KR940006325B1 - 카르보스티릴 유도체 및 그의 염 및 카르보스티릴 유도체를 함유하는 항-부정맥 제제 - Google Patents

카르보스티릴 유도체 및 그의 염 및 카르보스티릴 유도체를 함유하는 항-부정맥 제제 Download PDF

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후지오 다부사
가즈요시 나가미
히로노리 쓰쓰이
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히구찌 요시나리
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond

Abstract

내용 없음.

Description

카르보스티릴 유도체 및 그의 염 및 카르보스트릴 유도체를 함유하는 항-부정맥 제제
본 발명은 카르보스티릴 유도체 및 그의 염에 관한 것이다. 보다 상세히 설명하면, 본 발명은 상기 카르보스티릴 유도체를 투여하여 부정맥을 치료 및/또는 개선시키는 방법, 상기 카르보스티릴 유도체를 활성 성분으로 함유하는 약학 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 카르보스티릴 유도체와 유사한 화학 구조식을 갖는 일부 카르보스티릴 유도체가 공지되어 있다[참고. 미합중국 특허 제3,836,657호 ; 4,935,414호 ; 3,202,661호 ; 4,071,520호 ; 3,557,117호 ; 4,472,433호 ; 4,097,591호 ; 4,097,472호 ; 4,415,572호 ; 4,593,035호 ; 4,558,130호 ; 4,173,630호 ; 4,097,591호 ; 유럽특허 제 0187322호 ; 캐나다 특허 제894,236호 ; 프랑스공화국 특허 제2,000,747호 ; 영국 특허 제1,425,706호 ; 영국 특허 제1,206,995호 ; 1,219,205호 ; 1,131,501호 ; 일본국 특허 출원 공개 제60-42793호(1985) ; 59-29667호(1984)]. 그러나, 상기의 공지된 카르보스티릴 유도체의 약물학적 활성과 본 발명에 의한 카르보스티릴 유도체의 약물학적 활성은 현저히 다르다.
본 발명의 목적은 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 카르보스티릴 유도체를 투여하여 부정맥을 치료 및/또는 개선시키는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 활성 성분으로서 상기 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염을 함유하는 약학 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염은 일반식(1)로 나타내어진다.
Figure kpo00001
식중, R1은 수소원자, C1~C16알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알키닐기, 페닐-저급 알킬기, 카르복시-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시 카르보닐-저급 알킬기, 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급 알킬기 또는 5- 또는 6-원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급 알킬기이고 ; R2는 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기, 피리딜기, 일반식
Figure kpo00002
의 기(식중, R4및 R5는 각기 같거나 다르며, 각각 수소원자, 치환기로 히드록시기, 아미노기 또는 저급 알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급 알킬기, 페닐-저급 알카노일기, 이미다졸리닐기, 치환기로 할로겐원자 또는 저급 알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급 알카노일기, 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기, 페닐기, 시클로알킬기, 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐-저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 피롤리디닐-저급 알카노일기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있는 페녹시-저급 알킬기, 모르폴린 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 모르폴리노-저급 알킬기, 피페리딘 고라상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기이고 ; 또는 상기의 R4및 R5뿐 아니라 그에 결합되어 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자가 없이 또는 함께 5-~9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5-~9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기, 치환기로 1~3히드록시기, 저급 알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 테트라히드로푸릴-저급 알킬기, 티에닐-저급 알킬기, 시클로알킬-저급 알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급 알킬기, 피리딜-저급 알킬기, 저급 알킬아미도기, 저급 알키닐기, 저급 알카노일-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐기, 일반식 -
Figure kpo00003
의 기((식중, R13및 R14는 각기 같거나 다르며, 그리고 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기이고 ; 또는 상기의 R13및 R14뿐만 아니라 그에 결합되어 있는 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자가 없이 또는 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있고 ;
Figure kpo00004
는 저급 알킬렌기 또는 일반식
Figure kpo00005
의 기로서, 식중
Figure kpo00006
는 저급 알킬렌기이고,
Figure kpo00007
은 0 또는 1이다)), 및 페닐 고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군에서 선택된 1~3치환기를 가질 수도 있다. ; 또는 피페리딘 고리상에 치환기로 저급 알킬기 또는 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기, 치환기로 1~2저급 알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기를 치환기로 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기이며 ; R3는 치환기로 1~3할로겐원자를 가질 수도 있는 저급 알킬기, 저급알콕시기, 히드록시기, 할로겐원자, 카르복시기, 페닐기, 페닐-저급 알콕시기, 저급 알케닐옥시기, 저급 알카노일-저급 알콕시기 또는 저급 알킬아미노카르보닐-저급 알콕시기이고 ; n은 0, 1 또는 2이며 ; 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 단일 또는 이중 결합이고 ; 또한 R2및 R3은 각각 카르보스티릴 골격내의 3~8위치중 임의의 위치에서 치환될 수도 있으며, 단, R2및 R3가 동시에 같은 위치에서 치환될 수는 없다.
일반식(1)로 나타내는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염들은 항-부정맥 활성을 갖는다. 특히, 상기의 카르보스틸 유도체 또는 그의 염은 심근에 대하여 어떠한 수축작용도 일으키지 않으면서 국소 빈혈일 경우 유발되는 비정상적인 전도 장해를 억제한다.
본 발명 명세서 내에서, R1, R2, R3, R4및 R5각각의 기호로 정의하는 기들의 구체적인 예를 이하에 나타낸다.
"저급 알킬기"라 함은 1~16탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 3차-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실 및 헥사데실기 등이 있다.
"저급 알케닐기"라 함은 2~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐기를 의미하며, 그 예로는 비닐, 알릴, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸알릴, 2-펜테닐 및 2-헥세닐기 등이 있다.
"저급 알키닐기"라 함은 2~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알키닐기를 의미하며, 그 예로는 에티닐, 2-프로피닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐, 2-펜티닐 및 2-헥시닐기 등이 있다.
"페닐-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고 및 1~2페닐기가 치환될 수도 있는 페닐알킬기로서, 그 예를 들면, 벤질, 2-페닐에틸, 1-페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, 1,1-디메틸-2-페닐에틸, 5-페닐펜틸, 6-페닐헥실, 2-메틸-3-페닐프로필, 디페닐메틸 및 2,2-디페닐에틸기 등이다.
"저급 알킬아미노기"라 함은 1~6탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아미노기를 의미하며, 그 예로는, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, 3차-부틸아미노, 펜틸아미노, 헥실아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 디펜틸아미노, 디헥실아미노, N-메틸-N-에틸아미노, N-에틸-N-프로필아미노, N-메틸-N-부틸아미노 및 N-메틸-N-헥실아미노기 등이 있다.
"치환기로서 히드록시기, 아미노기 또는 알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급 알킬기"라 함은 치환기로 히드록시기, 아미노기, 또는 1~6탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아미노기를 가질 수도 있으며, 동시에 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하고, 그 예로는, 상술한 저급 알킬기 이외에, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 2-메틸-3-히드록시프로필, 아미노메틸, 1-아미노에틸, 2-아미노에틸, 3-아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6-아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 에틸아미노메틸, 프로필아미노메틸, 이소프로필아미노메틸, 부틸아미노메틸, 3차-부틸아미노메틸, 펜틸아미노메틸, 헥실아미노메틸, 디메틸아미노메틸, 디에틸아미노메틸, 디프로필아미노메틸, 디부틸아미노메틸, 디펜틸아미노메틸, 디헥실아미노메틸, N-메틸-N-에틸아미노메틸, N-에틸-N-프로필아미노메틸, N-메틸-N-부틸아미노메틸, N-메틸-N-헥실아미노메틸, 2-메틸아미노에틸, 1-에틸아미노에틸, 3-프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 1,1-디메틸-2-펜틸아미노에틸, 5-헥실아미노펜틸, 6-디메틸아미노헥실, 2-디에틸아미노에틸, 1-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸, 3-디헥실아미노프로필, 4-디부틸아미노부틸 및 2-(N-메틸-N-펜틸아미노)에틸기 등이 있다.
"페닐-저급 알카노일기"라 함은 알카노일 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 페닐알카노일기로서 그 예를 들면, 2-페닐아세틸, 3-페닐아세틸, 3-페닐프로피오닐, 4-페닐부티릴, 2-페닐부티릴, 6-페닐헥사노일, 2-페닐프로피오닐, 3-페닐부티릴, 4-페닐-3-메틸부틸, 5-페닐펜타노일 및 2-메틸-3-페닐프로피오닐기 등이 있다.
"할로겐원자"라 함은 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드원자를 의미한다.
"치환기로서 할로겐원자, 저급 알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급 알카노일기"라 함은 할로겐원자 또는 1~6탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아미노기를 치환기로 가질 수도 있는 동시에 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기를 의미하며, 그 예로는, 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 이소부티릴, 펜타노일, 헥사노일, 2-클로로아세틸, 3-브로모프로피오닐, 4-플루오로부티닐, 5-요오도펜타노일, 6-클로로헥사노일, 3-브로모이소부티릴, 메틸아미노아세틸, 에틸아미노아세틸, 프로필아미노아세틸, 이소프로필아미노아세틸, 부틸아미노아세틸, 3차-부틸아미노 아세틸, 펜틸아미노아세틸, 헥실아미노아세틸, 디메틸아미노아세틸, 디에틸아미노아세틸, 디프로필아미노아세틸, 디부틸아미노아세틸, 디펜틸아미노아세틸, 디헥실아미노아세틸, N-메틸-N-에틸-아미노아세틸, N-에틸-N-프로필아미노아세틸, N-메틸-N-부틸, 아미노아세틸, N-메틸-N-헥실아미노아세틸, 3-메틸아미노-프로피오닐, 4-에틸아미노부티릴, 5-디에틸아미노펜타노일, 6-헥실아미노헥사노일, 3-프로필아미노이소부티릴, 3-(N-메틸-N-에틸아미노)프로피오닐 및 4-디펜틸아미노부티릴기 등이 있다.
"저급 알콕시기"라 함은 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 의미하며, 그 예로는, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 3차-부톡시, 펜틸옥시 및 헥실옥시기 등이 있다.
"치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기"라 함은 페닐 고리상에 치환기로서 1~6탄소원자를 갖는 1~3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 가질 수 있으며, 동시에 그의 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐-알킬기를 의미하는 것으로서, 그 예로는, 벤질, 2-페닐에틸, 1-페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, 1,1-디메틸-2-페닐에틸, 5-페닐펜틸, 6-페닐헥실, 2-메틸-3-페닐프로필, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 1-(4-메톡시페닐)에틸, 2-메톡시벤질, 3-(2-에톡시페닐)프로필, 4-(3-에톡시페닐)부틸, 1,1-디메틸-2-(4-에톡시페닐)에틸, 5-(4-이소프로폭시페닐)펜틸, 6-(4-헥실옥시페닐)헥실, 3,4-디메톡시벤질, 3,4,5-트리메톡시벤질 및 2,5-디메톡시벤질기 등이 있다.
"시클로알킬기"라 함은 3~8탄소원자를 갖는 시클로알킬기를 의미하며, 그 예로는, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 및 시클로옥틸기 등이 있다.
"피페리딘 고리상에 치환기로서 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐-저급 알카노일기"라 함은 피페리딘 고리상에 치환기로서 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기를 가질 수도 있으며, 알카노일 부분이 2~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 피페리디닐알카노일기를 의미하는 것으로서 그의 예로는, (1-피페리디닐)아세틸, 2-(1-피페리디닐)프로피오닐, 3-(1-피페리디닐)프로피오닐, 4-(1-피페리디닐)부티릴, 5-(1-피페리디닐)펜타노일, 6-(1-피페리디닐)헥사노일, 2,2-디메틸-3-(1-피페리디닐)프로피오닐, 2-메틸-3-(1-피페리디닐)프로피오닐, 4-벤질-1-피페리디닐-아세틸, 2-[4-(2-페닐에틸)-1-피페리디닐]프로피오닐, 1-[4-(-페닐에틸)-1-피페리디닐]프로피오닐, 4-[3-(3-페닐프로필)-1-피페리디닐]부티릴, 5-[3-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-1-피페리디닐]펜타노일, 6-[2-(5-페닐펜틸)-1-피페리디닐]헥사노일, 2,2-디메틸-3-[4-(2-메틸-3-페닐프로필)-1-피페리디닐]프로피오닐 및 2-메틸-3-(4-벤질-1-피페리디닐)프로피오닐기 등이 있다.
"피롤리디닐-저급 알카노일기"라 함은 알카노일 부분이 2~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 피롤리디닐알카노일기를 의미하며, 그 예로는, (1-피롤리디닐)-아세틸, 2-(1-피롤리디닐)프로피오닐, 3-(1-피롤리디닐)-프로피오닐, 4-(1-피롤리디닐)부티릴, 5-(1-피롤리디닐)-펜타노일, 6-(1-피롤리디닐)헥사노일, 2,2-디메틸-3-(1-피롤리디닐)프로피오닐 및 2-메틸-3-(1-피롤리디닐)프로피오닐기 등이 있다.
"저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기"라 함은 알콕시카르보닐 부분내에 1~6탄소원자를 갖고, 및 알킬부분은 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐알킬기를 의미하며, 그 예로는, 메톡시카르보닐메틸, 3-메톡시카르보닐프로필, 4-에톡시카르보닐부틸, 6-프로폭시카르보닐헥실, 5-이소프로폭시카르보닐펜틸, 1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐에틸, 2-메틸-3차-부톡시카르보닐프로필, 2-펜틸옥시카르보닐에틸 및 헥실옥시카르보닐메틸기 등이 있다.
"페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기"라 함은 페닐고리상에 치환기로서 1~6탄소원자를 갖는 1~3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기를 의미하며, 그 예로는, 벤조일, 2-메톡시벤조일, 3-메톡시벤조일, 4-메톡시벤조일, 2-에톡시벤조일, 3-에톡시벤조일, 4-에톡시벤조일, 4-이소프로폭시벤조일, 4-펜틸옥시벤조일, 4-헥실옥시벤조일, 3,4-디메톡시벤조일, 3,4-디에톡시벤조일, 2,5-디메톡시벤조일, 2,6-디메톡시벤조일 및 3,4,5-트리메톡시벤조일기 등이 있다.
R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 인접한 질소원자로부터 형성된 "5- 또는 6-원 헤테로시클릭기"라 함은 다른 질소원자 또는 산소원자를 가질 수도 있고 또는 갖지 않을 수도 있는 헤테로시클릭기를 의미하며, 그 예로는, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기 및 피롤리디닐기 등이 있다.
"상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기가 치환기로 저급알킬기를 가질 수도 있다"함은 헤테로시클릭기가 치환기로서 1~6탄소원자를 갖는 1~3 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 것을 의미하며, 그 예로는, 4-메틸-1-피페리디닐, 2-메틸-1-모르폴리노, 2-메틸-1-피롤리디닐, 4-에틸-1-피페라지닐, 3-프로필-1-모르폴리노, 4-이소프로필-1-피페리디닐, 3-부틸-1-피롤리디닐, 4-3차-부틸-1-피페라지닐, 4-펜틸-1-피페리디닐, 3-헥실-1-모르폴리노, 3,4-디메틸-1-피레라지닐, 2,4-디메틸-1-피페라지닐 및 3,4,5-트리메틸-1-피페라지닐기 등이 있다.
R4및 R5뿐 아니라 그에 결합되어 있는 인접한 질소원자로부터 형성된 "5-~9-원 헤테로시클릭기"라 함은 헤테로시클릭기에 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자를 가질 수도 있고 또는 갖지 않을 수도 있음을 의미하며, 그 예로는, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기, 피롤리디닐기, 1,4-디아자비시클로-[4,3,0]노닐기, 1,4-디아제피닐기, 1,4-옥사제피닐기, 1,4-티아제피닐기, 호모피페라지닐기, 티오모르폴리노기, 인돌리닐기 및 인돌릴기 및 이미다졸릴기 등이 있다.
