KR940006534B1 - 카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조방법 - Google Patents

카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR940006534B1
KR940006534B1 KR1019870001981A KR870001981A KR940006534B1 KR 940006534 B1 KR940006534 B1 KR 940006534B1 KR 1019870001981 A KR1019870001981 A KR 1019870001981A KR 870001981 A KR870001981 A KR 870001981A KR 940006534 B1 KR940006534 B1 KR 940006534B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
lower alkyl
alkyl group
carbostyryl
phenyl
Prior art date
Application number
KR1019870001981A
Other languages
English (en)
Other versions
KR870008868A (ko
Inventor
후지오 다부사
가즈요시 나가미
히로노리 쓰쓰이
Original Assignee
오오쓰까세이야꾸가부시끼가이샤
오오쓰까 아끼히꼬
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오오쓰까세이야꾸가부시끼가이샤, 오오쓰까 아끼히꼬 filed Critical 오오쓰까세이야꾸가부시끼가이샤
Publication of KR870008868A publication Critical patent/KR870008868A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR940006534B1 publication Critical patent/KR940006534B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/38—Nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/38—Nitrogen atoms
    • C07D215/40—Nitrogen atoms attached in position 8
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/38—Nitrogen atoms
    • C07D215/42—Nitrogen atoms attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D215/54—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/56—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/12—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/08—Bridged systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D487/04—Ortho-condensed systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조방법
본 발명은 카르보스티릴 유도체 및 그의 염에 관한 것이다. 보다 상세히 설명하면, 본 발명은 상기 카르브스티릴 유도체를 투여하여 부정맥을 치료 및ℓ또는 개선시키는 방법, 상기 카르보스티릴 유도체를 활성 성분으로 함유하는 약학 조성물 및 상기 카르브스티릴 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 카르보스티릴 유도체와 유사한 화학 구조식을 갖는 일부 카르보스티릴 유도체가 공지되어 있다. 참고, 미합중국특허 제3,836,657호 ; 4,935,414호 ; 3,202,661호 ; 4,071,520호 ; 3,557,117호 ; 4,472,433호 ; 4,097,591호 ; 4,097,472호 ; 4,415,572호 ; 4,593,035호 ; 4,558,130호 ; 4,173,630호 ; 4,097,591호 ; 유럽특허 제0187322호 ; 캐나다 특허 제894,236호 ; 프랑스공화국 특허 제2,000,747호 ; 영국 특허 제1,425,706호 ; 영국 특허 제1,206,995호 ; 1,219,205호 ; 1,131,501호 ; 일본국 특허 출원 공개 제 60-42793호(1985) ; 59-29667호(1984)]. 그러나, 상기의 공지된 카르보스티릴 유도체의 약물학적 활성과본 발명에 의한 카르보스티릴 유도체의 약물학적 활성은 현저히 다르다.
본 발명의 목적은 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염을 제조하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 카르보스티릴 유도체를 투여하여 부정맥을 치료 및//또는 개선시키는 방법을제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 활성 성분으로서 상기 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염을 함유하는 약학 조성물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 보다 구체적인 목적은 상기 카르보스티릴 유도체의 제조방법에 의해 증명된다.
본 발명의 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염은 일반식(1)로 나타내어진다.
Figure kpo00001
(I)
식중, R¹은 수소원자, C₁∼C16알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알키닐기, 페닐-저급 알킬기, 카르복시-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급 알킬기 또는 5- 또는 6-원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르브닐-저급 알킬기이고 ; R²는 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기, 괴리딜기, 일반식
Figure kpo00002
의 기(식중, R⁴ 및 R5는 각기 같거나 다르며, 각각 수소원자, 치환기로 히드록시기, 아미노기 또는 저급 알킬아미노기를 가질 수도있는 저급 알킬기, 페닐-저급 알카노일기, 이미다졸리닐기, 치환기로 할로겐원자 또는 저급 알킬 아미노기를 가질 수도 있는 저급 알카노일기, 치환기로 저급 알콕시기를 가질수도 있는 페닐-저급 알킬기, 페닐기,시클로알킬기, 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐-저급 알카노일기, 저급 알케닐기, 필로리디닐-저급 알카노일기, 페닐 고리상에 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있는 페녹시-저급 알킬기, 모르폴린 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 모르폴리노-저급 알킬기이고 ; 또는 상기의 R⁴ 및 R5뿐 아니라 그에 결합되어 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자가 없이 또는 함께 5-∼9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5-∼9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐 고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기, 치환기로 1∼3 히드록시기, 저급 알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C₁∼C10알킬기, 저급 알킬기, 저급알콕시카르보닐-저급 알킬기, 데트라히드로푸릴-저급 알킬기, 티에닐-저급 알킬기, 시클로알킬-저급 알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급 알킬기, 피리딜-저급 알킬기, 저급 알킬아미노기, 저급 알키닐기, 저급 알카노일-저급 알킬기, 페놀-저급 알콕시카르보닐기, 일반식
Figure kpo00003
의 기((식중, R13및 R14각기 같거나 다르며, 그리고 각각 수소원자, 저급 알킬기, 페닐 고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기이고 ; 또는 상기의 R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자가 없이 또는 함께 5- 또는 6-원 헤테로 시클릭기를 형성할 수도 있으며; 상기 5- 또는 6-원 헤테로 시클릭기는 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있고; A는 저급 알킬렌기 또는 일반식
Figure kpo00004
의기로서, 식중 A'는 저급 알킬렌기이고,m은 0 또는 1이다)), 및 페닐 고리상에 치환기로 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군에서 선택된 1∼3치환기를 가질 수도 있다.) ; 또는 피페리딘 고리상에 치환기로저급 알킬기 또는 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기, 치환기로 1∼2저급 알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기를 치환기로 가질 수도 있는 커누클리디닐기이며 ; R³는 치환기로 1∼3할로겐 원자를 가질 수도 있는 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 히드륵시기, 할로겐원자, 카르복시기, 페닐기, 페닐-저급 알콕시기, 저급 알케닐옥시기, 저급 알카노일-저급 알콕시기 또는 저급 알킬아미노카르보닐-저급 알콕시기 이고 ; n은 0,1 또는 2이며 ; 카르브스티릴 골격 내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 단일 또는 이중 결합이고 ; 또한 R² 및 R³는 각각 카르브스티릴 골격내의 3∼8 위치중 임의의 위치에서 치환될수도 있으며, 단, R² 및 R³가 동시에 같은 위치에서 치환될 수는 없다.
일반식(1)로 나타내는 카르브스티릴 유도체 또는 그의 염들은 항-부정맥 활성을 갖는다. 특히, 상기의 카르브스티릴 유도체 또는 그의 염은 심근에 대하여 어떠한 수축작용도 일으키지 않으면서 국소 빈혈일 경우 유발되는 비정상적인 전도 장해를 억제한다.
본 발명 명세서 내에서, R¹, R², R³, R⁴ 및 R5각각의 기호로 정의하는 기들의 구체적인 예를 이하에 나타낸다.
"저급 알킬기"라 함은 1∼16 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 에틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸,3차-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실 및 헥사데실기 등이 있다.
"저급 알케닐기"라 함은 2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는 비닐, 알릴,2-부테닐,3-부테닐,1-메틸알릴,2-펜테닐 및 2-헥세닐기 등이 있다.
"저급 알키닐기"라 함은 2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는 에티닐, 2-프로피닐, 2-부티닐,3-부티닐,1-메틸-2-프로피닐,2-펜티닐 및 2-헥시닐기 등이 있다.
"페닐-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고 및 1∼2페닐기가 치환될 수도 있는 페닐알킬기로서, 그 예를들면, 벤질, 2-페닐에틸, 1-페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, 1,1-디메틸-2-페닐에틸, 5-페닐펜틸, 6-페닐헥실, 2-메틸-3-페닐프로필, 디페닐메틸 및 2,2-디페닐에틸기 등이다.
"저급 알킬아미노기"라 함은 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아미노기를 의미하며, 그 예로는, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, 3차-부틸아미노, 펜틸아미노, 헥실아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디프로필아미노, 디부틸아미노, 디펜틸아미노, 디헥실아미노, N-메틸-N-에틸아미노, N-에틸-N-프로필아미노, N-메틸-N-부닐아미노 및 N-메틸-N-헥실아미노기 등이 있다.
"치환기로서 히드록시기, 아미노기 또는 저급 알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급 알킬기"라 함은 치환기로 히드록시기, 아미노기, 또는 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아미노기를 가질 수도 있으며, 동시에 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하고, 그에 또는, 상술한 저급알킬기 이의에, 히드록시 메틸, 2-히드록시 에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1, 1- 디메틸 -2-히드록시에틸, 5-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 2-메틸-3-히드록시프로필, 아미노메틸, 1-아미노에틸, 2-아미노에틸, 3- 아미노프로필, 4-아미노부틸, 5-아미노펜틸, 6- 아미노헥실, 1,1-디메틸-2-아미노에틸, 2-메틸-3-아미노프로필, 메틸아미노메틸, 에틸아미노메틸, 프로필아미노메틸, 이소프로필아미노메틸, 부틸아미노메틸, 3차-부틸아미노메틸, 펜틸아미노메틸, 헥실아미노메틸, 디메틸아미노메틸, 디에틸아미노메틸, 디프로필아미노메틸, 디부틸아미모메틸, 디펜틸아미노메틸, 디헥실아미노에틸, N-베틴- N-에틸아미노에틸, N-에틸-N-프로필아미노메틸, N-메틸-N-부틸아미노메틸, N-메틸-N-헥실아미노메틸, 2-메틸아미노에틸, 1-에틸아미노에틸, 3-프로필아미노프로필, 4-부틸아미노부틸, 1,1- 디메틸-2-펜틸아미노에틸, 5-헥실아미노펜틸, 6-디메틸아미노헥실, 2-에틸아미노에틸, 1-(N-메틸-N-헥실아미노)에틸, 3-디헥실아미노프로필, 4-디부틸아미노부틸 및 2-(N-메틸-N-펜틸아미노)에틸기 등이 있다.
"페닐-저급 알카노일기"라 함은 알카노일 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 페닐알카노일기로서 그 예를들면, 2-페닐아세틸, 3-페닐아세틸, 3-페닐프로피오닐, 4-페닐부티릴, 2-페닐부티릴, 6-페닐헥사노일, 2-페닐프로피오닐, 3- 페닐부티릴, 4-페닐-3-에틸부틸, 5-페닐핀타노일 및 2-메틸-3-페닐프로피노일기등이 있다.
"할로겐 원자"라 함은 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드 원자를 의미한다.
"치환기로서 할로겐 원자, 저급 알킬아미노기를 가질 수도 있는 저급 알카노일기"라 함은 할로겐 원자 또는 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아미노기를 치환기로 가질수도 있는 동시에 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기를 의미하며, 그 예로는, 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 이소부티릴, 펜타노일, 헥사노일, 2-클로로아세 틸, 3-브로모프로피오닐, 4-플루오로부티릴, 5-요오도펜타노일, 6-클로로헥사노일, 3-브로모이소부티릴, 메틸아미노아세틸, 에틸아미노아세틸, 프로필아미노아세틸, 이소프로필아미노아세틸, 부틸아미노아세틸, 3차-부틸 아미노아세틸, 펜틸아미노아세틸, 헥실아미노아세 틸, 디메틸아미노아세틸, 디에틸아미노아세틸, 디프로필아미노아세틸, 디부틸아미노아세틸, 디펜틸아미노아세틸, 디헥실아미노아세틸, N-메틸-N-에틸-아미노아세틸, N-에틸-N-프로필아미노아세틸, N-에틸-N-부틸-아미노아세틸, N-메틸-N-헥실아미노아세틸, 3-메틸아미노-프로피오닐, 4-에틸아미노부티릴, 5-디에틸 아미노펜타노일, 6-헥실아미노헥사노일, 3-프로필아미노이소부티릴, 3-N-메틸-N-메틸-N-에틸아미노)프로피오닐 및 4-디펜틸아미노부티릴기 등이 있다.
"저급 알콕시기"라 함은 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 의미하며, 그 예로는, 메톡시,에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 3차-부톡시, 펜틸옥시 및 헥실옥시기등이 있다.
"치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기"라 함은 페닐 고리상에 치환기로서 1∼6탄소원자를 갖는 1∼3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 가질 수 있으며, 동시에 그의 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐-알킬기를 의미하는 것으로서, 그 예로는, 벤질,2-페닐에틸,1-페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, 1,1-디메틸-2-페닐에틸, 5-페닐펜틸, 6-페닐헥실, 2-메틸-3-페닐프로필, 2-(3-메톡시페닐)에틸, 1-(4-메톡시페닐)에틸, 2-메톡시벤질, 3-(2-에톡시페닐)프로필, 4-(3-에톡시페닐)부틸, 1,1-디메틸-2-(4-에톡시페닐)에틸, 5-(4-이소프로폭시페닐)펜틸, 6-(4-헥실옥시페닐)헥실, 3,4-디메톡시벤질, 3,4,5-트리메톡시벤질 및 2,5-디메톡시벤질기 등이 있다.
"시클로알킬기"라 함은 3∼8 탄소원자를 갖는 시클로 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 및 시클로옥틸기 등이 있다.
"피페리딘 고리상에 치환기로서 페닐-저급 알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐-저급 알카노일기"라 함은 피페리딘 고러상에 치환기로서 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기를 갓을 수도 있으며, 알카노일 부분이 2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 피페리디닐알카노일기를 의미하는 것으로서 그의 예로는, (1-피페리디닐)아세틸, 2-(1-피페리디닐)프로피오닐, 3-(1-피페리디닐)프로피오닐, 4-(1-피페리디닐)부티릴, 5-(1-피페리디닐) 펜타노일, 6-(1-피페리디닐)헥사노일, 2,2-디메틸-3-(1-피페리디닐)프로피오닐, 2-메틸-3-(1-피페리디닐)프리오닐, 4-벤질-1-피페리디닐-아세틸, 2-[4-(2-페닐에틸)-1-피페리디닐]프로피오닐, 1-[4-(1-페닐에틸)-1-피페리디닐]프로피오닐, 4-[3-(3-페닐프로필)-1-피페리디닐]부티릴, 5-[3-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-1-피페리디닐]펜타노일, 6-([2-(5-페닐펜틴)-1-피페리디닐]헥사노일, 2-2-디메틸-3-[4-(2-에틸-3-페닐프로필)-1-피페리디닐]프로피오닐 및 2-메틸-3-(4-벤질-1-피페리디닐)프로피오닐기 등이 있다.
"피롤리디닐-저급 알카노일기"라 함은 알카노일 부분이 2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 피롤리디닐 알카노일기를 의미하며, 그 예로는,(1-피롤리디닐) -아세틸, 2-(1-피롤리디닐)프로피오닐, 3-(1-피롤리디닐)-프로피오닐, 4-(1-피롤리디닐)부티릴, 5-(1-피롤리디닐)-펜타노일, 6-(1-피롤리디닐)헥사노일, 2,2-디메틸-3-(1-피롤리디닐)프로피오닐 및 2-메틸-3-(1-피롤리디닐)프로피오닐기 등이 있다.
"저급 알콕시카르브닐-저급 알킬기"라 함은 알콕시카르보닐 부분내에 1∼6 탄소원자를 갖고, 및 알킬부분은 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐알킬기를 의미하며, 그예로는, 이소프로폭시카르보닐펜틸, 1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐에틸, 2-메틸 -3차-부톡시카르보닐프로필, 2-펜딜옥시카르보닐에틸 및 헥실옥시카르보닐메틸기 등이 있다.
"페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질수도 있는 벤조일기"라 함은 페닐고리상에 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 가질수도 있는 벤조일기를 의미하며, 그 예로는, 벤조일, 2-메톡시벤조일, 3-메톡시벤조일, 4-메톡시벤조일, 2-메톡시벤조일, 3-에톡시벤조일, 4-에톡시벤조일, 4-이소프로폭시벤조일, 4-펜틸옥시벤조일, 4-헥실옥시벤조일, 3,4-디메톡시벤조일, 3,4-디메톡시벤조일, 2,5-디메톡시벤조일, 2,6-디메톡시벤조일 및 3,4,5-트리메톡시벤조일기 등이 있다.
R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 인접한 질소원자로 부터 형성된 "5- 또는 6-원 헤테로 시클릭기"라 함은 다른 질소원자 또는 산소원자를 가질 수도 있고 또는 갖지 않을 수도 있는 헤테로시클릭기를 의미하며, 그 예로는, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기 및 피롤리디닐기 등이 있다.
"상기 5- 또는 6-원 헤테로 시클릭기가 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있다"함은 헤테로시클릭기가치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼3 직쇄 또는 측쇄알킬기를 갖는 것을 의미하며, 그 예로는, 4-메틸-1-피페리디닐, 2-메틸-1-모르폴리노, 2-메틸 -1-피롤리디닐, 4 -에틸-1-피페라지닐, 3 - 프로필-1-모르폴리노, 4-이소프로필-1-피페리디닐, 3-부틸-1-피롤리디닐, 4-3차-부틸-1-피페라지닐, 4-펜틸-1-피페리디닐, 3- 헥실-1-모르폴리노, 3,4 - 디메틸-1-피페라지닐, 2,4-디메틸-1-피페라지닐 및 3,4,5-트리메딜-1-피페라지닐기 등이 있다.
R4및 R5뿐 아니라 그에 결합되어 있는 인접한 질소원자로 부터 형성된 5一∼9-원 헤테로시클릭기"라함은 헤테로시클릭기에 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자를 가질 수도 있고 또는 갖지 않을 수도 있음을 의미하며, 그 예로는, 피페라지닐기, 피페리디닐기, 모르폴리노기, 피롤리디닐기,1,4-디아자비시클로-[4,3,0]노닐기, 1,4-디아제피닐기, 1,4-옥사제피닐기, 1,4-티아제피닐기, 호모피페라지닐기, 티오모르폴리노기, 인돌리닐기 및 인돌릴기 등이 있다.
"5-∼9-원 헤테로시클릭기-페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있는페닐-저급 알킬기, 치환기로 1∼3 히드록시기, 저급 알콕시기, 할로겐 원자를 가질 수도 있는 C₁∼C10알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 티에닐-저급 알킬기, 시클로알킬-저급 알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 할로겐 원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급 알킬기, 피리틸-저급 알킬기, 저급 알질아미도기, 저급 알키닐기, 저급 알카노일-저급 알킬기, 페널-저급 알콕시카르브닐기, 일반식
Figure kpo00005
의 기((식중, R13및 R15는 각기 같거나 다르며, 각각 저급 알킬기, 페닐 고리상에 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 질소원자들은, 다른 질소원자 또는 산소원자 없이 또는 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ;상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로 저급 알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급 알킬렌기 또는 A'가 저급 알킬렌기, m이 0 또는 1인, 일반식
Figure kpo00006
의 기이다)), 및 페닐고리에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질수도 있는 벤조일기로 구성된 군에서 선택된 1∼3 치환기를 가질 수도 있는 상기 5-∼9-원 헤테로시클릭기"는 이하에 기재하는 기들로 구성된 군으로 부터 선택된 1∼3 치환기를 가질 수도 있다.
