JP2554024B2 - 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ - Google Patents
軸方向ガス流励起管からなるガスレーザInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電極配置を用いて電気的
に励起させる励起管、同じく励起管に関してガス入口及
びガス出口とからなるガスレーザに関する。
に励起させる励起管、同じく励起管に関してガス入口及
びガス出口とからなるガスレーザに関する。
【０００２】
【従来の技術】軸方向のガスレーザにおいて、励起管内
の多量の渦巻きの発生をできるかぎり妨げねばならない
ことは知られている。励起管に沿っての渦巻きの状態は
とりわけ励起管のガス入口領域もしくは、ガス出口領域
での状態によって決定されもしくは、そのことによって
妨げられる。この際、これらの領域では管内で軸方向に
向けられるガス流は半径方向に供給され、もしくは連れ
出されねばならない。
の多量の渦巻きの発生をできるかぎり妨げねばならない
ことは知られている。励起管に沿っての渦巻きの状態は
とりわけ励起管のガス入口領域もしくは、ガス出口領域
での状態によって決定されもしくは、そのことによって
妨げられる。この際、これらの領域では管内で軸方向に
向けられるガス流は半径方向に供給され、もしくは連れ
出されねばならない。
【０００３】管内での渦巻が管の断面に関して、１つの
渦巻中心が存在する場合には「大範囲の渦巻」であり、
２つまたはそれ以上の渦巻の中心が存在するならば渦巻
は「小範囲の渦巻」と称されることは一般的に認められ
ている。
渦巻中心が存在する場合には「大範囲の渦巻」であり、
２つまたはそれ以上の渦巻の中心が存在するならば渦巻
は「小範囲の渦巻」と称されることは一般的に認められ
ている。
【０００４】
【発明の目的】本発明の目的はガスレーザに関して、ガ
ス入口領域もしくはガス出口領域を励起管に沿ってでき
るかぎり大範囲の渦巻を生じないように形成するという
ことである。
ス入口領域もしくはガス出口領域を励起管に沿ってでき
るかぎり大範囲の渦巻を生じないように形成するという
ことである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的に対し、本発明
は、内部で軸方向へ向かってガスが流れるように２本の
管本体（１、５０）を直線状に配設した励起管を有する
ガスレーザであって、励起管の内部には、ガスの電気的
励起のための電極（５４ａ、５４ｉ）が設けられ、励起
管の外周にはガス流入口部とガス流出口部とが設けられ
たガスレーザにおいて、ガス流入口部は、前記管本体
（１、５０）の各端部間に形成された環状のスプリット
ノズル（５２）と、前記２本の管本体を接続しかつガス
入口管（９）を設けた膨出部（４８）とを有し、この膨
出部（４８）は、長さ方向断面で見た場合に、スプリッ
トノズル（５２）に向かって緩やかな曲面で徐々に前記
管本体（１、５０）の各端部に接続されてなることを特
徴としている。
は、内部で軸方向へ向かってガスが流れるように２本の
管本体（１、５０）を直線状に配設した励起管を有する
ガスレーザであって、励起管の内部には、ガスの電気的
励起のための電極（５４ａ、５４ｉ）が設けられ、励起
管の外周にはガス流入口部とガス流出口部とが設けられ
たガスレーザにおいて、ガス流入口部は、前記管本体
（１、５０）の各端部間に形成された環状のスプリット
ノズル（５２）と、前記２本の管本体を接続しかつガス
入口管（９）を設けた膨出部（４８）とを有し、この膨
出部（４８）は、長さ方向断面で見た場合に、スプリッ
トノズル（５２）に向かって緩やかな曲面で徐々に前記
管本体（１、５０）の各端部に接続されてなることを特
徴としている。
【０００６】それにより周辺に均一に分散されるガス流
が得られ、ガスの供給方向もしくはガスの放射方向に連
続的な「内側への曲げ」もしくは「外側への曲げ」が励
起管において実際に大範囲の渦巻の消失を生じるのであ
る。
が得られ、ガスの供給方向もしくはガスの放射方向に連
続的な「内側への曲げ」もしくは「外側への曲げ」が励
起管において実際に大範囲の渦巻の消失を生じるのであ
る。
【０００７】本発明の実施例の変形、同じく必要な場合
には補助的に設けられる装置が励起管の渦巻状態の改善
のために以下図面を用いて説明する。図１は２段階の高
能率ガスレーザの原理図、図２ａは大範囲の渦巻を阻止
するための装置からなるガス入口管の概略断面図、図２
ｂは図２ａによる装置の横断面図で、得られる小範囲の
渦巻を定性的に記入している図。図３ａは別の変形装置
についての図２ａに類似する図、図３ｂは図３ａの装置
をＩＩＩ…ＩＩＩ線により切断した概略的断面図、図４
は大範囲の渦巻阻止装置の別の変形実施例を示し、図２
ａ及び図３ａに類似する図、図５ａは本発明とは異なる
他の参考例である励起管の入口領域による概略的横断面
図、図５ｂは本発明とは異なる他の参考例である、図５
ａの領域の長さ方向の概略的断面図、図６は本発明によ
る入口領域の好ましい実施形態で図５ｂに類似する長さ
方向の断面図、図７ａから図７ｃは大範囲の渦巻阻止の
ための励起管の概略的横断面図、図８は本発明とは異な
る他の参考例であるガス入口領域の長さ方向の概略的断
面図、図９は本発明の実施形態を示す図、図１０はガス
出口領域の実施形態を示す図、図１１は図１による２段