"5-~9-원 헤테로시클릭기-페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기, 치환기로 1~3히드록시기, 저급 알콕시기, 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 티에닐-저급 알킬기, 시클로알킬-저급 알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급 알킬아미노기, 저급 알키닐기, 저급 알카노일-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐기, 일반식 -
Figure kpo00008
의 기((식중, R13및 R14는 각기 같거나 다르며, 각각 저급 알킬기, 페닐 고리상에 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 질소원자들은, 다른 질소원자 또는 산소원자 없이 또는 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급 알킬렌기 또는 A'가 저급 알킬렌기,
Figure kpo00009
이 0 또는 1인, 일반식
Figure kpo00010
의 기이다)), 및 페닐고리에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군에서 선택된 1~3치환기를 가질 수도 있는 상기 "5-~9-원 헤테로시클릭기"는 이하에 기재하는 기들로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3치환기를 가질 수도 있다. 상기의 기들로는, 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 1~6탄소원자를 갖는 1~3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 가질 수도 있으며 알킬부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기, 치환기로서 1~3히드록시기, 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 직쇄 또는 측쇄 C1~C10알킬기, 2~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐기, 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고 및 알콕시카르보닐 부분은 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐기인 알콕시카르보닐알킬기, 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 티에닐알킬기, 알킬부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 3~8탄소원자를 갖는 시클로알킬알킬기, 3~8탄소원자를 갖는 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로 1~3할로겐원자를 가질 수도 있고 알킬부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 벤조일알킬기, 알킬부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 피리딜알킬기, 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 알킬아미도기, 2~6원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알키닐기, 알킬 부분이 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일알킬기, 알콕시카르보닐기가 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐기인 페닐알콕시카르보닐기, 일반식의 기((식중, R13및 R14는 각기 같거나 다르며, 각각 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기, 페닐 고리상에 치환기로서 1~6탄소원자를 갖는 1~3알킬기를 갖는 페닐알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 질소는, 다른 질소원자 또는 산소원자 없이 또는 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 헤테로시클릭기는 헤테로시클릭기에 치환기로서 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기, 또는 A'가 1~6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기인 일반식
Figure kpo00012
의 기이며 ;
Figure kpo00013
은 0 또는 1이다.)) 및 페닐고리에 치환기로 1~6탄소원자를 갖는 1~3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기, 예를 들면, 4-페닐-1-피페라지닐, 4-페닐-1-피페리디닐, 3-페닐모르폴리노, 2-페닐-1-피롤리디닐, 4-히드록시-1-피페라디닐, 6-페닐-1-인돌릴, 4-페닐-1-호모피페라지닐, 3-페닐티오모르폴리노, 4-히드록시-1-피페리디닐, 2-히드록시-1-모르폴리노, 3-히드록시-1-피롤리디닐, 5-히드록시-1-인돌릴, 4-히드록시-1-호모피페라지닐, 3-히드록시티오모르폴리노, 4-벤질-1-피페라지닐, 4-벤질-1-피페리디닐, 3-벤질-1-모르폴리노, 2-벤질-1-피롤리디닐, 4-(1-페닐에틸)-1-피페라지닐, 5-(3,4,5-트리메톡시벤질)-1-인돌릴, 4-[6-(3,4-디메톡시페닐)헥실]-1-피페라지닐, 4-[2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]-1-피페라지닐, 4-벤질-1-호모피페라지닐, 3-벤질티오모르폴리노, 6-벤질-1-인돌릴, 4-[3-(3-에톡시페닐)프로필)-1-호모피페라지닐, 2-[4-(4-프로폭시페닐)부틸]티오모르폴리노, 4-(2-페닐에틸)-1-피페리디닐, 2-(3-페닐프로필)-1-모르폴리노, 3-(4-페닐부틸)-피롤리디닐, 4-(5-페닐펜틸)-1-피페라지닐, 4-(6-페닐헥실)-1-피페리디닐, 4-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-1-피페리디닐, 4-(2-메틸-3-페닐프로필)-1-피페라지닐, 2-메틸티오모르폴리노, 4-메틸-1-호모피페라지닐, 4-메틸-1-피페라지닐, 5,6-디메틸-1-인돌릴, 3,4-디메틸-1-피페라지닐, 2,4-디메틸-1-피페라지닐, 4-메틸-1-피페라지닐, 2,4,5-트리메틸-1-피페라지닐, 3-메틸-1,4-디아자비시클로[4,3,0]-4-노닐, 2-메틸-1-모르폴리노, 2-메틸-1-피롤리디닐, 4-에틸-1-피페라지닐, 3-프로필-1-모르폴리노, 4-이소프로필-1-피페리디닐, 3-부틸-1-피롤리디닐, 4-3차-부틸-1-피페라지닐, 4-펜틸-1-피페리디닐, 3-헥실-1-모르폴리노, 4-헵틸-1-피페라지닐, 4-옥틸-1-피페라지닐, 4-노닐-1-피페라지닐, 4-데실-1-피페라지닐, 3-비니피롤리디닐, 2-알릴피롤리디닐, 4-(2-부테닐)-1-피페리디닐, 4-(1-메틸알릴)-1-피페라지닐, 3-(2-펜테닐)-1-모르폴리노, 3-(2-헥세닐)피롤리디닐, 4-알릴-1-피페리디닐, 4-알릴-1-피페라지닐, 4-(2-헥세닐)-1-피페라지닐, 3-메톡시-카르보닐메틸피롤리디닐, 2-(3-메톡시카르보닐프로필)-피롤리디닐, 4-(4-에톡시카르보닐부틸)-1-피페리디닐, 4-(6-프로폭시카르보닐헥실)-1-피페라지닐, 3-(5-이소프로폭시카르보닐펜틸)-1-모르폴리노, 4-(1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐프로필)-1-피페라지닐, 4-(2-메틸-3-3차-부톡시-카르보닐프로필)-1-피페라지닐, 4-(2-펜틸옥시카르보닐에틸)-1-피페리디닐, 4-헥실옥시카르보닐메틸-1-피페라지닐, 4-에톡시카르보닐메틸-1-피페라지닐, 4-벤조일-1-피페라지닐, 4-벤조일-1-피페리디닐, 3-(4-메톡시벤조일)-1-모르폴리노, 2-(3-에톡시벤조일)-1-피롤리디닐, 4-(4-이소프로폭시벤조일)-1-피페라지닐, 4-(4-펜틸옥시벤조일)-1-피페리디닐, 2-(4-헥실옥시벤조일)-1-모르폴리노, 4-(3,4-디메톡시벤조일)-1-피페라지닐, 4-(3,4-디에톡시벤조일)-1-피페리디닐, 3-(2,5-디메톡시벤조일)-1-모르폴리노, 3-(2,6-디메톡시벤조일)-1-피롤리디닐, 4-(3,4,5-트리메톡시벤조일)-1-피페라지닐, 3-메틸-4-(3,4-디메톡시벤조일)-1-피페라지닐, 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐, 3-메틸-4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐, 4-(2-메틸-3-히드록시프로필)-1-피페리디닐, 3-(1-히드록시에틸)모르폴리노, 3-(3-히드록시프로필)-1-피롤리디닐, 4-(4-히드록시부틸)-1-호모피페라지닐, 3-(5-히드록시펜틸)-티오모르폴리노, 6-(6-히드록시헥실)-1-인돌리닐, 4-(2,2,2-트리플루오로에틸)-1-피페라지닐, 4-요오드메틸-1-피페리디닐, 3-트리플루오로메틸모르폴리노, 2-(1,1-디클로로에틸)-1-피롤리디닐, 4-트리브로모메틸-1-호모피페라지닐, 3-(3-클로로-2-메틸에틸)티오모르폴리노, 5-(4-클로로부틸)-1-인돌릴, 4-[(2-티에닐)메틸]-1-피페라지닐, 4-[1-(2-티에닐)에틸]-1-피페리디닐, 3-[3-(2-티에닐)프로필]모르폴리노, 3-[4-(3-티에닐)부틸]-1-피롤리디닐, 4-[5-(3-티에닐)펜틸]-1-호모피페라지닐, 3-[6-(2-티에닐)헥실]티오모르폴리노, 6-[2-메틸-3-(3-티에닐)프로필]-1-인돌리닐, 4-(2-시클로프로필에틸)-1-피페라지닐, 4-(1-시클로부틸에틸)-1-피페리디닐, 3-(3-시클로펜틸)모르폴리노, 3-(4-시클로헥실부틸)피롤리디닐, 4-(5-시클로헵틸)-1-호모피페라지닐, 2-(6-시클로옥틸헥실)티오모르폴리노, 4-시클로헥실-1-피페라지닐, 4-시클로프로필-1-피페리디닐, 2-시클로부틸모르폴리노, 3-시클로펜틸-1-피롤리디닐, 4-시클로헵틸-1-호모피페라지닐, 3-시클로옥틸티오모르폴리노, 4-시클로헥실-1-인돌리닐, 4-[3-(4-플루오로벤조일)프로필]-1-피페라지닐, 4-벤조일메틸-1-피페리디닐, 3-[2-(3-브로모벤조일)에틸]모르폴리노, 3-[4-(2,3-디클로로벤조일)부틸]-1-피롤리디닐, 4-[5-(3,4-디플루오로벤조일)펜틸]-1-호모피페라지닐, 3-[6-(2,4,6-트리클로로벤조일)헥실]티오모르폴리노, 4-[3-(4-피리딜)프로필]-1-피페라지닐, 4-(2-피리딜)메틸-1-피페라지닐, 2-[2-(3-피리딜)에틸]모르폴리노, 3-[4-(2-피리딜)부틸]티오모르폴리노, 4-[5-(4-피리딜)펜틸]-1-호모피페라지닐, 7-[6-(2-피리딜)헥실]-1-인돌릴, 2-디에틸아미노-1-피롤리디닐, 4-메틸아미도-1-피페라지닐, 4-이소프로필아미도-1-피페리디닐, 2-디부틸아미도모르폴리노, 4-디펜틸아미도-1-호모피페라지닐, 3-헥실아미도-1-티오모르폴리노, 4-(2-프로피닐)-1-피페라지닐, 4-(2-부티닐)-1-피페리디닐, 3-(3-부티닐)모르폴리노, 2-(1-메틸-2-프로피닐)-1-피롤리디닐, 4-(2-펜티닐)-1-호모피페라지닐, 3-(2-헥시닐)티오모르폴리노, 4-에티닐-1-인돌리닐, 4-아세틸메틸-1-피페라지닐, 4-(1-프로피오닐에틸)-1-피페리디닐, 2-(3-부티릴프로필)모르폴리노, 2-(5-헥사노일펜틸)-1-피롤리디닐, 4-(6-아세틸헥실)-1-호모피페라지닐, 3-(2-아세틸에틸)티오모르폴리노, 4-아세틸메틸-1-인돌릴, 4-페닐메톡시카르보닐-1-호모피페라지닐, 4-(2-페닐에톡시카르보닐)-1-피페라지닐, 3-(3-페닐프로폭시카르보닐)-모르폴리노, 2-(4-페닐부톡시카르보닐)-1-피롤리디닐, 3-(5-페닐펜틸옥시카르보닐)티오모르폴리노, 5-(3-페닐프로폭시카르보닐)-1-인돌리닐, 3-(6-페닐헥실옥시카르보닐)-1-피페리디닐, 2-(디에틸아미노메틸)-1-피롤리디닐, 2-(1-피롤리디닐메틸)-1-피롤리디닐, 2-(모르폴리노메틸)-1-피롤리디닐, 2-[(4-메틸-1-피페라지닐)메틸]-1-피롤리디닐, 4-(피롤리디닐카르보닐메틸)-1-피페라지닐, 4-[2-(1-피롤리디닐)에틸]-1-피페라지닐, 4-(모르폴리노카르보닐메틸)-1-피페라지닐, 4-(2-모르폴리노카르보닐에틸)-1-피페라지닐, 3-모르폴리노-1-피롤리디닐, 2-{N-[2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]-N-메틸아미노메틸}-1-피롤리디닐, 3-(1-피롤리디닐)-1-피롤리디닐, 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-1-피롤리디닐, 4-(1-피롤리디닐)-1-피페리디닐, 3-[2-{N-[3-(4-에톡시페닐)프로필]-N-에틸아미노}에틸]모르폴리노, 4-(3-모르폴리노프로필)-1-호모피페라지닐, 3-[3-(1-피롤리디닐)카르보닐프로필]-티오모르폴리노, 4-(1-피페리디닐)-1-인돌리닐, 3-메틸-1-이미다졸릴, 3-에틸-1-이미다졸릴, 4-프로필-1-이미다졸릴, 4-부틸-1-이미다졸릴, 3-펜틸-1-이미다졸릴, 4-헥실-1-이미다졸릴, 2-디에틸아미노메틸-1-이미다졸릴, 2-(2-디메틸아미노에틸)-1-이미다졸릴, 4-(3-프로필아미노프로필)-1-이미다졸릴, 4-(4-n-부틸아미노부틸)-1-이미다졸릴, 2-(5-펜틸아미노펜틸)-1-이미다졸릴, 4-(6-헥실아미노헥실)-1-이미다졸릴, 4-(2-메톡시에틸)-1-피페라지닐, 2-(2-메톡시에틸)-1-이미다졸릴, 4-(2-메톡시프로필)-1-피페라지닐, 4-(에톡시메틸)-1-피페라지닐, 4-(1-에톡시에틸)-1-피페리디닐, 3-(4-부톡시부틸)모르폴리노, 3-(5-헥실옥시펜틸)-1-피롤리디닐, 4-아미노-1-피페리디닐, 4-메틸아미노-1-피페리디닐, 4-(N-벤질-N-메틸아미노)-1-피페리디닐, 4-벤질아미노-1-피페리디닐, 3-아미노-1-피롤리디닐, 3-아미노-1-피페라지닐, 2-아미노모르폴리노, 2-에틸아미노-1-피페라지닐, 3-디에틸아미노모르폴리노, 4-프로필아미노-1-피페리디닐, 3-디부틸아미노-1-피페리디닐, 4-펜틸아미노-1-피페리디닐 및 2-디헥실아미노-1-피페리디닐기 등이 있다.
"테트라히드로푸릴-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 테트라히드로푸릴알킬기를 의미하며, 그 예로는 (2-테트라히드로푸릴)메틸, 2-(3-테트라히드로푸릴)에틸, 1-(2-테트라히드로푸릴)에틸, 3-(3-테트라히드로푸릴)프로필, 4-(2-테트라히드로푸릴)부틸, 1,1-디메틸-2-(2-테트라히드로푸릴)에틸, 5-(3-테트라히드로푸릴)펜틸, 6-(2-테트라히드로푸릴)헥실 및 2-메틸-3-(2-테트라히드로푸릴)프로필기 등이 있다.
"페닐-저급 알콕시기"라 함은 알콕시 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기인 페닐알콕시기를 의미하며, 그 예로는, 벤질옥시, 2-페닐에톡시, 1-페닐에톡시, 3-페닐프로폭시, 4-페닐부톡시, 1,1-디메틸-2-페닐에톡시, 5-페닐펜틸옥시, 6-페닐헥실옥시 및 2-메틸-3-페닐프로폭시기 등이 있다.
"티에닐-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 티에닐알킬기를 의미하며, 그 예로는, (2-티에닐)메틸, 2-(3-티에닐)에틸, 1-(2-티에닐)에틸, 3-(2-티에닐)프로필, 4-(3-티에닐)부틸, 1,1-디메틸-2-(2-티에닐)에틸, 5-(3-티에닐)펜틸, 6-(2-티에닐)헥실 및 2-메틸-3-(3-티에닐)프로필기 등이 있다.
"시클로알킬-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이며, 및 3~8 탄소원자를 갖는 시클로알킬알킬기를 의미하는데, 그 예로는, 시클로프로필메틸, 시클로부틸메틸, 시클로펜틸메틸, 시클로헥실메틸, 시클로헵틸메틸, 시클로옥틸메틸, 2-시클로프로필에틸, 1-시클로부틸에틸, 3-시클로펜틸프로필, 4-시클로헥실부틸, 5-시클로헵틸펜틸, 6-시클로옥틸헥실, 2-메틸-3-시클로헥실프로필, 2-시클로헥실에틸 및 1-시클로헥실에틸기 등이 있다.
