JPS62502155A - 軸方向ガス流励起管からなるガスレ−ザ - Google Patents

軸方向ガス流励起管からなるガスレ−ザ

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JPS62502155A JP60504318A JP50431885A JPS62502155A JP S62502155 A JPS62502155 A JP S62502155A JP 60504318 A JP60504318 A JP 60504318A JP 50431885 A JP50431885 A JP 50431885A JP S62502155 A JPS62502155 A JP S62502155A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ技術分野 本発明は電極配置を用いて電気的に励起させる励起管、同じく励起管に関してガ ス入口及びガス出口とからなるガスレーザに関する。
従来技術 軸方向のガスレーザにおいて、励起管内の多量の渦巻きの発生をできるかぎり妨 げねばならないことは知られている。励起管に沿っての渦巻ぎの状態はとりわけ 励起管のガス入口領域もしくは、ガス出口領域での状態によって決定されもしく は、そのことによって妨げられる。この際、これらの領域では管内で軸方向に向 けられるガス流は半径方向に供給され、もしくは連れ出されねばならない。次の 定義: 管内での渦巻が管の断面に関して、1つの渦巻中心が存在する場合には「大範囲 の渦巻」であり、2つまたはそれ以上の渦巻の中心が存在するならば渦巻は「小 範囲の渦巻」と称されることは一般的に認められている。
発明の開示 本発明の目的はガスレーザに関して、ガス入口領域もしくはガス出口領域を励起 管に沿ってできるかぎり大範囲の渦巻を生じないように形成するということであ る。
この目的に対し、本発明によれば入口領域及び/または出口領域にガスに対して 励起管の周辺に分散された合流装置もしくは出口装置で取り囲まれ、ガスが励起 管に関して連続して半径方向から軸方向にもしくはその逆に、導かれることを特 徴としている。
それにより周辺に均一に分散されるガス流が得られ、ガスの供給方向もしくはガ スの放射方向に連続的な「内側への曲げ」もしくは「外側への曲げ」が励起管に おいて実際に大範囲の渦巻の消失を生じるのである。
本発明の実施例の変形、同じく必要な場合には補助的に設けられる措置が励起管 の渦巻状態の改善のために以下図面を用いて説明する。
図面の簡単な説明 第1図は2段階の高能率ガスレーザの原理図、第2a図は大範囲の渦巻を阻止す るための装置からなるガス入口管の概略断面図、 第2b図は第2a図による装置の横断面図で、得られる小範囲の渦巻を定性的に 記入している図、 第3a図は別の変形装置についての第2a図に類似する図、第3b図は第3a図 の装置をm−m線により切断した概略的断面図、 第4図は大範囲の渦巻阻止装置の別の変形実施例を示し、第2a図及び第3a図 に類似する図、 第5図は本発明による励起管の入口領域による概略的横断面図、 第5b図は本発明による第5図の領域の長さ方向の概略的断面図、 第6図は本発明による入口領域の好ましい実施形態で第5b図に類似する長さ方 向の断面図、 第7a図から第7C図は大範囲の渦巻阻止のための励起管の概略的横断面図、 第8図は本発明によるガス入口領域の長さ方向の概略的断面図、 第9図は第8図に類似する他の変形実施形態を示す図、第10図は本発明による ガス出口領域の第8図及び第9図に類似する他の変形実施形態を示す図、 第11図は第1図による2段階ガスレーザの第10図の装置の拡大配置図、 第12図は本発明による出口領域の別の変形実施形態の概略図、 第13図は個々の電極を有する励起管による概略的横断面図、第14図は第13 図により形成された電極同じく場形成−制御部、陽極側及び陰極側からなるレー ザの励起管の長さ方向の概略的断面図、 第15図は別の変形電極の励起管の長さ方向の断面図、第16図はそこに示され た電極の他の変形を示す第15図に類似する図 を示している。
本発明を実施するための最良の形態 第1図には公知の高能率ガスレーザの原理的配置を示している。2段階ガスレー ザは点線で示した標線の左側で第1段階が右側で第2段階が関係している。この 標線に関して鏡像的に配置され、同一の段階で取り扱われるので、ここではただ 左側の段階について記載する。レーザ配置は励起管1を取り巻いている。その末 端には陰極3及び陽極5が配置されている。励起管1の端部の入口領域7に励起 管1の入口管9が合流している。
熱交換器17及び19がその前後に連結されている送風器15を用いて例えば炭 酸ガス、窒素、ヘリウムからなる混合ガスが励起管1に矢印方向に駆動される。
両端が開かれた励起管1の中実軸Aは同時にレーザ光の光学軸である。電極3と 5は高置圧電m2iを経て制御要素23たとえば電子管で駆動される。
そのとぎ電子管23により、電m電流の制御された流れ調節に調整される。
本発明は入口領域7に関する措置、出口領域13に関する措置、同じく陰極及び /または陽極の形成に関連している。すべての措置は空気力学的及び/または電 気的な大範囲の渦巻を励起管1において阻止し、その際でそこですぐれたガスの 混合を確保するものである。
