JPS5883678A - カルボスチリル誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、カルボスチリル誘導体の製造法、更に詳しく
は一般式 〔式中８１は水素原子、低級アルカノイル基、フロイル
基、ピリジルカルボニル基、低級アルカンスルホニル基
、低級アルコ命ジカルボニル基、低ｓアル；キシカルボ
ニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級
アルキル基を有することのあるフェニルスルホニル基、
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
、フェニルカルボニル基、フェニル低級アルキル基又は
フエ□ゝ ニル低級アルカノイル基を示す。上記フェニルカルボニ
ル基、フェニル低級アルキル基及びフェニル低級アルカ
ノイル基のフェニル環上には低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、アンノ
基、水酸基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキル
チオ基及び低級アルカノイルオキシ基なる群から選ばれ
た基を１〜３個又は低級アルキレンジオキシ基を置換基
として有していてもよい。がは水素原子又は低級アルコ
キシ基を示す。カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭
素間結合は一重結合又は二重結合を示す。〕で表わされ
るガルボスチリル誘導体及びその塩の製造法に関する。

上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体及
びその塩は、文献未載の新規化合物である。

この化合物は、心筋の収縮を増加させる作用（陽性変力
作用）及び対車流量増加作用を有し、心拍数を増加させ
ないか又はその増加の程度が僅かで１′１ あるという特徴を有し、例えばうつ血性心不全等の心臓
疾患の治療のための強心剤として重要な化合物である。

本発明の目的は上記一般式（１）で表わされるカルボス
チリル誘導体を高純度且り好収率で製造し得る新規１に
製造法を提供する°ことにある。

即ち本発明は、一般式 〔式中　１１及び−は前記に同じ。♂は水素原子又は低
級アルカノイル基を示す。Ｒ４は水素原子又は低級アル
キル基を示す。よけ−重結合又は二重結合を示す。〕で
表わされるカルボン酸誘導体を環化反応させる仁とを特
徴とする一般式 ４位の炭素間結合は前記に同じ。〕で表わされるカルメ
誘導体ル靜導体及び七〇＠０製造法に係る。

本明細書において示される各基は、より異体的には夫々
次の通シである。

低級アルキル基として杜、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチルｓ　　ｔａｒｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分校状のア
ルキル基を例示できる。

低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−へキセニル基等の炭素１［２〜６の直鎖又は分
校状のナタケニル基を例示できる。

低級アルキニル基としては、エチニル、２−プロピニル
、２−ブチニル、３−プ？ニル、１−メチル−２−プロ
ピニル、２−ペンチニル、２−ヘキシニル基等の炭素数
２〜６の直鎖又は分枝状のアル−ニル基を例示できる。

フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、２−フェ
ニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプロピ
ル、４−フェニルブチル、１．１−ジメチル−２−フェ
ニルエチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキ
シル、２−メチル−３−フェニルグロビル基等のアルキ
ル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分校状のアルキル基
であるフェニルアルキル基を例示でｍｈ。

低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキン、イソプ田ボキン、ブトキシ、ｔｅｒｔ」ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜
６の直鎖又は分校状のアルコキシ基を例示できる。

低級アルカノイル基としては、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、
ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ヘキ葉イノル基等の炭素
数１〜６の直鎖又は分校状のアルカノイル基を例示でき
る０ ハロゲン原子としては、弗素、塩素、臭素及び沃素原子
を示す０・ 葉級アルキレンジオキシ基としては、メチレンジオキシ
、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキシ基等の炭素
数１〜４の直鎖又は分枝状のアルキレンジオキシ基を例
示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ
基、水酸基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキル
チオ基、及び低級アルカノイルオキシ基なる評から選ば
れ九基を１〜３個又は低級アルキレンジオキシ基を有す
るフェニルカルボニル基としては、２−クロルベンゾイ
ル、３−クロルベンゾイル、４−クロルベンゾイル、２
−フルオロベンゾイル、３−フルオロベンゾイル、４−
フルオロベンゾイル、２−ブロムベンソイル、３−ブロ
ムベンゾイル、４−ブロムベンソイル、２−ヨードベン
ゾイル、４−ヨードベンゾイル、ｓ、ｓ−ジクロルベン
ゾイル、２．６−ジクロルベンゾイル、３，４−ジクロ
ルベンゾイル、３，４−ジフルオロベンソイル、３，５
−ジブロムベンゾイル、９、４．５−　）　９クロルベ
ンゾイル、２−メチルベンゾイル、３−メチルベンゾイ
ル、４−メチルベンゾイル、２−エチルベンゾイル、３
−エチルペンソイル％４−エチルベンゾイル、３−イソ
プロピルベンゾイル、４−へキシルベンゾイル、３．４
−ジメチルベンゾイル、２．５−ジメチルベンゾイル、
３，４．Ｓ−）ジメチルベンゾイル、２−メトキシベン
ゾイル、３−エトキシベンゾイル、４−メトキシベンゾ
イル、２−エトキシベンシイ・ル、３−エトキシベンゾ
イル、４−エトキシベンゾイル、４−イソプロポ中ジベ
ンゾイル、４−へキシルオキシベンゾイル、３，４−ジ
メトキシベンゾイル、３．４−ジェトキシベンゾイル、
３，４．５−）ジメトキシベンゾイル、２．５−ジメト
キシベンゾイル、２−ニトロベンゾイル、３−二〜トロ
ベンゾイル、４−ニトロベンゾイル、２．４−ジニトロ
ベンゾイル、２−アミノベンゾイル、３−アミノベンゾ
イル、４−アミノベンゾイル、２，４−ルアミノベンゾ
イル、２−シアノベンゾイル、３−シアノベンゾイル、
４−シアノベンゾイル、２，４−ジシアノベンゾイル、
３．４−メチレンジオキシベンゾイル、３．４−エチレ
ンジオキシベンゾイル、２．３−メチレンジオキシベン
ゾイル、３−メチル−４−１０ロペンゾイル、２−／ロ
ルー６−／ｆ−ルベンゾイル、２−メトキシ−３−クロ
ロベンゾイル、２−ヒドロキシベンゾイル、３−ヒドロ
キシベンゾイル、４−ヒドロキシベンゾイル、＆４−ジ
ヒドロキシベンゾイル％３，４，５−）９ヒドロ午ジベ
ンゾイル、２−ホルミルアミノベンゾイル、３−アセチ
ルアミノベンゾイル、４−アセチ　゛ルアミノベンゾイ
ル、２−アセチルアミノベンゾイル、３−プロピオニル
アミノベンゾイル、４−プチリルアミノベンゾイル、２
−インブチリルアミノベンゾイル、３−ペンタノイルア
ミノベンゾイル、３−ｔｅｒｔ−プチルカルボニルアｉ
ノペンゾイル、４−ヘキサノイルアミノベンゾイル、２
．６−ジアセチルアミノペンジイル、２−メチルチオベ
ンゾイル、３−メチルチオベンゾイル、４−メチルチオ
ベンゾイル、２−エチルチオベンゾイル、３−エチルチ
オベンゾイル、４−エチルチオベンゾイル、３−イソプ
ロピルチオベンゾイル、４−へキシルチオベンゾイル、
３，４−ジメチルチオベンゾイル、２，５−ジメチルチ
オベンゾイル、３．４５−ト菅メチルチオベンゾイル、
２−ホル電ルオーシベンゾイル、３−アセチルオ中ジベ
ンゾイル、４−ア七チルオ命ジベンゾイル、２−アセチ
ルオ今ジベンゾイル、３−グロビオニルオ中ジベンゾイ
ル、４−ブチリルオキシベンゾイル、２−イソブチリル
オキシベンゾイル、３−ペンタノイルオキシベンゾイル
、３−ｔａｒｔ−ブチリルオキシペンシイ・ル、４−へ
４＆！ノイルオキシベンゾイル、３．４−シア七チルオ
キシベンゾイル、　３．４．５−）９丁セチルオやジベ
ンゾイル、基環のフェニル環上に置換基として炭素数１
〜６０直鎖又は分校状のアルコキシ基、ハロゲン原子、
炭素数１〜６の直鎖又は分校状のアルキル基、シアノ基
、ニトロ基、アミノ基、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又
は分枝状のアルカノイルアンノ基、炭素数１〜６の直鎖
又は分校状のアルキルチオ基、炭素数及び。