"페닐 고리상에 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급 알킬기"라 함은 페닐 고리상에 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있으며, 및 상기 기 내의 알킬부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 벤조일알킬기를 의미하는데, 그 예로는, 벤조일메틸, 2-벤조일에틸, 1-벤조일에틸, 3-벤조일프로필, 4-벤조일부틸, 1,1-디메틸-2-벤조일에틸, 5-벤조일펜틸, 6-벤조일헥실, 2-메틸-3-벤조일프로필, (2-클로로벤조일)메틸, 2-(3-브로모벤조일)에틸, 1-(4-클로로벤조일)에틸, 3-(4-플루오로벤조일)프로필, 4-(2,3-디클로로벤조일)부틸, 1,1-디메틸-2-(2,4-디브로모벤조일)에틸, 5-(3,4-디플루오로벤조일)펜틸, 6-(2,4,6-트리클로로벤조일)헥실 및 2-메틸-3-(2-플루오로벤조일)프로필기 등이 있다.
"피리딜-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 피리딜알킬기를 의미하며, 그 예로는, (2-피리딜)메틸, 2-(3-피리딜)에틸, 1-(4-피리딜)에틸, 3-(4-피리딜)프로필, 4-(2-피리딜)부틸, 1,1-디메틸-2-(3-피리딜)에틸, 5-(4-피리딜)펜틸, 6-(2-피리딜)헥실 및 2-메틸-3-(3-피리딜)프로필기 등이 있다.
"저급 알킬아미도기"라 함은 1~6 탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기로 치환되어 있는 아미도기를 의미하며, 그 예로는, 메틸아미도, 에틸아미도, 프로필아미도, 이소프로필아미도, 부틸아미도, 3차-부틸아미도, 펜틸아미도, 헥실아미도, 디메틸아미도, 디에틸아미도, 디프로필아미도, 디부틸아미도, 디펜틸아미도, 디헥실아미도, N-메틸-N-에틸아미도, N-에틸-N-프로필아미도, N-메틸-N-부틸아미도 및 N-메틸-N-헥실아미도기 등이 있다.
"저급 알카노일-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고 알카노일 부분은 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 알카노일 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 포르밀메틸, 2-아세틸에틸, 1-프로피오닐에틸, 3-부티릴프로필아세틸메틸, 4-이소부티릴부틸, 1, 1-디메틸-2-펜타노일에틸, 5-헥사노일펜틸, 6-아세틸헥실 및 2-메틸-3-프로피오닐프로필기 등이 있다.
"페닐-저급 알콕시카르보닐기"라 함은 알콕시카르보닐부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐기인 페닐알콕시카르보닐기를 의미하며, 그 예로는, 페닐메톡시카르보닐, 2-페닐에톡시카르보닐, 1-페닐에톡시카르보닐, 3-페닐프로폭시카르보닐, 1-페닐에톡시카르보닐, 4-페닐부톡시카르보닐, 1,1-디메틸-2-페닐에톡시카르보닐, 3-페닐프로폭시카르보닐, 5-페닐펜틸옥시카르보닐, 6-페닐헥실옥시카르보닐 및 2-메틸-3-페닐프로폭시카르보닐기 등이 있다.
"저급 알킬렌기"라 함은 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 의미하며, 그 예로는, 메틸렌, 에틸렌, 트리메틸렌, 2-메틸트리메틸렌, 2,2-디메틸트리메틸렌, 1-메틸트리메틸렌, 메틸메틸렌, 에틸메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌 및 헥사메틸렌기 등이 있다.
"치환기로서 1~3 히드록시, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기"라 함은 치환기로서 1~3 히드록시기, 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있으며, 및 1~10 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 3차-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 2-메틸-3-히드록시프로필, 7-히드록시헵틸, 8-히드록시옥틸, 7-히드록시노닐, 6-히드록시데실, 요오드메틸, 트리플루오로메틸, 2,2-디플루오로에틸, 1,1-디클로로에틸, 트리클로로메틸, 디클로로메틸, 트리브로모메틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 1-플루오로에틸, 1,2-디클로로에틸, 3,3,3-트리클로로프로필, 3-플루오로프로필, 4-클로로부틸, 3-클로로-2-메틸에틸, 4-클로로헵틸, 8-클로로옥틸, 6-브로모노닐, 7-플루오로데실, 메톡시메틸, 2-메톡시에틸, 2-메톡시프로필, 1-에톡시에틸, 3-프로폭시프로필, 4-부톡시부틸, 1,1-디메틸-2-펜틸옥시에틸, 5-헥실옥시펜틸, 6-메톡시헥실, 2-메틸-3-에톡시프로필, 4-메톡시헵틸, 8-에톡시옥틸, 6-메톡시노닐 및 7-메톡시데실기 등이 있다.
"치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있는 저급 알킬기"라 함은 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있으며, 및 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 상술한 저급 알킬기 이외에, 요오도메틸, 트리플루오로메틸, 2,2-디플루오로에틸, 1,1-디클로로에틸, 트리클로로메틸, 디클로로메틸, 트리브로모메틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 2-플루오로에틸, 1,2-디클로로에틸, 3,3,3-트리클로로프로필, 3-플루오로프로필, 4-클로로부틸 및 3-클로로-2-메틸에틸기 등이 있다.
"저급 알케닐옥시기"라 함은 2~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐옥시기를 의미하며, 그 예로는, 비놀옥시, 알릴옥시, 2-부테닐옥시, 3-부테닐옥시, 1-메틸알릴옥시, 2-펜테닐옥시 및 2-헥세닐옥시기 등이 있다.
"저급 알카노일-저급 알콕시기"라 함은 알콕시부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기이며 알카노일부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 직쇄 또는 측쇄 알카노일알콕시기를 의미하는데, 그 예로는, 포르밀메톡시, 2-아세틸에톡시, 1-프로피오닐에톡시, 3-부티릴프로폭시, 아세틸메톡시, 4-이소부티릴부톡시, 1,1-디메틸-2-펜타노일에톡시, 5-헥사노일펜틸옥시, 6-아세틸헥실옥시 및 2-메틸-3-프로피오닐프로폭시기 등이 있다.
"저급 알킬아미노카르보닐-저급 알콕시기"라 함은 1~6 탄소원자를 가지며, 치환기로서 1~6 탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 의미하며, 그 예로는, 메틸아미노카르보닐메톡시, 에틸아미노카르보닐메톡시, 프로필아미노카르보닐메톡시, 이소프로필아미노카르보닐메톡시, 부틸아미노카르보닐메톡시, 3차-부틸아미노카르보닐메톡시, 펜틸아미노카르보닐메톡시, 헥실아미노카르보닐메톡시, 디메틸아미노카르보닐메톡시, 디에틸아미노카르보닐메톡시, 디프로필아미노카르보닐메톡시, 디부틸아미노카르보닐메톡시, 디펜틸아미노카르보닐메톡시, 디헥실아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-에틸아미노카르보닐메톡시, N-에틸-N-프로필아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-부틸아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-헥실아미노카르보닐메톡시, 2-메틸아미노카르보닐에톡시, 1-에틸아미노카르보닐메톡시, 3-프로필아미노카르보닐프로폭시, 4-부틸아미노카르보닐부톡시, 1,1-디메틸-2-펜틸아미노카르보닐에톡시, 5-헥실아미노카르보닐펜틸옥시, 6-디메틸아미노카르보닐헥실옥시, 2-디에틸아미노카르보닐에톡시, 1-(N-메틸-N-헥실아미노)카르보닐에톡시, 3-디헥실아미노카르보닐아미노프로폭시, 4-디부틸아미노카르보닐부톡시 및 2-(N-메틸-N-펜틸아미노)카르보닐에톡시기 등이 있다.
"페닐고리상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있는 페녹시-저급 알킬기"라 함은 페닐 고리상에 치환기로서 1~6 탄소원자를 갖는 1~3 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 가질 수도 있으며, 및 알킬부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페녹시알킬기를 의미하며, 그 예로는, 페녹시메틸, 2-페녹시에틸, 1-페녹시에틸, 3-페녹시프로필, 4-페녹시부틸, 1,1-디메틸-2-페녹시에틸, 5-페녹시펜틸, 6-페녹시헥실, 2-메틸-3-페녹시프로필, 2-(3-메틸페녹시)에틸, 3-(2-에틸페녹시)프로필, 4-(3-에틸페녹시)부틸, 1,1,-디메틸-2-(4-에틸페녹시)에틸, 5-(4-이소프로필페녹시)펜틸, 6-(4-헥실페녹시)헥실, 3,4-디메틸페녹시메틸, 3,4,5-트리메틸페녹시메틸 및 2,5-디메틸페녹시메틸기 등이 있다.
"모르폴린 고리상에 치환기로서 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 모르폴리노-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기를 모르폴린 고리상에 치환기로 가질 수도 있는 모르폴리노알킬기를 의미하며, 그 예로는, 모르폴리노메틸, 2-모르폴리노에틸, 1-(3-모르폴리노)에틸, 3-(2-모르폴리노)프로필, 4-모르폴리노부틸, 5-(2-모르폴리노)펜틸, 6-(3-모르폴리노)헥실, 2,2-디메틸-3-모르폴리노프로필, 2-메틸-3-모르폴리노프로필, (1-벤질-3-모르폴리노)메틸, 2-[1-(2-페닐에틸)-2-모르폴리노]에틸, 1-[2-(1-페닐에틸)모르폴리노]에틸, 4-[3-(3-페닐프로필)모르폴리노]-부틸, 5-[1-(1,1,-디메틸-2-페닐에틸)-2-모르폴리노)펜틸, 6-1-(5-페닐펜틸)-3-모르폴리노 헥실, 2,2-디메틸-3-[1-(2-메틸-3-페닐프로필)-3-모르폴리노]프로필 및 2-메틸-3-(1-벤질-3-모르폴리노)프로필기 등이 있다.
"피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기를 피페리딘 고리상에 치환기로 가질 수도 있는 피페리디닐 기를 의미하며, 그 예로는, 1-벤질-4-피페리디닐, 1-(2-페닐에틸)-4-피페리디닐, 1-(1-페닐에틸)-4-피페리디닐, 3-(3-페닐프로필)-1-피페리디닐, 2-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-1-피페리디닐, 4-(5-페닐펜틸)-1-피페리디닐, 1-(2-메틸-3-페닐프로필)-2-피페리디닐, 1-(6-페닐펜틸)-3-피페리디닐, 1-벤질-2-피페리디닐, 1-(2-페닐에틸)-2-피페리디닐, 1-(1-페닐에틸)-2-피페리디닐, 4-(3-페닐프로필)-1-피페리디닐, 4-(4-페닐부틸)-1-피페리디닐, 2-(5-페닐헥실)-3-피페리디닐 및 3-메틸-2-(6-페닐헥실)-2-피페리디닐기 등이 있다.
"카르복시-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 카르복시알킬기를 의미하며, 그 예로는, 카르복시메틸, 2-카르복시에틸, 1-카르복시에틸, 3-카르복시프로필, 4-카르복시부틸, 1,1-디메틸-2-카르복시에틸, 5-카르복시펜틸, 6-카르복시헥실 및 2-메틸-3-카르복시프로필기 등이 있다.
"페닐-저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기"라 함은 알킬 또는 알콕시부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기인 페닐알콕시카르보닐알킬기를 의미하며, 그 예로는, 페닐메톡시카르보닐메틸, 2-(2-페닐에톡시카르보닐)에틸, 1-(1-페닐에톡시카르보닐)에틸, 3-(3-페닐프로폭시카르보닐)프로필, 4-(4-페닐부톡시카르보닐)부틸, 1,1-디메틸-2-(2-페닐에톡시카르보닐)에틸, 5-(5-페닐펜틸옥시카르보닐)펜틸, 6-(6-페닐헥실옥시카르보닐)헥실 및 2-메틸-3-(3-페닐프로폭시카르보닐)프로필기 등이 있다.
"치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급 알킬기"라 함은 치환기로 1~6 탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 가질 수도 있는 아미도기를 치환기로 가질 수도 있으며, 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 아미도메틸, 메틸아미도메틸, 2-에틸아미도에틸, 1-프로필아미도에틸, 3-이소프로필아미도프로필, 4-부틸아미도부틸, 1,1-디메틸-2-3차-부틸아미도에틸, 5-펜틸아미도펜틸, 6-헥실아미도헥실, 2-디메틸아미도에틸, 디에틸아미도메틸, 1-디프로필아미도에틸, 3-디부틸아미도프로필, 4-디펜틸아미도부틸, 5-디헥실아미도펜틸, 6-(N-메틸-N-에틸아미도)헥실, (N-에틸-N-프로필아미도)메틸, 2-(N-메틸-N-부틸아미도)에틸 및 3-(N-메틸-N-헥실아미도)프로필기 등이 있다.
"5- 또는 6- 원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급 알킬기"라 함은 알킬부분이 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 5- 또는 6- 원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐알킬기를 의미하며, 그 예로는, (1-피롤리디닐카르보닐)메틸, 2-(1-피페리디닐카르보닐)에틸, 1-(1-피페라지닐카르보닐)에틸, 3-모르폴리노카르보닐프로필, 4-티오모르폴리노카르보닐부틸, 1,1-디메틸-2-(1-피롤리디닐카르보닐)에틸, 5-(1-피페리디닐카르보닐)펜틸, 6-모르폴리노카르보닐펜틸 및 2-메틸-3-티오모르폴리노카르보닐프로필기 등이 있다.
"피페리딘 고리상에 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기"라 함은 치환기로서 1~6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기를 의미하며, 그 예로는, 피페리디닐, 1-메틸-2-피페리디닐, 1-에틸-2-피페리디닐, 1-프로필-2-피페리디닐, 4-부틸-1-피페리디닐, 4-펜틸-1-피페리디닐, 2-헥실-3-피페리디닐 및 3-메틸-2-피페리디닐기 등이 있다.
"치환기로서 저급알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기를 치환기로 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기"라 함은 치환기로서 1~6 탄소원자를 갖는 1~2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기를 치환기로 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기를 의미하며, 그 예로는, 퀴누클리디닐, 3-아미노-1-퀴누클리디닐, 3-메틸아미노-1-퀴누클리디닐, 3-에틸아미노-1-퀴누클리디닐, 2-프로필아미노-1-퀴누클리디닐, 2-부틸아미노-1-퀴누클리디닐, 3-부틸아미노-1-퀴누클리디닐, 2-(1,1-디메틸-2-3차-부틸아미노)-1-퀴누클리디닐, 3-(5-펜틸아미노)-1-퀴누클리디닐, 2-(6-헥실아미노)-1-퀴누클리디닐, 3-디메틸아미노-1-퀴누클리디닐, 2-디에틸아미노-1-퀴누클리디닐, 3-디프로필아미노-1-퀴누클리디닐, 2-디헥실아미노-1-퀴누클리디닐 및 3-(N-메틸-N-에틸아미노)-1-퀴누클리디닐기 등이 있다.
일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체는 몇가지 공지 화합물을 포함하고 있으며, 각종 방법에 의해 제조될 수 있다. 제조방법의 예는 다음과 같다.
[반응 공정식-1]
Figure kpo00014
(식중, R2,R3,n 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R6및 R7은 각각 저급알킬기이다.)
일반식(2)의 화합물의 고리화 반응은 예를 들면 촉매적환원 촉매를 사용하여 적당한 용매중에서 환원시키는 방법-(i) 또는 금속 또는 금속염과 산과의 혼합물 또는 금속 또는 금속염과 알칼리금속 수산화물, 설파이드, 암모늄염 등과의 혼합물을 사용하여 비활성용매 중에서 환원시키는 방법-(ii)에 의해 수행될 수 있다.
상술한 방법-(i)을 수행하는데 있어서, 이 환원에 사용된 용매의 예로는 물, 아세트산, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올, 헥산, 시클로헥산 등과 같은 탄화수소, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디에틸에테르 등과 같은 에테르, 에틸아세테이트, 메틸아세테이트 등과 같은 에스테르, N,N-디메틸포름아미드 등과 같은 비양자성 극성 용매가 있다. 이 반응에 사용된 촉매적환원 촉매의 예로는 팔라듐, 팔라듐 블랙, 팔라듐-탄소, 백금, 산화백금, 크롬산구리, 라니니켈 등이 있다. 이 반응에 사용된 촉매의 양은 일반식(2)의 화합물 1중량부에 대해 0.02~동 중량부일 수 있다. 반응은 일반적으로 약 50~150℃, 바람직하게는 약 50~100℃ 및 1~10 수소 대기압에서 약 0.5~10시간에 완성된다.