階ガスレーザの図１０の装置の拡大配置図、図１２は出
口領域の別の変形実施形態の概略図、図１３は個々の電
極を有する励起管による概略的横断面図、図１４は図１
３により形成された電極同じく場形成−制御部、陽極側
及び陰極側からなるレーザの励起管の長さ方向の概略的
断面図、図１５は別の変形電極の励起管の長さ方向の断
面図、図１６はそこに示された電極の他の変形を示す図
１５に類似する図を示している。
には補助的に設けられる装置が励起管の渦巻状態の改善
のために以下図面を用いて説明する。図１は２段階の高
能率ガスレーザの原理図、図２ａは大範囲の渦巻を阻止
するための装置からなるガス入口管の概略断面図、図２
ｂは図２ａによる装置の横断面図で、得られる小範囲の
渦巻を定性的に記入している図。図３ａは別の変形装置
についての図２ａに類似する図、図３ｂは図３ａの装置
をＩＩＩ…ＩＩＩ線により切断した概略的断面図、図４
は大範囲の渦巻阻止装置の別の変形実施例を示し、図２
ａ及び図３ａに類似する図、図５ａは本発明とは異なる
他の参考例である励起管の入口領域による概略的横断面
図、図５ｂは本発明とは異なる他の参考例である、図５
ａの領域の長さ方向の概略的断面図、図６は本発明によ
る入口領域の好ましい実施形態で図５ｂに類似する長さ
方向の断面図、図７ａから図７ｃは大範囲の渦巻阻止の
ための励起管の概略的横断面図、図８は本発明とは異な
る他の参考例であるガス入口領域の長さ方向の概略的断
面図、図９は本発明の実施形態を示す図、図１０はガス
出口領域の実施形態を示す図、図１１は図１による２段
階ガスレーザの図１０の装置の拡大配置図、図１２は出
口領域の別の変形実施形態の概略図、図１３は個々の電
極を有する励起管による概略的横断面図、図１４は図１
３により形成された電極同じく場形成−制御部、陽極側
及び陰極側からなるレーザの励起管の長さ方向の概略的
断面図、図１５は別の変形電極の励起管の長さ方向の断
面図、図１６はそこに示された電極の他の変形を示す図
１５に類似する図を示している。
【０００８】
【実施例】図１には公知の高能率ガスレーザの原理的配
置を示している。２段階ガスレーザは点線で示した一点
鎖線の左側で第１段階が右側で第２段階が関係してい
る。この一点鎖線に関して対象的に配置され、同一の段
階で取り扱われるので、ここではただ左側の段階につい
て記載する。レーザ装置は管本体１を取り巻いている。
その末端には陰極３及び陽極５が配置されている。管本
体１の端部の入口領域７に管本体１の入口管９が合流し
ている。熱交換器１７及び１９がその前後に連結されて
いる送風器１５を用いて例えば炭酸ガス、窒素、ヘリウ
ムからなる混合ガスが管本体１に矢印方向に駆動され
る。両端が開かれた管本体１の中央軸Ａは同時にレーザ
光の光学軸である。電極３と５は高電圧電源２１を制御
要素２３たとえば電子管で駆動される。そのとき電子管
２３により、電極電流の制御された流れ調節に調整され
る。
置を示している。２段階ガスレーザは点線で示した一点
鎖線の左側で第１段階が右側で第２段階が関係してい
る。この一点鎖線に関して対象的に配置され、同一の段
階で取り扱われるので、ここではただ左側の段階につい
て記載する。レーザ装置は管本体１を取り巻いている。
その末端には陰極３及び陽極５が配置されている。管本
体１の端部の入口領域７に管本体１の入口管９が合流し
ている。熱交換器１７及び１９がその前後に連結されて
いる送風器１５を用いて例えば炭酸ガス、窒素、ヘリウ
ムからなる混合ガスが管本体１に矢印方向に駆動され
る。両端が開かれた管本体１の中央軸Ａは同時にレーザ
光の光学軸である。電極３と５は高電圧電源２１を制御
要素２３たとえば電子管で駆動される。そのとき電子管
２３により、電極電流の制御された流れ調節に調整され
る。
【０００９】本発明は入口領域７に関する装置、出口領
域１３に関する装置、同じく陰極及び／または陽極の形
成に関連している。すべての装置は空気力学的及び／ま
たは電気的な大範囲の渦巻を管本体１において阻止し、
その際でそこですぐれたガスの混合を確保するものであ
る。
域１３に関する装置、同じく陰極及び／または陽極の形
成に関連している。すべての装置は空気力学的及び／ま
たは電気的な大範囲の渦巻を管本体１において阻止し、
その際でそこですぐれたガスの混合を確保するものであ
る。
【００１０】図２から図１６には励起管の大範囲の渦巻
を阻止するための装置が説明されている。図５ａから図
６、図８から図１２が最も重要なものとして示され、こ
れについて説明する。
を阻止するための装置が説明されている。図５ａから図
６、図８から図１２が最も重要なものとして示され、こ
れについて説明する。
【００１１】図２から図４は混合ガスＧに対する入口領
域側の入口管９の断面が示されている。入口領域７の領
域に図２ａによる入口管９に多くの格子２８が配置さ
れ、特に横断面で示されている。それにより小範囲の渦
巻が管９において図２ｂに概略的に示すように発生す
る。
域側の入口管９の断面が示されている。入口領域７の領
域に図２ａによる入口管９に多くの格子２８が配置さ
れ、特に横断面で示されている。それにより小範囲の渦
巻が管９において図２ｂに概略的に示すように発生す
る。
【００１２】図２ｂで線点で示した大範囲の渦巻が管９
の中にもたらされ、管の内に伝わることができ、それに
よって十分に阻止される。図３ａにおいて格子２８の代