상기의 기들로는, 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼3 직쇄 또는측쇄 알콕시기를 갖을 수도 있으며 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기,치환기로서 1∼3 히드록시기,1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기 또는 할로겐 원자를 갖을 수도 있는 직쇄 또는 측쇄 C₁∼C10알킬기,2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐기, 알킬 부분이1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고 및 알콕시카르보닐 부분은 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐기인 알콕시카르보닐알킬기, 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 티에닐알킬기, 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 3∼8 탄소원자를 갖는 시클로알킬알킬기,3∼8 탄소원자를 갖는 시클로알킬기, 페닐 고리상에 치환기로 1∼3 할로겐 원자를 갖을 수도있고 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 벤조일알킬기, 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 피리딜알킬기, 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 알킬아미도기,2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알키닐기, 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄또는 측쇄 알킬기인 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일알킬기, 알콕시카르보닐기가 1∼6 탄소 R13원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐기인 페닐알콕시카르보닐기, 일반식-
Figure kpo00007
의 기((식중, R13및 R14는 각기 같거나 다르며, 각각 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기, 페닐 고리상에 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼3 알킬기를 갖는 페닐알킬기이고 ; 또는R13및 R14뿐 아니라 그에 결합되어 있는 질소는, 다른 질소원자 또는 산소원자 없이 또는 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 헤테로시클릭기는 헤테로시클릭기에 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄알킬기를 갖을 수도 있고; A는 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기, 또는 A'가 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기인 일반식
Figure kpo00008
의 기이며 ; m은 기이며 ; m은 0 또는 1이다.))및 페닐 고리에 치환기로 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼3 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 갖을 수도 있는 벤조일기, 예를 4-히드록시-1-피페라저닐, 6-페닐-1-인돌릴, 4-페닐-1-호모피페라지닐, 3-페닐티오모르폴리노, 4-히드록시-1-피페리디닐, 2-히드록시-1- 모르폴리노, 3 히드록시 -1- 피롤리디닐, 5 - 히드록시-1-인돌릴, 4-히드록시-1-호모피페라지닐, 3-히드록시티오모르폴리노, 4-벤질-1-피페라지닐, 4-벤질-1-피페리디닐, 3-벤질-1-모르폴리노, 2-벤질-1-피롤리디닐-4-(1-페닐에틸)-1-피페라지닐, 5-(3,4,5-트리메톡시벤질)-1-인돌릴, 4-[6-(3,4-디메톡시페닐)헥실-1-피페라지닐, 4-[2-(3, 4-디메톡시페닐)에틸-1-피페라지닐, 4-벤질-1-호모피페라지닐, 3-벤질티오모르폴리노, 6-벤질-1-인돌릴, 4-[3-(3-에톡시페닐)프로필]-1-호모피페라지닐, 2-[4-(4-프로폭시페닐)부틸]티오모르플리노, 4-(2-페닐에틸)-1-피페리디닐, 2-(3-페닐프로필)-1-모르폴리노, 3-(4-페닐부틸)-피롤리디닐, 4-(5-페닐펜틸)-1-피페라지닐, 4-(6-페닐헥실)-1-피페리디닐, 4-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-1-피페리디닐, 4-(2-메틸-3-페닐프로필)-1-피페라지닐, 2-메틸티오모르폴리노, 4-메틸-1-호모피페라지닐, 4-메틸-1-피페라지닐, 5,6-디에틸-1-인돌릴, 3,4-디메틸-1-피페라지닐, 2,4-디메틸-1-피페라지닐, 4-메틸-1-피페라지닐, 2,4,5-트리메틸-1-피페라지닐, 3-메틸-1,4-디아자비시클로[4,3,0]-4-노닐, 2-메틸-1-모르폴리노, 2-메틸-1-피롤리디닐, 4-에틸-1-피페라지닐, 3 -프로필-1-모르폴리노, 4-이소프로필-1-피페리디닐, 3-부틸-1-피롤리디닐, 4-3차- 부틸-1-피페라지닐, 4-펜틸-1-피페리디닐, 3-헥실-1-모르폴리노, 4-헵틸-1-피페라지닐, 4-옥틸-1-피페라지닐, 4-노닐-1-피페라지닐, 4-데실-1-피페라지닐, 3-비닐피롤리디닐, 2-알릴피롤리디닐, 4-(2-부테닐)-1-피페리디닐, 4-(1-메틸알릴)-1-피페라지닐, 3-(2-펜테닐)-1-모르폴리노, 3-(2-헥세닐 )피롤리디닐, 4-알릴-1-피페리디닐, 4-알릴-1-피페라지닐, 4-(2-헥세닐)-1-피페라지닐, 3-메톡시-카르보닐메틸피롤리디닐, 2-(3-메톡시카르보닐프로필)-피롤리디닐, 4-(4-에톡시카르보닐부틸)-1-피페리디닐, 4-(6-프로폭시카르보닐헥실)-1-피페라지닐, 3-(5-이소프로폭시카르보펜틸)-1-모르폴리노, 4-(1,1-디메틸-2-부톡시카르보닐프로필)-1-피페라지닐, 4-(2-메틸-3-3차-부톡시-카르보닐프로필)-1-피페라지닐, 4-(2-펜틸옥시카르보닐에틸)-1-피페리디닐, 4 -헥실옥시카르보닐메틸-1-피페라지닐, 4-에톡시카르보닐메틸-1-피페라지닐, 4-벤조일-1-피페리디닐, 3-(4-메톡시벤조일)-1-모르폴리노, 2-(3-에톡시벤조일)-1-피롤리디닐, 4-(4-이소프로폭시벤조일)-1-피페라지닐, 4-(4-펜틸옥시벤조일)-1-피페리디닐, 2-(4-헥실옥시벤조일)-1-모르폴리노, 4-(3,4-디메톡시벤조일)-1-피페라지닐, 4-(3,4-디에톡시벤조일)-1-피페리디닐, 3-(2,5-디메톡시벤조일)-1-모르폴리노, 3-(2,6-디메톡시벤조일)-1-피롤리디닐, 4-(3,4,5-트리메톡시벤조일)-1-피페라지닐, 3-메틸-4-(3,4-디메톡시벤조일)-1-피페라지닐, 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐, 3-메틸-4-(2- 히드록시에틸)-1-피페라지닐, 4-(2-메틸-3-히드록시프로필)-1-피페리디닐, 3-(1-히드록시에틸)모르폴리노, 3-(3-히드록시프로필-1-피롤리디닐, 4-(4-히드록시부틸)-1-호모피페라지닐, 3-(5-히드록시펜틸-티오모르폴리노, 6-(6-히드록시헥실)-1-인돌리닐, 4-(2,2,2-트리플루오로메틸)-1-피페라지닐, 4-요오도메틸-1-피페리디닐, 3-트리플루오로메틸모르폴리노, 2-(1,1-디클로로에틸)-1-피롤리디닐, 4-트리브로모에틸-1-호모피페라지닐, 3-(3-클로로-2-메틸에틸)티오모르폴리노, 4-(1-시클로부틸에틸)-1-피페리디닐, 3-(3-시클로펜틸프로필)모로폴리노, 3-(4-시클로헥실부틸)피롤리니닐, 4-(5-시클로헵틸)-1-호모피페라지닐, 2-(6-시클로옥틸헥실)티오모르폴리노, 4-시클로헥실 -1-피페라지닐, 4-시클로프로필-1-피페리디닐, 2-시클로부틸모르폴리노, 3-시클로펜틸-1-피롤리디닐, 4-시클로헵틸-1-호모피페라지닐, 3-시클로옥틸오모르폴리노, 4-시클로헥실-1-인돌리닐, 4-[3-(4-플루오로벤조일)프로필]-1-피페라지닐, 4-벤조일메틸-1-피페리디닐, 3-[2-(3-브로모벤조일)에틸]모르폴리노, 3-[4-(2,3-디클로로벤조일)부틸]-1-피롤리디닐, 4-[5-(3,4-디플루오로벤조일)펜틸-1-호모피페라지닐, 3-[6-(2,4,6-트리클로로벤조일)헥실]티오모르폴리노, 4-[3-(4-피리딜)프로필]-1-피페라지닐, 4-(2-피리딜)메틸-1-피페라지닐, 2-[2-(3-피리딜)에틸]모르폴리노, 3-[4-(2-피리딜)부틸]티오모르폴리노, 4-[5-(4-피리딜)펜틸]-1-호모피페라지닐, 7-[6-(2-피리딜)헥실]-1-인돌릴, 2-디에틸아미도-1-피롤리디닐, 4-메틸아미도-1-피페라지닐, 4-이소프로필아미도-1-피페리디닐, 2-디부틸아미도모르폴리노, 4-디펜틸아미도-1-호모피페라지닐, 3-헥실아미도-1-티오모르폴리노, 4-(2-프로피닐)-1-피페라지닐, 4-(2-부티닐)-1-피페리디닐, 3-(3-부티닐)모르폴리노, 2-(1-메틸-2-프로피닐)-1-피롤리디닐, 4-(2-펜티닐)-1-호모피페라지닐, 3-(2-헥시닐)티오모르폴리노, 4-에티닐-1-인돌리닐, 4-아세틸메틸-1-피페라지닐, 4-(1-프로피오닐에틸)-1-피페리디닐, 2-(3-부티릴프로필)모르폴리노, 2-(5-헥사노일펜틸)-1-피롤리디닐, 4-(6-아세틸헥실)-1-호모피페라지닐, 3- (2-아세틸메틸)티오모르폴리노, 4-아세틸메틸-1-인돌릴, 4-페닐에톡시카르보닐-1-호모피페라지닐, 4-(2-페닐에톡시카르보닐)-1-피페라지닐, 3-(3-페닐프로폭시카르보닐)-모르폴리노, 2-(4-페닐부톡시카르보닐)-1-피롤리디닐, 3-(5-페닐펜틸옥시카르보닐)티오모르폴리노, 5-(3-페닐프로폭시카르보닐)-1-인돌리닐, 3-(6-페닐헥실옥시카르보닐)-1-피페리디닐, 2-(디에틸아미노메틸)-1-피롤리디닐, 2-(모르폴리노메틸)-1-피롤리디닐, 2-[(4-메틸-1-피페라지닐)메틸]-1-피롤리디닐, 4-(피롤리디닐카르보닐메틸)-1-피페라지닐, 4-[2-(1-피롤리디닐)에틸]-1-피페라지닐, 4-(모르폴리카르보닐메틸)-1-피페라지닐, 4-(2-모르폴리노카르보닐에틸)-1-피페라지닐, 3-모프롤리노-1-피롤리디닐, 2-{N-[2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]-N-메틸아미노에틸}-1-피롤리디닐, 3-(1-피롤리디닐)-1-피롤리디닐, 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-1-피롤리디닐, 4-(1-피롤리디닐) -1-피페리디닐, 3-[2-{N-[3-(4-에톡시페닐)프로필]-N-에틸아미노}에틸]모르폴리노, 4-(3-모르폴리노프로필)-1-호모피페라지닐, 3-[3-(1-피롤리디닐)카르보닐프로필]-티로모르폴리노, 4-(1-피페리디닐)-1-인돌리닐, 3-메틸-1-이미다졸릴, 3-에틸-1-이미다졸릴, 4-프로필-1-이미다졸릴, 4-부틸-1-이미다졸릴, 3-펜틸-1-이미다졸릴, 4-헥실-1-이미다졸릴, 2-디에틸아미노메틸-1-이미다졸릴, 2-(2-디메틸아미노에틸)-1-이미다졸릴, 4-(3-프로필아미노프로필)-1-이미다졸릴, 4-(4-n-부틸아미노부틸)-1-이미다졸릴, 2-(5-펜틸아미노펜틴)-1-이미다졸릴, 4-(6-헥실아미노헥실)-1-이미다졸릴, 4-(1-에톡시에틸)-1-피페라지닐, 2-(2-메톡시에틸)-1-이미다졸릴, 4-(2-메톡시프로필)-1-피페라지닐, 4-(에톡시메틸)-1-피페라지닐, 4-(1-에톡시에틸)-1-피페리디닐, 3- (4-부톡시부틸)모르폴리노, 3-(5-헥실옥시펜틸)-1-피롤리디닐, 4-아미노-1-피페리디닐, 4-메틸아미노-1-피페리디닐, 4-(N-벤질-N-에틸아미노)-1-피페리디닐, 4-벤질아미노-1-피페리디닐, 3-아미노-1-피롤리디닐, 3-아미노-1-피페리지닐, 2-아미노모르폴리노, 2-에틸아미노-1-피페라지닐, 3-디에틸아미노모르폴리노, 4-프로필아미노- 1- 피페리디닐, 3-디부틸아미노-1-피페리디닐, 4-펜틸아미노-1-피페리디닐 및 2-디헥실아미노-1-피페리디닐기 등이 있다.
"테트라히드로푸릴-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 테트라히드로푸릴알킬기를 의 미 하며, 그 예로는 (2-테트라히드로푸릴)메틸, 2-(3-테트라히드로푸릴)에틸, 1-(2-테트라히드로푸릴)에틸, 3-(3-테트라히드로푸릴)프로필, 4-(2-테트라히드로푸릴)부틸, 1,1-디메틸-2-(2-테트라히드로푸릴)에틸, 5-(3-테트라히드로푸릴)펜틸, 6-(2-테트라히드로푸릴)헥실 및 2-메틸-3-(2-데트라히드로푸릴)프로필기 등이 있다.
"페닐-저급 알콕시기"라 함은 알콕시부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기인 페닐알콕시기를 의미하며, 그 예로는, 벤질옥시 2-페닐에톡시,1-페닐에톡시,3-페닐프로폭시,4-페닐부톡시,1,1-디메틸-2-페닐애톡시,5-페닐펜틸옥시,6-페닐헥시옥시 및 2-에틸-3-페닐프로폭시기 등이 있다.
"티에닐-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 티에닐알킬기를 의미하며, 그 예로는 (2-티에닐)메틸, 2-(3-티에닐)에틸, 1-(2-티에닐)에틸, 3-(2-티에닐)프로필, 4-(3-티에닐)부틸, 1,1-디메틸-2-(2-티에닐)에틸, 5-(3-티에닐)펜틸, 6-(2-티에닐)헥실 및 2-메틸-3-(3-티에닐)프로필기 등이 있다.
"시클로알킬-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이며, 및 3∼8 탄소원자를 갖는 시클로알킬알킬기를 의미 하는데, 그 예로는, 시클로프로필메틸, 시클로부틸메틸, 시클로펜틸메틸, 시클로헥실메틸, 시클로헵틸메틸, 시클로옥틸메틸, 2 - 시클로프로필에틸, 1- 시클로프로필에틸,3-시클로펜틸프로필,4-시클로헥실부틸,5-시클로헵틸펜틸,6-시클로옥틸헥실,2-메틸-3-시클로헥실프로필,2-시클로헥실에틸 및 1-시클로헥실에틸기 등이 있다.
"페닐 고리상에 할로겐 원자를 가질수도 있는 벤조일-저급 알킬기"라 함은 페닐 고리상에 1∼3 할로겐원자를 가질수도 있으며, 및 상기 상기 기 내의 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 즉쇄 또는 측쇄 알킬기인 벤조일알킬기를 의미하는데, 그 예로는, 벤조일메틸, 2-벤조일에틸, 1-벤조일에틸, 3-벤조일프로필, 4-벤조일프로필, 1,1-디메틸-2-벤조일에틸, 5-벤조일펜틸, 1-(4-클로로벤조일)에틸, 3-(4-플루오로벤조일)프로필, 4-(2,3-디클로로벤조일)부틸, 1,1-디메틸-2-(2,4-디브로모벤조일에틸, 5-(3,4-디플루오로벤조일)펜틸, 6-(2,4,6-트리클로로벤조일)헥실 및 2-메틸-3-(2-플루오로벤조일)프로필기 등이 있다.
"피리딜-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 피리딜알킬기를 의미하며, 그 및 (2-피리딜)메틸, 2-(3-피리딜)에틸, 1-(4-피리딜)에틸, 3-(4-피리딜)프로필, 4-(2-피리딜)부틸, 1,1-디메틸-2-(3-피리딜)에틸, 5-(4-피리딜)펜틸, 6-(2-피리딜)헥실 및 2-메틸-3-(3-피리딜)프로필기 등이 있다.
"저급 알킬아미도기"라 함은 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기로 치환되어 있는 아미도기를 의미하며, 그 예로는, 메틸아미도, 에틸아미도, 프로필아미도, 이소프로필아미도, 부틸아미도, 3차-부틸아미도, 펜틸아미도, 헥실아미도, 디메틸아미도, 디에틸아미도, 디프로필아미도, 디부틸아미도, 디펜틸아미도, 디헥실아미도, N -메틸-N-에틸아미도, N-에틸-N-프로필아미도, N-메틸-N-부틸아미도 및 N-메틸-N-헥실아미도기 등이 있다.
"저급 알카노일-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기이고 알카노일 부분은 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 알카노일 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 포르밀메틸, 2-아세틸에틸, 1-프로피오닐에틸, 3-부티릴프로필아세틸메틸, 4-이소부티릴부틸, 1,1-디메틸-2-펜타노일에틸, 5-헥사노일펜틸, 6-아세틸헥실 및 2-메틸-3-프로피오닐프로필기 등이 있다.
"페닐-저급 알콕시카르보닐기"라 함은 알콕시카르보닐부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시카르보닐기인 페닐알콕시카르보닐기를 의미하며, 그 예로는, 페닐메톡시카르보닐, 2-페닐에톡시카르보닐, 1-페닐에톡시카르보닐, 3-페닐프로폭시카르보닐, 1-페닐에톡시카르보닐, 4-페닐부톡시카르보닐, 1, 1-디메틸-2-페닐에톡시카르보닐, 3-페닐프로폭시카르보닐, 5-페닐펜틸옥시카르보닐, 6-페닐헥실옥시카르보닐 및 2-메틸-3-페닐프로폭시카르보닐기등이 있다.
"저급 알킬렌기"라 함은 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 의미하며, 그 예로는, 메틸렌, 에틸렌, 트리메틸렌, 2-메틸트리메틸렌, 2,2-디메틸트리에틸렌, 1-메틸트리메틸렌, 메틸메틸렌, 에틸메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌 및 헥사메틸렌기 등이 있다.
"치환기로서 1∼3 히드록시, 저급 알콕시기 또는 할로겐 원자를 가질 수도 있는 C₁∼C10알킬기"라 함은 치환기로서 1~3 히드록시기, 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기 또는 할로겐 원자를 갖을 수도 있으며, 및 1∼10 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 3차-부틸, 펜틸, 헥실, 헴틸, 옥틸, 노닐, 데실, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 1,1-디메틸-2-히드록시에틸, 5-히드록시노닐, 6-히드록시헥실, 2-메틸-3-히드록시프로필, 7-히드록시헵틸, 8-히드록시옥틸, 7-히드록시노닐, 6-히드록시데실, 요오도메틸, 트리플루오로메틸, 2,2- 디플루오로에틸, 1,1- 디 클로로에틸, 트리클로로에틸, 디클로로메틸, 트리브로모메틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 1-플루오로에틸, 1,2-디클로로에틸, 3,3,3-트리클로로프로필, 3-플루오로프로필, 4-클로로부틸, 3-클로로-2-메틸에틸, 4-클로로헴 틸, 8-클로로옥틸, 6-브로모노닐, 7-플루오로데실, 메톡시메 및 7-메톡시데실기 등이 있다.
"치환기로서 1∼3 할로겐 원자를 갖을 수도 있는 저급 알킬기"라 함은 치환기로서 1∼3 할로겐 원자를 갖을 수도 있으며, 및 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 상술한 저급 알킬기 이외에, 요오도메틸, 트리플루오로메틸, 2,2-디플루오로에틸, 1,1-디클로로에틸, 트리클로로메틸, 디클로로메틸, 트리브로모메 틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 2-플루오로에틸, 1,2-디클로로에틸, 3,3,3-트리클로로프로필, 3-플루오로프로필, 4-클로로부틸 및 3-클로로-2-메틸에틸기등이 있다.
"저급 알케닐옥시기"라 함은 2∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알케닐옥시기를 의미하며, 그 예로는, 비닐옥시, 알릴옥시, 2-부테닐옥시, 3-부테닐옥시, 1-메틸알릴옥시, 2-펜테닐옥시 및 2-헥세닐옥시기등이 있다.
"저급 알카노일-저급 알콕시기"라 함은 알콕시부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기이며 알카노일부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알카노일기인 직쇄 또는 측쇄 알카노일알콕시기를 의미하는데, 그 예로는, 메틸아미노카르보닐메톡시, 에틸아미노카르보닐메톡시, 프로필아미노카르보닐메톡시, 이소프로필아미노카르보닐메톡시, 부틸아미노카르보닐메톡시, 3차 -부틸아미노카르보닐메톡시, 펜틸아미노카르보닐메톡시, 헥실아미노카르보닐메톡시, 디메틸아미노카르보닐메톡시, 디에틸아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-에틸아미노카르보닐메톡시, N-에틸-N-프로필아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-부틸아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-헥실아미노카르보닐메톡시포르밀메톡시,2-아세틸에톡시,1-프로피오닐에톡시,3-부티릴프로폭시, 아세틸메톡시, 4 - 이소부티릴부톡시, 1,1- 디메틸 - 2 - 펜타노일에톡시, 5 - 헥사노일펜틸윽시, 6 - 아세틸헥실옥시 및 2-메틸-3-프로피오닐프로폭시기 등이 있다.