상술한 방법-(ii)를 수행하는 경우, 철, 아연, 주석, 또는 염화 제 1 주석과 염산 또는 황산과 같은 무기산의 혼합물, 철, 황산, 제 1 철, 아연 또는 주석과 알칼리 금속 수산화물의 혼합물, 황화 암모늄 등과 같은 황화물과 수성 암모니아와의 혼합물, 또는 황화 암모늄과 같은 황화물과 염화 암모늄과 같은 암모늄염의 혼합물이 사용될 수 있다. 이 반응에 사용된 비활성 용매의 예로는 물, 아세트산, 메탄올, 에탄올, 디옥산 등이 있다. 방법-(ii)이 반응 조건은 환원제의 종류에 따라 적당히 선택될 수 있다. 예를 들어, 염화 제 1 주석과 염산의 혼합물을 사용하는 경우, 반응은 바람직하게는 약 0~150℃에서 0.5~10시간동안 수행될 수 있다.
환원제의 양은 일반식(2)의 화합물의 몰당 동몰량 내지 5배 몰량으로 사용된다.
일반식(1a)의 화합물에 일반식(3)의 화합물을 도입하는 반응은 적당한 용매 존재 또는 부재하 및 산 존재하에 수행될 수 있다. 이 반응에 사용되는 산으로는 염산, 브롬산 및 황산 등과 같은 무기산, p-톨루엔 술폰산 등과 같은 유기산이 예시될 수 있다. 이 반응에 사용되는 산의 양은 일반적으로는 동몰량 이상이며, 바람직하게는 일반식(3)의 화합물의 몰량에 대해 과량의 산을 사용할 수 있다. 이 반응에 사용되는 용매로는, 예를 들면 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 테트라히드로나프탈렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등과 같은 에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등과 같은 극성 용매가 있다. 반응은 일반적으로 약 실온~200℃, 바람직하게는 약 실온~150℃에서 약 1~10시간에 수행될 수 있다.
[반응 공정식-2]
Figure kpo00015
(식중, R1,R2,R3,
Figure kpo00016
및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같다.)
일반식(4)의 화합물의 고리화반응은 적당한 용매중에서 적당한 염기성 화합물 존재하에 수행될 수 있다. 이 반응에 사용된 염기성 화합물로는 예를 들면 탄산칼륨, 탄산나트륨, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 수산화나트륨, 탄화수소나트륨, 나트륨 금속, 칼륨 금속, 아미드화나트륨, 수소화나트륨 등과 같은 무기염기성 물질, 나트륨 에틸레이트, 나트륨 메틸레이트 등과 같은 알콜레이트, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 피롤리딘, 피페리딘, 피리딘 등과 같은 유기염기성 화합물이 있다. 이 반응에 사용된 염기성 물질의 양은 일반적으로 동몰량 이상, 바람직하게는 1~2배 몰량의 염기성 물질이 일반식(4)의 화합물의 몰량에 대해 사용될 수 있다. 이 반응에 사용된 용매로는 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알콜, 디에틸에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르 등과 같은 에테르, N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드, 아세트산무수물 등과 같은 극성용매가 있다. 상술한 반응은 일반적으로 약 실온~150℃, 바람직하게는 약 실온~100℃에서 일반적으로 약 1~10시간에 완성된다.
[반응 공정식-3]
Figure kpo00017
(식중, R1,R2,
Figure kpo00018
및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R8은 페닐-저급 알카노일기, 치환기로 할로겐원자 또는 저급 알킬아미노기를 가질 수 있는 저급 알카노일기, 피페리딘고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐-저급 알카노일기, 또는 피롤리디닐-저급 알카노일기이며 ; X'는 히드록시기이고, R10'는 수소원자, 치환기로 히드록시 또는 저급알킬기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 페닐기, 저급 알케닐기, 시클로 알킬기, 이미다졸릴기, 치환기로 저급 알킬기를 가지를 수 있는 페녹시-저급 알킬기, 모르폴린 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 모르폴리노-저급 알킬기, 또는 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기이다.)
일반식(1c)의 화합물과 일반식(5)의 화합물의 반응은 통상의 아미도-결합 형성 반응의 반응 조건하, 예를들면 (a) 혼합산 무수물방법 : 카르복실산(5)를 알킬할로카르복실산과 반응시켜 상응하는 혼합산 무수물을 형성하고, 혼합산 무수물을 아민(1c)와 반응시키는 방법 ; (b) 활성 에스테르 방법 ; 카르복실산(5)를 p-니트로페닐에스테르, N-히드록시숙신이미드 에스테르, 1-히드록시벤조트리아졸에스테르 등과 같은 그의 상응하는 활성 에스테르로 전환시키고 이 활성에스테르카르복실산을 아민(1c)와 반응시키는 방법 ; (c) 카르보디이미드 방법 ; 카르복실산(5)를 디시클로헥실카르보디이미드, 카르보닐디이미다졸 등과 같은 활성화제 존재하에 아민(1c)와 축합시키는 방법 ; (d) 기타 방법 ; 카르복실산(5)을 아세트산 무수물과 같은 탈수제와 반응시켜 상응하는 카르복실산 무수물을 제조하고, 이 카르복실산 무수물을 아민(1c)와 반응시키는 방법 ; (e) 카르복실산(5)를 저급알코올과 반응시킴으로써 제조된 에스테르를 고압 및 고온하에 아민(1c)과 반응시키는 방법 ; (f) 카르복실산(5)의 산할라이드, 즉 카르복실산 할라이드를 아민(1c)와 반응시키는 방법에 의해 수행될 수 있다.
(a) 혼합산 무수물 방법에 사용된 혼합산 무수물을 통상의 쇼텐-바우만 반응에 의해 수득될 수 있으며, 일반적으로 혼합산 무수물을 반응계에서 분리하지 않고 아민(1c)과 반응시켜 일반식(1d)의 화합물을 제조한다. 쇼텐-바우만 반응은 염기성 화합물 존재하에 수행된다. 염기성 화합물로는 쇼텐-바우만 반응에 사용된 염기성 화합물, 예를들면 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]논-5(DBN), 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데센-7(DBU), 1,4-디아자비시클로[2,2,2]옥탄(DABCO)등과 같은 유기 염기성 화합물 및 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨과 같은 무기염기성 화합물이 사용될 수 있다. 이 반응은 일반적으로 약 -20~100℃, 바람직하게는 약 0~50℃에서 일반적으로 5분~10시간, 바람직하게는 5분~2시간동안 수행될 수 있다. 수득된 혼합산 무수물과 아민(1c)의 반응은 일반적으로 약 -20~150℃, 바람직하게는 약 0~50℃에서 일반적으로 5분~10시간, 바람직하게는 5분~5시간동안 수행될 수 있다. 혼합산 무수물 방법은 일반적으로 용매중에서 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 혼합산 무수물 방법에 사용된 통상의 용매, 특별하게는 염화메틸렌, 클로로포름, 디클로로에탄 등과 같은 할로겐화 탄화수소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등과 같은 에테르, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 등과 같은 에스테르, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등과 같은 비양자성 극성 용매가 예시될 수 있다. 혼합산 무수물 방법에 사용된 알킬할로카르복실산으로는 메틸클로로포르메이트, 메틸브로모포르메이트, 에틸클로로포르메이트, 에틸브로모포르메이트, 이소부틸클로로포르메이트 등이 예시될 수 있다. 이 반응을 수행하는데 있어, 알칼리할로카르복실산 및 아미(1c)에 대한 카르복실산(5)의 양의 비는 일반적으로 동몰량이며, 1~1.5배 몰량의 알킬 할로카르복실산 및 카르복실산(5)이 아민(1c)에 대해 사용될 수 있다.
카르복실산 할라이드와 아민(1c)을 반응시키는 방법을 수행하는 경우, 이 화합물을 염기성 화합물 존재하에 수행된다. 염기성 화합물로는 상술한 쇼텐-바우만 반응에 사용되는 염기성 화합물을 제외하고는 넓은 범위에서 선택될 수 있으며, 예를들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수소화칼륨, 탄산은 및 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트 등과 같은 알콜레이트가 있다. 이 반응에 사용된 용매로는 상술한 혼합산 무수물 방법에 사용된 용매를 제외하고, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브 등과 같은 알코올, 피리딘, 아세톤, 아세토니트릴 등 및 이들 용매의 혼합물이 예시될 수 있다. 카르복실산 할라이드의 양에 대한 아민(1c)의 양의 비는 특별히 제한되지 않으며, 넓은 범위에서 선택될 수 있다. 일반적으로, 동몰량 이상, 바람직하게는 1~5배 몰량으로 사용될 수 있다. 반응은 일반적으로 약 -30~180℃, 바람직하게는 0~150℃에서 수행되며, 약 5분~30시간에 완결된다.
상술한 반응 공정식 -3에서, 일반식(1d)의 화합물을 일반식(1c)의 화합물에 도입하는 반응은 염산, 황산, 브롬산 등과 같은 무기산, 또는 p-톨루엔술폰산 등과 같은 유기산 존재하에 물 및 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올과 같은 용매중에서 수행된다. 이 반응은 일반적으로 약 실온~200℃, 바람직하게는 약 실온~150℃에서 수행되며, 일반적으로 30분~10시간에 완결된다.
R8이 할로겐-치환된 저급 알카노일기인 일반식(1d)의 화합물을 사용하는 경우, R8이 저급 알킬아미노-저급 알카노일기, 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐-저급 알카노일기 또는 피롤리디닐-저급 알카노일기인 일반식(1d)의 화합물은 일반식(1d)의 화합물을 아민(즉, 저급 아킬아민, 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리딘 또는 피롤리딘)과 반응시킴으로써 수득될 수 있다. 이 반응은 일반적으로 적당한 비활성 용매중에서 염기성 축합제 존재 또는 부재하에 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올, 아세트산, 에틸 아세테이트, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등이 있다. 또한, 이 반응에 사용된 염기성 축합제로는 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등과 같은 탄산염, 수산화나트륨, 수산화 칼륨 등과 같은 금속수산화물, 나트륨 에틸레이트, 나트륨 메틸레이트 등과 같은 금속 알콜레이트, 피리딘, 트리에틸아민 등과 같은 유기 염기성 화합물이 예시될 수 있다.
아민의 양은 일반적으로 동몰량 이상, 바람직하게는 아민(1d)에 대해 1~10배 몰량이다. 이 반응은 일반적으로 약 40~150℃, 바람직하게는 50~120℃에서 수행되며, 일반적으로 약 5~30시간에 완성된다.
[반응 공정식-4]
Figure kpo00019
[식중, R1,R3,
Figure kpo00020
및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R9은 일반식
Figure kpo00021
(식중, R4'및 R5'는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 치환기로 히드록시기, 아미노기 또는 저급알킬아미노기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 페닐기, 저급 알케닐기, 저급 알케닐기, 이미다졸릴기, 치환기로 저급 알킬기를 가질 수 있는 페녹시-저급 알킬기, 모르폴린 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 모르폴리노-저급 알킬기, 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기 또는 시클로알킬기이며 ; 또한, 이들 R4'및 R5'및 그에 결합된 인접 질소원자는 다른 질소원자, 산소원자 또는 황원자와 함께 또는 없이 5- 또는 9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며 ; 이 5- 또는 9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로 1~3 히드록시기, 저급 알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수 있는 C1~C10알킬기, 저급 알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급 알킬기, 티에닐-저급 알킬기, 시클로알킬-저급 알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 할로겐원자를 가질 수 있는 벤조일-저급 알킬기, 피리딜-저급 알킬기, 저급 알킬아미도기, 저급 알키닐기, 저급 알카노일-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐기, 일반식
Figure kpo00022
((식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 저급 알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기이며 ; 또한 R13및 R14및 그에 결합된 인접 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 없이 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며 ; 이 헤테로시클릭기는 치환기로 저급알킬기를 가질 수 있으며 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
Figure kpo00023
의 기이고,
Figure kpo00024
는 저급알킬렌기이며,
Figure kpo00025
은 0 또는 1이다.))의 기 및 페닐고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기로 구성된 군에서 선택된 1~3 치환기를 가질 수 있으며 ; X2는 할로겐원자이다.]
일반식(1e)의 화합물과 일반식(6)의 화합물의 반응은 적당한 용매중에서 염기성 화합물 존재 또는 부재하에 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 N-메틸피롤리돈 및 상술한 반응공정식-3에서 카르복실산 할라이드와 화합물(5)의 반응에 사용된 어떤 용매도 사용될 수 있다. 이 반응에 사용된 염기성 물질로는 용매와 마찬가지로 상술한 반응 공정식-3에서 카르복실산 할라이드와 화합물(5)의 반응에 사용된 어떤 염기성 화합물도 사용될 수 있다. 이 반응은 반응계에 요오드화구리와 같은 구리할라이드 또는 구리분말을 가함으로써 유리하게 진행된다. 이 반응은 일반적으로 약 실온~250℃, 바람직하게는 약 실온~200℃에서 수행되며, 일반적으로 약 5~20시간에 완성된다.
[반응 공정식-5]
Figure kpo00026
(식중, R1,R3,
Figure kpo00027
, X2및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같으며 ; R10은 치환기로 히드록시기 또는 저급 알킬기를 가질 수 있는 저급 알킬기, 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 페닐기, 저급 알케닐기, 시클로알킬기, 이미다졸리디닐기, 치환기로 저급알킬기를 가질 수 있는 페녹시-저급알킬기, 모르폴린고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수 있는 모르폴리노-저급알킬기, 또는 피페리딘고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 가질 수 있는 피페리디닐기이며 ; R10'는 R10에서 정의한 기 또는 수소원자이다.)
일반식(1c)의 화합물과 일반식(7)의 화합물의 반응은 통상이 비활성용매의 존재 또는 부재하에 수행된다. 용매로는 디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜 디메틸 등과 같은 에테르, 벤젠, 톨루엔, 크실렌등과 같은 방향족 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 저급알코올, 아세트산, 에틸아세테이트, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 아세톤, 아세토니트릴, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸인산트리아미드 등과 같은 극성용매가 예시될 수 있다. 상술한 반응은 탈산제로 염기성 화합물을 사용함으로써 유리하게 수행된다. 염기성 화합물로는 탄산탄륨, 탄산나트륨, 수산화나트륨, 탄산수소나트륨, 아미드와 나트륨, 수소화나트륨 등과 같은 무기염기성 화합물, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트 등과 같은 금속 알콜레이트, DBU, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 피리딘, 퀴놀린 등과 같은 유기 염기성 화합물이 예시될 수 있다. 이 반응은 반응 가속제로 요오드화칼륨, 요오드화나트륨 등과 같은 알칼리 금속 요오다이드를 가함으로써 유리하게 진행될 수 있다. 더우기, 이 반응은 반응계에 요오드화 구리와 같은 구리할라이드 또는 구리분말을 가함으로써 수행될 수 있다. 화합물(7)의 양에 대한 화합물(1c)의 양의 비는 일반적으로 대해 동몰량 내지 과량, 바람직하게는 1~5배 몰량이다. 반응은 일반적으로 약 실온~200℃, 바람직하게는 약 60~120℃에서 수행되며, 약 수시간~30시간에 완성된다.
[반응 공정식-6]
Figure kpo00028
(식중, R1,R3,
Figure kpo00029
, X2및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R11은 저급 알킬기이며 ; M은 나트륨, 칼륨 등과 같은 알칼리금속이다.)
