JPH0693526B2 - 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ - Google Patents

軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ

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JPH0693526B2
JPH0693526B2 JP60504318A JP50431885A JPH0693526B2 JP H0693526 B2 JPH0693526 B2 JP H0693526B2 JP 60504318 A JP60504318 A JP 60504318A JP 50431885 A JP50431885 A JP 50431885A JP H0693526 B2 JPH0693526 B2 JP H0693526B2
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は電極配置を用いて電気的に励起させる励起管、
同じく励起管に関してガス入口及びガス出口とからなる
ガスレーザに関する。
従来技術 軸方向のガスレーザにおいて、励起管内の大範囲の渦巻
きの発生をできるかぎり妨げねばならないことは知られ
ている。励起管に沿っての渦巻きの状態はとりわけ励起
管のガス入口領域もしくは、ガス出口領域での状態によ
って決定されもしくは、そのことによって妨げられる。
この際、これらの領域では管内で軸方向に向けられるガ
ス流は半径方向に供給され、もしくは連れ出されねばな
らない。次の定義； 管内での渦巻が管の断面に関して、１つの渦巻中心が存
在する場合には「大範囲の渦巻」であり、２つまたはそ
れ以上の渦巻の中心が存在するならば渦巻は「小範囲の
渦巻」と称されることは一般的に認められている。
発明の開示 本発明の目的はガスレーザに関して、ガス入口領域もし
くはガス出口領域を励起管に沿ってできるかぎり大範囲
の渦巻を生じないように形成するということである。
本発明は上記目的を達成するためになされたもので、内
部で軸方向へ向かってガスが流れる少なくとも１つの励
起管を有するガスレーザであって、上記励起管の内部に
は、ガスの電気的励起のための電極が設けられ、上記励
起管の外周部には、ガス流入口部およびガス流出口部が
励起管の周方向にわたって均等に設けられたガスレーザ
において、 上記励起管の外周側に、端部が上記ガス流入口部に接続
されたガス入口管が設けられ、上記ガス入口管は、軸に
沿う断面でみたときに、その内面が励起管の軸方向へ向
かうにしたがって、励起管の内面に漸次近付くように緩
やかな曲面で励起管の内面に連続していることを特徴と
している。
すなわち、ガス入口管の内面を励起管の軸方向へ向かう
にしたがって励起管の中心側へ漸次近づくように構成し
ているから、ガス入口管側のガスの流れと励起管内での
ガスの流れとでその方向に大きな差が生じない。したが
って、ガスが励起管内に流入する際に流れが乱されるこ
とが少なく、励起管内でのガスの流れはより層流に近い
状態となる。しかも、ガス入口管の内面を緩やかな曲面
にして励起管の内面に連続させているので、ガスの流れ
がガス入口管と励起管との境界で乱されるようなことが
ない。さらに、ガス入口管に沿って流れるガスの方向
は、励起管に近づくにしたがって励起管の軸方向に近く
なり、したがって、ガスの流れる方向がしだいに軸方向
へ向かうので、ガスの励起管への導入をより一層スムー
ズに行うことができる。
本発明の実施例の変形、同じく必要な場合には補助的に
設けられる措置が励起管の渦巻状態の改善のために以下
図面を用いて説明する。
図面の簡単な説明 第１図は２段階の高能率ガスレーザの原理図、 第2a図は大範囲の渦巻を阻止するための装置からなるガ
ス入口管の概略断面図、 第2b図は第2a図による装置の横断面図で、得られる小範
囲の渦巻を定性的に記入している図、 第3a図は別の変形装置についての第2a図に類似する図、 第3b図は第3a図の装置をIII−III線により切断した概略
的断面図、 第４図は大範囲の渦巻阻止装置の別の変形実施例を示
し、第2a図及び第3a図に類似する図、 第５図は本発明による励起管の入口領域による概略的横
断面図、 第5b図は本発明による第５図の領域の長さ方向の概略的
断面図、 第６図は本発明の実施例を表すものではないが、入口領
域の好ましい実施形態で第5b図に類似する長さ方向の断