"저급 알킬아미노카르보닐-저급 알콕시기"라 함은 1∼6 탄소원자를 가지며, 치환기로서 1∼6 탄소원자를갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알콕시기를 의미하며, 그 예로는, 메틸아미노카르보닐메톡시, 에틸아미노카르보닐메톡시, 프로필아미노카르보닐메톡시, 이소프로필아미노카르보닐메톡시, 부틸아미노카르보닐메톡시, 3차-부틸아미노카르보닐메톡시, 펜틸아미노카르보녈메톡시, 헥실아미노카르보닐메톡시, 디메틸아미노카르보닐메톡시, 디에틸아미노카르보닐메톡시, 디프로필아미노카르보닐메톡시, 디부딜아미노카르보닐메톡시, 디펜틸아미노카르보닐메톡시, 디헥실아미노카르보닐메톡시, N -메틸 -N -에틸아미노카르보닐메톡시, N-에틸-N-프로필아미노카르보녈메톡시, N-메틸-N-부틸아미노카르보닐메톡시, N-메틸-N-헥실아미노카르보닐메톡시, 2-메틸아미노카르보닐에톡시, 1-에틸아미노카르브닐메톡시, 3-프로필아미노카르보닐프로폭시, 4-부틸아미노카르보닐부톡시, 1,1-디메틸-2-펜틸아미노카르보닐에톡시, 5-헥실아미노카르브닐펜틸옥시, 6-디메틸아미노카르보닐헥실옥시, 2-디에틸아미노카르브닐에톡시, 1-(N-메틸-N-헥실아미노) 카르보닐에톡시, 3-디헥실아미노카르보닐아미노프로폭시, 4-디부틸아미노카르보녈부톡시 및 2-(N-메틸-N-펜딜아미노)카르브닐에톡시기 등이 있다.
"페닐 고리상에 치환기로서 저급 알킬기를 갖을 수도 있는 페녹시-저급 알킬기"라 함은 페닐 고리상에 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼ 3 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갓을 수도 있으며, 및 알킬부분이 1∼6탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페녹시알킬기를 의미하며, 그 예로는, 헥실, 2-메틸-3-페녹시프로필, 2-(3-메틸페녹시) 에틸, 3-(2-에틸페녹시)프로필, 4-(3-에틸페녹시)부딜, 1,1-디에틸-2-(4-에틸페녹시)에틸, 5-(4-이소프로필페녹시)펜틸, 6-(4-헥실페녹시)헥실, 3,4-디메틸페녹시메틸, 3,4,5-트리메틸페녹시메틸 및 2,5-디메틸페녹시메틸기 등이 있다.
"모르폴린 고리상에 치환기로서 페닐-저급 알킬기를 갖을 수도 있는 모르폴리노-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기를 모르폴린 고리상에 치환기로 갓을 수도 있는 모르폴리노알킬기를 의미하며, 그 예로는, 모르폴리노메틸, 2-모르폴리노에틸, 1-(3-모르폴리노) 에틸, 3-(2-모르폴러노) 프로필,4-모르폴리노부틸, 5-(2-모르폴리노) 펜틸, 6-(3-모르폴리노)헥실, 2,2-디메틸-3-모르폴리노프로필,2-메필-3-모르폴리노프로필, (1-벤질-3-모르폴리노)메틸, 2-[1-(2-페닐에틸)-2-모르폴리노]에딜, 1-[2-(1-페닐에틸)모르폴리노]에틸, 4-[3-(3-페닐프로필)모르폴리노]-부틸, 5-[1-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-2-모르폴리노]펜딜, 6-1-(5-페닐펜틸)-3-모르폴리노 헥실, 2,2-디메틸-3-[1-(2-메틸-3-페닐프로필)-3-모르폴리노]프로필 및 2-메틸-3-(1-벤질-3-모르폴리노)프로필기 등이 있다.
"피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 갖을 수도 있는 피페리디닐기"라 함은 알킬 부분이1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 페닐알킬기를 피페리딘 고리상에 치환기로 갖을 수도 있는피페리디닐기를의미하며, 그예로는, 1-벤질-4-피페리디닐, 1-(2-페닐에틸)-4-피페리디닐, 1-(1-페닐에틸)-4-피페리디닐, 3-(3-페닐프로필)-1-피페리디닐, 2-(1,1-디메틸-2-페닐에틸)-1-피페리디닐, 4-(5-페닐펜틸)-1-피페리디닐, 1-(2-메틸-3-페닐프로필)-2-피페리디닐, 1-(6-페닐펜틸)-3-피페리디닐, 1-벤질-2-피페리디닐, 1-(2-페닐에틸)-2-피페리디닐, 1-(1-페닐에틸)-2-및 3-메틸-2-(6-페닐헥실)-2-피페리디닐기 등이 있다.
"카르복시-저급 알킬기"라 함은 알킬 부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 카르복시알킬기를 의미하며, 그 예로는, 카르복시메틸, 2-카르복시에틸, 1-카르복시에틸, 3-카르복시프로필, 4-카르복시부틸, 1,1-디메틸-2-카르복시에틸, 5-카르복시펜틸, 6-카르복시헥실 및 2-메틸-3-카르복시프로필기 등이 있다.
"페닐-저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기"라 함은 알킬 또는 알콕시부분이 를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬또는알콕시기인 페닐알콕시카르보닐알킬기를의미하머, 그예로는, 카르보닐)프로필, 4-(4-페닐부톡시 카르보닐) 부틸, 1,1-디메틸 -2-(2-페닐에톡시 카르보닐)에틸, 5-(5-페닐펜틸옥시 카르브닐) 페닐, 6-(6-페닐헥실옥시카르보닐)헥실 및 2-메틸-3-(3-페닐프로폭시카르브닐)프로필기 등이 있다.
"치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급 알킬기"라 함은 치환기로로 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖을 수도 있는 아미도기를, 치환기로 갖을 수도 있으며,1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 의미하며, 그 예로는, 아미도메틸, 메틸아미도메틸, 2-에틸아미도에틸, 1-프로필아미도에틸, 3-이소프로필아미도프로필, 4-부틸아미도부틸, 1,1-디메틸-2-3차-부틸아미도에틸, 5-펜틸아미도펜틸, 6-헥실아미도헥실, 2-디에틸아미도에틸, 디에딜아미도메틸,1-디프로필아미 등이 있다.
"5- 또는 6- 원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급 알킬기"라 함은 알킬부분이 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 5- 또는 6- 원 포화 헤테로시클력기-치환된 카르브닐알킬기를 의미하며, 그 예로는 (1-피롤리디닐카르보닐)메틸, 2-(1-페피리디닐카르보닐)에틸, 1-(1-피페라지닐카르보닐)에틸, 3-모르폴리노카르보닐프로필, 4-티오모르폴리노카르보닐부틸, 1,1-디메틸-2-(1-피롤리디닐카르보닐)에틸, 5-(1-피페리디닐카르보닐)펜틸, 6-모르폴리노카르보닐펜틸 및 2-메틸-3-티오모르폴리노카르보닐프로필기 등이 있다.
"피페리딘 고리상에 치환기로서 저급 알킬기를 갖을 수도 있는 피페리디닐기"라 함은 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖을 수도 있는 페피리디닐기를 의미하며, 그 예로는, 페피리디닐, 1-메틸-2-피페리디닐, 1-에틸-2-피페리디닐, 1-프로필-2-피페리디닐, 4-부틸-1-피페리디닐, 4-펜틸-1-피페리디닐, 2-헥실-3-피페리디닐 및 3-메틸-2-피페리디닐기등이있다.
"치환기로서 저급 알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기를 치환기로 갓을 수도 있는 퀴누클리디닐기"라 함은 치환기로서 1∼6 탄소원자를 갖는 1∼2 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기를, 치환기로 갖을 수도 있는 퀴누클리디닐기를 의미하며, 그 예로는, 퀴누클리디닐, 3-아미노-1-퀴누클리디닐, 3-메틸아미노-1-퀴누클리디닐, 3-에틸아미노-1-퀴누클리디닐, 2-프로필아미노-1-퀴누클리디닐, 2-부틸아미노-1-퀴누클리디닐, 3-부틸아미노-1-퀴누클리디닐, 2-(1,1-디메틸-2-3차-부틸아미노)-1-퀴누클리디닐, 3-(5-펜틸아미노)-1-퀴누클리디닐, 2-(6-헥실아미노)-1- 퀴누클리디닐, 3-디메틸아미노-1-퀴누클리디닐, 2-디에틸아미노-1-퀴누클리디닐, 3-디프필아미노-1-퀴누클리디닐, 2-디헥실아미노-1-퀴누클리디닐 및 3-(N-메틸-N-에틸아미노)-1-퀴누클리디닐기 등이 있다.
일반식(1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체는 및가지 공지화합물을 포함하고 있으며, 각종 방법에 의해 제조필 수 있다. 제조 방법의 예는 다음과 같다.
[반응공정식-1]
Figure kpo00009
(식중, R², R³, n 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R(및 R)은 각각 저급 알킬기이다.)
일반식(2)의 화합물의 고리화 반응은 예를 들면 촉매적환원 촉매를 사용하여 적당한 용매중에서 환원시키는 방법-(i) 또는 금속 또는 금속염과 산과의 혼합물 또는 금속 또는 금속염과 알칼리금속 수산화물, 설파이드, 암모늄염 등과의 혼합물을 사용하여 비활성용매 중에서 환원시키는 방법-(ii)에 의해 수행될 수있다.
상술한 방법-(i)을 수행하는데 있어서, 이 환원에 사용원 용매의 예로는 물, 아세트산, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올, 헥산, 시클로헥산 등과 같은 탄화수소, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디옥산, 데트라히드로푸란, 디에틸에테르 등과 같은 에테르, 에틸아세테이트, 메틸아세테이트 등과 같은 에테르, 에틸아세테이트, 메틸아세테이트 등과 같은 에스테르, N,N-디메틸포름아미드 등과 같은 비양자성 극성 용매가 있다. 이 반응에 사용된 촉매적환원 촉매의 예로는 팔라듐, 팔라듐 블택, 팔라듐-탄소, 백금,산화백금, 크롬산구리, 라니니킬 등이 있다. 이 반응에 사용된 촉매의 양은 일반식(2)의 화합물 1중량부에 대해 0.02∼동 중량부일 수 있다. 반응은 일반적으로 약 50∼150℃, 바람직하게는 약 50∼100℃ 및 1∼10수소 대기압에서 약 0.5∼10시간에 완성된다.
상술한 방법-(ii)를 수행하는 경우, 철, 아연, 주석 또는 염화제 1주석과 염산 또는 황산과 같은 무기산의 혼합물, 철, 황산 제1철, 아연 또는 주석과 알칼리금속 수산화물의 혼합물, 황화암모늄 등과 같은 황화물과 수성암모니아와의 혼합물, 또는 황화암모늄과 같은 황화물과 염화암모늄과 같은 암모늄염의 혼합물이 사용필 수 있다. 이 반응에 사용된 용매의 예로는 물, 아세트산, 메탄올, 에탄올, 디옥산 등이 있다. 방법-(ii)의 반응조건은 환원제의 종류에 따라 적당히 선택될 수 있마. 예를 들어, 염화제1주석과 염산의혼합물을 사용하는 경우, 반응은 바람직하게는 약 0∼150℃에서 0.5∼10시간동안 수행될 수 있다.
환원제의 양은 일반식(2)의 화합물의 몰당 동몰량 내지 5배 몰량으로 사용된다.
일반식(1a)의 화합물에 일반식(3)의 화합물을 도입하는 반응은 적당한 용매 존재 또는 부재하 및 산 존재하에 수행될 수 있다. 이 반응에 사용되는 산으로는 염산, 브롬산 및 황산 등과 같은 무기산, p-톨루엔술폰산 등과 같은 유기산이 예시필 수 있다. 이 반응에 사용되는 산의 양은 일반적으로는 동몰량 이상이며, 바람직하게는 일반식(3)의 화합물의 몰량에 대해 과량의 산을 사용할 수 있다. 이 반응에 사용되는 용매로는, 예를 들면 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 테트라히드로나프탈렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸에테르, 디옥산, 데트라히드로푸란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등과 같은 에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등과 같은 극성용매가 있다. 반응은 일반적으로 약 실온∼200℃, 바람직하게는 약 실온∼150℃에서 약 1∼10시간에 수행될 수 있다.
[반응공정식-2]
Figure kpo00010
(식중, R¹, R², R³, n 및 카르브스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와같다.)
일반식(4)의 화합물의 고리화반응은 적당한 용매중에서 적당한 염기성 화합물 존재하에 수행필 수 있다.이 반응에 사용된 염기성 화합물로는 예를 들면 탄산칼륨, 탄산나트륨, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 수산화나트륨, 탄산수소나트릅, 소듐금속, 포타슘금속, 소듐아미드, 수소화나트륨 등과 같은 무기염기성물질,소듐에틸레이트, 소듐메틸레이트 등과 같은 알클레이트, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 피롤리딘, 피페리딘, 피리딘 등과 같은 유기염기성 화합물이 있다. 이 반응에 사용원 염기성 물질의 양은 일반적으로 동몰량이상, 바람직하게는 1∼2배 몰량의 염기성 물질이 일반식(4)의 화합물의 몰량에 대해 사용필 수 있다. 이반응에 사용된 용매로는 예를 들면 벤젠, 롤루엔, 크실렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올을 등과 같은 알클, 디에틸에테르, 디옥산, 데트라히드로푸란, 에틸렌글리코디에틸에테르 등과 같은 에테르, N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드, 아세트산무수물 등과 같은 극성용매가 있다. 상술한 반응은 일반적으로 약 실온∼150℃, 바람직하게는 약 실온∼100℃에서 일반적으로 약 1∼10시간에 완성된다.
[반응공정식-3]
Figure kpo00011
(식중, R¹, R², n 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R8은 페닐-저급 알카노일기, 치환기로 할로겐원자 또는 저급 알킬아미노기를 갖을 수 있는 저급알카노일기, 피페리딘고리상에 치환기로 페닐-저급 알킬기를 갓을 수 있는 피페리디닐-저급 알카노일기,또는 피롤리디닐-저급 알카노일기이며; X'는 히드록시기이고; R10는 수소원자, 치환기로 히드록시기 또는 저급 알킬기를 갖을 수 있는 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기, 페닐기, 저급알케닐기, 시클로알킬기, 이미다졸릴기, 치환기로 저급알킬기를 갖을 수 있는 페녹시-저급알킬기, 모르폴린 고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 모르폴리노-저급알킬기,또는 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 피레리디닐기이다.)
일반식(1c)의 화합물과 일반식(5)의 화합물의 반응은 통상의 아미도-결합형성반응의 반응 조건하, 예를들면 (a) 혼합산무수물방법 ; 카르복실산(5)를 알킬할로카르복실산과 반응시켜 상응하는 혼합산 무수물을 형성하고, 혼합산 무수물을 아민(1c)와 반응시키는 방법; (b) 활성에스테르 방법 : 카르복실산(5)를 p-니트로페닐에스테르, N-히드록시숙신이미드 에스테르, 1-히드록시벤조트리아졸에스테르 등과 같은 그의 상응하는 활성에스테르로 전환시키고 이 활성에스테르카르복실산을 아민(1c)와 반응시키는 방법 : (c) 카르보디이미드 방법 : 카르복실산(5)를 디시클로헥실 카르보디이미드, 카르브닐디이미다졸 등과 같은 활성화제 존재하에 아민(1c)와 축합시키는 방법 ; (d) 기타 방법 ; 카르복실산(5)을 아세트산 무수물과 같은 탈수제와반응시켜 상응하는 카르복실산 무수물을 제조하고, 이 카르복실산 무수물을 아민(1c)와 반응시키는 방법 ; (e) 카르복실산(5)를 저급알코올과 반응시킴으로써 제조된 에스테르를 고압 및 고온하에 아민(1c)과 반응시키는 방법 ; (f) 카르복실산(5)의 산할라이드, 즉 카르복실산 할라이드를 아민(1c)와 반응시키는 방법에 의해 수행될 수 있다.
(a)혼합산 무수물 방법에 사용된 혼합산 무수물은 통상의 쇼텐-바우단 반응에 의해 수득필 수 있으며,일반적으로 혼합산 무수물을 반응계에서 분리하지 않고 아민(1c)과 반옹시켜 일반식(1d)의 화합물을 제조한다. 쇼텐-바우단 반응은 염기성 화합물 존재하에 수행된다. 염기성 화합물로는 쇼텐-바우단 반응에 사용된 염기성 화합물, 예를들면 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디에틸아닐린, N-메틸모르폴린,1,5-디아자비시클로[4,3,0]는-5(DBN),1,8-디아자비시클로[5,4,0]은 데센-가DBU),1,4-디아자비시클로[2,2,2] 옥탄(DABC0)등과 같은 유기 염기성 화합물 및 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨 등과 같은 무기염기성 화합물이 사용필 수 있다. 이 반응은 일반적으로 약 -20∼100C, 바람직하게는 약 0∼50t에서 일반적으로 5분∼10시간, 바람직하게는 5분∼2시간동안 수행될 수 있다. 수득된 혼합산무수뭍과 아민(1c)의 반응은 일반적으로 약 -20∼150℃, 바람직하게는 약 10∼50℃에서, 일반적으로 약 5분∼10시간, 바람직하게는 5분∼5시간동안 수행될 수 있다. 혼합산 무수물 방법은 일반적으로 용매중에서 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 혼합산 무수물 방법에 사용된 통상의 용매, 특별하게는 염화에틸렌,클로로포름, 디클로로에탄 등과 같은 할로겐화 탄화수소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향즉 탄화수소, 디에틸에테르, 테르라히드로푸란, 디메톡시에탄 등과 같은 에테르, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트 등과 같은 에스테르, N, N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리 아미드 등과 같은 비양자성 극성용매가 예시될 수 있다.
혼합산 무수물 방법에 사용된 알킬할로카르븍실산으로는 메틸클로로포르메이트, 메틸브로모포르메이트, 에틸클로로포르메이트, 에틸브로모포르메 이트, 이소부틸클로로포르메이트 등이 예시될 수 있다. 이 반응을 수행하는데 있어, 알킬할로카르-복실산 및 아민(1c)에 대한 카르복실산(5)의 양의 비는 일반적으로 등몰량이며,1∼1.5배 몰량의 알컬할로카르복실산 및 카르복실산(5)이 아민(1c)에 대해 사용될 수 있다.
카르복실산 할라이드와 아민(1c)을 반옹시키는 방법을 수행하는 경우, 이 화합물은 염기성 화합물 존재하에 수행된다. 염기성 화합물로는 상술한 쇼텐-바우단 반응에 사용되는 염기성 화합물을 제외하고는 넓은범위에서 선택될 수 있으며, 예를들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 탄산은 및 소듐메틸레이트, 소듐에틸레이트 등과 같은 알클레이트가 있다. 이 반응에 사용된 용매로는 상술한 혼합산 무수물 방법에 사용된 용매를 제의하고, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브 등과 같은 알코올, 피리딘, 아세톤, 아세토니트릴 등 및 이들 용매의 혼합물이 예시될 수 있다. 카르복실산 할라이드의 양에 대한 아민(1c)의 양의 비는 특별히 제한되지 않으며, 넓은 범위에서 선택될 수 있다. 일반적으로, 등몰량 이상, 바람직하게는 1∼5배 몰량의 후자가 전자에 대해 사용될 수 있다. 반응은 일반적으로 약 -30∼180℃, 바람직하게는 0∼150℃에서 수행되며, 약 5분∼30시간에 완결된다.
상술한 반응공정식-3에서, 일반식(1d)의 화합물을 일반식(1c)의 와합물에 도입하는 반응은 염산, 황산,브롬산 등과 같은 무기산, 또는 p-를루엔술폰산 등과 같은 유기산 존재하에 및 물 및 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 알코올과 같은 용매중에서 수행된다. 이 반응은 일반적으로 약 실온∼200℃, 바람직하게는 약 실온∼150℃에서 수행되며, 일반적으로 30분∼10시간에 완결된다.
R8이 할로겐-치환된 저급알카노일기인 일반식(1d)의 화합물을 사용하는 경우, R8이 저급알킬아미노-저급 알카노일기, 피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 피페리디닐-저급알카노일기 또는 피롤리디닐-저급알칼노일기인 일반식(1d)의 화합물은 일반식(1d)의 화합물을 아민(즉, 저급알킬아민, 피레리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 피페리딘 또는 피롤리딘)과 반응시킴으로써 수득필 수 있다. 이 반응은 일반적으로 적당한 비활성 용애중에서 염기성 축합제 존재 또는 부재하에 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향족 탄화수소, 메탄올, 에탄올,이소프로판올 등과 같은 알코올, 아세트산, 에틸아세테이트, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등이 있다. 또한, 이 반응에 사용된 염기성 축합제로는 탄산나트룸, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등과 같은 탄산염, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등꽈 같은 금속수산화물, 소듐에틸례이트, 소듐메틸레이트 등과 같은 금속알클레이트, 피리딘, 트리에틸아민 둥과 같은 유기 염기성 화합물이 예시될 수 있다.
아민의 양은 일반적으로 등올량 이상, 바람직하게는 아민(1d)에 대해 1∼10배롤량이다. 이 반응은 일반적으로 약 4-∼150℃, 바람직하게는 50∼120℃에서 수행되며, 일반적으로 약 5∼30시간에 완성된다.