일반식(1h)의 화합물과 일반식(8)의 화합물과의 반응은 적당한 용매중에서 염기성 화합물 존재 또는 부재하에 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 염화메틸렌, 클로로포름 등과 같은 할로겐화 탄화수소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등과 같은 에테르, 아세트산메틸, 아세트산에틸 등과 같은 에스테르, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등과 같은 비양자성 극성용매, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브 등과 같은 알코올, 피리딘, 아세톤, 아세토니트릴, 물 등 및 이들 용매의 혼합물이 예시될 수 있다. 이 반응에 사용된 염기성 화합물로는 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디메틸아민, N-메틸모르폴린, DBN, DBU, DABOC 등과 같은 유기염기성 화합물, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수소화칼륨, 수소화나트륨, 탄산은 등과 같은 무기염기성 화합물, 나트륨 메틸레이트, 나트륨 에틸레이트 등과 같은 알콜레이트가 예시될 수 있다. 화합물(8)의 양은 화합물(1h)에 대해 일반적으로 약 동몰량이상, 바람직하게는 약 1~1.5배 몰량일 수 있다. 이 반응은 일반적으로 약 -30~180℃, 바람직하게는 약 0~150℃에서, 일반적으로 5분~30시간에 완성된다. 일반식(11)의 화합물과 일반식(9)의 화합물의 반응은 적당한 용매중에서 적당한 용매 존재 또는 부재하에 약 0~150℃, 바람직하게는 약 실온~100℃에서 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 화합물(1h)와 화합물(8)의 반응에 사용된 어떤 용매도 사용될 수 있다. 화합물(9)의 양은 화합물(1i)에 대해 대과량이며, 이 반응은 일반적으로 1~5시간에 완성된다.
일반식(1k)의 화합물에 일반식(1j)의 화합물을 도입하는 반응은 일반식(3)의 화합물과 일반식(1a)의 화합물의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
[반응 공정식-7]
Figure kpo00030
[식중 R1,R3,n,X2카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R12는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로 1~3 히드록시기, 저급 알콜시기 또는 할로겐원자를 가질 수 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로 할로겐원자를 가질 수 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐기, 일반식
Figure kpo00031
(식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기이며 ; 또한 R13및 R14및 그에 결합된 인접 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 없이 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며 ; 이 헤테로시클릭기는 치환기로 저급알킬기를 가질 수 있으며 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
Figure kpo00032
의 기이며,
Figure kpo00033
는 저급알킬렌기이고 ;
Figure kpo00034
은 0 또는 1이다.)의 기 및 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기이며 ; 1은 0 또는 1~3의 정수이고 ; X3는 할로겐원자이다.]
일반식(1c)의 화합물과 일반식(10)의 화합물의 반응은 일반식(1c)의 화합물과 일반식(7)의 화합물의 상술한 반응에서 설명된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
[반응 공정식-8]
Figure kpo00035
(식중, R1,R3,R12,
Figure kpo00036
,
Figure kpo00037
,X2,X3및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; Z는 메틸기, 질소원자, 산소원자 또는 황원자이며 ; a 는 2 또는 3이다.)
일반식(1c)의 화합물과 일반식(11)의 화합물의 반응은 일반식(1c)의 화합물과 일반식(7)의 화합물의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
그러므로, 상술한 반응으로부터 수득된 일반식(1m)의 화합물중에서 Z가 질소원자이고, 1이 0인 화합물을 일반식 R12'-X2(식중, R12'는 페닐기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로 1~3 히드록시기 또는 할로겐원자를 가질 수 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로 할로겐원자를 가질 수 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 또는 일반식
Figure kpo00038
((식중, R13,R14및
Figure kpo00039
는 상기에 정의한 바와 같고 ;
Figure kpo00040
는 1이다.))의 기이고 ; X2는 상기에 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 Z가 질소원자이고, R12'의 기호로 표시되는 기가 상기 질소원자에서 치환된 일반식(1m)의 화합물을 수득할 수 있다.
이 반응은 상술한 반응 공정식-5에서 화합물(1c)와 화합물(7)의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
더우기, 일반식(1m)의 화합물 중에서, Z가 질소원자이고 1이 0인 화합물을 일반식 R12"-X1(식중, R12"는 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급알킬아미도기 또는 페닐-저급알콕시카르보닐기이며 ; X1은 상기에 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 Z가 질소원자이며, 동시에 R12"로 표시되는 기가 상기 질소원자에서 치환된 일반식(1m)의 화합물로 수득할 수 있다. 이 반응은 상술한 반응 공정식-3에서 화합물(1c)와 화합물(5)의 반응에서 이용된 것과 유사한 조건하에서 수행될 수 있다.
일반식(1)로 표시되는 화합물중에서, R2가 일반식
Figure kpo00041
(식중, R4및 R5는 각기 동일하거나 다르고, 각각 페닐-저급알카노일기, 치환기로 저급알킬아미노기를 가질 수 있는 저급알카노일기이다.)의 기인 화합물 또는 R2가 일반식
Figure kpo00042
(식중, R4및 R5및 그에 결합된 인접 질소원자인 헤테로시클릭기를 형성하며, 이 헤테로시클릭기는 저급 알킬아미도기 또는 일반식
Figure kpo00043
((식중, A',R13및 R14는 상기에 정의한 바와 같다.))의 기를 갖거나, 상기 헤테로시클릭기의 질소원자는 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기로 치환된다.))의 기인 화합물을 환원시켜 치환기중의 카르보닐기가 -CH2-기로 전환된 화합물을 수득할 수 있다.
이 환원반응은 적당한 용매중에서 할로겐화 한원제 존재하에 수행된다. 할로겐화 환원제로는 수소화붕소나트륨, 수소화리튬 알루미늄, 디보란 등이 예시될 수 있다. 할로겐화 환원제의 양은 동몰량 이상일 수 있으며, 바람직하게는 출발물질에 대해 1~3배 몰량이 사용될 수 있다. 환원제로 수소화리튬 알루미늄을 사용하는 경우, 바람직하게는 출발물질에 대해 동 중량이 사용될 수 있다. 환원 반응에 사용되는 용매로는 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 저급알콜, 테트라히드로푸란, 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 등과 같은 에테르가 예시될 수 있다. 이 반응은 일반적으로 약 -60~50℃, 바람직하게는 약 -30℃~실온에서 수행되며, 약 10분~5시간에 완성된다. 환원제로 수소화리튬 알루미늄 또는 디보란을 사용하는 경우, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등과 같은 무수용매가 사용될 수 있다.
[반응 공정식-9]
Figure kpo00044
[식중, R2,R3,
Figure kpo00045
,X2및 카르보스티릴 골격에서 3-위치와 4-위치 사이의 탄소-턴소 결합은 상기 정의된 바와 동일하고 ; R1'은 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 페닐-저급알킬기, 카르복시-저급알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐-저급알킬기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급알킬기, 또는 5- 또는 6-원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급알킬기이다.]
일반식(1n)의 화합물과 일반식(11)의 화합물과의 반응은 염기성 물질의 존재하에서 그리고 적당한 용매중에서 수행될 수 있다. 염기성 물질로는, 수소화나트륨, 칼륨금속, 나트륨금속, 아미드화 나트륨, 아미드화 칼륨 등을 들 수 있다. 용매의 예로는, 디옥산 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 등의 에테르류, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, 헥사메틸인산 트리아미드 등을 들 수 있다. 화합물(1n)의 양과 화합물(11)의 양의 비율은 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있으나, 일반적으로 화합물(1n)에 대하여 동몰량 이상, 바람직하게는 몰량의 1 내지 2배량의 화합물(11)을 사용할 수 있다. 상기 반응은 일반적으로 약 0~70℃, 바람직하게는 0℃~실온에서 수행하며, 일반적으로 약 0.5~12시간내에 완성된다.
[반응 공정식-10]
Figure kpo00046
[식중, R1,R2,R3및
Figure kpo00047
은 상기 정의한 바와 동일하다.]
일반식(1q) 화합물의 환원은 통상의 촉매 환원 반응에서 사용하는 조건하에 수행된다. 본 환원 반응에 사용되는 촉매의 예로는 팔라듐, 팔라듐-탄소, 백금, 라니-니켈 등을 들 수 있으며, 이들 촉매는 통상 촉매량으로 사용할 수 있다. 본 환원 반응에 사용되는 용매의 예로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 디옥산, 테트라히드로푸란, 헥산, 시클로헥산, 에틸 아세테이트 등을 들 수 있다. 상기 환원 반응은 대기압 또는 대기압 이하의 압력하에 수행할 수 있으나, 일반적으로는 대기압~20kg/㎠의 압력, 바람직하게는 대기압~10kg/㎠의 압력에서 수행한다. 반응 온도는 일반적으로 0~150℃, 바람직하게는 실온~100℃일 수 있다.
일반식(1p) 화합물의 탈수소화 반응은 적당한 용매중에서 산화제를 사용하여 수행한다. 본 반응에 사용되는 산화제의 예로는, 2,3-디클로로-5,6-디시아노벤조퀴논 및 클로라닐(2,3,5,6-테트라클로로벤조퀴논)등의 벤조퀴논류, N-브로모숙신이미드, N-클로로숙신이미드 및 브롬 등의 할로겐화제, 이산화 셀레늄, 팔라듐-탄소, 팔라듐 블랙, 산화 팔라듐 및 라니-니켈 등의 수소화 촉매를 들 수 있다. 할로겐화제의 양은 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있으나, 일반적으로는 화합물(1p)에 대하여 몰량의 1~5배, 바람직하게는 1~2배량을 사용할 수 있다. 수소화 촉매는 통상 촉매량으로 사용할 수 있다. 본 반응에 사용되는 용매의 예로는, 디옥산, 테트라히드로푸란, 메톡시에탄올 및 디메톡시메탄 등의 에테르류, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 사염화탄소 등의 할로겐화 탄화수소, 부탄올, 아밀 알코올 및 헥산올 등의 알코올류, 아세트산 등의 양자성 극성 용매, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드 및 헥사메틸인산 트리아미드 등의 비양자성 극성 용매를 들 수 있다. 본 반응은 일반적으로 약 실온~300℃, 바람직하게는 약 실온~200℃의 온도에서 수행하며, 일반적으로 약 1~40시간내에 완성된다.
일반식(1)로 나타내는 화합물 중에서, R1이 수소원자이고 카르보스티릴 골격에서 3-위치와 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 화합물은 하기 반응 공정식-11에 도시한 바와 같은 락탐-락팀형 호변이성을 나타낼 수 있다.
[반응 공정식-11]
Figure kpo00048
[식중, R2,R3및
Figure kpo00049
은 상기 정의된 바와 동일하다.]
[반응 공정식-12]
Figure kpo00050
[식중, R1,R2및 R3는 상기 정의한 바와 동일하고 ; n' 및 n"는 0이거나 1 또는 2의 정수이고, 단 n'+n"=2이어야 하며; b와 c는 0 또는 1이고, 단 b와 c는 동시에 0이 아니며 ; D는 일반식 R15C=CH-(식중, R15는 페닐기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자이다)의 기, 식
Figure kpo00051
(식중, R16과 R17은 각각 저급알킬기이다)의 기 또는 HC≡C-의 기이다.
일반식(12)의 화합물과 일반식(13)의 화합물과의 반응은 반응 공정식-3에서 일반식(1c) 화합물과 일반식(5) 화합물과의 반응에서 사용된 것과 유사한 조건하에 수행할 수 있다.
일반식(14) 화합물의 고리화 반응은 산의 존재하에 그리고 적당한 용매의 존재 또는 부재하에 수행한다. 본 고리화 반응에 사용되는 산에 관하여는 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있는데, 구체적인 예로는 무기산 예를들어 염산, 브롬화 수소산 및 황산 등, 루이스산 예를들어 염화알루미늄, 삼플루오르화붕소 및 사염화티탄 등, 유기산 예를들어 포름산, 아세트산, 에탄술폰산 및 p-톨루엔술폰산 등을 들 수 있다. 이들 산 중에서, 염산, 브롬화 수소산 및 황산이 바람직하다. 산의 양은 일반적으로 1당량 이상일 수 있으나, 바람직하게는 일반식(14)의 화합물에 대하여 10~50배량의 산을 사용할 수 있다. 용매로는, 통상의 비활성 용매 예를들면, 물, 저급 알콜류 예를들어 메탄올, 에탄올 및 프로판올 등, 에테르류 예를들어 디옥산 및 테트라히드로푸란 등, 방향족 탄화수소 예를들어 클로로벤젠, 벤젠 및 톨루엔 등, 할로겐화 탄화수소 예를들어 염화 메틸렌, 클로로포름 및 사염화탄소 등, 아세톤, 디메틸 술폭시드, 디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드 등을 들 수 있다. 이들 용매 중에서, 수용성 용매 예를들어 저급 알콜 에테르, 아세톤, 디메틸 술폭시드, 디메틸포름아미드 및 헥사메틸인산 트리아미드 등이 바람직하다.
고리화 반응은 일반적으로 0~200℃, 바람직하게는 실온~150℃에서 수행하여 일반적으로 약 5분~6시간내에 완성된다.
일반식 -NHR8(식중, R8은 상기 정의한 바와 동일하다)의 기를 갖는 일반식(1r)의 화합물을 제조하기 위한 반응은, R2가 -NH2인 화합물을 수득하기 위하여 반응 공정식-3에서 화합물(1d)와 화합물(1c)와의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행할 수 있다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체는 약학적 용도에 이용 가능한 염기성 화합물과 반응시켜 그의 염의 형태로 용이하게 전환시킬 수 있다. 염기성 화합물의 예로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산나트륨 및 탄산칼륨 수소 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체는 그의 3급 아민형의 화합물을 할로겐화 알킬 예를들어, 요오드화 메틸 또는 염화에틸 등과 반응시켜 상응하는 4차 염으로 각각 전환시킬 수 있다.
이와 같이 다양한 방법으로 수득한 목적 생성물은 통상의 분리 방법에 의하여 분리 및 정제할 수 있다. 분리 방법의 예로는 용매 추출법, 희석법, 재결정법, 칼럼 크로마토그래피법 및 예비 박층 크로마토그래피법 등을 들 수 있다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체는 필연적으로 그의 광학적 이성체들을 함유한다.
일반식(1)로 나타내는 카르보스티릴 유도체 및 그의 염은 통상의 약학적 용도로 이용 가능한 담체를 사용하여 제조된 모든 통상의 약학 조성물의 형태로 사용할 수 있다. 이러한 약학적 용도로 이용 가능한 담체의 예는, 충전제, 희석제, 결합제, 습윤제, 붕해제, 계면활성제 및 윤활제 등의 희석제 및 부형제를 함유하는 약학 조성물의 바람직한 형태에 따라 선택된다. 약학 조성물은 치료의 목적에 따라서 정제, 환제, 산제, 액제, 현탁제, 유제, 과립제, 캅셀제, 좌제, 주사제제(예 : 용액, 현탁액등) 등의 바람직한 단위 형태 중에서 임의 선택할 수 있다.
정제형 조성물을 제조하기 위해서는, 이 분야에서 널리 사용되는 담체, 예를들면, 부형제 예를들어 유당, 슈크로오스, 염화나트륨, 글루코오스, 요소-, 전분, 탄산 칼슘, 카올린, 결정 셀룰로오스, 실릭산 등 ; 결합제 예를들어, 물, 에탄올, 프로판올, 단미시럽, 글루코오스 용액, 전분 용액, 젤라틴 용액, 카르복시메틸셀룰로오스, 쉘락, 메틸 셀룰로오스, 인산칼슘, 폴리비닐피롤리돈 등 ; 붕해제 예를들어 무수 전분, 아르긴산 나트륨, 한천-한천 분말, 라미나리아분말, 탄산수소 나트륨, 탄산 칼슘, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 라우릴 황산 나트륨, 스테아린산 모노글리세라이드, 전분, 유당 등 ; 붕해 억제제 예를들어 슈크로오스, 스테아린, 코코넛 버터, 수소화 오일 등 ; 흡수 촉진제 예를들어 4차 암모늄 염기, 라우릴술폰산 나트륨 등 ; 습윤제 예를들어 4차 암모늄 염기, 라우릴술폰산 나트륨 등 ; 습윤제 예를들어 글리세린, 전분 등 ; 흡착제 예를들어 전분, 유당, 카올린, 벤토나이트, 콜로이드성 실릭산 등 ; 및 윤활제 예를들어 정제 탈크, 스테아린산 염, 붕산 분말, 폴리에틸렌 글리콜 등을 사용할 수 있다. 필요하다면, 정제를 또한 통상의 코팅 물질로 코팅하여 코팅된 정제의 형태, 예를들어 설탕으로 코팅된 정제, 젤라틴 필름으로 코팅된 정제, 장용 피복층으로 코팅된 정제, 필름들로 코팅된 정제 또는 이중층 정제 및 다층 정제 등으로 제조할 수 있다.