第2図から第16図には励起管の大範囲の渦巻を阻止するための措置が説明され ている。第5a図から第6図、第8図から第12図が最も重要なものとして示さ れ、これについて説明する。
第2図から第4図は混合ガスGに対する入口領域側の入口管9の断面が示されて いる。入口領域7の領域に第2a図による入口管9に多くの格子28が配置され 、特に横断面で示されている。それにより小範囲の渦巻が管9において第2b図 に概略的に示すように発生する。
第2b図で線点て示した大範囲の渦巻が管9の中にもたらされ、管の内に伝わる ことができ、それによって十分に阻止される。第3a図において格子28の代り に入口管9の中に流れの断面を細分する多数の壁が配置される。
第3b図に示されるようにこの壁30はとくにはちの巣型32に構成され、配置 される。この措置により目的とする効果が達成される。
第4図には入口管9に連続したくびれ34を形成した別の措置が示され、ガスの 流れ方向に最初は連続した導管の壁の収れんが、そのあと壁の発散が組みこまれ 、この措置により前述の目的が達成される。第2図から第4図の措置は必要な場 合には第5図から第6図により説明される実質的な措置と組み合せて使用される 。
第5図及び第6図に示された措置によって大範囲の渦巻の発生が入口領域側で実 質的に阻止される。第5a図にはこれに対して提案される技術が原理的に示され る。励起管1の周辺には連続して、または第5a図及び第5b図に示されるよう に不連続的に分散して1組の入口管9aと連絡しているガス入口窓42が配置さ れ、ガスを連続して半径方向から軸方向へ管1に関して管1の周辺に沿って等し く分散して導(ように配置されている。
その際第5b図に示すように、好ましくは入口窓42の整列はすくなくともガス 流れが軸への方向に連続して励起管1においてかどで渦巻を生ずることのないよ うに選択されている。
すべての入口窓42もしくはすべての入口管9aに対して共通な圧力ガスの調整 のために設けられた入口窓42のすべては釣り合いして負荷されるようさらに確 実にするため、第5a図に概略的に示すように入口管9aのすべては共通の調整 室44に導かれ、そこで後者はガス供給管46により供給される。それにより励 起管1の周辺の至るところ釣り合いのとれたとくに軸方向に向けられたガスの流 れを確保する。第2図から第4図により説明された措置−場合によっては管9a に設けられる。
第6図には入口領域の好ましい実施形態を示している。励起管1は入口領域側に てふくらみ48を形成している。励起管1の続きと共通にして形成される管の断 面50は同じ内直径をもって励起管1の入口領域側に形成され、軸Aの周辺に調 節空44aを環状の室として形成し、すくなくともそこで入口管9が合流してい る。環状の調節苗44aから励起管1に戻る断面50の端部とふくらみ48の発 端部分との間に出口があり、それにより均一に狭められた環状のスプリットノズ ル52が形づけられている。このスプリットノズルとスプリットノズルを使用す る方法により最適な釣り合いのとれたとくに励起管1に関して軸方向に向けられ たガスの流れを励起管に得るのである。
図に示されるように代替的にまたは追加的に管の断面50の内側の上にまたは出 口側の内側上にすなわち環状の調節室44aに向う側に管の断面の周辺に沿って 環状の電極54iもしくは54aが設けられている。管断面50の壁は直接電極 としてはめこまれる可能性が書き込まれていない。基本的に環状に形成された電 極を個々に絶縁して周辺に分散された電極断面に構成することができる。とくに 上述の電極の断面または好ましい連続の電極環は励起管1に対向して向けられ、 先端56のような局所的に非常に高い場の強さを発生させるための鋭い不連続状 態を持つている。
第7a図から第7C図には励起管1それ自身について渦巻の状態をさらに改良す るために設けられる措置を示している。
管のなかで流れの横断面について別々の上述の意味で大範囲の渦巻を生ずるとい う傾向、管の横断面の円形が正確であればあるほどより高くなることは知られて いる。このことは提案される措置の目的を阻止するものであり、励起管1の第7 a図から第7C図による流れの横断面は円形とは異なるたとえば3角形、4角形 、多角形または楕円形に形成されている。
第7図にはそれによって生ずる対称的な小範囲の渦巻を定性的に示すものである 。このことは励起管1の軸方向に流れるガスの良好な混合を促進している。
第8図から第12図には本発明の本質的なN置もしくはそれに相等する装置の挿 入を示している。励起管1の出口領域13での大範囲の渦巻に関して出口領域1 3に関して逆戻りのないガス出口を保護するため第8図により第5b図の入口領 域側の予防処置と類似して励起管1の周辺に本発明の重要な連続の、または第8 図の窓58で示すように不連続性の変らない出口を形づくりしている。第8図に よれば管1の周辺に出口窓58が分散して設けられ、一様な出口管11aのすべ てと連絡し、その側は図示されていないが収集室に導かれている。第9図により 管1の周辺に連続して一様にひろげられた環状の出口スリット60が形成され、 そこでは管1はふくらみ62に形づくられていて、管1に戻る側に管断面64が ふくらみ62のなかに突きでていて一方においてA軸のまわりに環状の室として 収集室66が形成され、他方において環状の出口スリット60が形成されている 。出口スリット60の領域には不連続状態70をもつ環状陰極として陰極68の ような電極をそれに相等する電気接続72を設けている。