１〜６の直鎖又は分校状のアルカノイルオ中シ基なる群
から選ばれ九基を１〜３個又は炭素数１〜４のアルキ°
レンジオキシ基を有スるフェニルカルボニル基を例示で
きる。

低級アルカンスルホニル基としては、メタンスルホニル
、エタンスルホニル、フロパンスルホニル、イソフ’Ｃ
Ｉ　パンスルホニル、メタンスルホニル、ｔｅｒｔ−ブ
タンスルホニル、ペンタンスルホニル、ヘキサンスルホ
ニル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分校状のアルキル基
を有するスルホニル基を例示できる。

低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボエル、イ
ソプ繋ポキシカルボニル、ブトキシカル１Ｍニル、ｔａ
ｒｔ−ブトキシカルボニル、ベンチルオ中ジカルボニル
、ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数１〜６の直鎖
又は分枝状のアルコキシ基を有するカルボニル基な例示
できる。

低級アルコ中ジカルボニル低級アルキル基としては、メ
トキシカルボニルメチル、３−メトキシカルボニルメチ
ル、４−エトキシカルボニルブチル、６−プロポキシカ
ルボニルヘキシル、５−イソプロポキシカルボニルペン
チル、１，１−ジメチル−２−ブト命ジカルボニルエチ
ル、２−メチル−３−ｔｅｒｔ−ブト命ジカルボニルプ
ロビル、２−ペンチルオキシカルボニルエチル、へ中シ
ルオキシカルボニルメチル基等のアルコキシ部分の炭素
数が１〜６及びアルキル部分の炭素数ｄｌ　１〜６であ
るアルコキシカルボニルアルキル基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有スるこ
とのあるフェニルス”ルホニル基としては、フェニルス
ルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、２−メチルフェニ
ルスルホニル、３−エチルフェニルスルホニル、４−プ
ロピルフェニルスルホニル、２−ブチルフェニルスルホ
ニル、３−　ｔｅｒｔ　−ブチルフェニルスルホニル、
４−ペンチルフェニルスルホニル、２−ヘキシルフェニ
ルスルホニル基等の炭素＠１〜６の直鎖又は分枝状のア
ルキル基を置換基として有することのあるフェニルスル
ホニル基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基、低級丁
ルール基、ノ１０ゲｙ原子４、ニトロ基、シアノ基、ア
ミノ基、水酸基、低級アルカ）イルｌミノ基、低級プル
キルチオ基及び低級アルカノイルオキシ基なる群から選
ばれ九基を１〜３儒又は低級アルキレンジオキシ基を有
するフェニル低級アルキル基としては、２−り藁ルペン
ジル、２−（３−タ曹ルフエニル）エチル、１−（４−
クロルフエニル）エチル、３−（２−フルオロフェニル
）プロピル、４−（３−フルオロフェニル）ブチル、１
．１−ジメチル−２−（４−フルオルフェニル）エチル
、５−（２−ブロムフェニル）ペンチル、ｓ−＜５−−
ｙロムフェニル）ヘキシル、２−／チルー３−（４−ブ
ームフェニル）プロピル、３−ヨードベンジル、２−（
４−１３−ドフェニル）エチル、１−（３，５−ジクロ
ルフェニル）エチル、２−　（３，４−ジクロルフェニ
ル）エチル、３−（２，６−ジタ謂ルフエニル）プロピ
ル、４−　（３゜４−＝’／り冑ルフェニル）ブチル、
１．１−’／／チルー２−（８，４−１’フルオロフエ
ニル）エチル、５−（３，５−ジブロムフェニル）ペン
チル、６−（３，４，５−トリクミルフェニル）ヘキシ
ル、４−メチルベンジル、２−（２−メチルフェニル）
エチル、１−（８−メチルフェニル）エチル、３−（３
−エチルフェニル）フロビル、４−（２−エチルフェニ
ル）ブチル、５−（４−エチルフェニル）ペンチル、６
−（３−イソプロピルフェニル）ヘキシル、２−メチル
−３−（４−へキシルフェニル）プロピル、２−（３，
４−ジメチルフェニル）エチル、２−（２，５−ジメチ
ルフェニル）エチル、２−　（３，４，５−）ジメチル
フェニル）工。−チル、４−メトキシベンジル、３，４
−ジメトキシヘンシル、　３，４．５−　）　９メトキ
シペ／ジル、１−（３−メトキシフェニル）エチル、２
−（２−／１トキシフェニル）エチル、３−（２−エト
キシフェニル）フロビル、４−（４−エトキシフェニル
）ブチ＃、５−（３−エトキシフェニル）ペンチル、６
−（４−イソプロポキシフェニル）ヘキシル、１．１−
ジメチル−２−（４−へキシルオキシフェニル）エチル
、２−メチル−３−（３，４−レメトキシフ呵・ニル）
プロピル、２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル
、２−（３，４−’／エトキシフェニル）エチル、２−
　（３，４，５−トリメトキシフェニル）エチル％１−
（２，＆−／メトキシフェニル）エチル、３−ニトロベ
ンジル、１−（２−ニトロフェニル）エチル、２−（４
−ニトロフェニル）エチル、３−（２，４−ジニトロフ
ェニル）プロピル、４−（２−アミノフェニル）ブチル
、５−（ｊ−アミノフェニル）ペンチル、６−（４−ア
ミノフェニル）ヘキシル、（２，４−ジアミノ）ヘンシ
ル、２−シアノベンジル、１．１−ジメチル−２−（３
−シアノフェニル）エチル、２−メチル−３−（４−シ
アノフェニル）プロピル、２，４−ジシアノベンジル、
３，４−メチレンジオキシベンジル、　８．４−エチレ
ンジオキシベンジル、２．３−メチレンジオキシベンジ
ル、２−（３，４−エチレンジオキシフェニル）エチル
、１−（３，４−エチレンジオキシフェニル）エチル、
３−メチル−４−クールベンジル、２−クロル−６−メ
チルベン７ジル、２−メト中シー３−クロルベンジル、
２−ヒドロキシベンジル、２−（３，４−ジヒドロキシ
・フェニル）エチル、１−（３，４−８）ヒドロ中ジフ
ェニル）エチル、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチ
ル、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル、６−（
３，４−ジヒドロキシフェニル）ヘキシル、３．４−ジ
ヒドロキシベンジル、　３，４．５−トリヒドロキシベ
ンジル、２−ホルミルアミノベンジル、３−アセチルア
ミノベンジル、３−（２−アセチルアミノフェニル）プ
ロピル、４−（４−了セチル７１／フェニル）ブチル、
２−プロピオニルアζノベンジル、３−（３−ブチリル
アぽノフェニル）プロピル、４−（４−インブチリルア
ミノフェニル）ブチル、５−（２−ｔｓｒｃ−ブチルカ
ルボニルアミノフェニル）ペンチル、６−（３−ペンタ
ノイルアミノフェニル）ヘキシル、（２，４−ジアセチ
ルアｉ））ベンジル・、４−メチルチオベンジル、２−
（２−メチルチオフェニル）エチル、１−（３−メチル
チオフェニル）エチル、３−（３−エチルチオフェニル
）フロビル、４−（２−エチルチオフェニル）ブチル、
５−（４−エチルチオフェニル）ペンチル、８−（３−
イソプロピルチオフェニル）ヘキシル、２−メチル−３
−（４−へキシルチオフェニル）プロピル、２−（３，
４−’））ｆルチオフェニル）エチル、２−（′２，５
−ジメチルチオフェニル）エチル、２−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）エチル、４−アセチルオ今ジベ
ンジル、３．４−丁セチルオキシベンジル、３，４．５
−）リアセチルオキシベンジル、１−（３−アセチルオ
キシフェニル）エチル、２−（２−アセチルオキシフェ
ニル）エチル、３−（２−プロピオニルオキシフェニル
）プロピル、４−（４−ペンタノイルオキシフェニル）
ブチル、５−（３−７’ロピオニルオキシフエニル）ペ
ンチル、６−（４−イソプチリルオキシツエニル）ヘキ
シル、１−一ジメチル−２−（４−ヘキ量ノイルオキシ
フェニル）エチル、３−ブチリルオキシベンジル１勢の
フェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分
枝状のアルコキシ基、炭素数１〜６の直鎖又は分校状の
アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミ
ノ基、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分校状のアルカ
ノイルアミノ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアル
キルチオ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分校状のアルカ
ノイルオキシ基なる群から選ばれた基を１〜３個又は炭
素数１〜４の直鎖又は分校状のアルキレンジオキシ基を
有することのあるフェニル基を有する炭素数１〜６の直
鎖又は分校状のアルキル基を例示できる。