面図、 第7a図から第7c図は大範囲の渦巻阻止のための励起管の
概略的横断面図、 第８図は本発明によるガス入口領域の長さ方向の概略的
断面図、 第９図は第８図に類似する他の変形実施形態を示す図、 第10図はガス出口領域の第８図及び第９図に類似する他
の変形実施形態を示す図、 第11図は第１図による２段階ガスレーザの第10図の装置
の拡大配置図、 第12図は出口領域の別の変形実施形態の概略図、 第13図は個々の電極を有する励起管による概略的横断面
図、 第14図は第13図により形成された電極同じく場形成−制
御部、陽極側及び陰極側からなるレーザの励起管の長さ
方向の概略的断面図、 第15図は別の変形電極の励起管の長さ方向の断面図、 第16図はそこに示された電極の他の変形を示す第15図に
類似する図 を示している。
本発明を実施するための最良の形態 第１図には公知の高能率ガスレーザの原理的配置を示し
ている。２段階ガスレーザは点線で示した標線の左側で
第１段階が右側で第２段階が関係している。この標線に
関して鏡像的に配置され、同一の段階で取り扱われるの
で、ここではただ左側の段階について記載する。レーザ
配置は励起管１を取り巻いている。その末端には陰極３
及び陽極５が配置されている。励起管１の端部の入口領
域７に励起管１の入口管９が合流している。熱交換器17
及び19がその前後に連結されている送風器15を用いて例
えば炭酸ガス、窒素、ヘリウムからなる混合ガスが励起
管１に矢印方向に駆動される。両端が開かれた励起管１
の中央軸Ａは同時にレーザ光の光学軸である。電極３と
５は高電圧電源21を経て制御要素23たとえば電子管で駆
動される。そのとき電子管23により、電極電流の制御さ
れた流れ調節に調整される。
本発明は入口領域７に関する措置、出口領域13に関する
措置、同じく陰極及び／または陽極の形成に関連してい
る。すべての措置は空気力学的及び／または電気的な大
範囲の渦巻を励起管１において阻止し、その際でそこで
すぐれたガスの混合を確保するものである。
第２図から第16図には励起管の大範囲の渦巻を阻止する
ための措置が説明されている。第5a図から第６図、第８
図から第12図が最も重要なものとして示され、これにつ
いて説明する。
第２図から第４図は混合ガスＧに対する入口領域側の入
口管９の断面が示されている。入口領域７の領域に第2a
図による入口管９に多くの格子28が配置され、特に横断
面で示されている。それにより小範囲の渦巻が管９にお
いて第2b図に概略的に示すように発生する。
第2b図で線点で示した小範囲の渦巻が管９の中にもたら
され、管の内に伝わることができ、それによって十分に
阻止される。第3a図において格子28の代りに入口管９の
中に流れの断面を細分する多数の壁が配置される。
第3b図に示されるようにこの壁30はとくにはちの巣型32
に構成され、配置される。この措置により目的とする効
果が達成される。
第４図には入口管９に連続したくびれ34を形成した別の
措置が示され、ガスの流れ方向に最初は連続した導管の
壁の収れんが、そのあと壁の発散が組みこまれ、この措
置により前述の目的が達成される。第２図から第４図の
措置は必要な場合には第５図から第６図により説明され
る実質的な措置と組み合せて使用される。
第５図及び第６図に示された措置によって大範囲の渦巻
の発生が入口領域側で実質的に阻止される。第5a図には
これに対して提案される技術が原理的に示される。励起
管１の周辺には連続して、または第5a図及び第5b図に示
されるように不連続的に分散して１組の入口管9aと連絡
しているガス入口窓42が配置され、ガスを連続して半径
方向から軸方向へ管１に関して管１の周辺に沿って等し
く分散して導くように配置されている。
その際第5b図に示すように、好ましくは入口窓42の整列
はすくなくともガス流れが軸Ａの方向に連続して励起管
１においてかどで渦巻を生ずることのないように選択さ
れている。
すべての入口窓42もしくはすべての入口管9aに対して共
通な圧力ガスの調整のために設けられた入口窓42のすべ
ては釣り合いして負荷されるようさらに確実にするた
め、第5a図に概略的に示すように入口管9aのすべては共
通の調整室44に導かれ、そこで後者はガス供給管46によ
り供給される。それにより励起管１の周辺の至るところ
釣り合いのとれたとくに軸方向に向けられたガスの流れ
を確保する。第２図から第４図により説明された措置は
場合によっては管9aに設けられる。
第６図は本発明の実施例を表すものではないが、入口領
域の好ましい実施形態を示している。励起管１は入口領