환제 형태로 제조하기 위하여는 이 분야에서 공지되어 널리 사용되고 있는 담체를 사용할 수도 있는데, 예를들면, 부형제 예를들어 글루코오스, 유당, 전분, 코토넛 버터, 수소화된 식물성 오일, 카올린 및 탈크 ; 결합제 예를들어 아라비아 고무 분말(Gunni Arabicum), 트리가칸트분말, 젤라틴 및 에탄올 ; 붕해제 예를들어 라미나리아 및 한천-한천을 들 수 있다.
좌제 형태로 제조하기 위해서는 이 분야에서 공지되어 널리 사용되고 있는 담체를 사용할 수 있는데, 예를들면, 폴리에틸렌 글리콜, 코코넛 버터, 고급 알코올, 고급 알코올의 에스테르, 젤라틴 및 반합성 글리세라이드를 들 수 있다.
주사 제제의 형태로 제조하기 위하여, 용액 및 현탁액은 살균하며, 혈액과 동장이면 바람직하다. 용액, 유제 및 현탁제 형태의 주사 제제의 제조에 있어서는 이 분야에서 통상적으로 사용되는 모든 희석제, 예를들어, 물, 에틸 알코올, 프로필렌 글리콜, 에톡실화된 이소스테아릴 알코올, 폴리옥실화된 이소스테아릴 알코올 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르를 사용할 수 있다. 이 경우, 적당한 양의 염화 나트륨, 글루코오스 또는 글리세린을 첨가하여 바라는 등장성 제제를 제조할 수 있다. 또한, 필요하다면, 통상의 용해제, 완충제, 진통제 및 다른 약제는 물론이고, 착색제, 방부제, 방향제, 완화제, 감미제 및 다른 약물을 제제에 첨가할 수 있다.
본 발명에 따른 부정맥 치료 및/또는 개선용 약학 조성물에 함유되는 일반식(1)의 화합물 및 이의 염의 양은 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있으나, 통상적으로는 전체 조성물의 1~70중량%, 바람직하게는 1~30중량%의 양으로 사용한다.
본 발명에 따른 부정맥을 치료 및/또는 개선시키는 약학 조성물의 투여방법은 특별히 제한되지 않으며, 연령, 성별, 증상정도 및 기타 환자의 상태 등에 따라서 제한없이 다양한 제제 형태로 사용할 수 있다. 예를들면, 정제, 환제, 액제, 현탁제, 유제, 과립제 및 캅셀제는 경구 투여하고 ; 주사 제제는 단독으로 비경구 투여하거나 글루코오스 용액 및 아미노산 용액 등의 주사 수혈액과 함께 투여하며 ; 필요시 주사 제제는 단독으로 근육내 투여, 피내투여, 피하투여 또는 복강내 투여한다. 좌제는 직장으로 투여한다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체는 그의 염의 용량은 증상의 정도는 물론이고 투여방법, 환자의 연령, 성별 및 다른 조건에 따라 적당히 선택될 수 있는데, 일반적으로는 1일 용량으로 체중 kg당 0.1~10mg의 활성 성분인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 염을 함유하는 약학 조성물을 사용할 수 있다. 또한, 2~200mg의 활성 성분을 투여 단위 형태내에 함유시킬 수 있다.
[약학 조성물의 제조예 :]
(1) 정제의 제조-1
Figure kpo00052
통상의 절차를 사용하여 상기 조성 성분의 정제를 제조한다.
(2) 정제의 제조-2
Figure kpo00053
통상의 절차를 사용하여 상기 조성 성분의 정제를 제조한다.
(3) 주사 용액의 제조
Figure kpo00054
상기 메틸 p-히드록시벤조에이트, 프로필 p-히드록시벤조에이트, 나트륨 메타바이술피트 및 염화 나트륨을 80℃에서 교반하면서 주사용 증류수에 용해시킨다. 수득된 용액을 40℃로 냉각시킨 다음, 3-(4-벤질-1-피페리디닐)-8-메탈카르보스티릴, 폴리에틸렌글리콜 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노올레에이트를 차례로 용해시킨다. 주사 용액의 최종 부피를 주사용 증류수를 가하여 조절하고, 적당한 여과지를 사용하여 여과 멸균하고, 이어서 이와 같이 멸균된 용액을 앰플에 각각 1ml씩 충전시켜 목적하는 주사용 제제를 제조한다.
약리학적 시험
본 시험은 시험 시료로서 개의 심실 근육을 사용하는 하기 문헌에 기술된 방법과 유사하게 수행한다[참고문헌 : Hirooka 등, Circ.Res., Vol.48,p 510~518(1980)].
체중 1.5~5kg의 고양이에게 30mg/kg의 케타민 염산염을 근육내 주사하고 20mg/kg의 나트륨 펜토바르탈을 복강내 주사하여 마취시킨 다음, 심장을 적출하여, 냉각된 타이로드 용액(Tyrode's solution)에 침지시킨다. 이어서, 통상의 절차에 따라 유두근 근육의 시료를 적출하고, 타이로드 용액(137mM의 NaCl, 15.9mn의 NaHCO3, 5.5mM의 글루코오스, 1.0mM의 MgCl2, 0.42mM의 NaH2PO4, 2.7mM의 KCl 및 1.8mM의 CaCl2를 함유)이 충전된 마그누스 장치(Magnus equipment)내에 현수시킨다. 타이로드 용액에 95%의 O2와 5%의 CO2로 조성된 혼합 기체를 취입시키고, 37℃의 온도로 유지시킨다. 시료를 0.5g의 정지장력으로 현수시킨다. 시료에 주파수 0.5Hz의 전기 자극을 가하여 안정화시킨다. 이어서, 전기자극을 중지하고, 타이로드 용액을 칼륨이 제거된 타이로드 용액으로 교반한다. 타이로드 용액 교환 30분 후에, K-제거된 타이로드 용액을 칼륨 및 칼슘이 제거된 타이로드 용액으로 교환한다.
상기의 두번째 교환 30분 후에 K- 및 Ca- 제거된 타이로드 용액을 K- 제거된 타이로드 용액(3.6mM의 Ca 함유)으로 교환한다. 상기와 같이 마지막으로 타이로드 용액을 교환한 10분 후에, 유두근 근육의 시료에 매 5분마다 320밀리초의 전기 충격을 가하여 자극한다. 반수의 전기 충격 자극의 경우에, 자극이 중지된때 후수축이 관찰된다. 전기 충격 자극에 의해 유발된 수축 및 후수축이 일정하게 안정화된 것으로 관찰되었을 때, 각각의 시험 화합물을 시료에 20분 간격으로 누적적으로 적용한다. 첫번째 전기 충격 자극 후에 관찰된 후수축 및 10회의 전기 충격 자극에 의해 유발된 수축을 측정하여 하기의 표1에 나타냈다.
시험 화합물 번호
1. 3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
2. 3-디에틸아미노-8-메틸카르보스티릴 옥살레이트
3. 6-피롤리디닐-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
4. 3-{N-메틸-N-[2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]}-8-메틸카르보스티릴
5. 3-피롤리디닐-8-플루오로카르보스티릴
6. 3-디에틸아미노-6,8-디클로로-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
7. 3-에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
8. 3-[N-(2-히드록시에틸)-N-벤질아미노]-8-메틸카르보스티릴
9. 3-포르밀아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴
10. 3-디에틸아미노아세틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 옥살레이트
11. 3-(4-벤질-1-피페리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
12. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메탈카르보스티릴 염산염
13. 8-페닐-6-피롤리디노-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
14. 5-피롤리디노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
15. 3-(N-메틸-N-시클로헥실)-8-메틸카르보스티릴 염산염
16. 4-피롤리디노-8-메틸카르보스티릴 옥살레이트
17. 3-(N-메틸-N-에틸아미노)-8-메틸카르보스티릴
18. 3-(4-벤질-1-피페리디닐 아세틸아미노)-8-메틸 카르보스티릴 염산염
19. 3-(피롤리디노아세틸아미노)-8-메틸카르보스티릴 염산염
20. 3-(4-페닐-1-피페라지닐)메틸카르보스티릴
21. 3-디-n-부틸아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염
22. 3-피롤리디노-8-이소프로필카르보스티릴 염산염
23. 3-[4-(3,4-디메톡시벤조일)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴
24. 3-(4-히드록시-1-피페리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
25. 3-모르폴리노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
26. 3-아미노-6,8-디클로로-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
27. 3-피롤리디노-8-메톡시카르보스티릴 염산염
28. 3-[N-메틸-N-(2-디에틸아미노에틸)]-8-메틸카르보스티릴 푸마레이트
29. 3-(4-벤질-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
30. 4-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-플루오로카르보스티릴 염산염
31. 3-(4-알릴-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
32. 3-(4-에톡시카르보닐메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
33. 3-{4-[3-(4-플루오로벤조일)프로필]-1-피페라지닐}-8-메틸카르보스티릴 염산염
34. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-플루오로카르보스티릴 염산염
35. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-클로로카르보스티릴 염산염
36. 3-모르폴리노-8-메틸카르보스티릴
37. 3-티오모르폴리노-8-메틸카르보스티릴
38. 3-(1,4-디아자비시클로[4.3.0]노난-4-일)-8-메틸카르보스티릴 염산염
39. 3-(4-n-프로필-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
40. 3-(4-메틸-1-호모피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
41. 3-[4-(2,2,2-트리플루오로에틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
42. 3-(2-디에틸아미노메틸-1-피롤리디닐)-8-메틸 카르보스티릴 염산염
43. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-트리플루오로메틸 카르보스티릴 염산염
44. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-벤질옥시카르보스티릴 염산염
45. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-에틸카르보스티릴 염산염
46. 3-[2-(1-피롤리디닐메틸)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 옥살레이트
47. 3-(2-모르폴리노메틸-1-피롤리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
48. 5-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
49. 3-(2,4-디메틸-1-피페라지닐)-8-메틸 카르보스티릴 염산염
50. 3-(3-모르폴리노-1-피롤디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
51. 3-[N-메틸-N-2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]아미노메틸-8-메틸카르보스티릴
52. 3-[3-(1-피롤리디닐)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
53. 3-[4-(1-피페리디닐)-1-피페리디닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
54. 3-{4-[3-(4-피리딜)프로필-1-피페라지닐]}-8-메틸카르보스티릴 이염산염
55. 3-(1-피리디늄)-8-메틸카르보스티릴 염산염
56. 3-(1-피롤리디닐)-8-알릴옥시카르보스티릴 염산염
57. 3-[4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
58. 3-(2-디에틸아미노-1-피롤리디닐)-8-플루오로 카르보스티릴
59. 3-(4-프로파르길-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
60. 3-(4-아세틸메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
61. 3-(1-인돌리닐)-8-메틸카르보스티릴
62. 3-디에틸아미노-8-아세틸메톡시카르보스티릴 염산염
63. 3-[4-(1-피롤리디닐카르보닐메틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
64. 3-[4-(2-모르폴리노에틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 이염산염
65. 3-{4-[(2-티에닐)메틸]-1-피페라지닐}-8-메틸카르보스티릴 염산염
66. 3-(4-시클로헥실-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
67. 3-[2-(4-메틸-1-피페라지닐메틸)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 디옥살레이트
68. 3-[3-(4-메틸-1-피페라지닐)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 이염산염
69. 3-[3-(3,5-디메틸-1-피페리디닐메틸)-모르폴리노]-8-메틸카르보스티릴 염산염
70. 3-(4-디에틸아미노-1-피페리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
71. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-6-메톡시-8-메틸 카르보스티릴 염산염
72. 1,8-디메틸-3-(1-피롤리디닐)카르보스티릴
73. 3-(4-시클로로프로필메틸-1-피페라지닐)-8-메틸 카르보스티릴 염산염
[표 1]
Figure kpo00055
Figure kpo00056
Figure kpo00057
Figure kpo00058
Figure kpo00059
Figure kpo00060
* LC : 전기 펄스 자극에 의해 10배 수축
** A-1 : 제 1 차 전기 펄스 자극 후에 관찰된 후수축.
급성 독성 시험 결과
본 발명의 화합물 12를 암컷 쥐에게 경구 투여하여 측정한 결과, 하기의 결과가 수득되었다.
LD50=711mg/kg
본 발명은 하기 참고예 및 실시예에 의해 상세히 설명되는데, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
[참고예]
10g의 디에틸 2-아세틸아미노-2-(2-니트로-3-메틸벤질) 말로네이트 및 1g의 10% Pd-C를 50ml의 아세트산에 현탁시키고, 현탁액을 60~70℃, 3~3.5 기압하에서 수소화에 의해 접촉환원시킨다. 수소화를 마친 후, 촉매를 여거하고 용매를 증발시킨다. 이렇게 하여 얻은 잔류물을 에탄올로 재결정하여 2.7g의 에틸 3-아세틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴-3-카르복실레이트를 수득한다. 백색 분말 물질.
융점 : 236.5~238.5℃
[실시예 1]
2.7g의 에틸 3-아세틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴-3-카르복실레이트에 60ml의 20%-염산을 가하고, 혼합물을 2시간동안 가열 환류시킨다. 용매를 증발시키고, 에탄올과 함께 공비 증류하여 물을 제거한다. 얻어진 잔류물을 메탄올-디에틸 에테르로 재결정하여 1.74g의 3-아미노-8-메틸-3,4-디히드로 카르보스티릴 염산염을 수득한다. 무색의 박편상 결정.
융점 : 300℃이상,
NMR(DMSO-d6)δ: 2.26(3H, s), 3.03~3.45(2H, m), 4.16(1H, dd, J=8Hz, 12Hz), 6.80~7.20(3H, m), 8.80(2H, br.), 10.10(1H, brs.)
[실시예 2~34]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예1과 비슷한 방법으로 실시함으로써 하기 표2에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표 2]
Figure kpo00061
Figure kpo00062
Figure kpo00063
Figure kpo00064
[실시예 35]
0.5g의 [2-(4-벤질-1-피페리디닐) 아세틸] 아미노-3-메틸벤즈알데히드를 10ml의 에탄올에 용해시키고, 0.11g의 나트륨 에틸 레이트를 가하고, 혼합물을 2시간 동안 가열 환류시킨다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 디클로로메탄으로 추출한다. 추출액을 물로 세척하고, 무수 황산 마그네슘으로 건조시킨다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 디클로로메탄 : 메탄올=100 : 1)하여 정제한다.
에탄올-HCl을 이용하여 생성물을 염산염으로 전환시키고, 디클로로메탄-에탄올로 재결정하여 0.22g의 3-(4-벤질-1-피페리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 열은 황색분말 물질.
융점 : 221~222℃(분해).
[실시예 36~82]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 실시함으로써 하기 표3에 나타낸 화합물 및 후술한 실시예 90의 화합물을 수득한다.
[표 3]
Figure kpo00065
Figure kpo00066
Figure kpo00067
Figure kpo00068
Figure kpo00069
[실시예 83]
2.0g의 4-클로로-8-메틸카르보스티릴, 5ml의 디에틸아민, 0.2g의 요오드화구리-구리 분말 혼합물 및 20ml의 N-메틸피롤리딘을 오토클레이브에 넣고, 180~190℃에서 10시간동안 가열한다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출액을 물로 세척하고, 건조시켜 용매를 증발시킨다. 얻어진 잔류물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 디클로로메탄)하여 정제한다. 생성물을 에탄올-HCl을 이용하여 염산염으로 전환시키고, 아세톤-디에틸 에테르로 재결정하여 0.6g의 4-디메틸아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 갈색분말물질.
융점 : 183~186℃
[실시예 84~89]
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 83과 비슷한 방법으로 실시함으로써 하기 표 4에 나타낸 화합물 및 실시예 1-9, 11-19, 23-28, 30-43, 50-63, 65-72, 77-82, 98, 100-166, 168, 173, 175-180, 187-189, 190, 190a-190d, 191-225, 228-242, 246-248, 50, 252-259의 화합물을 수득한다.
