあるのを Ｒ’　　（１ｑ）　　　　　　　Ｊ と訂正する。

（以上）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は水素原子、低級アルキル基、フェニル低
   級アルキル基、フェニル基又はピペリジン環上に置換基
   としてピペリジニル基もしくはフェニル低級アルキル基
   を有することのあるピペリジニル低級アルキル基を示す
   。 Ｒ＾２は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基
   、ハロゲン原子、低級アルキニルオキシ基、低級アルケ
   ニルオキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ低級アル
   コキシ基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基
   を有することのあるフェニルアミノカルボニル低級アル
   コキシ基、低級アルカノイルオキシ基、水酸基、置換基
   として低級アルキル基を有することのあるアミノ基又は
   ヒドロキシ低級アルキル基を示す。 Ｒは水素原子又は基−Ｏ−Ａ−ＮＲ＾３Ｒ＾４を示す。 該基においてＡは置換基として水酸基もしくはフェニル
   基を有することのある低級アルキレン基又はカルボニル
   低級アルキル基を示す。 Ｒ＾３及びＲ＾４は、同一又は異なつて、水素原子、低
   級アルキル基、フェニル基、フェニル環上に置換基とし
   て低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級ア
   ルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はフェニル環上
   に置換基として低級アルコキシ基を有することのあるフ
   ェニル低級アルキル基を示すか、或いは之等の結合する
   窒素原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介
   することなく飽和もしくは不飽和の複素環を形成しても
   よく、該複素環上にはフェニル低級アルキル基、水酸基
   、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級ア
   ルキル基、ハロゲン原子及び低級アルコキシ基よりなる
   群から選ばれる置換基の１〜３個を有することのあるフ
   ェニル低級アルコキシ基、フェニル基、低級アルカノイ
   ル基及び基−（Ｂ）＿ｌＮＲ＾５Ｒ＾６（Ｂは低級アル
   キレン基を、ｌは０又は１を示し、Ｒ＾５及びＲ＾６は
   それぞれ低級アルキル基を示すか、両者の結合する窒素
   原子と共に窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介する
   ことなく飽和の５員もしくは６員複素環を形成する基を
   示し、該複素環基上には低級アルキル基の１〜３個が置
   換されていてもよい）よりなる群から選ばれた置換基の
   １〜３個が結合していてもよい。 また、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合
   は一重結合又は二重結合を示す。 但し、Ｒが水素原子のとき、Ｒ＾１はピペリジン環上に
   置換基としてピペリジニル基もしくはフェニル低級アル
   キル基を有することのあるピペリジニル低級アルキル基
   であり、且つＲ＾２は水素原子でなければならない。） で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩を有効成
   分として含有する抗不整脈剤。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔Ｒ＾１＾ａは水素原子、低級アルキル基、フェニル低
   級アルキル基又はフェニル基を示す。 Ｒ＾２は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基
   、ハロゲン原子、低級アルキニルオキシ基、低級アルケ
   ニルオキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ低級アル
   コキシ基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基
   を有することのあるフェニルアミノカルボニル低級アル
   コキシ基、低級アルカノイルオキシ基、水酸基、置換基
   として低級アルキル基を有することのあるアミノ基又は
   ヒドロキシ低級アルキル基を示す。 Ｒ＾３＾ａ及びＲ＾４＾ａは、同一又は異なって、水素
   原子、低級アルキル基、フェニル基、フェニル環上に置
   換基として低級アルキル基を有することのあるフェノキ
   シ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基又はフェ
   ニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有すること
   のあるフェニル低級アルキル基を示す。 Ａ＿１は置換基としてフェニル基を有することのある低
   級アルキレン基を示す。 また、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合
   は一重結合又は二重結合を示す。但し、Ｒ＾１＾ａが水
   素原子で、Ｒ＾２がカルボスチリル骨格の８位に置換す