[반응공정식-4]
Figure kpo00012
(1e) (1f)
[식중, R¹,R³,n 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R9은 일반식
Figure kpo00013
(식 중, R4'및 R5'는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 치환기로 히드록시기, 아미노기 또는 저급알킬아미노기를 갖을 수 있는 저급알킬기, 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수있는 페닐-저급알킬기, 페닐기, 저급알케닐기, 이미다졸릴기, 치환기로 저급알킬기를 갖을 수있는 페녹시-저급알킬기, 모르폴린 고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 모르폴리노-저급알킬기,피페리딘 고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 피페리디닐기 또는 시클로알킬기이며 ;또한, 이들 R4'및 R5'및 그에 결합된 인접 질소원자는 다른 질소원자, 산소원자 또는 황원자와 함께 또는 없이 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며; 01 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 치환기로 저급 알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로 1∼3히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를가질수있는C₁∼C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 할로겐 원자를 갖을 수 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기,페닐-저급알콕시카르브닐기, 일반식
Figure kpo00014
((식중,R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 저급알킬기, 페놀고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기이며 ; 또한 R13및 R14및 그에 결합된 인접 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소 원자와 함께 또는 없이 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며 ; 이 헤테로시클릭기는 치환기로 저급알킬기를 갖을 수 있으며 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
Figure kpo00015
의 기이고, A'는 저급알킬렌기이며 ; m은 0 또는 1이다.))의 기 및 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갓을 수 있는 벤조일기로 구성된 군에서 선택된 1∼3치환기를 갖을 수 있으며 ; X²는 할로겐원자이다.
일반식(1e)의 화합물과 일반식(6)의 화합물의 반응은 적당한 용매중에서 염기성 화합물 존재 또는 부재하에 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 N-메틸피롤리돈 및 상술한 반응공정식-3에서 카르복실산 할라이드와 화합물(5)의 반응에 사용된 어떤 용매도 사용필 수 있다. 이 반응에 사용된 염기성 물질로는 용매와 마찬가지로 상술한 반응공정식-3에서 카르복실산 할라이드와 화합물(5)의 반응에 사용원 어떤 염기성 화합물도 사용필 수 있다.
이 반응은 반응계에 요오드화구리와 같은 구리할라이드 또는 구리분말을 가함으로써 유리하게 진행된다.이 반응은 일반적으로 약 실온∼250℃, 바람직하게는 약 실온∼200℃에서 수행되며, 일반적으로 약 5∼20시간에 완성된다.
[반응공정식-5]
Figure kpo00016
(식중, R¹,R³,n,X²및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와 같으며 ; R10은 치환기로 히드록시기 또는 저급알킬기를 갖을 수 있는 저급알킬기, 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기, 페닐기, 저급알케닐기, 시클로알킬기, 이미다졸릴기, 치환기로 저급알킬기를 갖을 수 있는 페녹시-저급알킬기, 모르폴린고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 모르폴리노-저급알킬기, 또는 피레리딘고리상에 치환기로 페닐-저급알킬기를 갖을 수 있는 피페리디닐기이며 ; R10는 R10에서 정의한 기 또는 수소원자이다.)
일반식(1c)의 화합물과 일반식(7)의 화합물의 반응은 통상의 비활성용매의 존재 또는 부재하에 수행된다. 용매로는 디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜 디메틸에테르 등과 같은 에테르 벤젠, 톨루엔, 크실렌등과 같은 방향족탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등과 같은 저급알코올, 아세트산, 에틸아세테이트, 디메틸 포름 아미드, 디메틸술폭시드, 아세톤, 아세토니트릴, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸인산트리아미드등과 같은 극성용매가 예시될 수 있다. 상술한 반응은 산성화제로 염기성 화합물을 사용함으로써 유리하게수행된다. 엄기성 화합물로는 탄산칼륨, 탄산나트륨, 수산학나트륨, 탄산수소나트륨 소듐아미드, 수소화나트륨 등과 같은 무기염기성 화합물, 소듐메틸레이트, 소듐에틸레이트 등과 같은 금속알클레이트, DBU, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 피리딘, 퀴놀린 등과 같은 유기 염기성 화합물이 예시필 수 있다. 이 반응은반응 가속제로 요오드화칼륨, 요오드화나트륨 등과 같은 알칼리금속 요오다이드를 가함으로써 유리하게 진행될 수 있다.
더우기, 이 반응은 반응계에 요오드화구리와 같은 구리할라이드 또는 구리분말을 가함으로써 수행필 수있다. 화합물(7)의 양에 대한 화합물(1c)의 양의 비는 일반적으로 전자에 대해 등몰량 내지 과량, 바람직하게는 1∼5배 롤량의 후자이다. 반응은 일반적으로 약 실온∼200℃, 바람직하게는 약 60∼120℃에서 수행되며, 약 수시간∼30시간에 완성된다.
[반응공정식-6]
Figure kpo00017
Figure kpo00018
(식중, R¹,R³,n,X²및 카르보스티틸 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와같고 ; R11은 저급알킬기이며 ; M은 소듐, 포타슘 등과 같은 알칼리금속이다.)
일반식(1h)의 화합물과 일반식(8)의 화합물과의 반응은 적당한 용매중에서 및 염기성 화합물 존재 또는부재하에 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 염화메틸렌, 클로로포름 등과 같은 할로겐학탄화수소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등과 같은 방향족탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등과 같은 에테르, 아세트산메틸, 아세트산에틸 등과 같은 에스테르, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸인산트리아미드 등과 같은 비양자성 극성용매, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브 등과 같은 알코올, 피리딘, 아세톤, 아세트니트릴, 물등 및 이들 용매의 혼합물이 예시될 수 있다. 이 반응에 사용된 염기성 화합물로는 트리에틸아민, 트리메틸아민, 피리딘, 디에틸아민, N-메틸모르폴린, DBN, DBU, DABC0등과 같은 유기염기성 화합물, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수소화칼륨, 수소화나트륨, 탄산은 등과 같은 무기 염기성 화합물, 소듐메틸레이트, 소듐에틸레이트 등과 같은 알콕레이트가 예시될 수 있다. 화합물(8)의 양은 화합물(1h)에 대해 일반적으로 약 등몰량이상, 바람직하게는 약 1∼1.5배몰량일 수 있다. 이 반응은 일반적으로 약 -30∼180℃, 바람직하게는 약 0∼150℃에서, 일반적으로 5분∼30분에 완성된다.
일반식(1i)의 화합물과 일반식(9)에 화합물의 반응은 적당한 용매중에서 및 적당한 용매 존재 또는 부재하에 약 0∼150℃, 바람직하게는 약 실온∼100℃에서 수행된다. 이 반응에 사용된 용매로는 화합물(1h)와 화합물(8)의 반응에 사용된 어떤 용매도 사용될 수 있다. 화합물(9)의 양은 화합물(1i)에 대해 대과량이며,이 반응은 일반적으로 1∼5시간에 완성된다.
일반식(1k)의 화합물에 일반식(1j)의 화합물을 도입하는 반응은 일반식(3)의 화합물과 일반식(1a)의 화합물의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행필 수 있다.
[반응공정식-7]
Figure kpo00019
[식중, R¹,R³,n,X² 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와 같고 ; R12는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로 1∼3히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 갖을 수 있는 C₁∼C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐 -저급알킬기, 테트라히드로푸릴저급알킬기, 티에닐 -저급알킬기, 시클로알킬저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로 할로겐원자를 갖을 수 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 페닐 -저급알콕시카르브닐기, 일반식
Figure kpo00020
(식중,R13및 R14는 각기 동일하기나 다르며, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기이며 ; 또한 R13및 R14및 그에 결합원 인접 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 없이 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수 있으며 ; 이 헤테로시클릭기는 치환기로 저급알킬기를 가질 수 있으며 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
Figure kpo00021
의 기이며, A'는 저급알킬렌기이고, m은 0 또는 2이다.)의 기 및 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 벤조일기이며; ι은 0 또는 1∼3의 정수이고; X³는 할로겐원자이다.]
일반식(1c)의 화합물과 일반식(10)의 화합물의 반응은 일반식(1c)의 화합물과 일반식(7)의 화합물의 상술한 반응에서 설명된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
[반응공정식-8]
Figure kpo00022
(식중, R¹,R³,R¹2,ι,n,X²,X³ 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은 상기에 정의한 바와같고 ; Z는 메틴기, 질소원자, 산소원자 또는 황원자이며; a는 2 또는 3이다.)
일반식(1c)의 화합물과 일반식(11)의 화합물의 반응은 일반식(1c)의 화합물과 일반식(7)의 화합물의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
그러므로, 상술한 반응으로부터 수득된 일반식(1m)의 화합물중에서 Z가 질소원자이고,ι이 0인 화합물을 일반식 R12'-X² (식중, R12'는 페닐기, 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갖을 수 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로 1∼3히드록시기 또는 할로겐원자를 갖을 수 있는 C₁∼C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르브닐-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, 시클로알킬-저급알킬기, 시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로 할로겐원자를 갖을 수 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알칼기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 또는 일반식
Figure kpo00023
((식중, R13, 및 R14및 A는 상기에 정의한 바와같고; m'는 1에 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 Z가 질소원자이고, R12의 기호로 표시되는 기가 상기 질소원자에서 치환된 일반식(1m)의 화합물을 수득할 수 있다.
이 반응은 상술한 반응공정식-5에서 화합물(1c)와 화합물(7)의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
더우기, 일반식(1m)의 화합물중에서, Z가 질소원자이고 ι이 0인 화합물을 일반식 R12"-X¹(식중, R12"는 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기, 저급알킬아미드기 또는 페닐-저급알콕시카르보닐기이며 ; X¹은 상기에 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 Z가 질소원자이며, 동시에 R12"로 표시되는 기가 상기 질소원자에서 치환된 일반식(1m)의 화합물로 수득할 수 있다. 이 반응은 상술한 반응공정식-3에서 화합물(1c)와 화합물(5)의 반응에서 이용된 것과 유사한 조건하에 수행될 수 있다.
일반식(1)로 표시되는 화합물중에서, R²가 일반식
Figure kpo00024
(식중, R⁴ 및 R5는 각기 동일하거나 다르고,각각 페닐-저급알카노일기, 치환기로 저급알킬아미노기를 갖을 수 있는 저급알카노일기이다).의 기인 화합물 또는 R²가 일반식
Figure kpo00025
(식중, R⁴ 및 R5및 그에 결합된 인접 질소원자는 헤테로시클릭기를 형성하며, 이 헤테로시 클릭기는 저급알킬아미도기 또는 일반식
Figure kpo00026
((식중, A',R13및 R14는 상기에 정의한 바와같다.))의 기를 갖거나, 상기 헤테로시 클릭기의 질소원자는 페닐고리상에 치환기로 저급알콕시기를 갓을 수 있는 벤조일기로 치환된다.)의 기인 화합물을 환원시켜 치환기중의 카르보닐기가 -CH₂-기로 전환된 화합물을 수득할 수 있다.
이 환원반응은 적당한 용매중에서 할로겐화 환원제 존재하에 수행된다. 할로겐화 환원제로는 수소화붕소나트룸, 수소화리튬알루미늄, 디보란 등이 예시될 수 있다. 할로겐화 환원제의 양은 등몰량이상일 수 있으며, 바람직하게는 출발물질에 대해 1∼3배몰량이 사용될 수 있다. 환원제로 수소화리튬 알루미늄을 사용하는 경우, 바람직하게는 출발물질에 대해 등 중량이 사용될 수 있다. 환원반응에 사용되는 용매로는 물, 에탄올, 메탄올, 이소프로판올 등과 같은 저급알콜, 테트라히드로푸란, 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 등과 같은 에테르가 예시될 수 있다. 이 반응은 일반적으로 약 -60℃∼50℃, 바람직하게는 약 -30℃∼실온에서 수행되며, 약 10분∼5시간에 완성된다. 환원제로 수소화리튬알루미늄 또는 디브란을 사용하는 경우, 디에틸에테르, 데트라히드로푸란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등과 같은 무수용매가 사용될 수 있다.
[반응공정식-9]
Figure kpo00027
식중, R², R3n, X2, 및 카르보스티릴 골격에서 3-위치와 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 상기 정의된 바와 동일하고 ; R1'은 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알키닐기, 페닐-저급 알킬기, 카르복시-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있는 아미도-저급 알킬기, 또는 5- 또는 6-원 포화 헤테로시클릭기-치환된 카르보닐-저급 알킬기이다.
일반식(1n)의 화합물과 일반식(11)의 화합물과의 반응은 염기성 물질의 존재하에서 그리고 적당한 용매중에서 수행할 수 있다. 염기성 물질로는, 수소화 나트륨, 칼륨 금속, 나트륨 금속, 나트륨 아미드, 칼륨아미드 등을 들 수 있다. 용매의 예로는, 디옥산 및 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 등의 에테르류, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 디메틸 술폭시드, 디메틸 포름아미드, 헥사메틸인산 트리아미드 등을 들수 있다. 화합물(1n)의 양과 화합물(11)의 양의 비율은 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있으나, 일반적으로는 화합물(1n)에 대하여 동몰량 이상, 바람직하게는 몰량의 1 내지 2배량의 화합물(11)을사용할 수 있다. 상기 반응은 일반적으로는 약 0∼70℃, 바람직하게는 0℃∼실온에서 수행하며, 일반적으로약 0.5∼12시간 내에 완성된다.
[반응 공정식-10]
Figure kpo00028
식중, R1, R², R3및 n은 상기 정의된 바와 동일하다.
일반식(1q) 화합물의 환원은 통상의 촉매 환원 반응에서 사용하는 조건하에 수행된다. 본 환원 반응에 사용되는 촉매의 예로는 팔라듐, 팔라듐-탄소, 백금, 라니-니켈등을 들 수 있으며, 이들 촉매는 통상 촉매량으로 사용할 수 있다.
본 환원 반응에 사용되는 용매의 예로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 디옥산, 테트라히드로푸란, 헥산, 시클로헥산, 에틸 아세테이트 등을 들 수 있다. 상기 환원 반응은 대기압 또는 대기압 이하의 압력하에 수행할 수 있으나, 일반적으로는 대기압∼20kg/cm2의 압력, 바람직하게는 대기압∼10kg/cm2의 압력에서 수행한다. 반응 온도는 일반적으로 0∼150℃, 바람직하게는 실온∼100℃일 수 있다.
일반식(1p) 화합물의 탈수소화 반응은 적당한 용애중에서 산화제를 사용하여 수행한다. 본 반응에 사용되는 산화제의 예로는, 2,3-디클로로-5,6-디시아노벤조퀴논 및 클로라닐(2,3,5,6-테트라클로로벤조퀴논) 등의 벤조퀴논류, N-브로모숙신이미드, N-클로로숙신이미드 및 브롬 등의 할로겐화제, 이산화 셀레늄, 팔라듐-탄소, 팔라듐 블랙, 산화 팔라듐 및 라니-니켈 등의 수소화 촉매를 들 수 있다. 할로겐화제의 양은 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있으나, 일반적으로는 화합물(1p)에 대하여 몰량의 1∼5배, 바람직하게는 1∼2배량을 사용할 수 있다. 수소화 촉매는 통상 촉매량으로 사용할 수 있다. 본 반응에사용되는 용매의 예로는, 디옥산, 데트라히드로푸란, 메톡시에탄올 및 디메톡시베탄 등의 에테르류, 벤젠,톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 사염화탄소 등의 할로겐화 탄화수소, 부탄을, 아밀 알코올 및 헥산올 등의 알코올류, 아세트산 등의 양자성 극성 용매, 디에틸포름아미드, 디메틸 술폭시드 및 헥사메틸인산 트리아미드 등의 비양자성 극성 용매를 들 수 있마. 본 반응은 일반적으로 약 실온∼300℃, 바람직하게는 약 실온∼200℃의 온도에서 수행하며, 일반적으로 약 1∼40시간 내에 완성된다.
일반식(1)로 나다내는 일반식 중에서 R¹이 수소 원자이고 카르보스티릴 골격에서 3-위치와 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 화합물은 하기의 반응 공정식-11에 도시한 바와 같은 락탐-락팀형호변이성을 나타낼 수 있다.
[반응 공정식-11]
Figure kpo00029
식중, R², R3및 n은 상기 정의된 바와 동일하다.
[반응 공정식-12]
Figure kpo00030
식중, R¹,R² 및 R³는 상기 정의된 바와 동일하고 ; n' 및 n"는 0이거나 1 또는 2의 정수이고, 단 n'+n"=2이어야 하며 ; b와 c는 0 또는 1이고, 단 b와 c는 동시에 0이 아니며; D는 일반식 R15C=CH-(식중, R15는 페닐기, 저급 알콕시기 또는 할로겐 원자이다)의 기, 식
Figure kpo00031
(식중, R16과 R17은 각각 저급 알킬기이다)의 기 또는 식 HC≡C-의 기이다.
일반식(12)의 화합물과 일반식(13)의 화합물과의 반응은 반응 공정식-3에서의 일반식(1c) 화합물과 일반식(5) 화합물과의 반응에서 사용된 것과 유사한 조건하에 수행할 수 있다.
일반식(14) 화합물의 고리화 반응은 산의 존재하에 그리고 적당한 용매의 존재 또는 부재하에 수행한다. 본 고리화 반응에 사용되는 산에 관하여는 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있는데, 구체적인 예로는 무기산 예를 들어 염산, 브롬화 수소산 및 황산 등, 루이스산 예를 들어 염화 알루미늄, 삼플루오르화 붕소 및 사염화 티탄 등, 유기산 예를 들어 포름산, 아세트산, 에탄술폰산 및 p-톨루엔술폰산 등을 들수 있다. 이들 산 중에서, 염산, 브롬화 수소산 및 황산이 바람직하다. 산의 양은 일반적으로 1당량 이상일수 있으나, 바람직하게는 일반식(14)의 화합물에 대하여 10∼50배량의 산을 사용할 수 있다. 용매로는, 통상의 비활성 용매 예를 들면, 물, 저급 알콜류 예를 들어 메탄올, 에탄올 및 프로판올 등, 에테르류 예를들어 디윽산 및 테트라히드로푸란 등, 방향족 탄화수소 예를 들어 클로로벤젠, 벤젠 및 톨루엔 등, 할로겐화 탄화수소 예를 들어 염화 메틸렌, 클로로포름 및 사염화탄소 둥, 아세톤, 디메틸 술폭시드, 디메틸포름아미드, 및 헥사메틸인산 트리아미드 등을 들 수 있다. 이들 용매 중에서, 수용성 용매 예를 들어 저급 알콜 에테르, 아세톤, 디에틸 술폭시드, 디메틸포름아미드 및 헥사메틸인산 트리아미드 등이 바람직하다.
고리화 반응은 일반적으로 0∼200℃, 바람직하게는 실온∼150℃에서 수행하여 일반적으로 약 5분∼6시간내에 완성된다.
일반식 -NHR8(식중, R8은 상기 정의된 바와 동일하다)의 기를 갖는 일반식(1r)의 화합물을 제조하기위한 반응은, R²가 -NH2인 화합물을 수득하기 위하여 반응 공정식-3에서 화합물(1d)와 화합물(1c)와의 반응에 사용된 것과 유사한 조건하에 수행할 수 있다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체는 약학적 용도로 이용 가능한 염기성 화합물과 반응시켜 그의 염의 형태로 용이하게 전환시킬 수 있다. 염기성 화합물의 예로는, 수산화나트륨,수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산 나트륨 및 탄산 칼륨 수소 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체는 그의 3급 아민형의 화합물을 할로겐화 알킬 예를 들어, 요오드학 메틸 또는 염화 에틸 등과 반응시켜 상응하는 4차 염으로 각각 전환시킬 수 있다.
이와 같이 다양한 방법으로 수득한 목적 생성물은 통상의 분리 방법에 의하여 분리 및 정제할 수 있다. 분리 방법의 예로는 용매 추출법, 희석법, 재결정법, 칼럼 크로마토그래피법 및 예비 박층 크로마토그래피법 등을 들 수 있다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 카르브스티릴 유도체는 필연적으로 그의 광학적 이성체들을 함유한다.
일반식(1)로 나타내는 카르보스티릴 유도체 및 그의 염은 통상의 약학적 용도로 이용 가능한 담체를 사용하여 제조된 모든 통상의 약학 조성물의 형태로 사용할 수 있다. 이러한 약학적 용도로 이용 가능한 담체의 예는, 총전제, 희석제, 결합제, 습윤제, 붕해제, 계면 활성제 및 윤활제 등의 희석제 및 부형제를 함유하는 약학 조성물의 바람직한 형태에 따라 선택된다. 약학 조성물은 치료의 목적에 따라서 정제, 환제, 산제, 액제, 현탁제, 유제, 과립제, 캅셀제, 좌제, 주사제제(예 ; 용액, 현탁액 등) 등의 바람직한 단위 형태 중에서임의 선택할 수 있다.