低級アルカノイルアミノ基としては、ホルミルアミノ、
アセチルアばノ、プロピオニルア電ノ、ブチリルアミノ
、イソブチリルアミノ、ペンタノイルアミノ、　ｔａｒ
ｔ−プチルカルボニルアｔノ、ヘキサノイルアミノ基等
の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルカノイルアミノ
基を例示できる。

低級アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ｔａ
ｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の
炭素数１〜６を有する直鎖又は分校状のアルキルチオ基
を例示できる６低級了ルカノイルオキシ基としては、ホ
ルミルオキシ、アセチルオキシ、グロビオニルオキシ、
ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオ
キシ、　ｔａｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、へ中サノ
イルオーシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分校状のアル
カノイルオキシ基を例示できる。

フェニル低級アルカノイル基としてｉ、３−フェニルア
セチル、３−７エエルプロピオニル、４−フェニルブチ
リル、２−フェニルブチリル、６−フエニルヘキ号ノイ
ル、−２−フェニルプロピオニル、３−フェニルブチリ
ル、４−フェニル−３−メチルブチリル、５−フェニル
ペンタノイル、２−メチル−３−フェニルプロピオニル
基等のフルカッイル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分
枝状のアルカノイル基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基、低級ア
ルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ
基、水酸基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキル
チオ基、及び低級アルカノイルオ今シ、基なる評から選
ばれた基を１〜３個又は低ｅアルキレンジオキシ基を有
するフェニル低級アルカノイル基としては、２−（２−
クールフェニル）アセチル、２−（３−クロルフェール
）アセチル、２−（４−クロルフェニル）アセチル、３
−（２−フルオロフェニル）フロピオニル、４−（３−
フルオロ７エール）ブチリル、２−（４−フルオロフェ
ニル）アセチル、５−（２−ブロムフェニル）ペンタノ
イル、ｅ−（ａ−ブロムフェニル）ヘキサノイル％２−
／ｆルー３−（４−ブロムフェニル）フロパノイル、２
−（３−Ｍ−ドフェニル）アセチル、２−（４−４−）
’フェニル）アセチル、２−（３，５−ジクロルフェニ
ル）呻セチル、　２−　（ｓ、＜−ジクロルフェニル）
アセチル、ａ−（２，６−ジクｐルフエエル）フＥ１ピ
オニル、４−（３，４−１）り闘ルフェニル）ブチリル
、２−（３，４−−／フルオロフェニル）アセチル、５
−（３，５−ジ１０ムフエエル）ペンタノイル、６−　
（３，４，５−）　９１０ルフエニル）へ中サノイル、
２−（４−メチルフェニル）アセチル、２−（２−メチ
ルフェニル）了セチル、２−ＣＢ−）チルフェニル）ア
セチル、３−（３−エチルフェニル）プロピオニル、４
−（２−エチルフェニル）ブチリル、５−（４−エチル
フェニル）ペンタノイル、６−（３−イソプロピルフェ
ニル）ヘキサノイル、２−．４チル−３−（４−へキシ
ルフェニル）プロピオニル、２−（３，４−ジメチルフ
ェニル）アセチル、２−＜２．５−ジメチルフェニル）
アセチル、２−　（３，４，５−）ジメチルフェニル）
アセチル、２−（４−メトキシフェニル）アセチル、２
−（３，４−”メトキシフェニル）アセチル、２−（３
，４，ｊＳ−）ジメトキシフェニル）アセチル、２−（
３−メトキシフェニル）アセチル、２−（２−メトキシ
フェニル）アセチル、３−（２−エトキシフェニル）プ
ロピオニル、４−（４−エトキシフェニル）ブチリル、
５−（３−エトキシフェニル）ペンタノイル、６−（４
−イングロボキシフェニル）ヘキサノイル、２−（４−
へキシルオキシフェニル）アセチル、２−メチル−３−
（３，４−ジメトキシフェニル）プロピオニル、２−（
３，４−ジメトキシフェニル）アセチル、２−（３，４
−ジェトキシフェニル）アセチル、２−　（３，４，５
−トリメトキシフェニル）アセチル、２−（２，５−ジ
メトキシフェニル）アセチル、２−（３−ニトロフェニ
ル）アセチル、２−（２−ニトロ７エ二ル）アセチル、
２−（４−ニトロフェニル）アセチル、３−（２，４−
ジニトロフェニル）　プロピオニル、４−（２−アミノ
フェニル）ブチリ・ル、５−（３−アミノフェニル）ペ
ンタノイル、６−（４−アミノフェニル）ヘキサノイル
、（２，４−シア電））フェニルアセチル、２−シアノ
７エ二ルアセチル、２−（３−シアノフェニル）アセチ
ル、２−１＋ルー３−（４−シアノフェニル）でロピオ
ニル、２−（２，４−ジシアノフェニル）アセチル、２
−（３，４−メチレンジオキシフェニル）アセチル、２
−（３，４−メチレンジオキシフェニル）アセチル、２
．３−メチレンジオキシフェニルアセチル、２−（３，
４−メチレンジオキシフェニル）アセチル、２−（３，
４−エチレンジオキシフェニル）アセチル、２−（３−
メチル−４−クロルフェニル）アセチル、２Ｌ（２−ク
ロル−６−メチルフェニル）アセチル、２−（２−メト
會シー３−／ロルフエエル）アセチル、２−（２−ヒド
ロキシフェニル）アセチル、２−（３，４−ジヒドロ中
゛ジフェニル）アセチル、２−ＣＢ−ヒドロキシフェニ
ル）アセチル、！Ｉ−（４−とド四キシフェニル）プロ
ピオニル、６−（３，４−−／ヒドロキシフェニル）ヘ
キずノイル、２−　（３，４，５−）リヒドロキシフェ
ニル）アセチル、２−（２−ホルミルアミノフェニル）
アセチル、２−（３−アセチルアミノフェニル）アセチ
ル、３−（２−アセチルアミノフェニル）プロピオニル
、４−（４−丁セチルアミノフェニル）ブチリル、２−
（２−プロピオニルアミノフェニル）アセチル、３−（
３−７’チリルアミノフエニル）プロピオニル、４−（
４−イソブチリルアミノフェニル）ブチリル、５−（２
−ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノフェニル）ペンタ
ノイル、６−（３−ペンタノイルアミノフェニル）ヘキ
サノイル、２−（２，４−ジアセチルアミノフェニル）
アセチル、２−Ｃ４−）チルチオフェニル）アセチル、
２−（２−メチルチオフェニル）アセチル、２−（３−
メチルチオフェニル）アセチル、３−（３−エチルチオ
フェニル）プロピオニル、４−（２−エチルチオフェニ
ル）ブチリル、５−（４−エチルチオフェニル）ペンタ
ノイル、６−（３−イングロビルチオフェニル）へ中す
ノイル、２−メチル−３−（４−へキシルチオフェニル
）プロピオニル、２−（３，４−ジメチルチオフェニル
）アセチル、２−（２，５−ジメチルチオフェニル）ア
セチル、２−（３，４，５−トリメトキシフェニル４）
アセチル、２−（４−アセチルオキシフェニル）アセチ
ル、２−（３，４−アセチルオキシフェニル）アセチル
、２−（３゜４．５−）リアセチルオキシフェニル）ア
セチル、２−（３−７セチルオキシフエニル）アセチル
、２−（２−７セチルオ中ジフエニル）アセチル、３−
（２−プロピオニルオキシフェニル）プロピオニル、４
−（４−ペンタノイルオキシフェニル）ブチリル、８−
（３−プロピオニルオキシフェニル）ペンタノイル、６
−（４−イソブチリルオキシフェニル）へキずノイル、
２−（４−ヘキサノイルオキシフェニル）アセチル、２
−＜４−プチリルオ今ジフェニル）ア竜チル基等のフェ
ニル環上に置換基として彬素数１〜６の直鎖又は分校状
のアルコキシ基、炭素数１〜６の直鎖又祉分枝状のアル
キル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基
、水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルカノイ
ルアミノ基、炭素数１〜６の直鎖又紘分校状のアル中ル
チオ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分校状のアルカノイ
ルオキシ基なる群から選ばれた基を１〜３個又は炭素数
１〜４の直鎖又は分校状のアルキレンジオキシ基を有す
ることのあるフェニル基を有する炭素数１〜６の直鎖又
は分枝状のアルカノイル基を例示できる。