   る水酸基又は低級アルコキシ基であり、Ａ＿１が非置換
   の低級アルキレン基の場合、基−Ｏ−Ａ−ＮＲ＾３＾ａ
   Ｒ＾４＾ａがカルボスチリル骨格の５位に置換し、Ｒ＾
   ３＾ａ及びＲ＾４＾ａが同一又は異なつて、水素原子、
   低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基であっては
   ならない。またＲ＾２が水素原子で、Ｒ＾１＾ａが水素
   原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基で、
   Ｒ＾３＾ａ及びＲ＾４＾ａが同一又は異なつて、水素原
   子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、フェ
   ニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有すること
   のあるフェニル低級アルキル基又はフェノキシ低級アル
   キル基で、Ａ＿１が非置換の低級アルキレン基の場合、
   基−Ｏ−Ａ＿１−ＮＲ＾３＾ａＲ＾４＾ａは、カルボス
   チリル骨格の３位又は４位に置換するものとする。〕 で表されるカルボスチリル誘導体及びその塩。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１＾ａは水素原子、低級アルキル基、フェニ
   ル低級アルキル基又はフェニル基を示す。 Ｒ＾２は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基
   、ハロゲン原子、低級アルキニルオキシ基、低級アルケ
   ニルオキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ低級アル
   コキシ基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基
   を有することのあるフェニルアミノカルボニル低級アル
   コキシ基、低級アルカノイルオキシ基、水酸基、置換基
   として低級アルキル基を有することのあるアミノ基又は
   ヒドロキシ低級アルキル基を示す。 Ａ＿１は置換基としてフェニル基を有することのある低
   級アルキレン基を示す。 Ｒ＾３＾ｂ及びＲ＾４＾ｂは、之等の結合する窒素原子
   と共にピペリジニル、モルホリノ、ピロリジニル、１，
   ２，３，４−テトラヒドロイソキノリル及びイミダゾリ
   ル基からなる群から選ばれる複素環を形成し、該複素環
   上にはフェニル低級アルキル基、水酸基、低級アルキル
   基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基、ハロ
   ゲン原子及び低級アルコキシ基よりなる群から選ばれる
   置換基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アル
   コキシ基、フェニル基、低級アルカノイル基及び基 −（Ｂ）＿ｌＮＲ＾５Ｒ＾６（Ｂは低級アルキレン基を
   、ｌは０又は１を示し、Ｒ＾５及びＲ＾６はそれぞれ低
   級アルキル基を示すか、両者の結合する窒素原子と共に
   窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく飽
   和の５員もしくは６員複素環を形成する基を示し、該複
   素環基上には低級アルキル基の１〜３個が置換されてい
   てもよい）よりなる群から選ばれた置換基の１〜３個が
   結合していてもよい。 また、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合
   は一重結合又は二重結合を示す。 但し、Ｒ＾１が水素原子、低級アルキル基又はフェニル
   低級アルキル基で、Ａ＿１が非置換の低級アルキレン基
   で、Ｒ＾２が水素原子、カルボスチリル骨格の４位に位
   置する低級アルキル基又はカルボスチリル骨格の５〜８
   位のいずれかに位置するハロゲン原子で、且つＲ＾３＾
   ｂ及びＲ＾４＾ｂが之等の結合する窒素原子と共に基▲
   数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＾７は水素原子、
   水酸基、 又は低級アルカノイル基及びＲ＾８はフェニル低級アル
   キル基又はフェニル基を示す）を形成する場合、基−Ｏ
   −Ａ＿１−ＮＲ＾３＾ｂＲ＾４＾ｂはカルボスチリル骨
   格の３位又は４位に置換するものとする。またＲ＾１が
   水素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基
   で、Ａ＿１が非置換の低級アルキレン基で、Ｒ＾２が水
   素原子で、且つＲ＾３＾ｂ及びＲ＾４＾ｂが置換基とし
   てフェニル基、低級アルキル基又はフェニル低級アルキ
   ル基を有することのあるモルホリノ基もしくはピロリジ
   ニル基又は置換基として低級アルキル基を有することの
   あるピペリジニル基の場合、基−Ｏ−Ａ＿１−ＮＲ＾３
   ＾ｂＲ＾４＾ｂはカルボスチリル骨格の３位又は４位に
   置換するものとする。〕 で表されるカルボスチリル誘導体及びその塩。
4. （４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１＾ｂはピペリジン環上に置換基としてピペ
   リジニル基又はフェニル低級アルキル基を有することの
   あるピペリジニル低級アルキル基を示す。〕 で表されるカルボスチリル誘導体及びその塩。