정제형 조성물을 제조하기 위해서는, 이 분야에서 널리 사용되는 담체, 예를 들면, 부헝제 예를 들어 유당, 수크로오스, 염화 나트륨, 글루코오스, 우레아, 전분, 탄산 칼슘, 카올린, 결정 셀물로오스, 실릭산등 ; 결합제 예를 들어 물, 에탄올, 프로판올, 단미 시럽, 글루코오스 용액, 전분 용액, 젤라틴 용액, 카르복시메틸 셀물로오스, 쉘락, 메틸 셀물로오스, 인산 칼슘, 폴리비닐피롤리돈 등; 붕해제 예를 들어 무수전분, 알긴산 나트륨, 아가-아가 분말, 라미나리아 분말, 탄산 수소 나트륨, 탄산 칼슘, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스데르, 라우릴 황산 나트륨, 스테아린산 모노글리세라이드, 전분, 유당 등; 붕해 억제제 예를 들어 수크로오스, 스테아린, 코고넛 버터, 수소화 오일 등; 흡수 촉진제 예를 들어 4차 암모늄 염기, 라우릴술폰산 나트륨등 ; 습윤제 예를 들어 글리세린, 전분등 ; 흡착제 예를 들어 전분, 유당, 카올린, 벤토나이트, 콜로이드성 실력산 등; 및 윤활제 예를 들어 정제 탈크, 스테아린산 염, 붕산 분말, 폴리에틸렌 글리콜 등을 사용할 수 있다. 필요하다면, 정제를 또한 통상의 코팅 물질로 코팅하여 고팅된 정제의형태, 예를 들어 설탕으로 코팅된 정제, 젤라틴 필름으로 코팅된 정제, 장용 피복층으로 코팅왼 청제, 필름들로 코팅된 정제 또는 이중층 정제 및 다층 정제 등으로 제조할 수 있다.
환제 형태로 제조하기 위하여는 이 분야에서 공지되어 널리 사용되고 있는 담체를 사용할 수도 있는데, 예를 들면, 부형제 예를 들어 글루코오스, 유당, 전분, 코코넛 버터, 수소화된 식물 오일, 카올린 및 탈크 ; 결합제 예를 들어 아라비아 고무 분말(Gummi Arabicum), 트라가칸트 분말, 젤라틴 및 에탄올 ; 붕해제 예를 들어 라미나리아 및 아가-아가를 들 수 있다.
좌제 형태로 제조하기 의해서는 이 분야에서 공지되어 널리 사용되고 있는 담체를 사용할 수 있는데, 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜, 코고넛 버터, 고급 알코올, 고급 알코올의 에스테르, 겔라틴 및 반합성 글리세라이드를 들 수 있다.
주사 제제의 헝태로 제조하기 위하여, 용액 및 현탁액은 살균하며, 혈액과 등장이면 바람직하다. 용액,유제 및 현탁제 형태의 주사 제제의 제조에 있어서는, 이 분야에서 통상적으로 사용되는 모든 희석제, 예를들어 물, 에틸 알코올, 프로필렌 글리콜, 에톡실화된 이소스테아릴 알코올, 폴리윽실화된 이소스테아릴 알코올 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르를 사용할 수 있다. 이 경우, 적당한 량의 염화 나트륨,글루코오스 또는 글리세린을 첨가하여 바라는 등장성 제제를 제조할 수 있다. 또한, 필요하다면, 통상의 용해제, 완총제, 진통제 및 다른 약제는 물론이고, 착색제, 방부제, 방향제, 완화제, 감미제 및 다른 약물을 제제에 첨가할 수 있다.
본 발명에 따른 부정맥 치료 및/또는 개선용 약학 조성물에 함유시키게 되는 일반식(1) 화합물 및 이의염의 양은 특별히 제한되지 않고 광범위하게 선택될 수 있으나, 통상적으로는 전체 조성물의 1∼70중량%, 바람직하게는 1∼30중량%의 양으로 사용한다.
본 발명에 따른 부정맥을 치료 및/또는 개선시키는 약학 조성물의 투여 방법은 특별허 제한되지 않으며, 연령, 성별, 증상 겅도 및 기타 환자의 상태 등에 따라서 제한 없이 다양한 제제 형태로 사용할 수 있다. 예를 들면, 정제, 환제, 액제, 현탁제, 유제, 과립제 및 캅셀제는 경구 투여하고 ; 주사 제제는 단독으로 비경구 투여하거나 글루코오스 용액 및 아미노산 용액 등의 주사 수혈액과 함께 투여하며; 필요시 주사 제제는 단독으로 근육내 투여, 피내 투여, 피하 투여 또는 복강내 투여한다. 좌제는 직장으로 투여한다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 용량은 증상의 정도는 물론이고 투여방법, 환자의 연령, 성별 및 다른 조건에 따라 적당히 선택될 수 있는데, 일반적으로는 1일 용량으로 체중kg당 0.1∼10mg의 활성 성분인 일반식(1)로 나타내어지는 카르보스트릴 유도체 또는 염을 함유하는 약학 조성물을 사용할 수 있다. 또한, 2∼200mg의 활성 성분을 투여 단위 형태 내에 함유시킬 수 있다.
[약학 조성물의 제조예 : ]
Figure kpo00032
통상의 절차를 사용하여 상기 조성 성분의 징제를 제조한다.
Figure kpo00033
통사의 절차를 사용하여 상기 조성 성분의 정제를 제조한다.
Figure kpo00034
상기 메틸 p-히드록시벤조에이트, 프로필 p-히드록시벤조에이트, 나트륨 메타바이술피트 및 염화 나트륨을 80℃에서 교반하면서 주사용 증류수에 용해시킨다. 수득된 용액을 40℃로 냉각시킨 다음, 3-(4-벤질-1-피페리디닐)-8-카르보스티릴, 폴리에딜렌 글리룔 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노올리에이트를 차례로 용해시킨다. 주사 용액의 최종 부피를 주사용 증류수를 가하여 조절하고, 적당한 여과지를 사용하여 여과 멸균하고, 이어서 이와 같이 멸균된 용액을 앰플에 각각 1ml씩 충전시켜 목적하는 주사용 제제를 제조한다.
[약물 시험]
본 시험은 시험 시료로서 개의 심실 근육을 사용하는 하기 문헌에 기술된 방법과 유사하게 수행한다[참고문헌 : Hir00ka 등, Circ. Res., V01.48, pages 510∼518(1980)].
체중 1.5∼5kg의 고양이에게 30mg/kg의 케타민 염산 염을 근육 내 주사하고 20mg/kg의 나트륨 펜토바르비탈을 복강내 주사하여 마취시킨 다음, 심장을 적출하여, 냉각된 타이로드 용액(Tyr0de's s01uti0n)에 침지시킨다. 이어서, 통상의 절차에 따라 유두근 근육의 시료를 적출하고, 타이로드 용액(137mM의 NaC₁,15.9mM의 NaHC03,5.5mM의 글루코오스,1.0mM의 MgC12,0.42mM의 NaH2P04,2.7mM의 KC₁ 및1.8mM의 CaC12를 함유)이 충전된 마그누스 장치(Magnus equipment)내에 현수시킨다. 타이로드 용액에95%의 0z와 5%의 C02로 조성왼 혼합 기체를 취입시키고,37t의 온도로 유지시킨다. 시료를 0.5g의 정지장력으로 현수시킨다. 시료에 주파수 0.5Hz의 전기 자극을 가하여 안정화 시킨다. 이어서, 전기 자극을 중지하고, 타이로드 용액을 K-제거된(칼륨-제거된) 타이로드 용액으로 교환한다. 타이로드 용액 교환 30분후에, K-제거원 타이로드 용액을 K-및 Ca-제거된(칼륨 및 칼슘-제거원) 타이로드 용액으로 교환한다.
상기의 두번째 교환 30분 후에, K- 및 Ca- 제거된 타이로드 용액을 K-제거된 타이로드 용액(3mM의Ca 함유)으로 교환한다. 상기와 같이 마지막으로 타이로드 용액을 교환한 10분 후에, 유두근 근육의 시료에 매 5분 마다 320필리초의 전기 충격을 가하여 자극한다. 반수의 전기 충격 자극의 경우에, 자극이 중지된 매 후수축이 관찰된다. 전기 충격자극에 의해 유발된 수축 및 후수축이 일정하게 안정화 된 것으로 관살되었을매, 각각의 시험 화합물을 시료에 20분 간격으로 누적적으로 적용한다. 첫번째 전기 충격 자극 후에 관찰된 후수축 및 10회의 전기 충격 자극에 의해 유발된 수축을 측청하여 하기의 표 1에 나타낸다.
[시험 화합물 번호]
1.3-디에틸아미노-8-에틸-3,4-디히드로카르보스티릴염산염
2.3-디에틸아미노-8-메틸카르보스티릴 옥살레이트
3.6-피롤리디닐-8-메틸-3,4-디히드로카로보스티릴 염산염
4.3-{N-메틸-N-[2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]}-8 - 메틸카로보스티릴
5.3-피롤리디닐-8-플루오로카르보스티릴
6.3-디에틸아미노-6,8-디클로로-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
7.3-에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴염산염
8.3-[N-(2-히드록시에틸)-N-벤질아미노-8-메틸카르보스티릴
9.3-포르밀아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴
10.3-디에틸아미노아세틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 옥살레이트
11.3-(4-벤질-1-피페리디닐)-8-메티카르보스티릴 염산염
12.3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
13.8-페닐-6-피롤리디노-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
14.5-피롤리디노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
15.3-(N-메틸-N-시클로헥실)-8-메틸카르보스티릴 염산염
16.4-피롤리디노-8-메틸카르보스티릴 옥살레이트
17.3-(N-페닐-N-에틸아미노)-8-메틸카르보스티릴
18.3-(4-벤질-1-피페리디닐 아세틸아미노)-8-메틸카르보스티릴 염산염
19.3-(피롤리디노아세틸아미노)-8-메틸카로보스티릴 염산염
20.3-(4-페닐-1-피페라지닐)메틸카르보스티릴
21.3-디 -n-부틸아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염
22.3-피롤리디노-8-이소프로필카르보스티릴 염산염
23.3-[4-(3,4-디메톡시벤조일 )-1-피페라지닐- 8 -메틸카르보스티릴
24.3-(4-히드록시-1-피페리디닐)-8-메틸카로보스티릴
25.3-모르폴리노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
26.3-아미노-6,8-디클로로-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
27.3-피롤리디노-8-메톡시카로보스티릴 염산염
28.3-[N-메틸-N-(2-디에틸아미노에틸) ]-8-메틸카르보스티릴푸마레이트
29.3-(4-벤질-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
30.4-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-플루오로카르보스티릴 염산염
31.3-(4-알릴-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
32.3- (4-에톡시카로보닐메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
33.3-{4-[3-(4-플루오로벤조일)프로필]-1-피페라지닐}-8-메틸카르보스티릴 염산염
34.3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-플루오로카르보스티릴 염산염
35.3- (4-메틸-1-피페라지닐) -8-클로로카르보스티릴 염산염
36.3-모르폴리노-8-메탈카르보스티릴
37.3-티오모르폴리노-8-메틸카르보스티릴
38.3-(1,4-디아자비시클로[4,3,0]노난-4-일)-8-메틸카로보스티릴 염산염
39.3-(4-n-프로필-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
40.3- (4-메틸 -1-호모피페라지닐) -8-메틸카로보스티릴 염산염
41.3-[4-(2,2,2-트리플루오로에틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
42.3-(2-디에틸아미노메틸-1-피롤리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
43.3- (4-메틸-1-피페라지닐)-8-트리플루오로메틸카르보스티릴 염산염
44.3- (4-메틸-1-피페라지닐)-8-벤질옥시카르보스티릴 염산염
45.3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-에틸카르보스티릴 염산염
46.3-[2-(1-피롤리디닐메틸)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 옥살레이트
47.3-(2-모르폴리노메틸-1-피롤리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
48.5-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염
49.3-(2,4-디메틸-1-피페라지닐) -8-메틸카르보스티릴 염산염
50.3-(3-모르폴리노-1-피롤리니닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
51.3-[N-메틸-N-2-(3,4-디메톡시페닐)에틸]아미노에틸-8-메틸카르보스티릴
52.3-[3-(1-피롤리디닐)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
53.3-[4-(1-피페리디닐)-1-피페리디닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
54.3-{4-[3-(4-피리딜)프로필-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
55.3-(1-피리디늄)-8-메틸카르보스티릴 클로리드
56.3-(1-피롤리디닐)-8-알릴옥시카르보스티릴 염산염
57.3-[4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
58.3 -(2-디에틸아미노-1- 피롤리디닐 )-8-플루오로카르보스티 릴
59.3-(4-프로파르길-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
60.3-(4-아세틸메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
61.3 -(1-인돌리닐)- 8 - 메틸카르보스티릴
62.3-디에틸아미노-8-아세틸메톡시카르보스티릴 염산염
63.3-[4-(1-피롤리니닐카르보닐메틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염
64.3-[4-(2-모르폴리노에틸) -1-피페라지닐 -8-메틸카르보스티릴 이염산염
65.3-{4-[(2-티에닐)메틸]-1-피페라지닐}-8-메틸카르보스티릴 염산염
66.3-(4-시클로헥실-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
67.3-[2-(4-메틸-1-피페라지닐메틸)-1-피롤리디닐]-8-메틸카르보스티릴 디옥살레이트
68.3-[3-(4-메틸-1-피페라지닐)-1-피롤리디닐-8-메틸카르보스티릴 이염산염
69.3-[3-(3,5-디메틸-1-피페라디닐메틸)-모르폴리노]-8-메틸카르보스티릴 염산염
70.3-(4-디에틸아미노-1-피페리디닐)-8-메틸카르보스티릴 염산염
71.3- (4-메틸-1-피페라지닐)-6-메톡시 -8-메틸카르보스티릴 염산염
72.1,8-디메틸-3-(1-피롤리디닐)카르보스티릴
73.3-(4-시클로프로필메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카로보스티릴 염산염
[표 1]
Figure kpo00035
Figure kpo00036
Figure kpo00037
Figure kpo00038
Figure kpo00039
Figure kpo00040
Figure kpo00041
Figure kpo00042
Figure kpo00043
Figure kpo00044
Figure kpo00045
Figure kpo00046
Figure kpo00047
Figure kpo00048
Figure kpo00049
* LC : 10배의 전기 펄스 자극에 의해 유발된 수축
* *A-1 : 제 1차 전기 펄스 자극 후에 관찰된 후수축
본 발명은 하기 참고예 및 실시예에 의해 상세히 설명되는데, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
[참고예]
10g의 디에틸 2-아세틸아미노-2-(2-니트로-3-에틸벤질) 말로네이트 및 1g의 10% Pd-C를 50m1의아세트산에 현탁시키고, 현탁액을 60∼70℃, 3∼3.5 기압하에서 수소화에 의해 촉매 환원시킨다. 수소화를마친 후, 촉매를 여거하고 용매를 증발시킨다. 이렇게 하여 얻은 잔류물을 에탄올로 재결정하여 2.7g의 에틸 3-아세틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴-3-카르복실레이트를 수득한다. 백색 분말 물질.
융점 : 236.5∼238.8℃
[실시예 1]
2.7g의 에틸 3-아세틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴-3-카르복실레이트에 60m1의20%-염산을 가하고, 혼합물을 2시간 동안 가열 환류시킨다. 용매를 증발시키고, 에탄올과 함께 공비 증류하여 물을 제거한다. 얻어진 잔류물을 메탄올-디에틸 에테르로 재결정하여 1.74g의 3-아미노-8-메틸-3,4-티히드로 카르보스티릴 염산염을 수득한다. 무색의 박편상 결정.
융점 : 300℃ 이상.
NMR(CMS0-d6) ∂;2.26(3H,s),3.03∼3.45(2H,m),4.16(1H,dd,J=8Hz,12Hz),6.80∼7.20(3H,n0, 8.80 (2H, br.), 10.10(1H, brs.)
[실시예 2∼34]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 실시함으로써 하기 표 2에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표 2]
Figure kpo00050
Figure kpo00051
Figure kpo00052
Figure kpo00053
Figure kpo00054
[실시예 35]
0.5g의 2-[2-(4-벤질-1-피페리디닐) 아세틸아미노-3-메틸벤즈알데히드를 10
m1의 에탄올에 용해시키고, 0.11g의 소듐 에틸레이트를 가하고, 혼합물을 2시간 동안 가열 환류시킨다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 디클로로메탄으로 추출한다. 추출액을 물로 세척하고, 무수 황산 마그네슘으로 건조시킨다. 용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 디클로로메탄 : 메탄올=100 : 1)하여 정제한다.
에탄올-HCl을 이용하여 생성물을 염산염으로 전환시키고, 디클로로메탄-에탄올로 재결정하여 0.22g의3-(4-벤질-1-피페리디닐) -8-메틸카르보스티틸 염산염을 수득한다. 옅은 황색분말 물질.
융점 : 221∼222℃
[실시예 36∼82]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 실시함으로써 하기 표 3에 나타낸 화합물 및후술한 실시예 90의 화합물을 수득한다.
[표3]
Figure kpo00055
Figure kpo00056
Figure kpo00057
Figure kpo00058
Figure kpo00059
Figure kpo00060
Figure kpo00061
Figure kpo00062
Figure kpo00063
Figure kpo00064
[실시예 83]
2.0g의 4-클로로-8-메틸카르보스티릴,5m1의 디에틸아민,0.2g의 요오드화구리 -구리분말 혼합물 및20m1의 N-메틸피롤리딘을 오토클레이브에 넣고,180∼190℃에서 10시간동안 가열한다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 에틸 아세테이트로 추출한다. 추츌액을 물로 세척하고, 건조시켜 용매를 증발시킨다. 얻어진 잔류룰을 실리카겔 컬럼크로마토그래피(용리액;디클로로메탈)하여 정제한다. 생성물을 에탄올-HCl을 이용하여 염산염으로 전환시키고, 아세톤-디에틸 에테르로 재결정하여 0.6g의 4-디에틸아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 갈색분말물질.
융점 : 183∼186℃.
[실시예 84∼89]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 83과 비슷한 방법으로 실시함으로써 하기 표 4에 나타낸 화합물 및 실시예 1-9, 11-19, 23-28, 30-43, 50-63, 65-72, 77-82, 98, 100-166, 168, 173, 175-180, 187-189, 190, 190a-190d, 191-225, 228-242, 246-248의 화합물을 수득한다.
[표4]
Figure kpo00065
Figure kpo00066
[실시예 90]
2.9g의 3-아미노-8-메틸키르보스티릴,3.5mI의 트리에틸아민을 50m1의 디클로로메탄에 용해시켜 제조한 용액에 10m1의 디클로메탄에 용해시킨 1.9m1의 염화클로로아세틸용액을 빙냉하에 적가한다. 모두 적가한 후, 반응 혼합물을 실온에서 30분간 교반한다. 반응 혼합물중의 용매를 감압하에 증발시켜 농축시키고,얻어진 잔류물을 아세톤에 현탁시키고 현탁액을 빙수에 쏟아 붓는다. 형성된 결정을 여취하고, 물로 세척하여, 건조시키고 아세톤-물로 재결정하여 3.6g의 3-클로로아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다. 백색 분말 물질
융점 : 271.5∼272.2℃(분해).
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 90과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 20-22,46-48,64,73-76,99,226,227 및 243-245의 화합물을 수득한다.
[실시예 91]
0.7g의 3-클로로아세틸아미노-8-에틸카르보스티릴,2.04g의 디에틸아민,30m1의 아세트니트릴에 용해시킨 1.16m1의 트리에틸아민을 혼합하여 제조한 현탁액을 7.5시간동안 가열 환류시킨다. 반응 혼합물을 빙수에 쏟아붓고, 침전물을 여취하고, 물로 세척하여 건조시킨다. 건조시킨 침전물을 메탄올에 용해시키고,진한 염산-에탄올을 이용하여 염산염으로 전환시킨다. 에탄올-물로 재결청하여 0.52g의 3-(2-디에틸아미노아세틸)아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 황색 분말 물질.
융점 : 250∼252℃ (분해) .
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 91과 비슷하게 반응을 실시함으로써 실시예 20-22,46-48,243-245및 64의 화합물을 수득한다.