[표 4]
Figure kpo00070
[실시예 90]
2.9g의 3-아미노-8-메틸카르보스티릴, 3.5ml의 트리메틸아민을 50ml의 디클로로메탄에 용해시켜 제조한 용액에 10ml의 디클로메탄에 용해시킨 1.9ml의 염화클로로아세틸 용액을 빙냉하에 적가한다. 모두 적가한 후, 반응 혼합물을 실온에서 30분간 교반한다. 반응 혼합물중의 용매를 감압하에 증발시켜 농축시키고, 얻어진 잔류물을 아세톤에 현탁시키고 현탁액을 빙수에 쏟아붓는다. 형성된 결정을 여취하고, 물로 세척하여, 건조시키고 아세톤-물로 재결정하여 3.6g의 3-클로로아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다. 백색 분말 물질.
융점 : 271.5~272.2℃(분해)
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 90와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 20-22, 46-48, 64, 73-76, 99, 226, 227 및 243-245의 화합물을 수득한다.
[실시예 91]
0.7g의 3-클로로아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴, 2.04g의 디에틸아민, 30ml의 아세토니트릴에 용해시킨 1.16ml의 트리에틸아민을 혼합하여 제조한 현탁액을 7.5시간동안 가열환류시킨다. 반응혼합물을 빙수에 쏟아 붓고, 침전물을 여취하고, 물로 세척하여 건조시킨다. 건조시킨 침전물을 메탄올에 용해시키고, 진한 염산-에탄올을 이용하여 염산염으로 전환시킨다. 에탄올-물로 재결정하여 0.52g의 3-(2-디에틸아미노아세틸)아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 황색 분말 물질.
융점 : 250~252℃(분해).
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 91과 비슷하게 반응을 실시함으로써 실시예 20-22, 46-48, 243-245 및 64의 화합물을 수득한다.
[실시예 92]
1.6g의 3-아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염을 30ml의 아세톤에 현탁시키고, 2.6g의 요오드화에틸 및 2.6g의 탄산칼륨을 가하고, 혼합물을 밀봉 튜브에 넣고 120℃에서 10시간동안 가열하여 반응시킨다. 반응 혼합물에 디클로로메탄-물을 가하고, 유기층을 분리수거한다. 유기층을 물로 세척하고, 무수 황산나트륨으로 건조시킨다. 용매를 증발시키고, 얻어진 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 디클로로메탄-메탄올=100 : 1)하여 정제한다. 에탄올-디에틸에테르로 재결정하여 1.5g의 3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염을 수득한다. 백색 분말 물질.
융점 : 231.5~233℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 92와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 5-6, 8, 11, 14, 16, 19, 23, 25, 32, 37-42, 49-50, 53, 56, 59-60, 68-72, 77, 83, 98, 101, 104, 113, 120, 127, 137, 139-141, 143, 148, 178, 189, 190, 202, 211, 213, 219, 223, 224, 225, 230, 233, 240, 241 및 242의 화합물을 수득한다.
[실시예 93]
1g의 1-메틸-8-아미노-3,4-디히드로카르보스티릴, 1.35g의 1,4-디브로모부탄, 1.9g의 요오드화 나트륨, 10ml의 아세토니트릴에 용해시킨 1.75g의 탄산칼륨을 혼합하여 제조한 현탁액을 20시간 동안 가열환류시킨다. 반응 혼합물에 디클로로메탄-물을 가하고, 유기층을 분리 수거하여 물로 세척하고, 무수 황산나트륨으로 건조시킨다. 다음에, 용매를 증발시키고 얻어진 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 디클로로메탄 : 메탄올=50 : 1)하여 정제한다. 정제된 생성물을 디에틸 에테르에 용해시키고, 목적 생성물을 에탄올-진한 염산을 이용하여 염산염으로 전환시키고, 에탄올-디에틸 에테르로 재결정하여 1.15g의 1-메틸-8-피롤리디노-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염을 수득한다. 백색 분말 물질.
융점 : 174.5~177℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 93과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 2, 4, 7, 12,17-18, 26-28, 31, 34, 54-55, 57-58, 61-63, 65-67, 78-82, 84-85, 100, 102, 105-110, 112, 114-119, 121, 123-126, 128-132, 134-136, 138, 142, 144-147, 149-166, 168-173, 175-177, 180, 188, 190a-190d, 193-195, 197-201, 203-210, 212, 215-218, 220-222, 228-229, 231-232, 234-236, 246, 247, 248, 250, 252-259의 화합물을 수득한다.
[실실예 94]
0.19g의 수소화 리튬 알루미늄을 27ml의 테트라히드로푸란에 현탁시키고, 0.9g의 3-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 가하고, 혼합물을 아르곤 대기하에 2시간동안 가열환류시킨다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름 추출액을 물로 세척하고, 무수 황산 마그네슘으로 건조시킨다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 클로로포름 : 메탄올=50 : 1)하여 정제한다. 목적 생성물을 에탄올-진한 염산을 이용하여 염산염으로 전환시키고, 에탄올로 재결정하여 0.27g의 3-에틸아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 황색의 침상과 유사한 결정.
융점 : 230~232℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 94의 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 5, 6, 8, 9, 11, 14, 16, 19, 23, 25, 32, 37, 38, 39, 41, 49, 50, 53, 56, 59, 60, 68, 69, 70, 71, 72, 77, 87, 98, 101, 104, 113, 120, 127, 137, 139, 140, 141, 143, 148, 189, 202, 211, 213, 214, 219, 224, 230, 233, 240-242의 화합물을 수득한다.
[실시예 95]
5.3g의 8-메틸카르보닐-3-카르보닐클로라이드, 아세토니트릴에 용해시킨 1.7g의 아지드화 나트륨을 혼합하여 제조한 현탁액을 실온에서 밤새 교반한다. 용매를 증발시킨 후, 얻어진 잔류물에 클로로포름을 가하고, 불용성 물질을 여거하고, 여액을 물로 세척하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨다. 용매를 증발시킴으로써 0.9g의 8-메틸카르보스티릴-3-카르복시아지드를 수득한다.
NMR(CDCl3)δ : 2.51(3H, s), 7.19(1H, t, J=7.5Hz), 7.50(1H, d, J=7.5Hz), 7.55(1H, d, J=7.5Hz), 8.65(1H, s), 9.51(1H, brs).
[실시예 96]
200ml의 t-부틸알코올에 용해시킨 0.8g의 8-메틸카르보스티릴-3-카르복시아지드의 용액을 3시간 동안 가열 환류시킨다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 침전물을 여취하고, 침전물에 5ml의 진한 염산 및 20ml의 에탄올을 가하고, 혼합물을 2시간동안 가열 환류시킨다. 용매를 증발시키고, 얻어진 잔류물을 클로로포름으로 재결정하여 0.53g의 3-아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다. 옅은 갈색 분말 물질.
융점 : 255~260℃(분해).
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 96과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 1, 3, 13, 15, 30, 33, 103 및 187의 화합물을 수득한다.
[실시예 97]
100ml의 무수 디메틸포름아미드에 용해시킨 12.3g의 3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염의 용액에 1.9g의 60%-수소화나트륨을 가하고, 혼합물을 50℃에서 30분간 가열한다. 이 반응 혼합물에 6.53g의 요오드화메틸을 빙냉하에 적가한다. 모두 적가한 후에, 전체 혼합물을 50~60℃에서 교반하며 가열한다. 반응 혼합물을 물에 쏟아붓고, 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름층을 물로 세척하고 건조시킨다. 클로로포름을 증발시키고, 얻어진 잔류물을 염산염으로 전환시키고 아세톤-n-헥산으로 재결정하여 12g의 1-메틸-3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 갈색 분말 물질.
융점 : 162.5~164.5℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 97과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 18, 23-25, 85, 192, 220, 228-233, 250, 252-259의 화합물을 수득한다.
[실시예 98~108]
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 5에 나타낸 화합물을 수득한다.
[실시예 109~180]
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 6에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표 5]
Figure kpo00071
[표 6]
Figure kpo00072
Figure kpo00073
Figure kpo00074
Figure kpo00075
Figure kpo00076
Figure kpo00077
Figure kpo00078
1) NMR : δ(DMSO-d6) : 1.29(6H, t ; J=5.5Hz), 1.90~2.14(4H, m), 2.96~3.69(8H, m), 4.76~4.89(1H, m), 7.01~7.18(3H, m), 7.40(1H, d ; J=7Hz), 10.29(1H, br s), 11.19(1H, s).
2) NMR : δ(DMSO-d6) : 0.99(3H, d ; J=6Hz), 1.19(3H, d ; J=6Hz), 2.44(3H, s), 2.73~2.98(4H, m), 3.03~3.39(2H, m), 4.86~5.01(1H, m), 7.05~7.59(4H, m), 10.66(1H, br, s), 10.99(1H, s), 11.05(1H, s).
[실시예 181]
2.0g의 3-[4-(1-피롤리디닐카르보닐메틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염을 20ml의 테트라히드로푸란에 현탁시키고, 이 현탁액에 20ml의 테트라히드로푸란에 용해시킨 0.32g의 수소화리튬 알루미늄의 용액을 질소 기류하에 교반하며 적가한다. 반응 혼합물을 실온에서 30분간 교반하고, 반응 혼합물을 오일 중탕에서 2시간 동안 가열 환류시킨다. 반응 혼합물에 물과 염화메틸렌을 가하고, 셀라이트[규조토의 상품명, Johns Manville Sales Corp. (U. S. A.)의 상품]로 여과한다. 여액을 메틸렌클로라이드로 추출하고 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하여, 무수황산나트륨으로 건조시키고, 감압하에 용매를 제거하여 농축시키고, 얻어진 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 메틸렌 클로라이드 : 메탄올=10 : 1)하여 정제한다. 목적 생성물을 에탄올-HCl을 이용하여 이염산염으로 전환시키고, 에탄올-물로 재결정하여 1.15g의 3-{4-[2-(1-피롤리디닐)에틸]-1-피페라지닐}-8-메틸카르보스티릴 이염산염을 수득한다. 옅은 황색의 침상과 유사한 결정. 융점 : 300℃ 이상.
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 79,142 및 161의 화합물을 수득한다.
[실시예 182]
a) 5.1g의 2-메틸-3-아미노아세트아닐리드를 150ml의 아세톤에 용해시키고, 30ml의 아세톤에 용해시킨 5.7g의 염화신나모일 및 50ml의 물에 용해시킨 5.2g의 탄산칼륨의 용액을 상기 용액에 빙냉하에 교반하며 적가한다. 반응 혼합물을 동일온도에서 2시간 동안 교반하고, 반응 혼합물을 빙수에 쏟아 붓는다. 침전을 여취하여, 물로 세척하고 건조하여 8.64g의 N-(3-아세틸아미노-2-메틸)페닐신나모일아미드를 수득한다.
NMR(DMSO-d6) : 2.10(3H, s), 2.14(3H, s), 6.92(1H, d, J=15Hz), 7.05~7.65(8H, m), 7.60(1H, d, J=15Hz), 9.28(1H, brs), 9.44(1H, brs)
b) 24g의 염화 알루미늄을 25ml의 클로로벤젠에 현탁시키고, 이 현탁액에 8g의 N-(3-아세틸아미노-2-메틸)페닐신나모일아미드를 가하고, 혼합물을 110~120℃에서 5시간 동안 교반하에 가열한다. 반응 혼합물을 빙수에 쏟아 붓고, 침전을 여취한다. 침전물을 n-헥산, 디에틸 에테르 및 물을 사용하여 차례로 세척하고, 디메틸포름아미드로 재결정하여 4.09g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다.
NMR(DMSO-d6) : 2.10(3H, s), 2.30(3H, s), 6.45(1H, d, J=9Hz), 7.23(1H, d, J=8Hz), 7.47(1H, d, J=8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H, brs)
[실시예 183]
5g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴에 60ml에 20% 염산을 가하고, 혼합물을 오일 중탕에서 교반하며 110~120℃로 가열한다. 4시간 동안 가열한 후에, 용매를 감압하에 증발시키고, 얻어진 잔류물을 뜨거운 메탄올로 세척하여, 건조시키고, 메탄올-물로 재결정하여 5.25g의 7-아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 황색의 침상과 유사한 결정, 융점 : 290~293℃(분해).
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182와 비슷하게 반응을 실시함으로써 실시예 1, 3, 13, 15, 30, 33, 45 및 103의 화합물을 제조한다.
[실시예 184]
2.07g의 2-메틸-3-(β-브로모아크릴로일)아미노 아세토아닐리드에 10ml의 진한 염산을 가하고 70℃에서 가열한다. 반응 혼합물을 빙수에 쏟아 붓고, 수지성 물질을 제거하고, 잔류물을 10N-NaOH로 중화시킨다. 침전된 결정을 여취하여, 물로 세척하고 디메틸포름아미드로 재결정하여 0.75g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다.
NMR(DMSO-d6) : 2.10(3H, s), 2.30(3H, s), 6.45(1H, d, J=9Hz), 7.23(1H, d, J=8Hz), 7.47(H, d, J=8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H, brs)
[실시예 185]
3ml의 아세톤에 용해시킨 2-메틸-3-(β,β-디에톡시프로피오닐)아미노-아세트아닐리드의 용액을 60℃에서 교반하에 20ml의 진한 염산에 적가한다. 30분 동안 계속 반응시키고, 용매를 증발시키고, 잔류물을 10N-NaOH로 중화한다. 침전된 결정을 여취하여, 물로 세척하고, 디메틸포름아미드를 재결정하여 1.25g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다.
NMR(DMSO-d6) : 2.10(3H, s), 2.30(3H, s), 6.45(1H, d, J=9Hz), 7.23(1H, d, J=8Hz), 7.47(1H, d, J=8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H, brs)
[실시예 186]
a) 10.7g의 2-메틸-3-아미노아세트아닐리드를 150ml의 디메틸술폭시드에 용해시키고, 3.12g의 수소화나트륨(오일에 현탁, 50%)을 서서히 가한다. 반응 혼합물을 실온에서 30분간 교반하고, 6.4g의 에틸 프로피오네이트를 서서히 가한다. 전체 혼합물을 실온에서 12시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 과량의 포화 염화나트륨 수용액에 쏟아 붓고, 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름층을 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하고, 클로로포름을 감압하에 증발시켜 3-에티닐카르보닐아미노-2-메틸-아세트아닐리드를 수득한다.
b) 상기 단계 a)에서 수득한 3-에티닐카르보닐아미노-2-메틸아세트아닐리드를 5ml의 에탄올을 용해시키고, 이 용액을 60~70℃에서 교반하에 서서히 진한 황산에 적가한다. 모두 적가한 후, 반응 혼합물을 30분간 더 교반한다. 반응 혼합물을 얼음에 쏟아 붓고, 10N-NaOH로 중화시키고, 침전된 결정을 여취한다. 디메틸포름아미드로 재결정하여 8.85g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다.
NMR(DMSO-d6) : 2.10(3H, s), 2.30(3H, s), 6.45(1H, d, J=9HZ), 7.23(1H, d, J=8Hz), 7.47(1H, d, J=8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H, brs)
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182, 183~186과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 35~89, 95, 109~180, 191~233 및 240~245의 화합물 및 하기 표 7에 나타낸 화합물을 수득한다.
[표 7]
Figure kpo00079
[실시예 190]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 8에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표 8]
Figure kpo00080
[실시예 191~233]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 9에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 234~239]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 10에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 240~245]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 11에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 246~248]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182, 183~186과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 12에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 249]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 13에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 250~259]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182, 183~186과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 14에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표 9]
Figure kpo00081
Figure kpo00082
Figure kpo00083
Figure kpo00084
Figure kpo00085
Figure kpo00086
[표 10]
Figure kpo00087
[표 11]
Figure kpo00088
Figure kpo00089
[표 12]
Figure kpo00090
[표 13]
Figure kpo00091
[표 14]
Figure kpo00092
Figure kpo00093
3) N.M.R(CDCl3)δ : 1.14(3H, t, J=7Hz), 1.33(3H, t, J=7Hz), 2.37(3H, s), 2.55-2.75(4H, m), 3.27(4H, br.), 3.39(2H, q, J=Hz), 3.51(2H, q, J=7Hz), 5.16(2H, s), 7.00(1H, s), 7.09(1H, t, J=7.5Hz), 7.17(1H, t, J=7.5Hz), 7.35(1H, t, J=7.5Hz), 7.48(1H, d, J=7.5Hz).