本発明において出発原料として用いられる一般式（りの
化合物は例えば下記反応式に示す方法によ〔式中Ｘ　Ｆ
ｌ、−ａゲン原子を示す。−及びＩは低級アルキル基を
示す。−とがと社これらが結合する酸素原子と共に互い
に結合して低級アルキレンジオキシ―を形成してもよい
。−は低級アルキル基を示す。Ｉは低級アルカノイル基
を示す。Ｒ１、−一及び−は前記に同じ。〕 一般式呻）の化合物のニド四化は、通常の芳費族化合物
のニトロ化反応東件下で例えは無溶媒もしくは適当な不
活性溶媒中ニトロ化剤を用いて行なわれる。不活性溶媒
としては例えば酢酸、無水酢酸、濃硫酸等を、ｔたニト
ロ化剤としては例えば発煙硝酸、−硝酸、混酸（硫酸、
発煙硫酸、リン酸又は無水酢酸と硝酸）、硝酸カリウム
、硝酸ナトリウム等のアルカリ金属硝鍍塩と硫酸等を夫
々例示できる。王妃ニトロ化剤の使用量は、原料化合物
に対し等モル以上通常過剰量とすればよく、反応社有利
には０〜室温付近で、１〜４時間で実施される。

−般式（４）の化合物のアルデヒド基のアセタール化反
応は、適当な溶媒中、アセタール化剤と酸の存在下反応
させることによシ行なわれる。ここで使用される溶媒と
しては、反応に影響を与えないものであればいずれでも
よく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキずイド等が
例示出来る。アセタール化剤としては、例えばメタノー
ル、エタノール、イソプロパツール、エチレングリコー
ル等のアルコール類、オルトギ酸エチル等のオルトエス
テル類が使用される。酸としては、例えば塩酸、硫酸勢
の鉱酸類、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等を挙げ
ることが出来る。使用されるアセタール化剤の量として
は、一般式（４）の化合物に対して、オルト千ステル類
を用いる場合は、少くとも等モル、好ましくは１〜１．
５倍モル使用するのがよく、アルコール類を使用する場
合社、少なくと４２倍モル、通常大過剰使用するのがよ
い０反応温度は、通常０〜５０℃、好ましくは麿温付近
とするのがよく、３０分〜５時間程度で反応は終了する
。

一般式（Ｓ）Ｏ化合物と一般式（６）のピペラジン誘導
体との反応紘、溶媒の存在下行うことが出来る。

使用される溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族級化水素類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール郷の低級アルコール類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ　）、エチレンクリコ
ールジメチルエーテル、ジエチルエーテル勢のエーテル
類、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭ８０）、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等の極性溶剤を挙げることが出来
る。上記反応は、よシ有利には塩基性化合物を脱酸剤と
して用いて行ってもよい。鋏塩基性化合物としては、例
えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム
、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミド、水素化ナト
リウム、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の第
三級アミン、ピリジン、キノリン等を例示できる。一般
式（６）のピペラジン誘導体の使用量としては、一般式
（５）の化合物に対して通常１〜１０倍モル量、好まし
くは３〜７倍モル量使用するのがよい。反応温度は通常
５０〜１５０℃、好ＩＬ＜は５０〜１００℃とするのが
よく、一般に１．５〜１０時間程度で反応は終了するＯ 一般式（７）の化合物の加水分解反応は、例えばメタノ
ール、エタノール、イソプロパツール等のアルコール類
中、塩酸、硫酸等の鉱酸の存在下に、反応温度室温〜溶
媒の沸点温度にて、３０分〜３時間反応させることによ
シ行なわれる。

一般式偵）の化合物とマロン酸（９）との反応は、適幽
な溶媒中塩基性化合物の存在下に行なわれる。

使用される溶媒としては、前記化合物（５）と〈６）と
の反応で使用される溶媒をすべて使用出来、それに加え
て、ピリジン等の極性溶媒も使用出来る。鎖塩基性化合
物としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水
酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミ
ド、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、ピペリジン等の第三級アミン、ピリジン、キ
ノリン等を例示できる。一般式（８）の化合物とマロン
酸（９）の使用割合としては、一般式（８）の化合物に
対して、少なくとも等モル、通常２〜７倍モル使用する
のがよい。反応は通常０〜２００℃、好ましくは７０〜
１５０℃根度にて行なわれ、１〜１０時間程時間桁応は
終了する。

一般式（２）の化合物の工゛ステル化反応は、例えばメ
チルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール等のアルコール類中、塩酸、［酸等の酸又はチオ
ニルクロライド、第４シ塩化リン、五塩化リン、三塩化
リン等のハロゲン化剤の存在下、通常θ〜１５０℃、好
ましくは５０〜１００　’Ｃにて、１〜１０時間程時間
桁なわれる。酸の使用量としては、一般式（至）の化合
物に対して通常１〜１．２倍モル量使用出来、またハロ
ゲン化剤の・使用量としては、一般式ＱＯの化合物に対
して少なくとも等モル、好ましくは１〜５倍モル量使用
するのがよい。

一般式（至）又は（ロ）の化合物を還元して一般式（２
ａ）の化合物を得る反応としては、例えば■適当な溶媒
中接触還元触媒を用いて還元するか又は（■適当な不活
性溶媒中、金属もしくは金属塩と酸又は金属屯しくけ金
属塩とアルカリ金属水酸化物、硫化物、アンモニウム塩
等との混合物等を還元剤として用いて還元することによ
）行なわれる。■の接触還元を用いる一合、使用される
溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノール、エタノー
ル、インプルパノール等のアルコール類、ヘキサン、７
クロヘキ号ｙ等の炭化水素類、ジエチレングリコール−
ジメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メ
チル等のエステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアイド等
の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。使用される接
触還元触媒としては、例えばパラジウム、パラジウム−
黒、ノ（ラジウム−炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸
鋼、ラネーニッケル等が用いられる。触媒の使用量とし
ては、一般式〇□又は０υの化合物に対して０．０２〜
１．００倍型重量いるのがよい。反応は、通常−２０〜
室温付近、好ましくはＯ〜室温付近、水素圧は１〜１０
気圧で行なわれ、反応は０．５〜１０時間程時間路了す
る。また■の方法を用いる場合、鉄、亜鉛、錫もしくｉ
ｔ、塩化第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸又は鉄、硫酸第一
鉄、亜鉛もしくは錫と水酸化ナトリウム郷のアルカリ金
属水酸化物、硫化アンモニウム等の硫化物、アンモニア
水、塩化アンモニウム等のアンモニウム塩との混合物が
還元剤として用いられる。使用される不活性溶媒として
は、例えば水、酢酸、メタノール、エタノール、ジオキ
サン等を例示できる。上記還元反応の条件としては用い
られる還元剤によって適宜選択すればよく、例えば塩化
第一錫と塩酸とを還元剤として用いる場合有利にはθ〜
室温付近、０．５〜１０時間程度反応を行なうのがよい
。還元剤の使用量としては、原料化合物に対して少なく
とも等モル量、通常は等モル−５倍モル量用いられる。

また■の方法において５０〜１５０℃付近にて反応を行
なうと、化合物（２ａ）を経て一般式（１）の化合物を
直接得ることができる。

一般式（２ａ）の化合物のアシル化は、適当なアシル化
剤を用いることによシ行なわれる。ここでアシル化剤と
しては例えば酢酸等の低級アルカン酸、無水酢酸等の低
級アルカン酸無水物、アセチルクロライド勢の低級アル
カン酸／Ｓロゲン化物等を挙げることができる。アシル
化剤として低級アルカ／酸無水物又は低級アルカン酸ノ
・田ゲン化物を使用すゐ場合、アシル化反応は塩基性化
合物の存在下にて行なわれる。使用される塩基性化合物
としては例えば金属ナトリウム、金属カリウム等のアル
カリ金属及びこれらアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、
重責酸塩或いはピリジン、ピペリジン勢の芳香族アミン
化合物等が挙げられる。咳反応は無溶媒もしくは溶媒中
のいずれでも進行するが、通常は適当な溶媒を用いて行
なわれる。溶媒としては例えばアセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、エーテル、ジオキサン等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、水等が挙げられる。アシル化剤は原料化合物に対
して等モル−大過剰量の範囲内で用いられるが、一般に
は５〜１０倍モル用いるのがよい。

また骸反応は０〜１５０℃で進行するが、一般には０〜
８０℃で行なうのがよい。さらにま九アシル化剤として
低級アルカ／酸を使用する場合、反応系内に脱水剤とし
て硫酸、塩酸環の鉱酸やノ（ラドルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸等のスルホン酸類
を添加し、好ましくは５０〜１２０℃に反応温度を維持
することによジアシル化反応は有利に進行する０ 本発明の方法においては、上記で得られる一般式（２）
の化合物を環化させる。この環化は、適当な溶媒中、塩
基性化合物又は酸、好ましくは酸の存在下又は非存在下
に行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、公知
のものを広く使用出来、例えば、トリエチルアミン、ト
リメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メ
チルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ（４，３，０
）ノネン−５（ＤＢＮ）、１，５−ジアザビシクロ（５
，４，０）ウンデセン−５（ＤＩＩＵ　）、１，４−ジ
アザビシクロ（２，２，２）オクタン（ＤＡＢＯＯ’）
等の有機塩基。

炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙
げられる。酸としては、例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸
、硝酸、ポリリン酸等の無機１１、ｐ−）ルエンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸
等を例示できる。使用される溶媒としては、反応に影響
を与えないものであればいずれも使用出来、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパツール、ブタノール、３−
メトキシ−１−ブタノール、エチルセロソルブ、メチル
セロソルブ勢のアルコール類、ピリジン、アセトン等を
挙けることができ゛る。塩化メチレン、クロロホルム、
シクロロエンン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジ′メトキシエタン、ジ
フェニルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エ
チル等のエステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア゛ミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の非プロトン性他性溶媒又はその混合溶媒などが挙
げられる。該反応は、通常−２０〜１５０℃、好ましく
は、０〜１５０℃にて行なわれ、反応は一般に５分〜３
０時間で終了するｂ本発明の一般式（１）で狭わされる
カルボスチリル誘導体は、医薬的に許容される酸を作用
させることによシ容易に酸付加塩とすることができる。

核酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化−水素
酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸を挙げ
ることができる。

を九本発明の一般式（１）で我わされるカルボスチリル
誘導体のうち酸性基を有する化合物は、医薬的に許容さ
れる塩基性化合物を作用させることにより容易に塩を形
成させることができる。骸塩基性化合物としては例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム
、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げることが
できる。

一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体は慣用
の単離手段、例えば−過、再結晶、カラムクロマトグラ
フィー、プレバラテイブ薄層クロマトグラフィー等によ
り反応混合物から容易に単離精製される。

本発明の方法によれば目的とする一般式（１）の化合物
を簡易な操作によｐ高純度且つ好収率で得ることができ
る。

以下に参考例及び実施例を挙げる。

参考例１ 濃硫酸５００　ＩＩｌに外部氷冷攪拌下に製銅＃２９．
３ｄを滴下し、さらにｍ−クロロベンズアルデヒド５０
Ｆを５℃以下にて滴下する。室温にて１時間攪拌後、反
応混合物を水中に注入し、析出固体をか取する。析出固
体を水洗後、塩化メチレンに溶解し、塩化メチレン層を
希苛性ソーダ水溶液にて洗い、さらに水洗後硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を留去する。６２．３Ｆの２−ニト
ロ−５−クロロベンズアルデヒドを得る。

ｍｐ　　６５〜６９℃ 参考例２ ２−ニトロ−５−クロルベンズアルデヒド１００ｆｔ）
ルエン１０００ｓ／に溶解する。次にｐ−）ルエンスル
ホン酸１（ｌ及びオルトギ酸エチル８７８ｆを加え、室
温にて１時間攪拌する。希苛性ソ−ダ水溶液にて中和し
、トルエン鳩を水洗＋！に無水硫酸ナトリウムにて乾燥
し、濃縮し、１３８ｇのオイル状の２−ニトロ−５−ク
ロロペンズアルデヒドジエテル丁セタールを得る。

参考例３ ２−ニトロ−５−クロロペンズアルデヒドジエテルアセ
タール１３８ｔをＤＭＦ７５０ｓ／Ｋ１１解し、無水ピ
ペラジン２５０ｆを加え８０℃にて４時間攪拌する。過
剰のピペラジン及びＤＭＦを減圧留去し、残漬に希苛性
ソーダ水溶液を加え、溶解後塩化メチレンにて抽出する
。塩化メチレン層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を留去する。残渣にイソプロビルアルコール８５０
ｓｌ加え、溶解する。＠ＨＯ１６５ｄを加え、１時間加
熱還流する。冷却後、析出結晶をＰ取する。９３ｆの２
−ニトロ−５−ピペラジニルベンズアルデヒド・塩酸塩
を得る。

ｍｐ　　１９５〜２０１℃ 参考例４ ２−ニド＊−５−ピペラジニルベンズアルデヒド塙酸塩
４７１をピリジン５００　ｍｌに浴解しピペリジン５ｇ
、マロン酸１００ｆを加え５時間加熱還流する。冷却後
析出結晶を枦取する。ｐ取し九結晶にメタノール１００
０ｇ／を加え１時間加熱還流する。冷却後か取する。４
２９の２−二トロー５−ピペラジニルケイ皮酸を得る。

ｍｌ）　　２２９〜２３７℃ 参考例５ ２−ニトロ−５−ビペラジニルケ（皮酸１（１をエチル
アルコール１００ｄに懸濁し、外部水冷攪拌下にチオニ
ルクロライド３　ｍｌを滴下する。３時間加熱還流する
。エチルアルコール、チオニルクロライドを留去し、残
渣にイソプロパツールを加え、加熱溶解し、冷却する。

析出する黄色結晶を炉取する。４．３ｆの２−ニトロ−
５−ピペラジニルケイ皮酸エチルエステル塩酸塩を得る
。

ｍｐ　　　２１０〜２２０℃ 参考例６ ２−ニトロ−５−ピペラジニルベンズアルデヒド５ｆｔ
−ＤＭＰ５０ｄに懸濁し、トリエチルアミン６ｓ／を加
え、外部水冷攪拌下に３，４−ジメトキシベンゾイルク
ロライド４．４１をＩ）ＭＰ　２０ｓ／に溶解し九溶液
を滴下する。室温にて２時間攪拌し、飽和食塩水の中に
あける。塩化メチレンにて抽出し、塩化メチレン層を水
洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し、
メチルアルコールを加え、加熱後冷却し、枦取する。Ｄ
ＭＦにて再結晶し、４．５ｆの２−、−）Ｄ−５（４−
（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１−ピペラジニル
ベンズアルデヒドの黄色結晶を得る。

ｍｐ　　１９６〜１９８℃ 参考例７ ２−ニトロ−５−（４−（３，４−ジメトキシペンソイ
ル）−１−ピペラジニルベンズアルデヒド４ｆをピリジ
ン２０ｓ／を加え、溶解し、マロンｅ１２．１ｆ、ピペ
リジン０．４　ｇ／を加え、８０℃にて４時間攪拌する
。ピリジン及びピペリジンを濃縮し、希塩酸水溶液にあ
け、塩化メチレンにて抽出する。塩化メチレン層を水洗
し、溶媒を濃縮する。

残漬にメタノールを加え、冷却し、析出結晶をｆ毛する
。３．７ｆの２−ニトロ−５−（４−（３，４−ジメト
キシベンゾイル）−１−ピペラジニルケイ皮酸を得る。

ｍｐ　　１９７〜２０２℃ 参考例８ ２−ニトロ−５−（４−（３，４−ジメトキシベンゾイ
ル）ピペラジ）〕ケイ皮＃１２ｆを濃塩酸６０ｓ／に溶
解する。この中に塩化第一スズ２０Ｆを濃塩酸４０１１
／に溶解した溶液を室温にて滴下する。２時間攪拌後析
出結晶を枦取する０この結晶をメタノール２４０　ｄに
溶解し、１０ｍ！苛性ソーダ水溶液にて中和し、析出結
晶を枦取する。メタノール液を濃縮し、エタノールにて
再結晶する。

６．３ｇの２−アンノー５−（４−（３，４−ジメトキ
シベンゾイル）ピペラジノコケイ皮酸を得る。

１１１ｐ　１６８〜１７０．５℃ 淡黄色粉末状晶 参考例９ ２−アミノ−５−（４−（３，４−ジメトキシベンゾイ
ル）ピペラジノコケイ皮酸５ｆをエタノール−水混合溶
媒に溶解し、５９Ｇパラジウム炭素０５ｆを加え、常圧
にて還元する。理論量の水素を吸収させた後、触媒を枦
遇し、エタノール−水を濃縮乾固する。クロ四ホルムＫ
ｌｌ解し、シリ゛カゲルクロマトによシ分離し、１．５
ｆの３−〔２−アミノ−５−（４−（３，４−ジメトキ
シベンゾイル）ピペラジノ）ラエニル〕プ四ピオン酸を
得る。

ｕｐ　　９８〜１０１℃ 参考例１０ ３−〔２−アミノ−５−（４−（３，４−ジメトキシベ
ンゾイル）ピペラジノ）フェニル〕プロピオン酸４．４
ｆを酢酸４０　ｗｌに溶解し、無水酢酸ｌＩＩを加え室
温にて１時間攪拌する。酢酸を濃縮後、水を加える。析
出結晶をＰ取する。っ水洗後アセトンー水の混合溶媒に
て再結晶する。１．５ｆの３−〔２−アミノアセチル−
５−１４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）ピペラジ
ノ）フェニル〕プロピオン酸を得る。

ｍｐ　　７８５〜８０．５８Ｃ 実施例１ ３−〔２−アミノ−５−（４−（３，４−ジメトキシベ
ンゾイル）ピペラジノ）ノエニル〕フロヒオンａｌｌ　
ｆｔ−クロロホルム−メタノールの混合溶媒にｍ解し、
−塩＃Ｒ１ｍｌを加え、室温にて１時間攪ｎ−する。溶
媒を留去し、エタノール−クロロホルムにて再結晶し、
５００岬の６−［４−（３，４−ジメトキシベンゾイル
）−１−ピペラジニル〕３−４ジヒドロカルボスチリル
を得る。

ｍｐ　２３８〜２３９．５℃ 無色粒状晶 適当な出発原料を用い、実施例１と同様にして下記実施
例２〜６８の化合物を得る。

実施例２ ５−（１−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル・１塩鍍塩・１水和物 ｕｐ　　３００℃以上（メタノール水 ℃色針状晶 実施例３ ６−（４−（４−メトキシベンジル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１９６
〜１９８℃（エタノール）無色針状晶 実施例４ ５−（４−（１）−）ルエンスルホニル）−１−ピペラ
ジニル）−３，４−シヒト°ロカルボスチ１）ル実施例
５ ６−（１−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル・臭化水素酸塩 ｍｐ　　２８９〜２９３℃（分解）（メタノール水） 無色針状晶 実施例６ ６−（４−ブチル−１−ピペラジニル）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル１塩酸塩・１／２水和塩ｍｐ　　２
７９〜２８１℃（分解）（メタノール）実施例７ ５−（４−ペンソイル−１−ピペラジニル）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　２４８〜２５１℃（エタノール）無色針状晶 実施例８ ６−（４−べ、ンゾイルー１−ピペラジニル）−３，４
−ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　２２１〜２２２．５℃（エタノール）淡黄色粒
状晶 実施例９ ５−（４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１−ピ
ペラジニル］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｌ１ｌ）　　２０７〜２０８℃（エタノール）無色粉末
状基 実施例１０ ５−（４−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍ、ｐ　　ｊ５０〜２５１．５℃（イソプロパツール）
無色粒状晶 実施例１１ ６−（４−（３，４，５−）ジメトキシベンゾイル）−
ｉ−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｕｐ　　１８０〜１８２℃（イソプロパツール）無色粒
状晶 実施例１２ ６−（４−（４−メトキシベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル］−３．４−ジヒドロカルボスチリル１／２水和物 ｍＰ　　２１２〜２１３℃（メタノール）無色針状晶 実施例１３ ６−（４−アセチル−１−ピペラジニル）−３，４−ジ
ヒドロ力“ルポスチリル ｍｐ　２０３〜２０５℃（インプロパツール）淡黄茶色
針状晶 実施例１４ ６−（４−フロイル−１−ピペラジニル）−３１４−ジ
ヒドロカルボスチリル ｕｐ　　２０６．５〜２０７．５℃（エタノール）淡黄
色粒状晶 実施例１５ 〜’６−（４−（２−プロピニル）−１−ピペラジニル
）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１７４〜
１７６℃（イソプロノ（ノール）実施例１６ ６−（４−（４−クロルベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｕｐ　　２３３
〜２３５℃ 淡黄色針状晶（メタノール） 実施例１７ ５−（４−（３，４−ジクロルベンゾイル）−１−ピペ
ラジニル］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　２５０〜２５２℃（メタノール）無色粉末状基 実施例１８ ５−（４−（３，５−ジクロルベンゾイル）−１−ピペ
ラジニル）−３，４−ジヒドロカルポスチリｍＰ　　２
５５〜２５７”Ｃ（メタ／−に−りｏａホルム） 無色針状晶 実施例１９ ６−、［４−（４−ブロモベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル）−ａ、４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２３
３〜２３４．５℃ 無色粒状晶（メタノールーク゛ロロホルム）実施例２０ ５７　（４−（４−シアノベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　２６６
〜２６９”Ｃ 無色粒状晶（メタノール−クロロホルム）実施例２１ ６−（４−（４−ニトロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル］−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　２３５．
５〜２３６．５°Ｃ（メタノール−クロロホルム） 黄色リン片状晶 実施例２２ ６−（４−（３，５−ジニトロベンゾイル）−１−ピペ
ラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　　２６２〜２６４°Ｃ（メタノール−りａｏホ
ルム）赤黒色針状晶 実施例２３ ６−（４−（４−アミノベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２４４
〜２４６℃ 淡黄色針状晶（エタノール） 実施例２４ ５−（４−（４−ヒドロキシベンゾイル）−１−ピペラ
ジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３００″Ｃ以上（メタノール−クロロホルム）無色粒状
晶 実施例２５ ６−［４−（３，４−メチレンジオキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　１９１〜１９２．５°Ｃ（メタノール）無色針
状晶 実施例２６ ５−（４−（４−メチルベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　　２３
９．５〜２４０°Ｃ（りｏｏホルム−エーテル）無色粉
末状晶 実施例２７ ６−（４−（メタンスルホニル）−１−ピペラジニル］
−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２４１．５
〜２４３°Ｃ 無色粒状晶（メタノール） 実施例２８ ５−（４−エチル−１−ピペラジニル）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル・１塩酸塩 ｍｐ　　２９３〜２９６℃（分解）（メタノール）無色
粒状晶 実施例２９ ６−（４−了りルー１−ピペラジニル）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル ＝ｍｐ　　’１’７５〜１７６℃（りｏロホルムーエー
テル）無色リン片状晶 実施例３０ ５−〔〆４−（２−グロビニル）−１−ピペラジニル）
−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２２５〜２
２６℃（クロロホルム）淡黄色針状晶 実施例３１ ６−（４−（２−ブテニル）−１−ピペラジニル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２４２〜２４５
℃（分解） 実施例３２ 比−メト、キシ−６−［４−（３，４−ジメトキシベン
ゾイル）−１−ピペラジニル：］−］３．４−ジヒドロ
カルボスチリ ｍｐ　　１６２．５〜１６３．５℃（イングロパノール
）無色針状晶 実施例３３ ６−（４−（３−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル］−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１９５
〜１９７．５℃ 無色リン片状晶（メタノール） 実施例３４ ５−（４−（４−メトキシベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル］−３．４−１ヒドロカルボスチリルｍｐ　　２１
９〜２２０℃（メタノール−クロロホルム）無色針状晶 実施例３５ ５７（４−エトキシカルボニルメチル−１−ピペラジニ
ル）−３，４−シヒドロカルボスチリルｍｌ）　　２０
６〜２０８℃（メタノール）無色針状晶 実施例３６ ５−（４−（４−ホルミル）−１−ピペラジニル）　−
３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　２６３〜２６５
℃ 無色粒状＆（メタノール） 実施例３７ ６−（４−エトキシカルボニル−１−ピペラジニル）−
３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１８２．５〜
１８４℃ 無色針状晶（イングロパノール） 実施例３８ ５−（４−（４−メトキシベンジル）−１−ピペラジニ
ル］−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１９４
〜１９６℃（メタノール）無色針状晶 実施例３９ ６−［４−（２−フェネチル＞　−Ｓ　＝ピペラジニル
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・１ａｔｉｌ塩 ｎ３ｐ　２７４〜２７６℃（分＃）（メタノール）無色
粉末状晶 実施例４０ ６−（４−（４−クロロベンジル）−１−ピペラジニル
）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　　１９０
〜１９１．５℃（クロロホルム−メタノール）無色針状
晶 実施例４１ ５−［４−（３，４−ジクロロベンジル）−１−ピペラ
ジニル）−３，４−’ジヒドロカルボスチリル・ｌ塩酸
塩・１水和物 ｍｐ２９８．５〜３００℃（分解）（メタノール）無色
粒状晶 実施例４２ ５−［４−（４−ニトロベンジル）−１−ピペラジニル
）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２６８〜
２７１℃（分解）（メタノール）淡黄色粉末状晶 実施例４３ ５−（４−（４−ア、ミノベンジル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸塩・１
水和物 ｍｐ　　２２４〜２２７℃（分解）（メタノール−エー
テル） 黄色粒状晶 実施例４４ ６−（４−（４−メチルベンジル）−１−ピペラジニル
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸塩 ｎ１ｐ　　２７２〜２７３℃（分解）（メタノール−水
）無色粉末状晶 実施例４５ ５−［４−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−ピペ
ラジニル）−３，４−ジメトキシベンジル）−１−ピペ
ラジニル〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル・２塩酸
塩 ｍｐ　　２７０〜２７２．５°Ｃ（分Ｓ＞実施例４６ ８−（４−ベンゾイル−１−ピペラジニル）カルボスチ
リル ｍｐ　２４４〜２４５℃（エタノール）無色粉末状晶 実施例４７ ６−［４−（３−ピリジルカルボニル）−１−ピペラジ
ニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２５
０〜２５２℃（エタノール）黄色針状晶 実施例４８ ６−（４−（４−メトキシフェニルアセチル）−１−ピ
ペラジニル）−３，４−ジヒドロヵルボスチリル １１１ｍ）　　２６６〜２６８５℃（メタノール）黄色
粉末状晶 実施例４９ ６−（４−フェニルプロピオニル−１−ピペラジニル）
＝３．４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ１８９．５〜１
９１°Ｃ（クロロホルム−メタノール） 黄色粒状晶 実施例５０ ８−［４−（３，４−メチレンジオキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル）−，３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル ｍＰ　　１９５〜１９７℃（エタノール）無色粒状晶 実施例５１ ８−［４−（３−クロロベンゾイル）−１〜ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍ１ｌｌｌ　　
１５２〜１５４℃（エタノール）無色麺片状晶 実施例５２ ８−（：４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１−
ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　１４５〜１４８°Ｃ（エタノール）無色鱗片状
晶 実施例５３ ８−［４−（４−メチルチオベンゾイル）−１−゛ピペ
ラジニル〕−３，４−）ヒドロカルボスチリル ｍｐ　　１７８〜１７９．５°ｃ（エタノール）無色粒
状晶 実施例５４ ７−［４−（２−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル］−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　１９４〜
１９５．５℃（ｌ　Ｉ’　／　−ル）無色針状晶 実施例５５ ７−（４−（３−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１３６
５〜１３ノ８．５４Ｃ（エタノール）無色粉末状晶 実施例５６ ７−［４−（４−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２８９
〜２９１°Ｃ（りｏ　ロホルＡ　−７＋　ｓ　／−Ａ）
無色粉末状晶 実施例５７ ７−（４−（４−メトキシベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２３
１〜２３３℃（エタノール）無色針状晶 実施例５８ ７−［４−（３，４−メチレンジオキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍ、ｐ　　２０７〜２０８℃（エタノール）無色粉末状
晶 実施例５９ ７−（４−（４−ニトロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２４０
〜２４２℃（クロロホルム−メタノール）黄色粒状晶 実施例６０ ７−　［４−（３，４，５−）ジメトキシベンゾイル）
−１−ピペラジニル３−３．４〜ジヒドロカルボスチリ
ル ｍｐ　　１９５〜１９６．５℃（メタノール）無色稜状
晶 実施例６′１ ７−（４−ぺ／シイルー１−ピペラジニル）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ｉｐ　　２６４．５〜２６５．５°℃（クロＵホルム−
メタノール 無色針状晶 実施例６２ ？−［４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１−ピ
ペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｍｌ）　　１１８〜１２°０℃（エタノール）無色粒状
晶 実施例６３ ７−［４−（４−メチルチオベンゾイル）−１−ピペラ
ジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ｆｆ１ｐ　２５８〜２６０℃（クロロホルム−メタノー
ル）無色稜状晶− 実施例６４ ７−（４−フェニルプロピオニル−１−ピペラジニル）
−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　１８．３〜
１８４℃（エタノール）無色針状晶 実施例６５ ７−（１−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル・美化水嵩酸塩 諺ｐ　１７４〜１７７．’Ｃ（エタノール）無色粒状晶 実施例６６ ８−（１−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル・臭化水＊ｍ塩 ｍｐ　　３００℃以上（メタノール−エーテル）無色針
状晶 実施例６７ ５−（４−（４−二トロベンゾイル）−１−ビペラジニ
λ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｍｐ　　２９２
〜２９４℃（分解） 黄色粒状晶（メタノール−クロロホルム）実施例６８ ５−［４−（４−アミノペンジイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルｕｐ　　２８５
〜２８７℃（分解） 無色粒状晶（メタノール−クロロホルム）実施例６９ ３−〔２−アミノアセチル−５−（４−（３，４−ジメ
トキシベンゾイル）ピペラジノ）フェニル〕プロピオ／
酸１０１をジフェニルエーテル１００ｄに溶解し９０〜
１００℃にて攪拌する。８時間反応抜水にあけ、析出晶
を戸数する。これよりシリカゲルカラムクロニドにより
分離しメタノール−クロロホルムよシ再結晶して１．２
ｆの６−〔４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１
−ピペラジニル〕カルボスチリルを得る。

ｍｐ　　Ｚ６５〜２６６．５℃（分解）黄色粒状晶 適＠愈出抛原料を用い、実施例６９と同様にして実施例
７０〜９２の化合愉を得る〇 実施例７０ ６−（４−エトキシカルボニル−１−ピペラジニル）カ
ルボスチリル ｍｐ　　２２３〜２２４℃（メタノール）黄色針状晶 実施例７１ ６−［４−（３−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル〕カルボスチリル ｍ　ｐ　　２５０．５〜２５２’Ｃ（メタノールークｏ
ａホルム）黄色粉末状晶 実施例７２ ６−［４−（４−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル〕カルボスチリル ｍＰ　　２６５〜２６６℃（メタノール−クロロポルム
）黄色粉末状晶 実施例７３ ６−（４−（４−メトキシベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル〕カルボスチリル ｍｐ　　２３０〜２３３℃（クロロホルム−メタノール
）黄色針状晶 実施例７４ ６−（４−（３，４，５−）リメトキシベンゾイル）−
１−ピペラジニル〕カルボスチリル ｍｐ　　２４９．５〜２５０℃（メタノール−クロロホ
ルム）黄色針状晶 実施例７５ ６−（４−（４−シアノベンゾイル）−１−ヒ―ペラジ
ニル〕カルボスチリル ｍｐ　　３００〜３０１°Ｃ（４４）（メタノール−ク
ロロホルム） 黄色粉末状晶 実施例７６ ６−（４−（３，４−メチレンジオキシペ／ゾイル）−
１−ピペラジニル〕カルボスチリルｍｐ　　２６６〜２
６７℃（分解）（メタノール−クロロホルム） 黄色粉末状晶 実施例７７８ ６−（４−（４−ニトロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル〕カルボスチリル ｍｐ　　２６５〜２６６°Ｃ（分＄）（メタノール−ク
ロロホルム） 黄色針状晶 実施例７８ ６−（４−（４−アミノベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル〕カルボスチリル ｍｐ　　２８７〜２９０（クロロホルム−メタノール）
黄色粉末状晶 実施例７９ ６−（４−ベンゾイル−１−ピペラジニル）カルボスチ
リル ｍｌ）　　２６４〜２６５℃（エタノ−、ルークロロホ
ルム）黄色針状晶 実施例８０ ５−［４−（４−アセチルアミノベンゾイル）−１−ピ
ペラジニル）　−ａｔ４−　ジヒドロカルボスチリル ｍｐ　　３００℃以上（クロロホルム−メタノール） 無色粉末状具 実施例８１ ６−［４−（４−ホルミ／Ｉ／）−１−ピペラジニル〕
カルボスチリル ｍｐ　　２Ｂ６．５〜２８８℃（メタノール）黄色鱗片
状晶 実施例８２ ６−［４−（４−メチルチオベンゾイル）−１−ヒペラ
ジニル〕カルボスチリル ｍｐ２４７．５〜２４９．５℃（クロロホルム−メタノ
ール） 黄色針状晶 実施例８３ ８−（４−ベンゾイル−１−ピペラジニル）カルボスチ
リル ｍＰ　　２４４〜２４５℃（エタノール）無色粉末状具 実施例８４ ８−（４−（４−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル〕カルボスチリル ｍｐ　２５５．５〜２５７℃（エタノール−クロロホル
ム） 無色粉末状具 実施例８５ ８−［４−（３−クロロベンゾイル）−１−ビヘラシニ
ル〕カルボスチリル ｒＩＪｐ　２０８〜２０９°Ｃ（エタノール）無色粒状
晶 実施例８６ ８−（４−（２−クロロベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル〕カルボスチリル ＩＩｐ　２３９〜２４０．５℃（エタノ、−ル）無色針
状晶 実施例８７ ８−（４−（４−メトキシベンゾイル）−１−ピペラジ
ニル〕カルボスチリル ｍｐ　２０８〜２１０℃（エタノール）無色鱗片状晶 実施例８８ ８−［４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１−ピ
ペラジニル〕カルボスチリル ｍｌ）　　１９７〜１９８℃（エタノール−エーテル）
無色鱗片状晶 実施例８９ ６−（１−ピペラジニル）カルボスチリル・臭化水素酸
塩 ｍｐ　　３”００℃以上（水−エタノール）淡黄色稜状
晶 実施例９０ ８−（１−１’ペラジニル）カルボスチリル・臭化水素
酸塩 ｍｐ　　ａｏｏ℃以上（メタノール−エーテル）無色鱗
片状晶 実施例９１ ６−（４−（４−メトキシフェニルアセチル）−１−ピ
ペラジニル〕カルボスチリル ｕｐ　　２２４〜２２５℃（エタノール）黄色針状晶 、実施例９２ ６−［４−（４−ヒドロキシラエニルアセチル）−１−
ピペラジニル〕カルボスチリル ｍｐ　　３００℃以上（ジメチルホルムアミド）黄色粉
末状晶 実施例９３ ２−アミノ−５−［４−（３，４−ジメトキシベンゾイ
ル）ピペラジノコケイ皮酸５ｆをＤ　Ｍ　Ｆ５０ｄに溶
解し、５チパラジウム炭素０．５ｆを加え、パールにて
水素圧３　＃／ｄを加え、８０℃にて４時間反応する。

水素を除いた後内溶液を取り出し、触媒を除去後、溶液
を半量鎖縮し、多量の水にあける。析出結晶を炉取し、
エタノール−クロロホルムで再結晶し、２．９ｆの６−
（４−（３，４ニジメトキシペンどイル）−１−ピペラ
ジニル〕３−４ジヒドロカルボスチリルを得る。

ｍｐ　　２３８〜２３９．５℃ 無色粒状晶 適当な出発原料を用い、実施例９３と同様にし七実施例
２〜６８の化合物を得る。

実施例９４ ２−二トロー５−ピペラジニルケイｒｔｔｅエチルエス
テル［１１１ｍ３．５１エチルアルコール１５０ｄ及び
水′４５ｄの混合溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム水溶
液にてＰＨ中７としてラネーニッケル触媒２ｆを加え、
ガラス製オートクレーブ中に入れる。水素圧５＃／ｄを
加え、８０℃にて４時間攪拌する。水素を除いえ後、溶
液を散り出し、触媒を除去後、溶液を濃縮乾固し、残漬
にメチルアルコールを加え、結晶化させ、析出結晶をｐ
遇する。メタノールより再結晶し、１．３Ｆの６−（１
−ピペラジニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを
得る。

ｍｐ　　２２４〜２３１．５℃ 実施例９５ ２−ニドａ−５Ｃ４−（３，４−ジメトキシベンゾイル
）ピペラジノコクイ皮酸８．８１ｔＤＭ１８８ｓ／に溶
解し、ラネーニッケル触媒１．６１を加え、パールにて
水素圧３＃／ｉを加え、８０℃にて４時間反応する。水
素を除いた彼、内溶液を取り出し、触媒を除去後、溶液
をＩＩｋｍ乾固し、残漬にメタノールを加え結晶化させ
る。析出結晶をか取し、ＤＭＦで再結晶し、さらにクロ
ロホルム−エタノール混合溶媒にて再結晶し、８−（４
−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１−ピペラジニ
ル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを５．８ｆ得る
。

ｍｐ　　２３８〜２３９．５℃ 無色粒状晶 実施例９５と同様にして実施例２〜４．６〜６８の化合
物を得る。

（以　上）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 〔式中８１は水素原子、低級アルカノイル基、フロイル
   基、ピリジルカルボニル基、低級アルカンスルホニル基
   、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボ
   ニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級
   アルキル基を有することのあるフェニルスルホニル基、
   低級アルキル基、゛低級アルケニル基、低級アルキニル
   基、フェニルスルホニル基、フェニル低級アルキル基゛
   又はフェニル低級アルカノイル基な示す。上記フェニル
   カルボ轡ル基、フェニル低級アルキル基及びフェニル低
   級アルカノイル基のフェニル環上には低級アルコキシ基
   、）−ロゲン原子、低級アルキル基、シアノ基、ニトロ
   基、アミノ基、水酸基１．低級アルカノイルアミノ基、
   低級アルキルチオ基及び低級アルカノイルオキシ基なる
   群から選ばれ九基を１〜３個又は低級アルキレ／ジオキ
   シ基を置換基として有していて４よい。がは水素原子又
   は低級アルコキシ基を示す。Ｒ″は水素原子又は低級ア
   ルカノイル基を示す。Ｒ４は水素原子又は低級アルキル
   基を示す。−は−重結合又は二重結合を示す。〕で表わ
   されるカルボン酸誘導体を環化反応させることを特徴と
   する一般式 〔式′中カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結
   合は一重結合又は二重結合を示す。を及びＲ２は前記に
   同じ。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体及びその塩の製造法
   。