[실시예 92]
1.6g의 3-아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염을 30m1의 아세톤에 현탁시키고,2.6g의요오드화에틸 및 2.6g의 탄산칼륨을 가하고, 혼합물을 밀봉 튜브에 넣고 120℃에서 10시간동안 가열하여반응시킨다. 반응 혼합물에 디클로로메탄-물을 가하고, 유기층을 분리 수거한다. 유기층을 물로 세척하고,무수 황산나트륨으로 건조시킨다. 용매를 증발시키고, 얻어진 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 디클로로메탄-메탄올=100:1)하여 정제한다. 에탄올-디에틸에테르로 재결정하여 1.5g의 3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로가르브스티릴 염산염을 수득한다. 백색 분말 물질.
융점 : 231.5∼233℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 92와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 5,6,8,11,14,16,19,23,25,32,37-42,49-50,53,56,59-60,68-72,77,83,98,101,104,113,120,127,139-141,143,148,178,189,190,202,211,213,219,223,224,225,230,233,240,241 및 242의 화합물을 수득한다.
실시예 93
1g의 1-에딜-8-아미노-3,4-디히드로카르보스티릴,1.35g의 1,4-디브로모에탄,1.9g의 요오드화나트륨,10m1의 아세로니트릴에 용해시킨 1.75g의 탄산칼륨을 혼합하여 제조한 현탁액을 20시간동안 가열환류시킨다. 반응 혼합물에 디클로로메탄-물을 가하고, 유기층을 분리 수거하여 물로 세척하고, 무수 황산나트륨으로 건조시킨다. 다음에, 용매를 증발시키고 얻어진 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 :디클로로메탄 :메탄올=50 :1)하여 정제한다. 정제된 생성물을 디에틸에테르에 용해시키고, 목적 생성물을 에탄올-진한 염산을 이용하여 염산염으로 전환시키고, 에탄올-디에틸 에테르로 재결정하여 1.15g의 1-메틸-8-피롤리디노-3,4-디히드로카르보스티릴염산염을 수득한다. 백색분말물질.
융점 : 174.5∼177℃
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 93과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 2,4,7,12,17-18,26-28,31,34,54-55,57-58,61-63,65-67,78-82,84-85,100,102,105-110,112,114-119,121,123-126,128-132,134 -136,138,142,144 -147,149 -166,168 -173,175 -177,180,188,190a -19d,193 -195,197 -201,203-210,212,215-218,220-222,228-229,231-232,234-236,246,247,248,250의 화합물을 수득한다.
실시예 94
0.19g의 수소화리튬 알루미늄을 27ml의 테트라히드로푸란에 현탁시키고, 0.9g의
3-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 가하고, 혼합물을 아르곤 대기하에 2시간동안 가열 환류시킨다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름 추출액을 물로 세척하고, 무수 황산 마그네슘으로 건조시킨다.용매를 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액;디클로로메탄;에탄올=50;1)하여 정제한다. 목적 생성물을 에탄올-진한 염산을 이용하여 염산염으로 전환시키고, 에탄올로 재결정하여 0.27g의 3-에틸아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 황색의 침상과 유사한 결정.
융점 : 230∼232℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 94와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 5,6,8,9,11,14,16,19,23,25,32,37,38,39,41,49,50,53,56,59,60,68,69,70,71,
72,77,87,98,101,104,113,120,127,137,139,140,141,143,148,189,202,211,213,214,219,224,230,240-242의 화합물을 수득한다.
[실시예 95]
5.3g의 8-메틸카르보닐-3-카르브닐콜로라이드, 아세트니트릴에 용해시킨 1.7g의 아지드화 나트륨을혼합하여 제조한 현탁액을 실온에서 밤새 교반한다. 용매를 증발시킨 후, 얻어진 잔류물에 클로로포름을 가하고, 불용성 물질을 여거하고, 여액을 물로 세척하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨다. 용매를 중발시킴으로써,0.9g의 8-메틸카르보스티릴-3-카르복시 아지드를 수득한다.
NMR(CDC13)∂;2.51(3H, s), 7.19(1H,℃, J-7.5Hz), 7.50(1H, d, J-7.5Hz), 7.55(1H, d, J-7.5Hz),8.65 (1H, s), 9.51(1H, brs) .
[실시예 96]
20m1의 t-부틸 알코올에 용해시킨 0.8g의 8-메틸카르보스티릴 -3-카르복시아지드의 용액을 3시간동안가열환류시킨다. 반응 혼합물에 물을 가하고, 침전물을 여취하고, 침전물에 5m1의 진한 염산 및 20m1의 에탄올을 가하고, 혼합물을 2시간동안 가열 환류시킨다. 용매를 증발시키고, 얻어진 잔류물을 클로로포름으로재결정하여 0.53g의 3-아
물질.
융점 : 255∼260℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 96과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 1,3,13,15,30,33,103 및 187의 화합물을 수득한다.
[실시예 97]
100ml의 무수 디메틸포름아미드에 용해시킨 12.3g의 3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염의 용액에 1.9g의 60%-수소화나트륨을 가하고, 혼합물을 50℃에서 30분간 가열한다. 이 반응 혼합물에 6.53g의 요오드화메틸을 빙냉하에 적가한다. 모두 적가한 후에, 전체 혼합물을 50∼60℃에서 교반하며 가열한다. 반응 혼합물을 물에 쏟아 붓고, 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름충을 물로 세척하고건조시킨다. 클로로포름을 증발시키고, 얻어진 잔류물을 염산염으로 전환시키고 아세톤-n-헥산으로 재결정하여 12g의 1-메틸-3-디에틸아미노-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 염산염을 수득한다.
옅은 갈색 분말 물질.
융점 : 162.5∼164.5℃.
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 97과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 18,23-25,85,192,220,228-233,250,252-259.의 화합물을 수득한다.
[실시예 98∼108]
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표 5에 나타낸 화합물을 수득한다.
[실시예 109∼180]
적절한 출발 물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로서 하기 표 6에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표5]
Figure kpo00067
Figure kpo00068
Figure kpo00069
[표 6]
Figure kpo00070
Figure kpo00071
Figure kpo00072
Figure kpo00073
Figure kpo00074
Figure kpo00075
Figure kpo00076
Figure kpo00077
Figure kpo00078
Figure kpo00079
Figure kpo00080
Figure kpo00082
Figure kpo00083
Figure kpo00084
Figure kpo00085
Figure kpo00086
1)NMR : ∂(DMSO-d6) : 1.29(6H,t ; J=5.5Hz),1.90~2.14(4H,m),2.96~(8H,m), 4.76~4.89(1H,m), 7.01~7.18(3H,m), 7.40(1H,d ; J=7Hz), 10.29(1H,brs), 11.19(1H,s)
2)NMR :∂(DMSO-d6) : 0.99(3H,d;J=6Hz),1.19(3H,d ; J=6Hz),2.44(3H,s), 2.73~2.98(4H,m), 3.03~3.39(2H,m), 4.86~5.01(1H,m), 7.05~7.59(4H,m), 10.66(1H,brs), 10.99(1H,s),11.05(1H,s)
3)NMR : ∂(DMS0-d6):1.07(3H,t,J=7Hz,CH₂CH₃),1.14(3H,t,J=7Hz,CH₂CH₃),2.84(3H,s,N-CH₃),2.90-3.60(10H,,m,질소원자의 위치에 결합된 CH₂),3.90-4.10(2H,m,질소원자의 α위치에 결합된 CH₂),4.96＼2H,s-OCH₂CO-),6.99(1H,d,J=7Hz,방향족 H),7.10(1H,t,J=7Hz,방향족H),7.25(1H,d,J=7Hz,방향족 H),7.29(1H,익카르보스티릴 골격의 4-위치에 결합된 H),10.73(1H,brs,NH),10.9가1H,brsNH(하이드로클로라이드의 양성자)).
[실시예 181]
2.0g의 3-[4-(1-피롤리디닐카르보닐메틸)-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 염산염을 20ml의 테트라히드로 푸란에 현탁시키고, 이 현탁액에 20m1의 테트라히드로푸란에 용해시키킨 0.32g의 수소화리튬알루미늄의 용액을 질소 기류하에 교반하며 적가한다. 반응 혼합물을 동일온도에서 30분간 교반하고, 반응혼합물을 오일중탕에서 2시간 동안 가열환류시킨다. 반응 혼합물에 물과 염화에틸렌을 가하고, 셀라이트[규조토의 상품명, J0hns Manvi11e Sa1es C0rp.(U.S.A)의 상품]로 여과한다. 여액을 메틸렌클로라이드로 추출하고 포화염화나트륨 수용액으로 세척하여, 무수황산나트륨으로 건조시키고, 감압하에 용매를 제거하여농축시키고, 얻어진 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리액 : 메틸렌클로라이드 : 메탄올=10:1)하여 정제한다. 목적 생성물을 에탄올-HC₁을 이용하여 이 염산염으로 전환시키고, 에탄올-물로 재결정하여1.15g의 3-[4-[2-(1-필롤리디닐)에민-1-피페라지닐]-8-메틸카르보스티릴 이염산염을 수득한다.옅은 황색의 침상과 유사한 결정, 융점 : 300℃ 이상.
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 79,142 및 161의 화합물을 수득한다.
[실시예 182]
a) 5.1g의 2-메틸-3-아미노아세트아닐리드를 150m1의 아세톤에 용해시키고,30m1의 아세트에 용해시킨 5.7g의 염화신나모일 및 50m1의 물에 용해시킨 5.2g의 탄산칼륨의 용액을 상기 용액에 빙냉하에 교반하며 적가한다. 반응 혼합물을 동일온도에서 2시간 동안 교반하고, 반응 혼합물을 빙수에 쏟아붓는다. 침전을여취하여, 물로 세척하고 건조하여 8.64g의 N-(3-아세틸아미노-2-메틸)페닐신나모일아미드를 수득한다.
NMR(DMS0-d6);2.10(3H, s), 2.14(3H,s), 6.92(H, d,J=15Hz), 7.05∼7.65(8H, m), 7.60(1H, d,J=15Hz),9.28(1H,brs),9.44(1H,brs).
b) 24g의 염화 알루미늄을 25m1의 클로로벤젠에 현탁시키고, 이 현탁액에 8g의 N-(3-아세틸아미노-2-메틸)페닐신나모일아미드를 가하고, 혼합물을 110∼120℃에서 5시간동안 교반하에 가열한다. 반응 혼합물을 빙수에 쏟아붓고, 침전을 여취한다. 침전물을 n-헥산, 디에틸 에테르 및 물을 사용하여 차례로 세척하고, 디메틸포름아미드로재결정하여4.09g의7-아세딜아미노-8-메틸카르보스티릴을수득한다.
NMR(DMS0-d6) : 2.10(3H,s), 2.30(3H,s), 6.45(1H,d,J=9Hz), 7.23(1H,d,J=8Hz),
7.47(1H, d,J=8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H, brs).
[실시예 183]
5g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르브스티릴에 60mI의 20% 염산을 가하고, 혼합물을 오일중량에서 교반하며 110∼120t로 가열한다.4시간 동안 가열한 후에, 용매를 감압하에 증발시키고, 얻어진 잔류물을 뜨거운 메탄올로 세척하여, 건조시키고, 메탄올-물로 재결정하여 5.25g의 7-아미노-8-메틸카르보스티릴 염산염을 수득한다. 옅은 황색의 침상과 유사한 결정. 융점 : 290∼293℃ (분해).
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182와 비슷하게 반응을 실시함으로써 실시예 1,3,13,15,30,33,45 및103의 화합물을 제조한다.
[실시예 184]
2.07g의 2-베틸-3-(β-브로모아크릴로일) 아미노아세토아닐리드에 10m1의 진한 염산을 가하고 70t에서 가열한다. 반응 혼합물을 빙수에 쏟아붓고, 수지셩 물질을 제거하고, 잔류물을 10N-Na0H로 중화시킨다. 침전된 결정을 여취하여, 물로 세척하고 디에틸포름아미드로 재결정하여 0.75g의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티 릴을 수득한다.
NMR(DMS0-d6) :2.10(3H,s), 2.30(3H,s), 6.45(1H,d,J=9Hz), 7.23(1H,d,J=8Hz), 7.47(1H,d,J=8Hz), 7.85(1H,d,J=9Hz), 9.60(1H, brs).
[실시예 185]
3ml의 아세톤에 용해시킨 2.15g의 2-메틸-3-(β,β-디에톡시프로피오닐)아미노-아세트아닐리드의 용액을 60℃ 에서 교반하에 20m1의 진한 염산을 적가한다. 30분동안 계속 반응시키고, 용매를 증발시키고, 잔류물을 10N-NaOH로 중화한다. 침전된 결정을 여취하여, 물로 세척하고, 디메틸포름아미드로 재결정하여1.25g의7-아세틸아미노-8-메틸카르보스티릴을 수득한다.
NMR(DMS0-d6) : : 2.10(3H,s), 2.30(3H,s), 6.45(1H,d,J=9Hz), 7.23(1H,d,J=8Hz), 7.47(1H,d,J=8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H, brs).
[실시예 186]
a) 10.7g의 2-메틸-3-아미노아세트아닐리드를 150ml의 디메틸술폭시드에 용해시키고, 3.12g의 수소화나트륨(오일에 현탁,50%)을 서서히 가한다. 반응혼합물을 실온에서 30분간 교반하고,6.4g의 에틸 프로피오네이트를 서서히 가한다. 전체 혼합물을 실온에서 12시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 과량의 포화염화나트륨 수용액에 쏟아붓고, 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름충을 포화염화나트륨 수용액으로 세척하고, 클로로포름을 감압하에 증발시켜 3-에티닐카르보닐아미노-2-메틸-아세트아닐리드를 수득한다.
b) 상기 단계 a)에서 수득한 3-에티닐카르브닐아미노-2-메틸아세트아닐리드를 5m1의 에탄올에 용해시키고, 이 용액을 60∼70℃에서 교반하에 서서히 진한 황산에 적가한다. 모두 적가한 후, 반응 혼합물을 30분간 더 교반한다. 반응 혼합물을 얼음에 쏟아붓고,10N-Na0H로 중화시키고, 침전된 결정을 여취한다.
디메틸포름아미드로 재결정하여 8.85g 의 7-아세틸아미노-8-메틸카르보스타릴을 수득한다.
NMR(DMS0-d6) : 2.10(3H,s), 2.30(3H,s), 6.45(1H,d,J=9Hz), 7.23(1H,d,J=8Hz), 7.47(1H,d,8Hz), 7.85(1H, d, J=9Hz), 9.60(1H,brs).
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182,183∼186과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 실시예 35∼89, 95, 109∼180, 191∼233 및 240∼245의 화합물 및 하기 표 7에 나타낸 화합물을 수득한다.
[표7]
Figure kpo00087
Figure kpo00088
[실시예 190]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표8에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표 8]
Figure kpo00089
Figure kpo00090
[실시예 191∼233]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표9에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 234∼239]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표10에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 240∼245]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 35와 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표11에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 246∼248]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182,183∼186과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표12에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 249]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 1과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표13에 나타낸 화합물을 제조한다.
[실시예 250∼259]
적절한 출발물질을 이용하여 실시예 182,183∼186과 비슷한 방법으로 반응을 실시함으로써 하기 표14에 나타낸 화합물을 제조한다.
[표9]
Figure kpo00091
Figure kpo00092
Figure kpo00093
Figure kpo00094
Figure kpo00095
Figure kpo00096
Figure kpo00097
Figure kpo00098
Figure kpo00099
[표 10]
Figure kpo00100
Figure kpo00101
[표 11]
Figure kpo00102
Figure kpo00103
[표 12]
Figure kpo00104
Figure kpo00105
[표 13]
Figure kpo00106
Figure kpo00107
[표 14]
Figure kpo00108
Figure kpo00109
Figure kpo00110
3) N.M.R(CDCl3)δ : 1.14(3H, t, J=7Hz), 1.33(3H, t, J=7Hz), 2.37(3H,s), 2.55-2.75(4H,m), 3.27(4H,br), 3.39(2H,q, J=Hz), 3.51(2H, q, J=7Hz), 5.16(2H,s), 7.00(1H,S), 7.09(1H, t, J=7.5Hz), 7.17(1H, t, j=7.5Hz), 7.35(1H,t, J=7.5Hz), 7.48(1H, d, J=7.5Hz).

Claims (27)

  1. 하기 일반식(3)의 화합물을 용매 존재 또는 부재하에 산과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1a)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00111
    Figure kpo00112
    [상기식중, R²는 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기, 피리떨기, 일반식
    Figure kpo00113
    의 기(식중, R⁴ 및 R5뿐 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들 없이,5-∼9-헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5-∼9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기,치환기로서 1∼3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C₁∼C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 테트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, C3∼C8시클로알킬-저급알킬기, C3∼C8시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜 -저급알킬기 , 저급알킬아미노기 , 저급알키닐기 , 저급알카노일 -저급알킬기, 페닐 - 저급알콕시카르보닐기,일반식
    Figure kpo00114
    의 기((식중,R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며,각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또는R13및 R14뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는그들 없이,5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6-원 헤테로시클릭기는 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
    Figure kpo00115
    의 기로서, 식중 A'는 저급알킬렌기이며; 및 m은 0 또는 1이다)), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군으로 부터 선택된 1∼3 치환기를 가질 수도 있다.), 피페리딘 고리상에 치환기로서저급알킬기 또는 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기 또는 치환기로서 1∼2 저급알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기들을 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기이고, R³는 치환기로서 1∼3 할로겐원자를 가질 수도 있는 저급알킬기, 저급알콕시기, 히드록시기, 할로겐원자, 카르복실기, 페닐기, 페닐-저급알콕시기, 저급알케닐옥시기, 저급알카노일-저급알콕시기 또는 저급알킬아미노카르브닐-저급 알콕시기이며; R6은 저급 알킬기이고; n은 0,1 또는 2이고; R² 및 R³는 각각 카르보스티릴 골격내의 3-∼8-위치들중 임의의 위치에 치환되며, 단 R² 및 R³는 동시에 동일한 위치에 치환될 수는 없고, R² 및 R³의 적어도하나는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환되며; n이 0 또는 1이고 R³이 저급알콕시기인 경우, R²는피페라진 고리의 4위치의 치환기로서, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐 고리상에치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되며 ; 일반식
    Figure kpo00116
    의 기에서 R⁴ 및 R5가 이들이 결합하고 있는 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 는 피라졸릴기를 형성하는 경우, 일반식
    Figure kpo00117
    의 기는 카르보스티릴 골격의 3- 또는 4위치에 치환되어야하고 ; R²가 피리딜기인 경우, R³는 히드록시기, 할로겐원자 또는 저급알콕시기이어서는 안된다.
  2. 하기 일반식(4)의 화합물을 용매 내에서 염기성 화합물의 존재하에 고리화 반응을 행함을 특징으로하는, 하기 일반식(1b)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00118
    Figure kpo00119
    [상기 식중, R²,R³ 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같고, R¹은 수소원자, C₁∼C16알킬기, 저급알케닐기,저급알키닐기, 페닐-저급 알킬기, 카르복시-저급알길기, 페닐-저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 아미도-저급 알킬기, 치환기로서 저급 알킬기를 갖는 아미도-저급 알킬기, 또는 5- 또는 6원 헤테로시클릭기로 치환된 카르보닐-저급알킬기이고; R² 및 R³는 각각 카르보스티릴 골격 내의 3-∼8- 위치들중 임의의 위치에 치환되며, 단, R² 및 R³는 동시에 동일한 위치에 치환될수는 없고, R² 및 R³의 적어도 하나는 카르보스티릴 골격내의 8위치에 치환되며 ; n이 0 또는 1이고 R³이 저급 알콕시기인 경우, R²는 피페라진고리의 4위치의 치환기로서, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐.-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기어어서는 안되며 ; R²가 카르보스티릴 골격의 4-위치에 치환된 경우, R¹은 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급알킬기어어서는 안되고 ; n이 2이고 ; R²가 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐기이거나 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기가 카르보스티릴 골격의 4-모르필리닐기, 4-위치에 치환되며 ; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고 ; R³의 하나가 카르보스티릴 골격의 3-위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격의 8-위치에 치환된 또 다른 R³는 염소 원자 또는 브롬원자 이어서는 안되며 ; 일반식
    Figure kpo00120
    의 기에서 R4및 R5가 이들이 결합하고 있는 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 뙤는 피라졸릴기를 형성하는 경우, 일반식
    Figure kpo00121
    의 기는 카르보스티릴 골격의 3- 또는 4위치에 치환되어야 하고 ; R²가 피리딜기인 경우, R³는 히드록시기, 할로겐원자 또는 저급 알콕시기이어서는 안된다.