りに入口管９の中に流れの断面を細分する多数の壁が配
置される。
の中にもたらされ、管の内に伝わることができ、それに
よって十分に阻止される。図３ａにおいて格子２８の代
りに入口管９の中に流れの断面を細分する多数の壁が配
置される。
【００１３】図３ｂに示されるようにこの壁３０は特に
はちの巣型３２に構成され、配置される。この装置によ
り目的とする効果が達成される。
はちの巣型３２に構成され、配置される。この装置によ
り目的とする効果が達成される。
【００１４】図４には入口管９に連続したくびれ３４を
形成した別の装置が示され、ガスの流れ方向に最初は連
続した導管の壁の収れんが、そのあと壁の発散が組みこ
まれ、この装置により前述の目的が達成される。図２か
ら図４の装置は必要な場合には図５から図６により説明
される実質的な装置と組み合せて使用される。
形成した別の装置が示され、ガスの流れ方向に最初は連
続した導管の壁の収れんが、そのあと壁の発散が組みこ
まれ、この装置により前述の目的が達成される。図２か
ら図４の装置は必要な場合には図５から図６により説明
される実質的な装置と組み合せて使用される。
【００１５】図５及び図６に示された装置によって大範
囲の渦巻の発生が入口領域側で実質的に阻止される。図
５ａにはこれに対して提案される技術が原理的に示され
る。管本体１の周辺には連続して、または図５ａ図及び
図５ｂに示されるように不連続的に分散して１組の入口
管９ａと連絡しているガス入口窓４２が配置され、ガス
を連続して半径方向から軸方向へ管本体１に関して管本
体１の周辺に沿って等しく分散して導くように配置され
ている。
囲の渦巻の発生が入口領域側で実質的に阻止される。図
５ａにはこれに対して提案される技術が原理的に示され
る。管本体１の周辺には連続して、または図５ａ図及び
図５ｂに示されるように不連続的に分散して１組の入口
管９ａと連絡しているガス入口窓４２が配置され、ガス
を連続して半径方向から軸方向へ管本体１に関して管本
体１の周辺に沿って等しく分散して導くように配置され
ている。
【００１６】その際図５ｂに示すように、好ましくは入
口窓４２の整列はすくなくともガス流れが軸Ａの方向に
連続して管本体１においてかどで渦巻を生ずることのな
いように選択されている。
口窓４２の整列はすくなくともガス流れが軸Ａの方向に
連続して管本体１においてかどで渦巻を生ずることのな
いように選択されている。
【００１７】すべての入口窓４２もしくはすべての入口
管９ａに対して共通な圧力ガスの調整のために設けられ
た入口窓４２のすべては釣り合いして負荷されるようさ
らに確実にするため、図５ａに概略的に示すように入口
管９ａのすべては共通のチャンバー４４に導かれ、そこ
で後者はガス供給管４６により供給される。それにより
管本体１の周辺の至るところ釣り合いのとれたとくに軸
方向に向けられたガスの流れを確保する。図２から図４
により説明された装置は場合によっては管９ａに設けら
れる。
管９ａに対して共通な圧力ガスの調整のために設けられ
た入口窓４２のすべては釣り合いして負荷されるようさ
らに確実にするため、図５ａに概略的に示すように入口
管９ａのすべては共通のチャンバー４４に導かれ、そこ
で後者はガス供給管４６により供給される。それにより
管本体１の周辺の至るところ釣り合いのとれたとくに軸
方向に向けられたガスの流れを確保する。図２から図４
により説明された装置は場合によっては管９ａに設けら
れる。
【００１８】図６は、本発明による入口領域の好ましい
実施例を示している。図６に示されているガスレーザ
は、内部で軸方向へ向かってガスが流れるように２本の
管本体１、５０を直線状に配設した励起管を有するガス
レーザであって、励起管の内部には、ガスの電気的励起
のための電極５４ａ、５４ｉが設けられ、励起管の外周
にはガス流入口部とガス流出口部とが設けられたガスレ
ーザにおいて、ガス流入口部は、前記管本体１、５０の
各端部間に形成された環状のスプリットノズル５２と、
前記２本の管本体を接続しかつガス入口管９を設けた膨
出部４８とを有し、この膨出部４８は、長さ方向断面で
見た場合に、スプリットノズル５２に向かって緩やかな
曲面で徐々に前記管本体１、５０の各端部に接続されて
いる。前記各管本体１、５０の内径は同一である。膨出
部４８内には、環状の室として形成されたチャンバー４
４ａが形成されている。スプリットノズル５は、一方の
管本体１の端部と、他方の管本体５０の端部との間で均
一な幅でリング状に形成されている。このスプリットノ
ズルとスプリットノズルを使用する方法により最適な釣
り合いのとれたとくに管本体１に関して軸方向に向けら
れたガスの流れを励起管に得るのである。
実施例を示している。図６に示されているガスレーザ
は、内部で軸方向へ向かってガスが流れるように２本の
管本体１、５０を直線状に配設した励起管を有するガス
レーザであって、励起管の内部には、ガスの電気的励起
のための電極５４ａ、５４ｉが設けられ、励起管の外周
にはガス流入口部とガス流出口部とが設けられたガスレ
ーザにおいて、ガス流入口部は、前記管本体１、５０の
各端部間に形成された環状のスプリットノズル５２と、
前記２本の管本体を接続しかつガス入口管９を設けた膨
出部４８とを有し、この膨出部４８は、長さ方向断面で
見た場合に、スプリットノズル５２に向かって緩やかな
曲面で徐々に前記管本体１、５０の各端部に接続されて
いる。前記各管本体１、５０の内径は同一である。膨出