第10図による実施例形態において他方ではふくらみを形成した環状の室66に 連続して軸方向に段づけされた環状の薄片74を多数ガスの流れ方向に組み直し 、環状の出口スリット6Qa、60b、60cを形成している。この構造の形状 で環状の薄片は陰極としての電極の挿入に対して電気的接続72を設けることが できる。
第11図は第10図に類似し第1に表示されているように2段階レーザに対する 出口領域13の構造を概略的に示している。
第12図には基本的に第11図に類似する装置を示している。
即ち、2段階レーザの環状に回転する薄片の代りに1つまたはそれ以上の羽根状 の環76が設けられている。出口管11にお゛けるガス流の非支持に対してとく に第10図から第12図により実施例の変形を第12図に示している。
基本的には高圧ガス管78は収集室66のなかで好ましくは導管9の流れ口に対 して同軸的である流れ口をもって合流している。この高圧ガス管78によってガ ス管G2は収集室66に吹きつけられ、ガス流の衝撃のベクトル和で励起管1か らの流れるガスGの吸引が支持されている。
第13図及び第14図において陰極及び/または陽極からなる電極の配置が必要 な場合には目的に応じ1つまたはそれ以上のこれまで説明された措置を組み合せ て電気的に支持するために示されている。これに対して陽極80及び/または陰 極82は基本的には環状電極として構成されている。環はとくに第13図に明示 するように、連続の電極として使用されないでむしろ軸方向に向けられる個々の 電極が電極足84の形を示している。
この電極足84は互いに絶縁して組み立てられ接続線86に接続している。第1 4図によれば陽極80の電極足84は接続1!86aと、陰極82の電極足は接 続線86にとそれぞれ連結して、それぞれ相等する制御部88の入力Fに連結し ている。
制御部88にはパルス発生器90から時間−サイクル信号が供給され、同じく高 電圧電源38の電圧が供給される。制御部88は複合器スイッチSa及びSkか らなる複合器部として働いている。選択可能に同時に一つまたはそれ以上の陽極 側の電極足84及び同時的に一つまたはそれ以上の陰極側の電極足82に電源電 圧38を加える。例えば陽極側及び陰極側でそれぞれ電極足に電圧が加えられる と、フィルドパターンが励起管1に沿って同時に電圧が加えられる足の角度位置 によってA軸に関して確保される。図に示されるように、そこで電気的渦巻場が 発生され、その発生のたすけにより、ガスの渦巻は励起管のなかで作用される。
第15図と第16図には別の電極の配置が陽極装入及び/または陰極装入につい て示されている。励起管1とのその続き1aとの間でのレーザ光に対して軸Aに おけるそのときどきの電極は第15図では円筒形電極92としてはめこまれてい る。そのときすくなくとも円筒形電極は殆ど段なしに励起管1もしくは続きの管 1aの内壁に接続される寸法であり、例えば円筒形電極は両側で配置され軸方向 に向けられている環状のカラー94の上に支持される。
なお励起管1に応じて続き管1aの横断面の寸法が励起管1の横断面の寸法に関 して第16図に示すように変えられる必要があるならば、中空円錐形電極96は それに相当して発散しまたは収れんするよう形づけられる。励起管1aの内壁が 一方では段なしに実際上連結され、他方では半径方向に実際上スリットなしに連 結され、そのために薄い内部カラー94iをもって連結されている。
FIG、7a FIG、 7b 国際調を報告 −M−−−^−−−1飢PCT/Cil 85100150

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電気的励起に対してすくなくとも軸方向のガス流れの励起管、電極配置同 じく励起管に関してすくなくともガス入口及びガス出口を有するガスレーザであ って、前記入口領域及び/または出口領域は前記ガスに対して前記励起管(1) の周辺に分散された合流装置もしくは出口装置(42,52,58,60)を取 り囲み、前記管に関して前記ガスが連続して半径方向から軸方向にもしくはその 逆に導くことを特徴とするガスレーザ。
  2. (2)すくなくとも前記合流領域(7)がすくなくとも環状スリットノズル(5 2)を取り囲むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載によるガスレーザ。
  3. (3)前記励起管の周辺に配置される合流装置は調整室(44,44a)に通じ 、そこでガス供給導管装置(9,46)が流れこむことを特徴とする特許請求の 範囲第1項及び第2項記載のいずれか1つによるガスレーザ。
  4. (4)入口領域(7)の調整室(44a)は、前記励起管軸(A)の周辺に環状 の室で取り囲むことを特徴とする。特許請求の範囲第1項から第3項記載のいず れか1つによるガスレーザ。
  5. (5)合流装置及び/または出口装置はすくなくとも部分的に前記励起管(1) に対して電極配置(28,30,34,54a,54i,70,74,82,8 4)のすくなくとも一部分によって構成されることを特徴とする特許請求の範囲 第1項から第4項記載のいずれか1つによるガスレーザ。
  6. (6)前記出口領域(13)にすくなくとも環状出口スリット(60)が設けら れることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第5項記載のいずれか1つのガ スレーザ。