  3. 하기 일반식(1e)의 화합물과 하기 일반식(6)의 화합물을 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1f)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00122
    R²-H (6)
    Figure kpo00123
    [상기 식중, R¹, R³ 및 n은 제1항에 정의한 바와 같으며 ; X²는 할로겐원자이고; 카르보스티릴 골격내의3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 단일 또는 이중 결합이며; 및 R9는 아지도기, 카르보닐아지도기, 프탈이미도기, 피롤리디닐기, 피리딜기 또는 일반식
    Figure kpo00124
    의 기(식중, R4및 R5뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들 없이,5-∼9-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 5- 도는 9-원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기,페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기, 치환기로서 1∼3히드록시기,저급 알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수드 있는 C₁∼C10알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시 카르보닐-저급알킬기, 데트라히드로푸릴-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, C3∼C8시클로알킬-저급 알킬기, C3∼C8시클로알킬기, 페닐 고리상에 치환기로서 할로겐 원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급 알킬기, 피리딜-저급 알킬기, 저급 알킬 아미노기, 저급 알키닐기, 저급 알카노일-저급 알킬기, 페닐-저급 알콕시카르보닐기,일반식
    Figure kpo00125
    의 기(식중,R13및 R14는 각기 동일하거나 다르며, 각각 수소원자, 저급알킬기, 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급 알킬기이고 ; 또한 R13및 R14뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는, 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이,5- 또는 6-원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있으며 ; 상기 헤테로시클릭기는 치환기로서 저급 알킬기를 가질 수도 있고 ; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
    Figure kpo00126
    의 기로서, 식중 A'는 저급알킬렌기이며; 및 m은 0 또는 1이다.)), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로구성된 군으로 부터 선택된 1∼3치환기를 가질 수도 있다), 피페리딘 고리상에 치환기로서 저급알킬기 또는 페닐-저급알킬기를 가질 수도 있는 피페리디닐기 또는 치환기로서 1∼2저급알킬기를 갖거나 또는 갖지 않는 아미노기들을 가질 수도 있는 퀴누클리디닐기이고 ; R9및 R3는 각각 카르보스티릴 골격내의 3-∼8위치들중 임의의 위치에 치환되며, 단 R9및 R3는 동시에 동일한 위치에 치환될수 없고, R² 및 R³의 적어도하나는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 치환되며 ; n이 0 또는 1이고 ; R³이 저급 알콕시기인 경우, R9는 피페라진 고리의 4-위치의 치환기로서, 페닐고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐고리상에치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되며 ; R9가 카르보스티릴 골격의 4-위치에 치환되고 ; 3-과 3-위치의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 경우, R¹은 저급 알킬기, 저급 알켸닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이어서는 안되고; n이 2이고; 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이고 ; R9가 4-모르폴리닐기,4-메틸-1-피페라지닐기이거나 4-(2-히드륵시에틸) -1-피페라지닐기가 카르브스티릴 골격내의 4-위치에 치환되며 ; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기, 또는 프로파르길기이고; R³의 하나가 카르보스티릴 골격의 3-위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격의 8-위치에 치환된 또다른 R³는 염소원자 또 R⁴는 브롬원자이어서는 안되며; 일반식
    Figure kpo00127
    의 기에서 R4및 R5가 이을이 결합하고 있는 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성하는 경우, 일반식
    Figure kpo00128
    의 기는 카르보스티릴 골격의 3- 또는 4위치에 치환되어야 하고 ; R9가 피리딜기인 경우, R3는 히드록시기, 할로겐원자 또는 저급알콕시기이어서는 안된다.
  4. 하기 일반식(Ic)의 화합물을 하기 일반식(10)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1/ι)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00129
    (1c)
    Figure kpo00130
    (10)
    Figure kpo00131
    (11)
    [상기 식중, R¹, R³, n 및 카르브스티릴 골격내의 3-과 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 제2항에 정의한 바와 같고 ; R12는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서,1∼3히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C₁∼C10알킬기, 저 급알케닐기, 저급알콕시카르보닐 -저급알킬기, 테트라히드로푸릴 -저급알킬기, 티에닐 - 저급알킬기, C3∼C8시클로알킬-저급알킬기, C3∼C8시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급알킬기, 피리딜-저급알킬기, 저급알킬아미노기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬기, 페닐-저급알콕시카르보닐기, 일반식
    Figure kpo00132
    의 기(식중,R13및 R14는 각각 동일하거나 다르며, 각각 저급알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기이고 ; 또는 R13및 R14뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이,5- 또는 6- 원 헤테로시클릭기를 형성하 수도 있으며 ; 상기 5- 또는 6- 원 헤테로시클릭기는 치환기로서 저급알킬기를 가질 수도 있고; A는 저급알킬렌기 또는 일반식
    Figure kpo00133
    의 기로서, 식중 A'는 저급알킬렌기이며; 및 m은 0 또는 1이다.), 및 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기이고; ι은 0 또는 1∼3의 정수이고 ; 카르보스티릴 골격 내의 3-과 4- 위치의 탄소-탄소 결합은 단일 또는 이중 결합이며 ;X² 및 X³는 할로겐원자이며 ;일반식
    Figure kpo00134
    의 기 및 R³는 각각 카르브스티릴 골격내의 3-∼8- 위치 중 임의의 위치에 치환되며,단
    Figure kpo00135
    및 R³는 동시에 동일한 위치에 치환되어서는 안되며 ;
    Figure kpo00136
    및 R³의 적어도 하나는 카르보스티릴 골격의 8- 위치에 치환되고 ;일반식
    Figure kpo00137
    의 기가 카르보스티릴 골격의 4-위치에 치환되고 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 경우, R¹은 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이어야 한다.
  5. 하기 일반식(1c)의 화합물을 일반식(11)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(1m)으로나타내어지는 카르보스티릴 유도체의 제조방법.
    Figure kpo00138
    (1c)
    Figure kpo00139
    (11)
    Figure kpo00140
    [상기식중, R¹, R³, n, R12및 ι은 제4항에 정의한 바와 같고 ; 카르보스티릴 골격내의 3-과 4- 위치사이의 탄소-탄소 결합은 단일 또는 이중 결합이며; Z는 메틸기, 질소원자, 산소원자 또는 황이고; a는 2 또는 3이며; X² 및 X³는 할로겐원자이고; 일반식
    Figure kpo00141
    및 R³는 각각 카르브스티릴 골격내의 3-∼8- 위치 중 임의의 위치에 치환되며, 단 일반식
    Figure kpo00142
    및 R³은 동시에 동일한 위치에 치환되는 안되며,· 일반식
    Figure kpo00143
    의 기 및 R3의 적어도 하나는 카르보스티릴 골격의 8- 위치에 치환되어 있으며 ;n이 0 또는 1이고 R³가 저급암콕시기인 경우, 일반식
    Figure kpo00144
    의 기는 피페라진 고리내의 4위치의 치환기로서 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는페닐-저급알킬기, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르브닐-저급 알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기 이어서는 안되며, 일반식
    Figure kpo00145
    이 카르보스티릴 골격의 4위치에 치환되고, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4 위치의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 경우, R¹은 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급알킬기 이어서는 안되고; n이 2이고; 카르보스티릴 골격 내의 3- 및 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이며; 일반식
    Figure kpo00146
    의 기가 카르보스티릴 골격의 4 위치에 치환된 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸) -1-피페라지닐이고; R¹이수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이며 ; R³의 하나가 카르보스티릴 골격의 3- 위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격 중의 8- 위치에 치환된 또 다른 R³가 염소 원자 또는 브롬원자이어서는 안된다.
  6. 하기 일반식(14)의 화합물을 산의 존재하에 및 용매의 부재 또는 존재하에 고리형성 반응을 행함을 특징으로 하는, 하기 일반식(1r)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00147
    Figure kpo00148
    [상기식중, R¹, R², R³ 및 n은 제2항에 정의한 바와 같고 ; R² 및 R³는 각각 카르보스티릴 골격내의 3-∼8- 위치들중 임의의 위치에 치환되며, 단 R² 및 R³는 동시에 동일한 위치에 치환될수는 없으며 ; R²및 R³는 적어도 하나는 카르보스티릴 골격의 8- 위치에 치환되고 ; n이 0 또는 1이고 R³이 저급알콕시기인 경우, R²는 피페라진 고리의 4위치의 치환기로서, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기 이어서는안되며 ; R²가 카르보스티릴 골격의 4- 위치에 치환된 경우, R¹은 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급알킬기 이어서는 안되고 ; n이 2이고 ; R²가 카르보스티릴 골격의 4- 위치에 치환원4- 모르폴리닐기,4-메틸-1-피페라지닐기 이거나 4-(2-히드록시에틸) -1-피페라지닐기이며; R¹이수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고 ; R³의 하나가 카르보스티릴 골겨의 3- 위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르브스티릴 골격의 8- 위치에 치환된 또 다른 R³는 염소 원자또는 브롬원자이어서는 안되며 ;일반식
    Figure kpo00149
    의 기에서 R4및 R5가 이들이 결합하고 있는 인첩한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 헝성하는 경우, 일반식
    Figure kpo00150
    의 기는 카르보스티릴 골격의 3- 또는 4 위치에 치환되어야 하고 ; R²가 피리딜기인 경우, R³는 히드록시기, 할로겐원자 또는 저급 알콕시기이어서는 안되며 ; D는 일반식 R15CH=CH-의 기(식중, R15는 페닐기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자이다.), 일반식
    Figure kpo00151
    의 기(식중, R16및 R17은 각각 저급알킬기이다.) 또는 일반식 HC=C-의 기이다.]
  7. 하기 일반식(b-1)의 화합물을 용매의 존재 또는 부재하에 산과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(b-2)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00152
    (b-1)
    Figure kpo00153
    (b-2)
    [상기 식들중, R3및 R6는 제1항에서 정의한 바와 동일하고; p는 정수 1∼2이며; R2a는 일반식
    Figure kpo00154
    의 기(식중, R4a및 R5a뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 다른 질소원자, 황원자 또는 산소원자와 함께 또는 그들없이,5-∼9- 원 헤테로시클릭기를 형성할 수도 있고 ; 5-∼9- 원 헤테로시클릭기는 페닐기, 히드록시기, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 페닐-저급알킬기, 치환기로서 1∼3 히드록시기, 저급알콕시기 또는 할로겐원자를 가질 수도 있는 C₁∼C10알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 데트라히드로푸라닐-저급알킬기, 티에닐-저급알킬기, C3∼C8시클로알킬-저급알킬기, C3∼C8시클로알킬기, 페닐고리상에 치환기로서 할로겐원자를 가질 수도 있는 벤조일-저급 알킬기, 피리덜-저급알킬기, 저급알킬아미도기, 저급알키닐기, 저급알카노일-저급알킬 기, 페닐-저급 알콕시카르보닐기, 일반식
    Figure kpo00155
    의 기(식중, R13, R14, A 및 m은 제1항에 정의한 바와 같다) 및 페닐 고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수도 있는 벤조일기로 구성된 군으로부터 선택된 1∼3 치환기를 가질 수도 있다)이고; 단,(R3)P및 R2a는 카르보스티릴 골격내의 8- 위치에 결합할 수 있으며 ; R2a가 일반식
    Figure kpo00156
    의 기(식중, R4및 R5가 이들과 결합된 인접한 질소원자와함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격 내의 3- 또는 4- 위치에 치환되어야 하고 ; p가 1이고, R³이 저급알콕시기인 경우, R2a는 피페라질 고리의 4위치의치환기로서, 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급알콕시기를가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기어서는 안되며; R2a가 카르보스티릴 골격 내의 3-위치에 결합된 1- 피페리디닐기인 경우, R³은 카르브스티릴 골격내의 4- 위치에는 결합되지 않는 페닐기이다.
  8. 하기 일반식(c-1)의 화합물을 용매의 존재 또는 부재하에 산과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(c-2)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00157
    (c-1)
    Figure kpo00158
    (c-2)
    [상기 식들중, R2a및 R6은 제7항에 정의한 바와 동일하고 ; 단, 카르보스티릴 골격 내의 6- 위치는 1-피페리디닐기, 히드록시기, 저급알킬기 및 페닐기로 구성된 군으로부터 선택된 1∼2 치환기를 가질 수 있는피롤리디닐기로 치환되어서는 안되고 ; R2a는 피페라진 고리상의 4- 위치의 치환기로서, 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1- 피페라지닐기 이어서는 안되며 ; R2a가 일반식
    Figure kpo00159
    -N 의 기(식중, R4및 R5뿐만 아니라 이들과 결합하고 있는 인접한 질소원자는 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 헝성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격 내의 3- 또는 4- 위치에 치환되어야 한다·
  9. 하기 일반식(4-1)의 화합물을 용매 내에서 염기성 화합물의 존재하에 고리화 형성 반응을 행함을 특징으로 하는, 하기 일반식(b-1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00160
    (4-1)
    Figure kpo00161
    (b-1)
    (상기 식들중, R¹, R³ 및 p는 제1항에서 정의한 바와 동일하고 ; R2a는 제7항에서 징의한 바와 동일하며; 단,(R³)p 및 R2a는 카르브스티릴 골격내의 8- 위치에 결합되어서는 안되며; R2a가 일반식
    Figure kpo00162
    의 기(식중, R4및 R5는 이들과 결합된 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르브스티릴 골격 내의 3- 또는 4- 위치에 치환되어야 하고; R2a가 카르보스티릴 골격 내의 4- 위치에 치환되고, 카르보스티릴 골격 내의 3- 및 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합의 이중 결합인 경우, R¹은 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기어서는안되며; p가 1이고 R³가 저급 알콕시기인 경우, R²는 피페라진 고리의 4- 위치의 치환기로서, 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시 카르보닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되고; p가 1이고; R2a가 카르보스티릴 골격 내의4- 위치에 치환된 4- 모르폴리닐기,4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기이며; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고; R³가 카르복실기인 경우, R³는카르보스티릴 골격 내의 3- 위치에 치환되어서는 안되며; p는 2이고; R2a가 카르보스티릴 골격 내의4- 위치에 치환된 4-모르폴리닐기,4-에딜-1-피페라지닐기 또는 4-(3-히드록시에틸) -1-피페라지닐기이며; R¹이 수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고; R³의 하나가 카르보스티릴 골격 내의 3- 위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격 내의 5-∼7- 위치에 치환된 또 다른 R³는 염소원자 또는 브롬원자이어서는 안되고, R2a가 카르브스티릴 골격 내의 3- 위치에 결합된 1-피페리디닐기인 경우, R³는 카르브스티릴 골격 내의 4- 위치에는 결합되지 않은 페닐기이다.
  10. 하기 일반식(4-2)의 화합물을 용매 내에서 염기성 화합물의 존재하에 고리 형성 반응을 행을 특징으로 하는, 하기 일반식(b-2)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00163
    (4-2)
    Figure kpo00164
    (b-2)
    (상기 식들중, R¹ 및 R2a는 제9항에서 정의한 바와 동일하고, R¹이 수소원자인 경우, 카르브스티릴 골격내의 3- 및 4- 위치는 피페라지닐 고리 내의 4- 위치의 치환기로서, 페닐-저급 알킬기, 벤조일-저급알킬기 또는 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 피페라지닐기와 결합되어서는 안되며; R2a는 카르보스티릴 골격내의 8- 위치에 결합되어서는 안되고 ; R¹이 수소원자, 저급알킬기, 저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이고 ; R2a가 피롤디닐기 또는 피페리디닐기인 경우, R2a는 카르보스트릴 골격 내의 3- 또는 4- 위치에 치환되어서는 안되며; R¹이 수소원자, 저급 알키닐기, 저급 알케닐기, 저급 알키닐기 또는 페닐-저급 알킬기인 경우, R2a는 피페라진 고리 내의 4- 위치의 치환기로서, 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기,저급 알케닐기, 저급 알콕시카르브닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되고; R2a가 일반식
    Figure kpo00165
    의 기(식중, R4및 R5뿐만 아니라 이들과 결합된 인접한 탄소원자는 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4- 위치에 치환되어야 한다.
  11. 하기 일반식(1e-a)의 화합물을 하기 일반식(6A)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1E)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법
    Figure kpo00166
    R2a-H (6A)
    Figure kpo00167
    상기 식들중, R¹, R³, p 및 카르보스티릴 골격 내의 3- 및 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합은 제9항에 정의한 바와 동일하며; X²는 제 3항에 정의한 바와 동일하고; 단,(R³)p 및 R2a는 카르보스트릴 골격 내의 8- 위치에 결합되어서는 안되고; R2a가 일반식
    Figure kpo00168
    의 기(식중, R4및 R5는 이들과 결합된 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르브스티릴 골격 내의 3- 또는 4- 위치에 치환되어야 하고; R2a가 카르보스티릴 골격 내의 4- 위치에 치환되고, 카르보스티릴 골격 내의 3- 및 4- 위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 경우, R¹은 저급 알킬기,저급알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이어서는 안되며; p가 1이고 R³가 저급 알콕시기인경우, R²는 피페라진 고리의 4- 위치의 치환기로서, 페닐 고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수있는 페닐-저급알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알콕시카르보닐-저급알킬기, 저급알키닐기 또는페닐 고리상에 치환기로서 저급알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질수 있는 1-피페라지닐기이어서는안되고; p가 1이고; 카르보스티릴 골격 내의 3- 및 4- 위치의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이고; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4- 치환된 4- 모르폴리닐기,4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기이며; R¹이 수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고; R³가 카르복실기인 경우, R³는 카르보스티릴 골격 내의 3- 위치에 치환되어서는 안되며; p가 2이고; 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이고; R2a가카르브스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 4-모르폴리닐기,4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(3-히드록시에틸) -1-피페라지닐기이며;R¹이 수소원자, 저급알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고; R³의 하나가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르보스티릴 골격내의 5-∼7-위치에 치환된 또 다른 R³는 염소원자 또는브롬원자아이서는 안되고, R2a가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 결합된 1-피페리디닐기인 경우, R³는카르보스티릴 골격내의 4-위치에는 결합되지 않는 페닐기이다.
  12. 하기 일반식(1e-b)의 화합물을 하기 일반식(6A)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1F)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법
    Figure kpo00169
    (1e-b)
    R2a-H (6A)
    Figure kpo00170
    (1F)
    상기 식들중, R1, R2a및 카르보스티릴 내의 3- 및 4-의치 사이의 탄소-탄소 결합은 제11항에 정의한바와 같고; R¹이 수소원자이거나 저급 알키닐기이고, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치의 탄소-탄소 결합이 단일 결합인 경우, 카르보스티릴 골격내의 6-위치는 1-피페리디닐기, 히드록시기, 저급 알킬기및 페닐기로 구성된 군으로부터 선택된 1∼2치환기를 가질 수 있는 피롤리디닐기로 치환되어서는 안되며;R¹이 수소원자이고 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 경우,카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치는 피페라지닐 고리의 4-위치의 치환기로서, 페닐-저급 알킬기, 벤조일-저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 피페라지닐기와 결합되어서는 안되고; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기, 또는 페닐-저급 알킬기이고;R2a가 피롤리디닐기 또는 피페리디닐기이고; R2a가 카르보스티릴 클격내의 3- 또는 4-위치에 치환된 경우, 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치는 이중 결합이어서는 안되며; R¹이 수소원자, 저급 알킬기,저급 알켸닐기, 저급 알키닐기, 또는 페닐-저급 알킬기인 경우, R2a는 피페라진 고리의 4-위치의 처환기로서, 페닐 고리상의 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알켸닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되며; R²가 일반식
    Figure kpo00171
    의 기(식중, R4및 R5뿐만 아니라 이들과 결합된 인접한 질소원자는 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는피라졸릴기를 형성한다)의 기인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격의 3- 또는 4-위치에 치환되어야 한다.
  13. 하기 일반식(1c-a)의 화합물을 하기 일반식(10)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1ι -1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00172
    (1c-a)
    Figure kpo00173
    (10)
    Figure kpo00174
    (상기 식들중, R¹, R³, P, R12, X², X³, ι 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치사이의 탄소-탄소 결합은 제4항에 정의한 바와 동일한 의미를 가지며, 단, (R³)P및 일반식
    Figure kpo00175
    의 기는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되고, 일반식
    Figure kpo00176
    의 기가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환되고, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결함인 경우, R¹은 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이서는 안된다.
  14. 하기 일반식(1c-b)의 화합물을 하기 일반식(10)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1ι-2)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의염의 제조방법.