部４８内には、環状の室として形成されたチャンバー４
４ａが形成されている。スプリットノズル５は、一方の
管本体１の端部と、他方の管本体５０の端部との間で均
一な幅でリング状に形成されている。このスプリットノ
ズルとスプリットノズルを使用する方法により最適な釣
り合いのとれたとくに管本体１に関して軸方向に向けら
れたガスの流れを励起管に得るのである。
【００１９】図に示されるように代替的にまたは追加的
に他方の管本体５０の内側の上にまたは出口側の内側上
にすなわち環状のチャンバー４４ａに向う側に管の断面
の周辺に沿って環状の電極５４ｉもしくは５４ａが設け
られている。基本的に環状に形成された電極を個々に絶
縁して周辺に分散された電極断面に構成することができ
る。とくに上述の電極の断面または好ましい連続の電極
環は管本体１に対向して向けられ、先端５６のような局
所的に非常に高い場の強さを発生させるための鋭い不連
続状態を持っている。
に他方の管本体５０の内側の上にまたは出口側の内側上
にすなわち環状のチャンバー４４ａに向う側に管の断面
の周辺に沿って環状の電極５４ｉもしくは５４ａが設け
られている。基本的に環状に形成された電極を個々に絶
縁して周辺に分散された電極断面に構成することができ
る。とくに上述の電極の断面または好ましい連続の電極
環は管本体１に対向して向けられ、先端５６のような局
所的に非常に高い場の強さを発生させるための鋭い不連
続状態を持っている。
【００２０】図７ａから図７ｃには管本体１それ自身に
ついて渦巻の状態をさらに改良するために設けられる装
置を示している。
ついて渦巻の状態をさらに改良するために設けられる装
置を示している。
【００２１】管のなかで流れの横断図について別々の上
述の意味で大範囲の渦巻を生ずるという傾向、管の横断
面の円形が正確であればあるほどより高くなることは知
られている。このことは提案される装置の目的を阻止す
るものであり、管本体１の図７ａから図７ｃによる流れ
の横断面は円形とは異なるたとえば３角形、４角形、多
角形または楕円形に形成されている。
述の意味で大範囲の渦巻を生ずるという傾向、管の横断
面の円形が正確であればあるほどより高くなることは知
られている。このことは提案される装置の目的を阻止す
るものであり、管本体１の図７ａから図７ｃによる流れ
の横断面は円形とは異なるたとえば３角形、４角形、多
角形または楕円形に形成されている。
【００２２】図７にはそれによって生ずる対称的な小範
囲の渦巻を定性的に示すものである。このことは管本体
１の軸方向に流れるガスの良好な混合を促進している。
囲の渦巻を定性的に示すものである。このことは管本体
１の軸方向に流れるガスの良好な混合を促進している。
【００２３】図８から図１２には出口領域における本質
的な装置もしくはそれに相等する装置の挿入を示してい
る。管本体１の出口領域１３での大範囲の渦巻に関して
出口領域１３に関して逆戻りのないガス出口を保護する
た図８により図５ｂの入口領域側の予防処置と類似して
管本体１の周辺に本発明の重要な連続の、または図８の
窓５８で示すように不連続性の変らない出口を形づくり
している。図８によれば管本体１の周辺に出口窓５８が
分散して設けられ、一様な出口管１１ａのすべてと連絡
し、その側は図示されていないが収集室に導かれてい
る。図９により管本体１の周辺に連続して一様にひろげ
られた環状の出口スリット６０が形成され、そこでは管
本体１は膨出部６２に形づくられていて、管本体１に戻
る側に管断面６４が膨出部６２のなかに突きでていて一
方においてＡ軸のまわりに環状の室として収集室６６が
形成され、他方において出口スリット６０が形成されて
いる。出口スリット６０の領域には不連続状態７０をも
つ環状陰極として陰極６８のような電極をそれに相等す
る電気接続７２を設けている。
的な装置もしくはそれに相等する装置の挿入を示してい
る。管本体１の出口領域１３での大範囲の渦巻に関して
出口領域１３に関して逆戻りのないガス出口を保護する
た図８により図５ｂの入口領域側の予防処置と類似して
管本体１の周辺に本発明の重要な連続の、または図８の
窓５８で示すように不連続性の変らない出口を形づくり
している。図８によれば管本体１の周辺に出口窓５８が
分散して設けられ、一様な出口管１１ａのすべてと連絡
し、その側は図示されていないが収集室に導かれてい
る。図９により管本体１の周辺に連続して一様にひろげ
られた環状の出口スリット６０が形成され、そこでは管
本体１は膨出部６２に形づくられていて、管本体１に戻
る側に管断面６４が膨出部６２のなかに突きでていて一
方においてＡ軸のまわりに環状の室として収集室６６が
形成され、他方において出口スリット６０が形成されて
いる。出口スリット６０の領域には不連続状態７０をも
つ環状陰極として陰極６８のような電極をそれに相等す
る電気接続７２を設けている。
【００２４】図１０による実施例形態において他方では
膨出部を形成した環状の室６６に連続して軸方向に段づ
けされた環状の薄片７４を多数ガスのながれ方向に組み
直し、環状の出口スリット６０ａ，６０ｂ，６０ｃを形
成している。この構造の形状で環状の薄片は陰極として
の電極の挿入に対して電気的接続７２を設けることがで
きる。
膨出部を形成した環状の室６６に連続して軸方向に段づ
けされた環状の薄片７４を多数ガスのながれ方向に組み
直し、環状の出口スリット６０ａ，６０ｂ，６０ｃを形
成している。この構造の形状で環状の薄片は陰極として
の電極の挿入に対して電気的接続７２を設けることがで
きる。
【００２５】図１１は図１０に類似し第１に表示されて
いるように２段階レーザに対する出口領域１３の構造を
概略的に示している。
いるように２段階レーザに対する出口領域１３の構造を
概略的に示している。
【００２６】図１２には基本的に図１１に類似する装置
を示している。即ち、２段階レーザの環状に回転する薄
片の代りに１つまたはそれ以上の羽根状の環７６が設け
られている。出口管１１におけるガス流の非支持に対し
てとくに図１０から図１２により実施例の変形を示して
いる。
を示している。即ち、２段階レーザの環状に回転する薄
片の代りに１つまたはそれ以上の羽根状の環７６が設け
られている。出口管１１におけるガス流の非支持に対し
てとくに図１０から図１２により実施例の変形を示して
いる。
【００２７】基本的には高圧ガス管７８は収集室６６の
なかで好ましくは入口管９の流れ口に対して同軸的であ
る流れ口をもって合流している。この高圧ガス管７８に
よってガス管Ｇ2 は収集室６６に吹きつけられ、ガス流
の衝撃のベクトル和で管本体１からの流れるガスＧの吸
引が支持されている。
なかで好ましくは入口管９の流れ口に対して同軸的であ
る流れ口をもって合流している。この高圧ガス管７８に
よってガス管Ｇ2 は収集室６６に吹きつけられ、ガス流
の衝撃のベクトル和で管本体１からの流れるガスＧの吸
引が支持されている。
【００２８】図１３及び図１４において陰極及び／また
は陽極からなる電極の配置が必要な場合には目的に応じ
１つまたはそれ以上のこれまで説明された装置を組み合
せて電気的に支持するために示されている。これに対し
て陽極８０及び／または陰極８２は基本的には環状電極
として構成されている。環はとくに図１３に明示するよ
うに、連続の電極として使用されないでむしろ軸方向に
向けられる個々の電極が電極足８４の形を示している。
は陽極からなる電極の配置が必要な場合には目的に応じ
１つまたはそれ以上のこれまで説明された装置を組み合
せて電気的に支持するために示されている。これに対し
て陽極８０及び／または陰極８２は基本的には環状電極
として構成されている。環はとくに図１３に明示するよ
うに、連続の電極として使用されないでむしろ軸方向に
向けられる個々の電極が電極足８４の形を示している。
【００２９】この電極足８４は互いに絶縁して組み立て
られ接続線８６に接続している。図１４によれば陽極８
０の電極足８４は接続線８６ａと、陰極８２の電極足は
接続線８６Ｋとそれぞれ連結して、それぞれ相等する制
御部８８の入力Ｅに連結している。制御部８８にはパル
ス発生器９０から時間−サイクル信号が供給され、同じ
く高電圧電源３８の電圧が供給される。制御部８８は複
合器スイッチＳａ及びＳｋからなる複合器部として働い
ている。選択可能に同時に一つまたはそれ以上の陽極側
の電極足８４及び同時的に一つまたはそれ以上の陰極側
の電極足８２に電源電圧３８を加える。例えば陽極側及
び陰極側でそれぞれ電極足に電圧が加えられると、フイ
ルドパターンが管本体１に沿って同時に電圧が加えられ
る足の角度位置によってＡ軸に関して確保される。図に
示されるように、そこで電気的渦巻場が発生され、その
発生のたすけにより、ガスの渦巻は励起管のなかで作用
される。
られ接続線８６に接続している。図１４によれば陽極８
０の電極足８４は接続線８６ａと、陰極８２の電極足は
接続線８６Ｋとそれぞれ連結して、それぞれ相等する制
御部８８の入力Ｅに連結している。制御部８８にはパル
ス発生器９０から時間−サイクル信号が供給され、同じ
く高電圧電源３８の電圧が供給される。制御部８８は複
合器スイッチＳａ及びＳｋからなる複合器部として働い
ている。選択可能に同時に一つまたはそれ以上の陽極側
の電極足８４及び同時的に一つまたはそれ以上の陰極側
の電極足８２に電源電圧３８を加える。例えば陽極側及
び陰極側でそれぞれ電極足に電圧が加えられると、フイ
ルドパターンが管本体１に沿って同時に電圧が加えられ
る足の角度位置によってＡ軸に関して確保される。図に
示されるように、そこで電気的渦巻場が発生され、その
発生のたすけにより、ガスの渦巻は励起管のなかで作用
される。
【００３０】図１５と図１６には別の電極の配置が陽極
装入及び／または陰極装入について示されている。管本
体１とのその続き１ａとの間でのレーザ光に対して軸Ａ
におけるそのときどきの電極は図１５では円筒形電極９
２としてはめこまれている。そのときすくなくとも円筒
形電極は殆ど段なしに管本体１もしくは続きの管１ａの
内壁に接続される寸法であり、例えば円筒形電極は両側
で配置され軸方向に向けられている環状のカラー９４の
上に支持される。
装入及び／または陰極装入について示されている。管本
体１とのその続き１ａとの間でのレーザ光に対して軸Ａ
におけるそのときどきの電極は図１５では円筒形電極９
２としてはめこまれている。そのときすくなくとも円筒
形電極は殆ど段なしに管本体１もしくは続きの管１ａの
内壁に接続される寸法であり、例えば円筒形電極は両側
で配置され軸方向に向けられている環状のカラー９４の
上に支持される。
【００３１】なお管本体１に応じて続き管１ａの横断面
の寸法が管本体１の横断面の寸法に関して図１６に示す
ように変えられる必要があるならば、中空円錐形電極９
６はそれに相当して発散しまたは収れんするよう形づけ
られる。管本体１ａの内壁が一方では段なしに実際上連
結され、他方では半径方向に実際上スリットなしに連結
され、そのために薄い内部カラー９４ｉをもって連結さ
れている。
の寸法が管本体１の横断面の寸法に関して図１６に示す
ように変えられる必要があるならば、中空円錐形電極９
６はそれに相当して発散しまたは収れんするよう形づけ
られる。管本体１ａの内壁が一方では段なしに実際上連
結され、他方では半径方向に実際上スリットなしに連結
され、そのために薄い内部カラー９４ｉをもって連結さ
れている。
【図１】２段階の高能率ガスレーザの原理図である。
【図２】図２ａは大範囲の渦巻を阻止するための装置か
らなるガス入口管の概略断面図であり、図２ｂは図２ａ
による装置の横断面図で、得られる小範囲の渦巻を定性
的に記入している図である。
らなるガス入口管の概略断面図であり、図２ｂは図２ａ
による装置の横断面図で、得られる小範囲の渦巻を定性
的に記入している図である。
【図３】図３ａは別の変形装置についての図２ａに類似
する図、図３ｂは３ａ図の装置をＩＩＩ…ＩＩＩ線によ
り切断した概略的断面図である。
する図、図３ｂは３ａ図の装置をＩＩＩ…ＩＩＩ線によ
り切断した概略的断面図である。
【図４】大範囲の渦巻阻止装置の別の変形実施例を示
し、図２ａ及び図３ａに類似する図である。
し、図２ａ及び図３ａに類似する図である。
【図５】図５ａは本発明とは異なる他の参考例である励
起管の入口領域による概略的横断面図である。図５ｂは
本発明とは異なる他の参考例である、図５ａの領域の長
さ方向の概略的断面図である。
起管の入口領域による概略的横断面図である。図５ｂは
本発明とは異なる他の参考例である、図５ａの領域の長
さ方向の概略的断面図である。
【図６】本発明による入口領域の好ましい実施形態で図
５ｂに類似する長さ方向の断面図である。
５ｂに類似する長さ方向の断面図である。
【図７】図７ａから図７ｃは大範囲の渦巻阻止のための
励起管の概略的横断面図である。
励起管の概略的横断面図である。
【図８】本発明とは異なる他の参考例であるガス入口領
域の長さ方向の概略的断面図である。
域の長さ方向の概略的断面図である。
【図９】本発明の実施形態を示す図である。
【図１０】ガス出口領域の実施形態を示す図である。
【図１１】図１による２段階ガスレーザの図１０の装置
の拡大配置図である。
の拡大配置図である。
【図１２】出口領域の別の変形実施形態の概略図であ
る。
る。
【図１３】個々の電極を有する励起管による概略的横断
面図である。
面図である。
【図１４】図１３により形成された電極同じく場形成−
制御部、陽極側及び陰極側からなるレーザの励起管の長
さ方向の概略的断面図である。
制御部、陽極側及び陰極側からなるレーザの励起管の長
さ方向の概略的断面図である。
【図１５】別の変形電極の励起管の長さ方向の断面図で
ある。
ある。
【図１６】そこに示された電極の他の変形を示す図１５
に類似する図を示している。
に類似する図を示している。
１，５０ 管本体 ９ ガス入口管 ４４ａ チャンバー ４８ 膨出部 ５２ スプリットノズル ５４ａ，５４ｉ 電極
Claims (18)
- 【請求項１】 内部で軸方向へ向かってガスが流れるよ
うに２本の管本体（１、５０）を直線状に配設した励起
管を有するガスレーサであって、励起管の内部には、ガ
スの電気的励起のための電極（５４ａ、５４ｉ）が設け
られ、励起管の外周にはガス流入口部とガス流出口部と
が設けられたガスレーザにおいて、ガス流入口部は、前
記管本体（１、５０）の各端部間に形成された環状のス
プリットノズル（５２）と、前記２本の管本体を接続し
かつガス入口管（９）を設けた膨出部（４８）とを有
し、この膨出部（４８）は、長さ方向断面で見た場合
に、スプリットノズル（５２）に向かって緩やかな曲面
で徐々に前記管本体（１、５０）の各端部に接続されて
なることを特徴とするガスレーザ装置。 - 【請求項２】 前記ガス流入口部は、少なくとも１のス
プリットノズル（５２）を有することを特徴とする請求
項１に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項３】 前記ガス流入口部は、ガスを一旦貯めて
おくチャンバー（４４ａ）に連通し、上記チャンバーは
ガスを供給するガス供給管（４６）に接続されているこ
とを特徴とする請求項１または２に記載のガスレーザ装
置。 - 【請求項４】 前記チャンバー（４４ａ）は、前記励起
管の軸（Ａ）を中心として環状に構成されていることを
特徴とする請求項３に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項５】 前記ガス流入口部とガス流出口部との少
なくとも一方は、電極の一部（３４，５４ａ，５４ｉ，
８２，８４）として構成されていることを特徴とする請
求項１ないし４のいずれか１項に記載のガスレーザ装
置。 - 【請求項６】 前記ガス流出口部（１３）は、少なくと
も１つの環状の出口スリット（６０ａ）を有することを
特徴とする請求項５に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項７】 前記励起管の内部のガス流出口部近傍に
は、ガスをガス流出口部側へ案内する環状の出口スリッ
ト（６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）が励起管の軸方向（Ａ）
に連続して設けられていることを特徴とする請求項６に
記載のガスレーザ装置。 - 【請求項８】 前記ガス流出口部には、複数の羽根を励
起管の軸線周りに連設してリング状とした環（７６）を
少なくとも１つ設けたことを特徴とする請求項６または
７に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項９】 前記ガス流出口部は、前記励起管の外周
を包むようにして設けられた環状のチャンバー（６６）
に連通させられ、このチャンバー（６６）には、排気管
（１１）が接続されていることを特徴とする請求項５に
記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１０】 前記ガス流出口（１３）は、前記励起
管に接続された排気管（１１）に連通し、上記励起管に
は、圧縮ガスを上記排気管（１１）へ向けて噴射するガ
ス管（７８）が接続され、このガス管の上記励起管への
開口部は、上記排気管の開口部と同軸上に配置されてい
ることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に
記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１１】 前記励起管の断面形状は、少なくとも
励起管の一部において非円形であることを特徴とする請
求項１ないし１０のいずれか１項に記載のガスレーザ装
置。 - 【請求項１２】 前記電極は、前記励起管の内壁の周辺
に少なくとも円周方向へ延在する段差及びスリットなし
に設けられていることを特徴とする請求の範囲項１ない
し３のいずれか１項に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１３】 前記電極は内面が円錐状になされると
ともに励起管の内壁を構成するように設けられ、しか
も、円周方向へ延在する段差およびスリットなしに構成
されていることを特徴とする請求項１ないし１２のいず
れか１項に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１４】 前記電極には、前記励起管の電場形成
を制御するための制御部（８４，８２，８８）が設けら
れていることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれ
か１項に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１５】 前記電極の陽極または陰極のうち少な
くとも１つは、前記励起管の軸の周りに配列された複数
の電極要素（８２，８４）で構成され、しかも個々の電
極要素が前記制御手段により制御されることを特徴とす
る請求項１４に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１６】 前記励起管のうちガス流入口部側へ寄
った上流側の部分に、その断面を区画する格子（２８）
を設けたことを特徴とする請求項１ないし１５のいずれ
か１項に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１７】 前記格子は蜂の巣状をなすことを特徴
とする請求項１６に記載のガスレーザ装置。 - 【請求項１８】 前記励起管のうちガス流入口部側へ寄
った上流側の部分に、断面積が徐々に変化するくびれ部
（３４）を設けたことを特徴とする請求項１ないし１６
のいずれか１項に記載のガスレーザ装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH4861/84-6 | 1984-10-10 | ||
| CH486184 | 1984-10-10 |
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|---|---|---|---|
| JP60504318A Division JPH0693526B2 (ja) | 1984-10-10 | 1985-10-08 | 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07142787A JPH07142787A (ja) | 1995-06-02 |
| JP2554024B2 true JP2554024B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=4283835
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60504318A Expired - Lifetime JPH0693526B2 (ja) | 1984-10-10 | 1985-10-08 | 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ |
| JP60504321A Expired - Lifetime JPH0714082B2 (ja) | 1984-10-10 | 1985-10-08 | 高速軸方向ガスレーザとその出力向上方法 |
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|---|---|---|---|
| JP60504318A Expired - Lifetime JPH0693526B2 (ja) | 1984-10-10 | 1985-10-08 | 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ |
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| EP0922888B1 (de) * | 1997-12-10 | 2003-05-21 | Festo AG & Co | Dichtungsring |
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| US6931046B1 (en) * | 2000-09-14 | 2005-08-16 | The Regents Of The University Of California | High power laser having a trivalent liquid host |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS545958B2 (ja) * | 1973-03-27 | 1979-03-23 | ||
| JPS5311072A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Phase constant measuring method |
| JPS55121691A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Hitachi Ltd | Gas laser device |
| US4274065A (en) * | 1979-07-31 | 1981-06-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Closed cycle annular-return gas flow electrical discharge laser |
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| JPS57188892A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Coaxial carbon dioxide laser oscillator |
| JPS5891690A (ja) * | 1981-11-27 | 1983-05-31 | Hitachi Ltd | ガスレ−ザ発生装置 |
| US4457000A (en) * | 1982-03-03 | 1984-06-26 | Rockwell International Corporation | Shock wave suppressing flow plate for pulsed lasers |
| JPS58178579A (ja) * | 1982-04-13 | 1983-10-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ発振器 |
| JPS58196080A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-15 | Toshiba Corp | 気体レ−ザの発振容器 |
| JPS597236A (ja) * | 1982-07-06 | 1984-01-14 | Nissan Motor Co Ltd | 吸気圧力センサ |
| JPS5956782A (ja) * | 1982-09-25 | 1984-04-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレ−ザ装置 |
| JPS59208890A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Nec Corp | 高速軸流形ガスレ−ザ管 |
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-
1985
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| EP0178263B1 (de) | 1990-08-16 |
| JPH07142787A (ja) | 1995-06-02 |
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| WO1986002498A1 (en) | 1986-04-24 |
| USRE33803E (en) | 1992-01-21 |
| AU580108B2 (en) | 1989-01-05 |
| JPS62502437A (ja) | 1987-09-17 |
| ATE46596T1 (de) | 1989-10-15 |
| EP0178263A1 (de) | 1986-04-16 |
| JPH0714082B2 (ja) | 1995-02-15 |
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| CA1267715A (en) | 1990-04-10 |
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