  7. (7)多くの出口の環状スリット(60a,60b,60c)が励起管の軸方向 に前後して配置されることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第6項記載の いずれか1つのガスレーザ。
  8. (8)前記出口領域はすくなくとも羽根状環で取り囲み、前記励起管(1)の周 辺に配置することを特徴とする特許請求の範囲第1項から第7項記載のいずれか 1つのガスレーザ。
  9. (9)出口配置はすくなくとも部分的に電極配置のすくなくとも部分的に電極配 置のすくなくとも1部分として前記励起管に対して構成されることを特徴とする 特許請求の範囲第1項から第8項記載のいずれか1つのガスレーザ。
  10. (10)収集室(66)のなかに出口装置を合流させ、ガス供給導管(11)に 通して、そのとき前記収集室(66)は前記励起管の軸(A)のまわりに環状室 として構成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第9項記載のいず れか1つによるガスレーザ。
  11. (11)前記出口領域(13)は前記励起管(1)のなかに合流する圧力ガス導 管(78)を取り囲み、その合流点は前記管を流れるガスに対して出口(11) とほぼ同軸であることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第10項記載のい ずれか1つによるガスレーザ。
  12. (12)前記励起管は円形と異なる横断面(第7図)を持つことを特徴とする特 許請求の範囲第1項から第11項記載のいずれか1つによるガスレーザ。
  13. (13)電極配置が前記励起管の壁の周辺にすくなくともほぼ半径方向の段落な しに及び半径方向のスリットなしに設けられることを特徴とする特許請求の範囲 第1項から第12項記載のいずれか1つによるガスレーザ。
  14. (14)円錐形の電極配置が前記励起管の横断面に関して導管の横断面の変化を 実現化するために設けられ、その後前記電極配置は一方において前記励起管の壁 の周辺にすくなくとも殆ど半径方向の段落なしに及び半径方向のスリットなしに 、及び他方好ましくは接続管の壁の周辺にある特徴とする特許請求の範囲第1項 から第13項記載のいずれか1つのガスレーザ。
  15. (15)制御部(84,82,88)が前記励起管(1)における電場形成のた めに設けられることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第14項記載のいず れか1つのガスレーザ。
  16. (16)陽極側及び/または陰極側に前記励起管(1)の軸(a)のまわりにす くなくともとくに軸に一列に並べられた個々の電極(82,84)が設けられ、 同じく制御装置(88)が与えられた時間連続で個々の前記電極の電気制御のた めに設けられることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第15項記載のいず れか1つのガスレーザ。
  17. (17)前記入口領域の流れの下方にガス供給導管装置が設けられ、その導管の 横断面に前記導管装置について小部分に分けられた装置(28,30)を設ける ことを特徴とする特許請求の範囲第1項から第16項記載のいずれか1つのガス レーザ。
  18. (18)前記装置がすくなくとも格子配置(28)をとりかこみ前記導管(9) の横断面の平面を設けることを特徴とする特許請求の範囲第17項記載のガスレ ーザ。
  19. (19)前記装置が多数の壁(30)により取り囲まれ、はちの巣型(32)の 形状に配置されることを特徴とする特許請求の範囲第17項記載のガスレーザ。
  20. (20)前記装置が前記導管断面で連続の横断面のくびれ(34)で取り囲まれ ていることを特徴とする特許請求の範囲第17項記載のガスレーザ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU584366B2 (en) * 1984-10-10 1989-05-25 Prc Corporation Gas laser comprising at least one axial gas-flown energizing path
JPH08270335A (ja) * 1995-03-29 1996-10-15 Yamaji Fudosan Kk ドア部材及びその製造方法
EP0922888B1 (de) * 1997-12-10 2003-05-21 Festo AG & Co Dichtungsring
US6580742B1 (en) * 1999-10-12 2003-06-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser oscillating apparatus
EP1248332B1 (en) 2000-05-30 2004-05-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser oscillating device
US6931046B1 (en) * 2000-09-14 2005-08-16 The Regents Of The University Of California High power laser having a trivalent liquid host
JP4489557B2 (ja) * 2004-10-21 2010-06-23 黒田精工株式会社 ボールねじの潤滑シール装置
JP4137961B2 (ja) * 2006-07-13 2008-08-20 ファナック株式会社 ガスレーザ発振装置
EP2712036A1 (en) * 2012-09-24 2014-03-26 Excico France A gas circulation loop for a laser gas discharge tube
JP5927218B2 (ja) * 2014-03-12 2016-06-01 ファナック株式会社 放電管を備えるレーザ発振器、およびレーザ加工装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3428914A (en) * 1965-01-25 1969-02-18 Spectra Physics Gas lasers with plasma tube having variable cross-section and discharge current
GB1325697A (en) * 1969-10-20 1973-08-08 Aga Ab Lasers
US3720885A (en) * 1971-04-30 1973-03-13 Us Navy Transverse flow carbon dioxide laser system
JPS545958B2 (ja) * 1973-03-27 1979-03-23
JPS5311072A (en) * 1976-07-19 1978-02-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Phase constant measuring method
JPS55121691A (en) * 1979-03-14 1980-09-18 Hitachi Ltd Gas laser device
US4274065A (en) * 1979-07-31 1981-06-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Closed cycle annular-return gas flow electrical discharge laser
JPS6022387B2 (ja) * 1980-10-06 1985-06-01 カシオ計算機株式会社 小型電子式翻訳機
JPS57188892A (en) * 1981-05-18 1982-11-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Coaxial carbon dioxide laser oscillator
JPS5891690A (ja) * 1981-11-27 1983-05-31 Hitachi Ltd ガスレ−ザ発生装置
US4457000A (en) * 1982-03-03 1984-06-26 Rockwell International Corporation Shock wave suppressing flow plate for pulsed lasers
JPS58178579A (ja) * 1982-04-13 1983-10-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ発振器
JPS58196080A (ja) * 1982-05-12 1983-11-15 Toshiba Corp 気体レ−ザの発振容器
JPS597236A (ja) * 1982-07-06 1984-01-14 Nissan Motor Co Ltd 吸気圧力センサ
JPS5956782A (ja) * 1982-09-25 1984-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレ−ザ装置
JPS59208890A (ja) * 1983-05-13 1984-11-27 Nec Corp 高速軸流形ガスレ−ザ管
DE3323954A1 (de) * 1983-07-02 1985-01-10 Messer Griesheim Gmbh, 6000 Frankfurt Gaslaser, insbesondere schnellstroemender axialstrom-gastransportlaser
AU584366B2 (en) * 1984-10-10 1989-05-25 Prc Corporation Gas laser comprising at least one axial gas-flown energizing path

Also Published As

Publication number Publication date
EP0178262A1 (de) 1986-04-16
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CA1267715A (en) 1990-04-10

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