    Figure kpo00177
    (1c-b)
    Figure kpo00178
    (10)
    Figure kpo00179
    (11-2)
    (상기 식들중, R¹, R12, X², X³, ι 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소결합은제13항에 저의한 바와 동일한 의미를 가지며, 단, R¹이 수소원자 또는 저급 알키닐기이고 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 단일 결합인 경우, 카르보스티릴 골격내의 6-위치는 1-피페라디닐기, 히드록실기, 저급 알킬기 및 페닐기로 구성된 군으로부터 선택된 1∼2치환기를 가질 수 있는피롤리디닐기로 치환되어서는 안되며 ; 일반식
    Figure kpo00180
    의 기는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되고; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이고 ;ι이 0이며 ;일반식
    Figure kpo00181
    의 기가 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환된 경우, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이어서는 안된다.
  15. 하기 일반식(1c-i)의 화합물을 하기 일반식(11)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1m-1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00182
    (1c-i)
    Figure kpo00183
    (11)
    Figure kpo00184
    (1m-1)
    (상기식중, R¹, R³, p, X², X³, X12, ι 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 제13항에서 징의한 바와 동일하며, Z 및 a는 제5항에서 정의한 바와 동일하며 ; 단,(R³)p와 일반식
    Figure kpo00185
    의 기는 카르브스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되고 ; 일반식
    Figure kpo00186
    의 기가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환되고 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치의 탄소-탄소 결합이 이중 결합인 경우, R¹은 저급 알킬기, 저급 알켸닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이어서는 안되며; p가 1이고; R³이 저급 알콕시기인 경우, 일반식
    Figure kpo00187
    의 기는 피페라진고리의 4-위치의 치환기로서, 페닐 고리상에 치환기로서 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 저 급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되고; p가 1이고;카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이며;일반식
    Figure kpo00188
    의 기가 카르브스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기이고; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기 또는프로파르길기이며 ; R³이 카르복실기인 경우, R³은 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환되어서는 안되고 ; p가 2이고 ; 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치의 탄소-탄소 결합이 이중 결합이며, 일반식
    Figure kpo00189
    의 기가 카르보스티릴 골격내의4-위치에 치환된 4-모르폴리닐기, 4-메틸-1-피페라지닐 또는 4-(2- 히드록시에틸)-1-피페라지닐기이고; R¹이. 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이며; R³의 하나가 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환된 카르복실기인 경우, 카르브스티릴 골격내의 5-∼7-위 치에 치환된 또다른 R³은 염소원자 또는 브롬원자이어서는 안되고; 일반식
    Figure kpo00190
    의 기가 카르보스티릴 골격내의 3-위치,에 결합된 1-피페리디닐기인 경우, R³는 카르보스티릴 골격내의 4-위치에는 결합되지 않는 페닐기이다)
  16. 하기 일반식(1c-ii)의 화합물을 하기 일반식(11)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(1m-2)로 나타내어지는 카르브스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00191
    (1c-ii)
    Figure kpo00192
    (11)
    Figure kpo00193
    (1m-2)
    (상기식중, R¹, X², X³, R12, ι, Z, a 및 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 제15항에서 정의한 바와 동일하며, R¹이 수소원자이고 카르보스티릴 골격내의 3-과 4-의치 사이의 탄소 결합이 이중 결합인 경우, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치는 피페라지닐 고리의 4-위치의 치환기로서 페닐-거급 알킬기, 벤조일-저급 알킬기 또는 페닐 고리상의 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 피페라지닐기와 결합되어서는 안되며; 또한 일반식
    Figure kpo00194
    의 측쇄가 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되고; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이고; 일반식
    Figure kpo00195
    의 측쇄가 피롤리디닐기 또는 피페리디닐기이며; 상기한 일반식의 측쇄가 카르보스티릴 골격의 3- 또는 4-위치에 치환된 경우, 카르보스티릴 골격내의 3- 및 4-위치 사이의 탄소-탄소 결합은 이중 결합이어서는 안되며; R¹이수소원자, 저급 알킬기, 저급 알제닐기, 저급 알키닐기 또는 페닐-저급 알킬기인 경우, 상기한 일반식의측쇄는 피페라진 고리의 4-위치의 치환기로서 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르보닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안된다)
  17. 하기 일반식(14-1)의 화합물을 산의 존재하 및 용매의 존재하에 고리학 형성 반응을 행함을 특징으로 하는, 하기 일반식(1r-1)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00196
    (14-1)
    Figure kpo00197
    (1r-1)
    (상기 식들 중, R¹, R2a, R³ 및 p는 제9항에서 정의한 바와 같고, D는 제6항에서 정의한 바와 같으며 ; (R3)P및 R2a는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되고; R2a가 일반식
    Figure kpo00198
    의 기(식중, R4및 R5는 이들과 결합된 인접한 질소원자와 함께 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환되어야 하며; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 경우, R¹은 저급 알킬기, 저급 알켸닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이어서는 안되고; p가 1이고, R³이 저급 알콕시기인 경우, R²는 피페라진 고리 내의 4-위치의 치환기로서,페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알켸닐기,저급 알콕시카르브닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기이어서는 안되며; p가 1이고; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 4-모르폴리노기,4-메틸-1-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸) -1-피페라지닐기이며; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고; R³이 카르복실기인 경우,R³은 카르보스티릴 골격내의 3-위치에 치환되어서는 안되고; p가 2이고; R2a가 카르보스티릴 골격내의 4-위치에 치환된 4-모르폴리닐기, 4-메틸-피페라지닐기 또는 4-(2-히드록시에틸)-1-피페라지닐기이며; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 알릴기 또는 프로파르길기이고; R³의 하나가 카르보스티릴 골격내의3-위치에 치환된 카르복시기인 경우, 카르브스티릴 골격내의 5-∼7-위치에 치환된 R³는 엄소원자 또는브롬원자이어서는 안되며; R2a가 카르브스티릴 골격내의 3-위치에 결합된 1-피페리디닐기인 경우, R³가카르보스티릴 골격내의 4-위치에는 결합되지 않는 페닐기이다.
  18. 하기 일반식(14-2)의 화합물에 대하여 산의 존재하 및 용매의 부재 또는 존재하에 고리화 형성 반응을 행함을 특징으로 하는, 하기 일반식(1r-2)로 나타내어지는 카르보스티릴 유도체 또는 그의 염의 제조방법.
    Figure kpo00199
    (14-2)
    Figure kpo00200
    (1r-2)
    (상기식중, R¹, R2a및 D는 제17항에서 정의한 바와 동일하며, R¹이 수소원자인 경우, 카르브스티릴 골격내의 3- 및 4-위치는 피페라지닐 고리내의 4-위치의 치환기로서, 페닐-저급 알킬기, 벤조일-저급 알킬기 또는 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 피페라지닐기와 결합되어서는 안되며; R2a는 카르보스티릴 골격내의 8-위치에 결합되어서는 안되고; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 프로파르길기 또는 페닐-저급 알킬기이고; R2a가 피롤리디닐기 또는 피페리디닐기인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환되어서는 안되며; R¹이 수소원자, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알키닐기, 또는 페닐-저급 알킬기인 경우, R2a는 피페라진 고리내의 4-위치의 치환기로서, 페닐 고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 페닐-저급 알킬기, 저급 알킬기, 저급 알케닐기, 저급 알콕시카르브닐-저급 알킬기, 저급 알키닐기 또는 페닐고리상에 치환기로서 저급 알콕시기를 가질 수 있는 벤조일기를 가질 수 있는 1-피페라지닐기 이어서는 안되고 ; R2a가 일반식
    Figure kpo00201
    (식중, R4및 R5뿐만 아니라 이들과 결합된 인접한 질소원자는 이미다졸릴기, 피롤릴기 또는 피라졸릴기를 형성한다)인 경우, R2a는 카르보스티릴 골격내의 3- 또는 4-위치에 치환되어야 한다.
  19. 제 2 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 또는그의 염인 제조방법.
  20. 제 3 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 3-(4-메틸-1-피페라지닐)-8-메틸카르보스티릴 또는그의 염인 제조방법.
  21. 제 6 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 3-(4-메틸-1-피페라지닐) -8-메틸카르보스티릴 또는그의 염인 제조방법.
  22. 제 2 항에 있어서, 카르브스티릴 유도체가 3-(4-시클로프로필메틸-1-피페라지닐) -8-메틸카르보스티릴 또는 그의 염인 제조방법.
  23. 제 3 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 3-(4-시클로프로필메틸-1-피페라지닐) -8-메틸카르보스티릴 또는 그의 염인 제조방법.
  24. 제 6 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 3-(4-시클로프로필메틸-1-피페라지닐) -8-메틸카르보스티릴 또는 그의 염인 제조방법.
  25. 제1항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 6-피롤리디닐-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 또는그의 염인 제조방법.
  26. 제 3 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 6-피롤리디닐-8-메틸-3,4-디히드로카르보스티릴 또는그의 염인 제조방법.
  27. 제 4 항에 있어서, 카르보스티릴 유도체가 6-피롤리디닐-8-메틸-3,4-디히드로카르브스티릴 또는그의 염인 제조방법.
KR1019870001981A 1986-03-05 1987-03-05 카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조방법 KR940006534B1 (ko)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP47824/86 1986-03-05
JP47824 1986-03-05
JP4782486 1986-03-05
JP226729/86 1986-09-25
JP226729 1986-09-25
JP22672986 1986-09-25
JP6758/87 1987-01-14
JP6758 1987-01-14
JP675887 1987-01-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR870008868A KR870008868A (ko) 1987-10-21
KR940006534B1 true KR940006534B1 (ko) 1994-07-21

Family

ID=27277337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019870001981A KR940006534B1 (ko) 1986-03-05 1987-03-05 카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조방법

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0236140A3 (ko)
KR (1) KR940006534B1 (ko)
DK (1) DK111387A (ko)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8630702D0 (en) * 1986-12-23 1987-02-04 Wellcome Found Quinoline compound
US5166160A (en) * 1986-12-23 1992-11-24 Burroughs Wellcome Co. Quinoline compound
DE3818830A1 (de) * 1988-06-03 1989-12-14 Boehringer Mannheim Gmbh Bicyclische carboxamide, verfahren zu ihrer herstellung, deren vorstufen, und diese verbindungen enthaltende arzneimittel
GB8820174D0 (en) * 1988-08-25 1988-09-28 Wellcome Found Quinoline compound
US5225402A (en) * 1989-02-10 1993-07-06 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Carbostyril derivatives
GB8907865D0 (en) * 1989-04-07 1989-05-24 Wyeth John & Brother Ltd Tetrahydroquinoline derivatives
US5064837A (en) * 1989-11-13 1991-11-12 Schering Corporation 3-substituted-1-aryl-2(h)-quinolones and their pharmaceutical compositions
US5194439A (en) * 1990-04-06 1993-03-16 John Wyeth & Brother Limited N-(2,3-dihydro-1,4-benzodioxinyl)-N-substituted aminopyrido-fused cycloalkanes
CA2067475C (en) * 1991-05-08 2000-10-10 Yasuo Oshiro Carbostyril derivatives and their use
FR2682378B1 (fr) * 1991-10-10 1995-04-07 Bellon Laboratoires Nouveaux derives de l'acide fluoroquinoleine carboxylique-3 et leur preparation.
JP2686887B2 (ja) * 1992-08-11 1997-12-08 キッセイ薬品工業株式会社 ピペリジノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル誘導体
FR2703681B1 (fr) * 1993-04-08 1995-05-12 Bellon Labor Sa Roger Procede de preparation de fluoro-6-halogeno-2 quinoleine
HUP0204496A3 (en) 2000-01-20 2004-07-28 Eisai Co Ltd Novel piperidine compounds and pharmaceutical compositions containing the same and process for preparation the same
IL162859A0 (en) * 2002-02-05 2005-11-20 Novo Nordisk As Novel aryl-and heteroarylpiperazines
AU2006264966B2 (en) 2005-07-04 2013-02-21 High Point Pharmaceuticals, Llc Histamine H3 receptor antagonists
CN101432261A (zh) 2006-05-19 2009-05-13 惠氏公司 作为组织胺-3拮抗剂的n-苯甲酰基-吡咯烷-3-基胺和n-苄基-吡咯烷-3-基胺
EP2038256A1 (en) 2006-05-23 2009-03-25 TransTech Pharma, Inc 6- (4-cyclopropylpiperazin-1-yl) -2 ' -methyl- [3, 4 ']-bipyridine and its use as a medicament
CA2659570C (en) 2006-05-29 2015-10-06 High Point Pharmaceuticals, Llc 3-(1,3-benzodioxol-5-yl)-6-(4-cyclopropylpiperazin-1-yl)-pyridazine, its salts and solvates and its use as histamine h3 receptor antagonist
EP2014656A3 (en) 2007-06-11 2011-08-24 High Point Pharmaceuticals, LLC New heteocyclic h3 antagonists
ES2790358T3 (es) 2011-12-28 2020-10-27 Global Blood Therapeutics Inc Compuestos de heteroaril aldehído sustituido y métodos para su uso en el aumento de la oxigenación tisular
PT2797416T (pt) 2011-12-28 2017-10-23 Global Blood Therapeutics Inc Compostos de benzaldeído substituído e métodos para a sua utilização no aumento da oxigenação de tecidos
US8952171B2 (en) 2013-03-15 2015-02-10 Global Blood Therapeutics, Inc. Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
US9422279B2 (en) 2013-03-15 2016-08-23 Global Blood Therapeutics, Inc. Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
US10266551B2 (en) 2013-03-15 2019-04-23 Global Blood Therapeutics, Inc. Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
CN105073728A (zh) 2013-03-15 2015-11-18 全球血液疗法股份有限公司 化合物及其用于调节血红蛋白的用途
US10100043B2 (en) 2013-03-15 2018-10-16 Global Blood Therapeutics, Inc. Substituted aldehyde compounds and methods for their use in increasing tissue oxygenation
AP2015008718A0 (en) 2013-03-15 2015-09-30 Global Blood Therapeutics Inc Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
MY180206A (en) 2013-03-15 2020-11-25 Global Blood Therapeutics Inc Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
US9458139B2 (en) 2013-03-15 2016-10-04 Global Blood Therapeutics, Inc. Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
EA201992707A1 (ru) 2013-11-18 2020-06-30 Глобал Блад Терапьютикс, Инк. Соединения и их применения для модуляции гемоглобина
DK3102208T3 (da) 2014-02-07 2021-03-08 Global Blood Therapeutics Inc Krystallinsk polymorf af den frie base af 2-hydroxy-6-((2-(1-isopropyl-1h-pyrazol-5-yl)pyridin-3-yl)methoxy)benzaldehyd
MA43373A (fr) 2015-12-04 2018-10-10 Global Blood Therapeutics Inc Régimes posologiques pour 2-hydroxy-6-((2- (1-isopropyl-1h-pyrazol-5-yl)pyridin-3-yl)méthoxy)benzaldéhyde
AR108435A1 (es) 2016-05-12 2018-08-22 Global Blood Therapeutics Inc Proceso para sintetizar 2-hidroxi-6-((2-(1-isopropil-1h-pirazol-5-il)-piridin-3-il)metoxi)benzaldehído
TWI778983B (zh) 2016-10-12 2022-10-01 美商全球血液治療公司 包含2-羥基-6-((2-(1-異丙基-1h-吡唑-5-基)吡啶-3-基)甲氧基)-苯甲醛之片劑
US20210070747A1 (en) * 2017-03-24 2021-03-11 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. 2(1h)-quinolinone derivative
WO2020072377A1 (en) 2018-10-01 2020-04-09 Global Blood Therapeutics, Inc. Modulators of hemoglobin for the treatment of sickle cell disease

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4014883A (en) * 1973-09-10 1977-03-29 Hoffmann-La Roche Inc. Indoloquinolines, intermediates and processes
JPS516972A (en) * 1974-07-08 1976-01-20 Otsuka Pharma Co Ltd Amino 3*44 jihidorokarubosuchirirujudotaino seizoho
JPS5148675A (en) * 1974-10-17 1976-04-26 Otsuka Pharma Co Ltd Asetoamido 3 44 jihidorokarubosuchirirujudotaino seizoho
JPS51125390A (en) * 1975-04-17 1976-11-01 Otsuka Pharmaceut Co Ltd A process for preparing carbostyril derivatives
JPS5373571A (en) * 1976-12-10 1978-06-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Carbostyril derivatives
JPS5473783A (en) * 1977-11-15 1979-06-13 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Pyridine derivative
JPS54151985A (en) * 1978-05-17 1979-11-29 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Preparation of aminocarbostyril derivative
JPS54151984A (en) * 1978-05-17 1979-11-29 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Preparation of aminocarbostyril derivative
JPS5649364A (en) * 1979-09-28 1981-05-02 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Carbostyril derivative
JPS5649363A (en) * 1979-09-28 1981-05-02 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Carbostyril derivative
JPS56104333A (en) * 1980-01-23 1981-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd Color photographic sensitive material
JPS5777676A (en) * 1980-10-31 1982-05-15 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Carbostyril derivative
US4374138A (en) * 1981-11-13 1983-02-15 Warner-Lambert Company Antibacterial amide compounds, compositions, and methods of use
JPS5929667A (ja) * 1982-08-13 1984-02-16 Otsuka Pharmaceut Co Ltd カルボスチリル誘導体および強心剤
JPS60126270A (ja) * 1983-12-14 1985-07-05 Otsuka Pharmaceut Co Ltd カルボスチリル誘導体
PT79699B (en) * 1983-12-22 1986-12-10 Pfizer Process for preparing quinolone inotropic agents
US4558130A (en) * 1984-03-27 1985-12-10 Miles Laboratories, Inc. Fluorogenic dihydroquinolone and dihydrocoumarin indicators for hydrogen peroxide
NZ212209A (en) * 1984-05-29 1988-08-30 Pfizer Quinolone derivatives and pharmaceutical compositions
FR2580646A1 (fr) * 1985-04-19 1986-10-24 Synthelabo Derives de 2(1h)-quinolinone, leur preparation et leur application en therapeutique
JPH0662608B2 (ja) * 1985-08-26 1994-08-17 大塚製薬株式会社 カルボスチリル誘導体
GB8529362D0 (en) * 1985-11-28 1986-01-02 Pfizer Ltd Quinolone cardiac stimulants

Also Published As

Publication number Publication date
EP0236140A3 (en) 1990-05-02
DK111387D0 (da) 1987-03-04
EP0236140A2 (en) 1987-09-09
DK111387A (da) 1987-09-06
KR870008868A (ko) 1987-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940006534B1 (ko) 카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조방법
EP0470514B1 (en) Carbostyril derivatives and pharmaceutical composition containing the same
US7977337B2 (en) Quinoline derivatives and their use as 5-HT6 ligands
CN87103693A (zh) 喹啉-3-羟酸衍生物和其制备及应用
EP0464604B1 (en) 1-Indolylalkyl-4-(alkoxy-pyrimidinyl)piperazines
EP0255134B1 (en) Carbostyril derivatives and salts thereof, process for preparing them, and cardiotonic composition containing same
JPH054391B2 (ko)
KR880002624B1 (ko) 항우울증 작용을 가진 1,2,4-트리아졸론 화합물 및 그 제조방법
KR900005022B1 (ko) 1-(아미노알킬)-α, α-디아릴 피롤리딘-, 피페리딘- 및 호모피페리딘-아세트아미드 및 아세토니트릴, 및 이의 제조방법
FI76322B (fi) Foerfarande foer framstaellning av nya, terapeutiskt anvaendbara karbostyrilderivat.
LT3214B (en) Substituted azolone derivatives
DE60038498T2 (de) Triazole als Farnesyltransferaseinhibitoren
US5358949A (en) Carbostyril derivatives and salts thereof and anti-arrhythmic agents containing the carbostyril derivatives
JP2544939B2 (ja) ベンゾヘテロ環誘導体
EP0716083A1 (en) Benzazepine derivative, pharmaceutical composition containing the same, and intermediate for the same
JP4199668B2 (ja) Ｓｓｔ１アンタゴニスト活性を有するピペラジン誘導体
JPS63290821A (ja) 抗不整脈剤
JP2519734B2 (ja) 新規置換ピリド〔２，３−ｂ〕〔１，４〕ベンゾジアゼピン−６−オン，その製法及びその化合物を含む医薬
KR20030043970A (ko) 2,2-디페닐부탄아미드 유도체 및 이를 함유하는 의약
KR940006325B1 (ko) 카르보스티릴 유도체 및 그의 염 및 카르보스티릴 유도체를 함유하는 항-부정맥 제제
EP1318994B1 (en) Substituted imidazoles as dual histamine h1 and h3 agonists or antagonists
US5306719A (en) Carbostyril derivatives and salts thereof
EP0198235A2 (en) Imidazole derivatives having antimycotic and antibacterial activities, a process for the preparation thereof and pharmaceutical compositions containing them
JPS63301821A (ja) 抗不整脈剤
JP2576862B2 (ja) カルボスチリル誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee