JPS63169014A - チツプコンデンサ−の外部電極端子の形成方法 - Google Patents
チツプコンデンサ−の外部電極端子の形成方法Info
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- JPS63169014A JPS63169014A JP62000913A JP91387A JPS63169014A JP S63169014 A JPS63169014 A JP S63169014A JP 62000913 A JP62000913 A JP 62000913A JP 91387 A JP91387 A JP 91387A JP S63169014 A JPS63169014 A JP S63169014A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はチップコンデンサー、特に積層焼結したセラミ
ックチップコンデンサーの外部電極端子の形成方法に関
する。
ックチップコンデンサーの外部電極端子の形成方法に関
する。
近年、電子機器の軽薄短小化に対する要求が増大してく
るに従い、チップ部品が多くの電子機器に用いられるよ
うになってきた。このような状況の下にあって最近では
チップコンデンサー、特に積層焼結したセラミックチッ
プコンデンサーの需要が飛躍的に増大しており、特に電
子回路の高密度化に大きな役割を果している。
るに従い、チップ部品が多くの電子機器に用いられるよ
うになってきた。このような状況の下にあって最近では
チップコンデンサー、特に積層焼結したセラミックチッ
プコンデンサーの需要が飛躍的に増大しており、特に電
子回路の高密度化に大きな役割を果している。
従来このようなチップコンデンサーの製造方法、特にそ
の外部電極端子の形成方法としては種々の方法が提案さ
れ、実施されているが、その一つの方法として特願昭8
1−85339号に記載された方法がある。このチップ
コンデンサーの外部電極端子の形成方法を第2図A −
Kを参照して説明する。
の外部電極端子の形成方法としては種々の方法が提案さ
れ、実施されているが、その一つの方法として特願昭8
1−85339号に記載された方法がある。このチップ
コンデンサーの外部電極端子の形成方法を第2図A −
Kを参照して説明する。
上記方法は第2図Aに示す如くチタン酸バリウムまたは
酸化チタン等のセラミック誘電体層1とパラジウムから
なる内部電極層2を交互に積層し、焼結してチップコン
デンサー素子を作る。次いで上記チップコンデンサー素
子の相対する両端部に外部電極端子を形成するに当って
、先ず第2図Bに示すように、上記チップコンデンサー
素子を例えば塩化パラジウムおよび塩化錫の水溶液に浸
漬して活性化処理を行ない、次いでチップコンデンサー
素子の全表面に金属パラジウムの貴粒子からなる活性化
Jf13を付着させ、次いで第2図Cに示すように、ニ
ッケルまたは銅の無電解めっきを行なってチップコンデ
ンサー素子の全表面に導電性金属Jlf4を析出させる
。次に第2図りに示すようにチップコンデンサー素子の
相対する両端部の内部電極層2が露出していた側壁面お
よびそれに続くセラミック誘電体層1の表面の一部であ
る外部電極端子形成縁部上に、選択的に耐エツチング層
5および5′を塗布し、その後第2図りに4′で示した
耐エツチング層5および5′が存在しない上記導電性金
属層4の部分をエツチングすることによって溶解除去し
、更に上記エツチング層5および5′を除去して、第1
AFに示す如くチップコンデンサー素子の相対する両端
部に内部電極層2と接続した導電性金属層4からなる外
部電極端子6を形成している。
酸化チタン等のセラミック誘電体層1とパラジウムから
なる内部電極層2を交互に積層し、焼結してチップコン
デンサー素子を作る。次いで上記チップコンデンサー素
子の相対する両端部に外部電極端子を形成するに当って
、先ず第2図Bに示すように、上記チップコンデンサー
素子を例えば塩化パラジウムおよび塩化錫の水溶液に浸
漬して活性化処理を行ない、次いでチップコンデンサー
素子の全表面に金属パラジウムの貴粒子からなる活性化
Jf13を付着させ、次いで第2図Cに示すように、ニ
ッケルまたは銅の無電解めっきを行なってチップコンデ
ンサー素子の全表面に導電性金属Jlf4を析出させる
。次に第2図りに示すようにチップコンデンサー素子の
相対する両端部の内部電極層2が露出していた側壁面お
よびそれに続くセラミック誘電体層1の表面の一部であ
る外部電極端子形成縁部上に、選択的に耐エツチング層
5および5′を塗布し、その後第2図りに4′で示した
耐エツチング層5および5′が存在しない上記導電性金
属層4の部分をエツチングすることによって溶解除去し
、更に上記エツチング層5および5′を除去して、第1
AFに示す如くチップコンデンサー素子の相対する両端
部に内部電極層2と接続した導電性金属層4からなる外
部電極端子6を形成している。
上述した従来の方法では、チップコンデンサー素子の全
表面に無電解めっきによって導電性金属層4を被覆する
ために、前処理として活性化処理する工程、導電性金属
層4を被覆させた後耐エツチング漸5および5′を塗布
する工程、更に不要部分の導電性金属層4′をエツチン
グにより除去する工程等煩雑な製造工程を必要としてい
る。これらの工程を経る間にチップコンデンサー素子自
体の特性劣化を招き易いこと、更には形成された外部電
極端子〇は、チップコンデンサー素子の相対する両端部
の側壁面以外に耐エツチング層5′で被覆されていた部
分、即ち表面にも両端縁から内方に延びて形成されるの
で、チップコンデンサー素子の両外部電極端子6間の寸
法が小さくなること、更には相対向する外部電極端子6
間で短絡を生じ易いという問題点があった。
表面に無電解めっきによって導電性金属層4を被覆する
ために、前処理として活性化処理する工程、導電性金属
層4を被覆させた後耐エツチング漸5および5′を塗布
する工程、更に不要部分の導電性金属層4′をエツチン
グにより除去する工程等煩雑な製造工程を必要としてい
る。これらの工程を経る間にチップコンデンサー素子自
体の特性劣化を招き易いこと、更には形成された外部電
極端子〇は、チップコンデンサー素子の相対する両端部
の側壁面以外に耐エツチング層5′で被覆されていた部
分、即ち表面にも両端縁から内方に延びて形成されるの
で、チップコンデンサー素子の両外部電極端子6間の寸
法が小さくなること、更には相対向する外部電極端子6
間で短絡を生じ易いという問題点があった。
従って本発明の目的は、上述した問題点を解決すること
にあり、製造工程の簡略化をしてチップコンデンサー素
子の特性劣化の生ずることを防止し、外部電極端子間の
寸法を従来と同一にしたときには、チップコンデンサー
素子の小型化を計ることができるチップコンデンサー素
子の外部電極端子を形成する方法を提供することにある
。
にあり、製造工程の簡略化をしてチップコンデンサー素
子の特性劣化の生ずることを防止し、外部電極端子間の
寸法を従来と同一にしたときには、チップコンデンサー
素子の小型化を計ることができるチップコンデンサー素
子の外部電極端子を形成する方法を提供することにある
。
本発明はセラミック誘電体層および内部電極層を交互に
積層し、焼結したチップコンデンサー素子に外部電極端
子を形成する際に、上記チップコンデンサー素子の相対
する両端の側壁面に、この側壁面に露出した内部電極層
が短絡されるようにその全面に無電解めっきによって導
電性金属層を析出させることからなるチップコンデンサ
ーの外部電極端子の形成方法である。
積層し、焼結したチップコンデンサー素子に外部電極端
子を形成する際に、上記チップコンデンサー素子の相対
する両端の側壁面に、この側壁面に露出した内部電極層
が短絡されるようにその全面に無電解めっきによって導
電性金属層を析出させることからなるチップコンデンサ
ーの外部電極端子の形成方法である。
本発明方法においては、チップコンデンサー素子の両端
側壁面に露出した内部電極層を利用して無電解めっきす
るため、積層された誘電体層の厚さ、換言すれば内部電
極層間の距離、更には露出した内部電極層の厚さによっ
て無電解めっき効率および形成される外部電極端子の形
成状態が左右される。本発明者等の実験によれば、セラ
ミック誘電体層の厚さが30μ以下で、内部電極層の厚
さが1μ以上であると、均一にして良好な外部m tr
i i子がチップコンデンサー素子の両端外側壁面上に
形成できることが判った。また無電解めっきにより形成
する外部電極端子を形成する材料としてはニッケルおよ
びその合金、銅、銀、パラジウム等公知の材料を使用で
きる。
側壁面に露出した内部電極層を利用して無電解めっきす
るため、積層された誘電体層の厚さ、換言すれば内部電
極層間の距離、更には露出した内部電極層の厚さによっ
て無電解めっき効率および形成される外部電極端子の形
成状態が左右される。本発明者等の実験によれば、セラ
ミック誘電体層の厚さが30μ以下で、内部電極層の厚
さが1μ以上であると、均一にして良好な外部m tr
i i子がチップコンデンサー素子の両端外側壁面上に
形成できることが判った。また無電解めっきにより形成
する外部電極端子を形成する材料としてはニッケルおよ
びその合金、銅、銀、パラジウム等公知の材料を使用で
きる。
上述した如く本発明方法によれば、チップコンデンサー
素子の相対する両端部の側壁面にのみ、その側壁面に露
出した内部電極層を利用して、外部電極端子を形成でき
る。
素子の相対する両端部の側壁面にのみ、その側壁面に露
出した内部電極層を利用して、外部電極端子を形成でき
る。
以下に本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第1図A −Bは本発明によるチップコンデンサーの外
部電極端子の形成工程を説明するための各工程における
チップコンデンサーの断面図である。
部電極端子の形成工程を説明するための各工程における
チップコンデンサーの断面図である。
本実施例では、第1賭Aに示すようにチタン酸バリウム
または酸化チタン等のセラミック誘電体層7の表面にパ
ラジウムまたは白金等の貴金属からなる導電性ペースト
を印刷して内部電極層8を形成したものを交互に積層し
たシートを外形が直方体を有する固片状に切断加工した
後、1200〜1300℃で焼結することによってチッ
プコンデンサー素子9を作った。このときの各セラミッ
ク誘電体層7の厚さは20μで、形成された内部電極層
8の厚さは2μであった。
または酸化チタン等のセラミック誘電体層7の表面にパ
ラジウムまたは白金等の貴金属からなる導電性ペースト
を印刷して内部電極層8を形成したものを交互に積層し
たシートを外形が直方体を有する固片状に切断加工した
後、1200〜1300℃で焼結することによってチッ
プコンデンサー素子9を作った。このときの各セラミッ
ク誘電体層7の厚さは20μで、形成された内部電極層
8の厚さは2μであった。
次に第1図Bに示すように上記チップコンデンサー素子
9を無電解めっき液に浸漬し、チップコンデンサー素子
9の相対する両端部の側壁面10に層状に露出している
内部電極層8の露出部8′を利用して均一な導電性金属
層11を析出させて外部電極端子を形成した。
9を無電解めっき液に浸漬し、チップコンデンサー素子
9の相対する両端部の側壁面10に層状に露出している
内部電極層8の露出部8′を利用して均一な導電性金属
層11を析出させて外部電極端子を形成した。
上記無電解めっきにより析出させた導電性金属ノ曽11
としては、ニッケル、銅、銀、パラジウムの何れもが側
壁面10上に均一に形成できた0 なお上述したようにして形成した外部電極端子上には必
要によりバレルめっき法等によって耐腐蝕性あるいはは
んだ付は性にすぐれた金属層を被覆してもよい。
としては、ニッケル、銅、銀、パラジウムの何れもが側
壁面10上に均一に形成できた0 なお上述したようにして形成した外部電極端子上には必
要によりバレルめっき法等によって耐腐蝕性あるいはは
んだ付は性にすぐれた金属層を被覆してもよい。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、セラ
ミック誘電体層と内部電極層を交互に積層し、焼結して
作ったチップコンデンサー素子の相対する両端部のしか
もその便槽面上にのみ、露出した内部電極層を利用して
無電解めっき法によって導電性金属層を析出させて、外
部電極端子を形成できるので、前述したような従来法に
おけるチップコンデンサー素子の活性化処理、耐エツチ
ング層塗布、エツチングによる除去等の煩雑な工程を必
要とせずに、極めて簡単な工程で外部電極端子を形成で
きる。このため従来の工程で発生することのあるセラミ
ックチップコンデンサー素子の特性劣化を皆無にするこ
とができ、信頼性にすぐれたチップコンデンサーを得る
ことができる。
ミック誘電体層と内部電極層を交互に積層し、焼結して
作ったチップコンデンサー素子の相対する両端部のしか
もその便槽面上にのみ、露出した内部電極層を利用して
無電解めっき法によって導電性金属層を析出させて、外
部電極端子を形成できるので、前述したような従来法に
おけるチップコンデンサー素子の活性化処理、耐エツチ
ング層塗布、エツチングによる除去等の煩雑な工程を必
要とせずに、極めて簡単な工程で外部電極端子を形成で
きる。このため従来の工程で発生することのあるセラミ
ックチップコンデンサー素子の特性劣化を皆無にするこ
とができ、信頼性にすぐれたチップコンデンサーを得る
ことができる。
また本発明方法により作られるチップコンデンサーはそ
の外部電極端子をコンデンサー素子の相対する両端の側
壁面にのみ形成できるので、コンデンサー素子を更に小
型化しても外部電極、端子どう、しが短絡する危険性が
全くなく、歩留りを著しく向上させることができる。
の外部電極端子をコンデンサー素子の相対する両端の側
壁面にのみ形成できるので、コンデンサー素子を更に小
型化しても外部電極、端子どう、しが短絡する危険性が
全くなく、歩留りを著しく向上させることができる。
第1図A −Eは本発明の一実施例によるチップコンデ
ンサーの外部電極端子の形成工程を説明するための各工
程におけるチップコンデンサーの断面図であり、第2図
ANIcは従来のチップコンデンサーの外部電極端子の
形成工程を説明する各工程における断面図である。 7−−−セラミツク誘電体層、8−−一内部電極層、9
−一一チツブコンデンサー素子、10−−−側壁面、1
1−−一導電性金属M(外部1!極端子)。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第1図 第2図
ンサーの外部電極端子の形成工程を説明するための各工
程におけるチップコンデンサーの断面図であり、第2図
ANIcは従来のチップコンデンサーの外部電極端子の
形成工程を説明する各工程における断面図である。 7−−−セラミツク誘電体層、8−−一内部電極層、9
−一一チツブコンデンサー素子、10−−−側壁面、1
1−−一導電性金属M(外部1!極端子)。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、セラミック誘電体層および内部電極層を交互に積層
し、焼結したチップコンデンサー素子に外部電極端子を
形成する際に、上記チップコンデンサー素子の相対する
両端の側壁面に、この側壁面に露出した内部電極層が短
絡されるようにその全面に無電解めつきによつて導電性
金属層を析出させることを特徴とするチップコンデンサ
ーの外部電極端子の形成方法。 2、セラミック誘電体層の厚さが30μ以下であり、内
部電極層の厚さが1μ以上である特許請求の範囲第1項
記載のチップコンデンサーの外部電極端子の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62000913A JPS63169014A (ja) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | チツプコンデンサ−の外部電極端子の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62000913A JPS63169014A (ja) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | チツプコンデンサ−の外部電極端子の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63169014A true JPS63169014A (ja) | 1988-07-13 |
Family
ID=11486917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62000913A Pending JPS63169014A (ja) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | チツプコンデンサ−の外部電極端子の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63169014A (ja) |
Cited By (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007097180A1 (ja) * | 2006-02-27 | 2007-08-30 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品およびその製造方法 |
WO2007105395A1 (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品の製造方法 |
WO2007119281A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2007-10-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品およびその製造方法 |
WO2008023496A1 (fr) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Composant électronique feuilleté et procédé pour le fabriquer |
JP2009302128A (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 |
JP2010034225A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
JPWO2008059666A1 (ja) * | 2006-11-15 | 2010-02-25 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JP2010093112A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JP2010147167A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の製造方法および製造装置 |
JP2010153445A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品およびその製造方法 |
CN101901688A (zh) * | 2009-06-01 | 2010-12-01 | 株式会社村田制作所 | 层叠型电子部件及其制造方法 |
JP2011009478A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US7933113B2 (en) | 2007-03-28 | 2011-04-26 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer electronic component and method for manufacturing multilayer electronic component |
US8077445B2 (en) | 2008-05-12 | 2011-12-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
US8094432B2 (en) | 2008-05-12 | 2012-01-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
US8130485B2 (en) | 2008-04-28 | 2012-03-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
CN102376450A (zh) * | 2010-08-13 | 2012-03-14 | 株式会社村田制作所 | 层叠型陶瓷电子部件及其制造方法 |
US8149566B2 (en) | 2009-05-18 | 2012-04-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component and manufacturing method therefor |
US8154849B2 (en) | 2005-10-28 | 2012-04-10 | Murata Manufacturing Co. Ltd. | Laminated electronic component |
US8154848B2 (en) | 2008-04-25 | 2012-04-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component including external electrodes that include a plating layer having a low film stress |
US8228663B2 (en) | 2008-11-13 | 2012-07-24 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component |
KR20120089199A (ko) | 2011-02-01 | 2012-08-09 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조방법 |
US8310805B2 (en) * | 2008-06-11 | 2012-11-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component including plating material of external terminal electrode disposed in voids of inner conductor and method for manufacturing the same |
US8315036B2 (en) | 2008-06-10 | 2012-11-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
JP2013045891A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Taiyo Yuden Co Ltd | 電子部品及びその製造方法 |
US8411409B2 (en) | 2010-06-17 | 2013-04-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
US8456796B2 (en) | 2008-10-09 | 2013-06-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic electronic component and method for manufacturing monolithic electronic component |
US8508912B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-08-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Capacitor and method for manufacturing the same |
US8508913B2 (en) | 2011-01-05 | 2013-08-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminate type electronic component and manufacturing method therefor |
US8520361B2 (en) | 2010-03-24 | 2013-08-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component |
US8547683B2 (en) | 2009-06-30 | 2013-10-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component with directly plated external terminal electrodes and manufacturing method therefor |
US8587919B2 (en) | 2010-08-13 | 2013-11-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminate type ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
US8665053B2 (en) | 2011-03-22 | 2014-03-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
JP2014078751A (ja) * | 2013-12-26 | 2014-05-01 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品 |
KR20140097035A (ko) | 2013-01-29 | 2014-08-06 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층형 세라믹 전자부품 |
KR20140119645A (ko) | 2013-04-01 | 2014-10-10 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층형 세라믹 전자부품 |
US9013859B2 (en) | 2010-02-05 | 2015-04-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component and manufacturing method therefor |
US9666366B2 (en) | 2002-04-15 | 2017-05-30 | Avx Corporation | Method of making multi-layer electronic components with plated terminations |
JP2023017133A (ja) * | 2021-07-12 | 2023-02-07 | 國立成功大學 | 積層セラミックコンデンサ端電極の作製と、全面積に内部電極保護層を印刷する方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5916323A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-27 | 株式会社村田製作所 | セラミツク積層コンデンサ |
-
1987
- 1987-01-06 JP JP62000913A patent/JPS63169014A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5916323A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-27 | 株式会社村田製作所 | セラミツク積層コンデンサ |
Cited By (65)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10020116B2 (en) | 2002-04-15 | 2018-07-10 | Avx Corporation | Plated terminations |
US10366835B2 (en) | 2002-04-15 | 2019-07-30 | Avx Corporation | Plated terminations |
US11195659B2 (en) | 2002-04-15 | 2021-12-07 | Avx Corporation | Plated terminations |
US9666366B2 (en) | 2002-04-15 | 2017-05-30 | Avx Corporation | Method of making multi-layer electronic components with plated terminations |
US8154849B2 (en) | 2005-10-28 | 2012-04-10 | Murata Manufacturing Co. Ltd. | Laminated electronic component |
WO2007097180A1 (ja) * | 2006-02-27 | 2007-08-30 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US7589951B2 (en) | 2006-02-27 | 2009-09-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component and method for manufacturing the same |
JP2012023393A (ja) * | 2006-02-27 | 2012-02-02 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JPWO2007097180A1 (ja) * | 2006-02-27 | 2009-07-09 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JP4900382B2 (ja) * | 2006-02-27 | 2012-03-21 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
JPWO2007105395A1 (ja) * | 2006-03-14 | 2009-07-30 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品の製造方法 |
JP5116661B2 (ja) * | 2006-03-14 | 2013-01-09 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品の製造方法 |
WO2007105395A1 (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品の製造方法 |
JP5188390B2 (ja) * | 2006-03-15 | 2013-04-24 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US7719819B2 (en) | 2006-03-15 | 2010-05-18 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component and method for manufacturing the same |
JPWO2007119281A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2009-08-27 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
WO2007119281A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2007-10-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 積層型電子部品およびその製造方法 |
WO2008023496A1 (fr) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Composant électronique feuilleté et procédé pour le fabriquer |
JPWO2008059666A1 (ja) * | 2006-11-15 | 2010-02-25 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US8184424B2 (en) | 2006-11-15 | 2012-05-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer electronic component including a counter diffusion layer |
JP5127703B2 (ja) * | 2006-11-15 | 2013-01-23 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US7933113B2 (en) | 2007-03-28 | 2011-04-26 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer electronic component and method for manufacturing multilayer electronic component |
US8154848B2 (en) | 2008-04-25 | 2012-04-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component including external electrodes that include a plating layer having a low film stress |
US8130485B2 (en) | 2008-04-28 | 2012-03-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
US8077445B2 (en) | 2008-05-12 | 2011-12-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
US8094432B2 (en) | 2008-05-12 | 2012-01-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
JP2009302128A (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 |
US8102640B2 (en) | 2008-06-10 | 2012-01-24 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic ceramic electronic component and method of manufacturing monolithic ceramic electronic component |
US8315036B2 (en) | 2008-06-10 | 2012-11-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
US8310805B2 (en) * | 2008-06-11 | 2012-11-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component including plating material of external terminal electrode disposed in voids of inner conductor and method for manufacturing the same |
JP2010034225A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
US9111690B2 (en) | 2008-10-09 | 2015-08-18 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer electronic component |
JP2010093112A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US8456796B2 (en) | 2008-10-09 | 2013-06-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic electronic component and method for manufacturing monolithic electronic component |
US8228663B2 (en) | 2008-11-13 | 2012-07-24 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component |
JP2010147167A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の製造方法および製造装置 |
US8400754B2 (en) | 2008-12-17 | 2013-03-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method and apparatus for producing a ceramic electronic component |
US8797711B2 (en) | 2008-12-24 | 2014-08-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Electronic component and producing method thereof |
JP2010153445A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品およびその製造方法 |
US8149566B2 (en) | 2009-05-18 | 2012-04-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component and manufacturing method therefor |
CN101901688A (zh) * | 2009-06-01 | 2010-12-01 | 株式会社村田制作所 | 层叠型电子部件及其制造方法 |
US8587923B2 (en) | 2009-06-01 | 2013-11-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component including water repellant and manufacturing method therefor |
US8320101B2 (en) | 2009-06-26 | 2012-11-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer electronic component and method for manufacturing the same |
JP2011009478A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品およびその製造方法 |
US8547683B2 (en) | 2009-06-30 | 2013-10-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component with directly plated external terminal electrodes and manufacturing method therefor |
US9013859B2 (en) | 2010-02-05 | 2015-04-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component and manufacturing method therefor |
US8508912B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-08-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Capacitor and method for manufacturing the same |
US8520361B2 (en) | 2010-03-24 | 2013-08-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated electronic component |
US8411409B2 (en) | 2010-06-17 | 2013-04-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
US8503160B2 (en) | 2010-08-13 | 2013-08-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminate type ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
US8587919B2 (en) | 2010-08-13 | 2013-11-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminate type ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
CN102376450A (zh) * | 2010-08-13 | 2012-03-14 | 株式会社村田制作所 | 层叠型陶瓷电子部件及其制造方法 |
US8508913B2 (en) | 2011-01-05 | 2013-08-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminate type electronic component and manufacturing method therefor |
US8520362B2 (en) | 2011-02-01 | 2013-08-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
KR20120089199A (ko) | 2011-02-01 | 2012-08-09 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조방법 |
US8665053B2 (en) | 2011-03-22 | 2014-03-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated ceramic electronic component and manufacturing method therefor |
JP2013045891A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Taiyo Yuden Co Ltd | 電子部品及びその製造方法 |
JP2014146669A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-14 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型セラミック電子部品 |
US9607763B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-03-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic ceramic electronic component |
KR20160025541A (ko) | 2013-01-29 | 2016-03-08 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층형 세라믹 전자부품 |
KR20140097035A (ko) | 2013-01-29 | 2014-08-06 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층형 세라믹 전자부품 |
US9343234B2 (en) | 2013-04-01 | 2016-05-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Monolithic ceramic electronic component |
KR20140119645A (ko) | 2013-04-01 | 2014-10-10 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적층형 세라믹 전자부품 |
JP2014078751A (ja) * | 2013-12-26 | 2014-05-01 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品 |
JP2023017133A (ja) * | 2021-07-12 | 2023-02-07 | 國立成功大學 | 積層セラミックコンデンサ端電極の作製と、全面積に内部電極保護層を印刷する方法 |
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