Claims (50)

  1. 하기 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
    Figure kpo00094
    [상기 식중, R1은 수소원자, C1~C16알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 페닐-저급알킬기, 카르복시-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급알킬기, 또는 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급알킬기이고 ; R2는 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기, 피리딜기, 일반식
    Figure kpo00095
    의 기(식중, R4및 R5과 함께 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5-~9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5-~9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서 1~3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급 알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐기, 일반식
    Figure kpo00096
    의 기((식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐만 아니라 그에 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
    Figure kpo00097
    의 기로서, 식중 A'는 저급알킬렌기이며 ; m은 0 또는 1이다.)), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군으로부터 선택된 1~3치환기를 가질 수도 있다.) ; 또는 피페리딘고리상에 치환기로 저급알킬기 또는 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기 또는 치환기로서 1~2 저급알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기들을 치환기로 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기이며 ; R3는 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있는 저급알킬기, 저급알콕시기, 히드록시기, 할로겐원자, 카르복시기, 페닐기, 페닐-저급알콕시기, 저급알케닐옥시기, 저급알카노일-저급알콕시기 또는 저급알콕시아미노 카르보닐-저급알콕시기이고 ; n은 0, 1 또는 2이며 ; 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소결합은 단일 또는 이중결합이고 ; R2및 R3는 각각 카르보스티릴 골격내의 3-~8-위치들중 임의의 위치에 치환되며, 단 R2및 R3가 동시에 동일한 위치에 치환될 수는 없고 ; 및 R2및 R3중 최소한 1개는 카르보스티릴 골격내의 8- 위치에 치환되며 ; 또한, n이 0 또는 1이고 ; R3가 저급알콕시기인 경우, R2는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알콕시기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기를 피페라진고리내의 4-위치에 존재하는 치환기로 가질 수도 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되고;R2가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환되고, 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합이 이중결합인 경우, R1은 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급알킬기이어서는 안되며 ; n이 2이고 ; 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중결합이고 ; 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기가 치환되고, R1이 수소원자, C1~C6알킬기, 또는 프로파르길이며 ; R3의 하나가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환된 또다른 R3은 염소원자 또는 브롬원자이어서는 안되고 ; 일반식
    Figure kpo00098
    중의 R4및 R5가 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한 경우, 일반식
    Figure kpo00099
    의 기는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환되서는 안되며 ; R2가 피리딜기인 경우, R3는 히드록시기, 할로겐원자 및 저급알콕시기인 어느 것도 아니다.
  2. 제 1 항에 있어서, 식중, R2가 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기 또는 피리딜기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  3. 제 1 항에 있어서, 식중 R2가 일반식
    Figure kpo00100
    의 기((식중, R4및 R5는 제 1 항에서 정의한 바와 동일하다.)인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  4. 제 1 항에 있어서, 식중, R2가 이미다졸릴기, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기, 피롤리디닐기, 1,4-디아자비시클로[4.3.0]노닐기, 1,4-디아제피닐기, 1,4-옥사제피닐기, 1,4-트리아제피닐기, 호모피페라지닐기, 티오모르폴리노기, 인돌리닐기, 또는 인돌릴기이며 ; 상술한 헤테로시클릭기들이 제 2 항에 기재한 헤테로시클릭기 각각에 대한 치환기들의 군으로부터 선택된 1~3 치환기를 가질 수도 있는 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  5. 제 4 항에 있어서, 식중, R2가 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서 1~3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기 및 페닐-저급알콕시카르보닐기로 구성된 군으로부터 선택된 1~3 치환기를 가질 수도 있는 헤테로시클릭기로서 이미다졸릴기, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기, 피롤리디닐기, 1,4-디아자비시클로[4.3.0]노닐기, 1,4-디아제피닐기, 1,4-옥사제피닐기, 1,4-티아제피닐기, 호모피페라지닐기, 티오모르폴리노기, 인돌리닐기 또는 인돌릴기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  6. 제 4 항에 있어서, 식중, R2가 일반식
    Figure kpo00101
    의 기(식중, R13,R14,A 및 m은 상기에서 정의한 바와 동일하다.)로 나타내어지는 1~3 치환기를 가질 수도 있는 헤테로시클릭기로서 이미다졸릴기, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기, 피롤리디닐기, 1,4-디아자비시클로[4.3.0]노닐기, 1,4-디아제피닐기, 1,4-옥사제피닐기, 1,4-티아제피닐기, 호모피페라지닐기, 티오모르폴리노기, 인돌리닐기 또는 인돌릴기인 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  7. 제 5 항에 있어서, 식중, R2가 치환기로서 1~3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C3~C8시클로알킬-C1~C6알킬기 및 C1~C10알킬기로 구성된 군으로부터 선택된 1~3 치환기를 가질 수도 있는 피페라지닐 또는 피롤리디닐기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  8. 제 7 항에 있어서, 식중, R2가 치환기로서 1~3의 C1~C10알킬기를 가질 수도 있는 피페라지닐기이고, 상기 C1~C10알킬기가 치환기로서 1~3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  9. 제 7항에 있어서, 식중, R2가 피롤리디닐기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  10. 제1, 8 또는 9항에 있어서, 식중, R2가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환된 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  11. 제1, 8 또는 9항에 있어서, 식중, R2가 카르보스티릴 골격내의 5- 또는 6-위치에 치환된 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  12. 제10항에 있어서, 식중, R3가 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C16알킬기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  13. 제11항에 있어서, 식중, R3가 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C16알킬기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  14. 제10항에 있어서, 식중, R3가 할로겐원자인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  15. 제11항에 있어서, 식중, R3가 할로겐원자인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  16. 제10항에 있어서, 식중, R3가 저급알콕시기, 히드록시기, 카르복실기, 페닐기, 페닐-저급알콕시기, 저급알케닐옥시기, 저급알카노일-저급알콕시기 또는 저급알킬 아미노카르보닐-저급알콕시기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  17. 제11항에 있어서, 식중, R3가 저급알콕시기, 히드록시기, 카르복시기, 페닐기, 페닐-저급알콕시기, 저급알케닐옥시기, 저급알카노일-저급알콕시기 또는 저급알킬 아미노카르보닐-저급알콕시기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  18. 제12항에 있어서, 식중, R3가 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환된 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  19. 제13항에 있어서, 식중, R3가 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환된 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  20. 제18항에 있어서, 식중, R1이 수소원자인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  21. 제19항에 있어서, 식중, R1이 수소원자인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  22. 제18항에 있어서, 식중, R1이 C1~C16알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기 또는 페닐-저급알킬기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  23. 제19항에 있어서, 식중, R1이 C1~C16알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기 또는 페닐-저급알킬기인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  24. 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴.
  25. 6-피롤리디닐-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴.
  26. 3-(4-시클로프로필메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴.
  27. 하기 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체를 활성 성분으로 함유하는 부정맥 치료 및/또는 개선용 약학 조성물.
    Figure kpo00102
    [상기 식중, R1은 수소원자, C1~C16알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 페닐-저급알킬기, 카르복시-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급알킬기, 또는 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급알킬기이고 ; R2는 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기, 피리딜기, 일반식
    Figure kpo00103
    의 기(식중, R4및 R5는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 치환기로서 히드록시기, 아미노기 또는 저급알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급알킬기, 페닐-저급알카노일기, 이미다졸리닐기, 치환기로서 할로겐원자 또는 저급알킬아미노기를 가질 수도 있는 알카노일기, 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 페닐기, 시클로알킬기, 피페리딘고리상에 치환기로서 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐-저급알카노일기, 저급알케닐기, 피롤리디닐-저급알카노일기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있는 페녹시-저급알킬기, 모르폴린고리상에 치환기로서 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 모르폴리노-저급알킬기, 피페리딘고리상에 치환기로서 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기이고 ; 또한 R4및 R5뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5-~9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5-~9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서 1~3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐기, 일반식 -
    Figure kpo00104
    의 기((식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
    Figure kpo00105
    의 기로서, 식중 A'는 저급알킬렌기이며 ; 및 m은 1 이다.)), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군으로부터 선택된 1~3 치환기를 가질 수도 있다.) ; 또는 피페리딘고리상에 치환기로서 저급알킬기 또는 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기 ; 또는 치환기로서 1~2 저급알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기들을 치환기로 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기이며 ; R3는 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있는 저급알킬기, 저급알콕시기, 히드록시기, 할로겐원자, 카르복실기, 페닐기, 페닐-저급알콕시기, 저급알케닐옥시기, 저급알카노일-저급알콕시기 또는 저급알킬아미노카르보닐-저급알콕시기이고 ; n은 0, 1 또는 2이며 ; 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소결합은 단일 또는 이중결합이고 ; R2및 R3는 각각 카르보스티릴 골격내의 3-~8-위치들중 임의의 위치에 치환되며, 단 R2및 R3는 동시에 동일한 위치에 치환될 수는 없다.]
  28. 제27항에 있어서, 식중 R2가 일반식
    Figure kpo00106
    의 기(식중, R4및 R5는 제27항에서 정의한 바와 동일하다.)인 약학 조성물.
  29. 제28항에 있어서, R2가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환된 약학 조성물.
  30. 제28항에 있어서, R2가 카르보스티릴 골격내의 5- 또는 6-위치에 치환된 약학 조성물.
  31. 제29 또는 30항에 있어서, R3가 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환된 약학 조성물.
  32. 제31항에 있어서, R1이 수소인 약학 조성물.
  33. 제27항에 있어서, 활성 성분이 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴인 약학 조성물.
  34. 제27항에 있어서, 활성 성분이 6-피리딜-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴인 약학 조성물.
  35. 제27항에 있어서, 활성 성분이 3-디에틸아미노-8-메틸카르보스티릴인 약학 조성물.
  36. 제27항에 있어서, 활성 성분이 3-(4-시클로프로필메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴인 약학 조성물.
  37. 하기 일반식(II)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
    Figure kpo00107
    [상기 식중, R1,R3및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에서 정의한 바와 동일하고,
    Figure kpo00108
    는 정수 1 또는 2이며, R2a는 일반식의 기(식중, R4a및 R5a와 함께 이들과 결합하고 있는 질소원자는, 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5-~9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있고 ; 상기 5-~9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서 1~3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐기, 일반식
    Figure kpo00110
    의 기((식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또한 R13및 R14와 함께 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 헤테로고리상에 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
    Figure kpo00111
    의 기로서, 식중 A'는 저급알킬렌기이며 ; m은 0 또는 1이다.)), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군으로부터 선택된 1~3 치환기를 가질 수도 있다.)이고 ; 단 (R3)p및 R2a는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되며 ; R2a가
    Figure kpo00112
    의 기(식중, R4및 R5는 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환되어서는 안되고 ; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환되고, 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합이 이중결합인 경우, R1은 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐 저급알킬기이어서는 안되며 ; p가 1이고 ; R3가 저급알콕시인 경우, R2a는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐 저급알킬기, 저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기를 피페라진고리 4-위치의 치환기로서 가질 수도 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되고 ; p가 1이고 ; 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소결합이 2중결합이고 ; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기이고 ; R1이 수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고, R3이 카르복실기인 경우, R3은 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환되어서는 안되며 ; p가 2이고 ; 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소결합이 이중결합이고 ; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기이고 ; R1이 수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길이고 ; R3이 하나가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격내의 5- 내지 7-위치에 치환된 또다른 R3는 염소원자 또는 브롬원자이어서는 안되고 ; R2a가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 결합된 1-피페리딜기인 경우, R3는 카르보스티릴 골격내의 4-위치에는 결합되지 않는 페닐기이다.
  38. 하기 일반식(III)으로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
    Figure kpo00113
    [상기 식중, R1,R2a및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에서 정의한 바와 동일하고 ; 단, R1이 수소원자 또는 저급알키닐기이고, 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합이 단일 결합일 경우, 카르보스티릴 골격내의 6-위치는 1-피페리디닐, 히드록시기, 저급알킬기 및 페닐기로 구성된 군으로부터 선택된 1~2 치환기를 가질 수도 있는 피롤리디닐기로 치환될 수 없고 ; R1이 수소원자이고 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합이 이중결합인 경우, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치가 피페라지닐 고리내의 4-위치에 존재하는 치환기로서 페닐-저급알킬기, 벤조일-저급알킬기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기를 가질 수도 있는 피페라지닐기가 결합되어서는 안되고 ; R2a는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되며 ; R1이 수소원자, 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급알킬기이고 ; R2a는 피롤리디닐기 또는 피페리디닐기이고 ; R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환된 경우, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치의 탄소-탄소결합은 이중결합이어서 안되고 ; R1이 수소원자, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 또는 페닐-저급알킬기인 경우, R2a는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기를 피페라진고리상의 4-위치의 치환기로서 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되며;R2a가 일반식
    Figure kpo00114
    의 기(식중, R4및 R5와 이들이 결합된 인접한 질소원자는 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환되어서는 안된다.]
  39. 제37항에 있어서, 하기 일반식(1A)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
    Figure kpo00115
    R1은 수소원자, C1~C16알킬기, 페닐-저급알킬기이고 ; R2가 일반식
    Figure kpo00116
    의 기(식중, 또한 R4및 R5및 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5-~9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5-~9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서 1~3 저급알킬기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기, 저급알케닐기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, C3~C8시클로알킬-저급알킬기, C3~C8시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알킬카르보닐-저급알킬기, 일반식
    Figure kpo00117
    의 기((식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐만아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기이며 ; m은 0 또는 1이다)), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군으로부터 선택된 1~3 치환기를 가질 수도 있다.) ; R3는 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수도 있는 저급알킬기, 저급알콕시기, 히드록시기, 할로겐원자, 페닐-저급알콕시기 또는 저급알케닐옥시기이고 ; n은 0, 1 또는 2이며 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 단일 또는 이중결합이고 ; R2및 R3는 각각 카르보스티릴 골격내의 3-~8-위치들중 임의의 위치에 치환된 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  40. 제37항에 있어서, R1이 수소원자이고, R3이 저급알킬기 또는 저급알콕시기인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  41. 제38항에 있어서, R1이 수소원자, 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 또는 페닐-저급알콕시카르보닐-저급알킬기이고 ; R2a는 일반식
    Figure kpo00118
    의 기(식중, R4및 R5과 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5-~9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 상기 5-~9-원 헤테로시클릭기는 C1~C10알킬기, 피리딜-저급알킬기, 일반식
    Figure kpo00119
    의 기((식중, R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또한 R13및 R14뿐만아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이, 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 헤테로시클릭고리상에 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기이며 ; m은 0 또는 1이다))로 구성된 군으로부터 선택된 치환기일 수 있다)인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  42. 제39항에 있어서, R2가 치환기가 C3~C8시클로알킬-저급알킬기 및 치환기로서 1~3 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C1~C10알킬기로 구성된 피페라지닐 또는 피롤리디닐기인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  43. 제42항에 있어서, R2가 치환기가 1~3 C1~C10알킬기를 가질 수 있는 피페라지닐기이고, C1~C10알킬기가 치환기로서 1~3 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  44. 제42항에 있어서, R2가 피롤리디닐기인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  45. 제43항 또는 44항에 있어서, R2가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환되고 ; R3가 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수 있는 C1~C16알킬기 또는 할로겐원자이며 ; R3가 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환된 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  46. 제43항 또는 44항에 있어서, R2가 카르보스티릴 골격내의 5- 또는 6-위치에 치환되고 ; R3가 치환기로서 1~3 할로겐원자를 가질 수 있는 C1~C16알킬기 또는 할로겐원자이며 ; R3가 카르보스티릴 골격중의 8-위치에 치환되며 R1이 수소원자인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  47. 제40항 또는 41항에 있어서, R2a가 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기, 또는 피롤리디닐기인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염.
  48. 제27항에 있어서, 활성 성분이 제39항에 정의된 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염인 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염인 약학 조성물.
  49. 제27항에 있어서, 활성 성분이 제40항에 정의된 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염인 약학 조성물.
  50. 제27항에 있어서, 활성 성분이 제41항에 정의된 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염인 약학 조성물.
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