域側にてふくらみ48を形成している。励起管１の続きと
共通にして形成される管の断面50は同じ内直径をもって
励起管１の入口領域側に形成され、軸Ａの周辺に調節室
44aを環状の室として形成し、すくなくともそこで入口
管９が合流している。環状の調節室44aから励起管１に
戻る断面50の端部とふくらみ48の発端部分との間に出口
があり、それにより均一に狭められた環状のスプリット
ノズル52が形づけられている。このスプリットノズルと
スプリットノズルを使用する方法により最適な釣り合い
のとれたとくに励起管１に関して軸方向に向けられたガ
スの流れを励起管に得るのである。
図に示されるように代替的にまたは追加的に管の断面50
の内側の上にまたは出口側の内側上にすなわち環状の調
節室44aに向う側に管の断面の周辺に沿って環状の電極5
4iもしくは54aが設けられている。管断面50の壁は直接
電極としてはめこまれる可能性が書き込まれていない。
基本的に環状に形成された電極を個々に絶縁して周辺に
分散された電極断面に構成することができる。とくに上
述の電極の断面または好ましい連続の電極環は励起管１
に対向して向けられ、先端56のような局所的に非常に高
い場の強さを発生させるための鋭い不連続状態を持って
いる。
第7a図から第7c図には励起管１それ自身について渦巻の
状態をさらに改良するために設けられる措置を示してい
る。
管のなかで流れの横断面について別々の上述の意味で大
範囲の渦巻を生ずるという傾向、管の横断面の円形が正
確であればあるほどより高くなることは知られている。
このことは提案される措置の目的を阻止するものであ
り、励起管１の第7a図から第7c図による流れの横断面は
円形とは異なるたとえば３角形、４角形、多角形または
楕円形に形成されている。
第７図にはそれによって生ずる対称的な小範囲の渦巻を
定性的に示すものである。このことは励起管１の軸方向
に流れるガスの良好な混合を促進している。
第８図から第12図には出口領域における本質的な措置も
しくはそれに相等する装置の挿入を示している。励起管
１の出口領域13での大範囲の渦巻に関して出口領域13に
関して逆戻りのないガス出口を保護するため第８図によ
り第5b図の入口領域側の予防処置と類似して励起管１の
周辺に本発明の重要な連続の、または第８図の窓58で示
すように不連続性の変らない出口を形づくりしている。
第８図によれば管１の周辺に出口窓58が分散して設けら
れ、一様な出口管11aのすべてと連絡し、その側は図示
されていないが収集室に導かれている。第９図により管
１の周辺に連続して一様にひろげられた環状の出口スリ
ット60が形成され、そこでは管１はふくらみ62に形づく
られていて、管１に戻る側に管断面64がふくらみ62のな
かに突きでていて一方においてＡ軸のまわりに環状の室
として収集室66が形成され、他方において環状の出口ス
リット60が形成されている。出口スリット60の領域には
不連続状態70をもつ環状陰極として陰極68のような電極
をそれに相等する電気接続72を設けている。
第10図による実施例形態において他方ではふくらみを形
成した環状の室66に連続して軸方向に段づけされた環状
の薄片74を多数ガスの流れ方向に組み直し、環状の出口
スリット60a,60b,60cを形成している。この構造の形状
で環状の薄片は陰極としての電極の挿入に対して電気的
接続72を設けることができる。
第11図は第10図に類似し第１に表示されているように２
段階レーザに対する出口領域13の構造を概略的に示して
いる。
第12図には基本的に第11図に類似する装置を示してい
る。即ち、２段階レーザの環状に回転する薄片の代りに
１つまたはそれ以上の羽根状の環76が設けられている。
出口管11におけるガス流の非支持に対してとくに第10図
から第12図により実施例の変形を第12図に示している。
基本的には高圧ガス管78は収集室66のなかで好ましくは
導管９の流れ口に対して同軸的である流れ口をもって合
流している。この高圧ガス管78によってガス管G2は収集
室66に吹きつけられ、ガス流の衝撃のベクトル和で励起
管１からの流れるガスＧの吸引が支持されている。
第13図及び第14図において陰極及び／または陽極からな
る電極の配置が必要な場合には目的に応じ１つまたはそ
れ以上のこれまで説明された措置を組み合せて電気的に
支持するために示されている。これに対して陽極80及び
／または陰極82は基本的には環状電極として構成されて
いる。環はとくに第13図に明示するように、連続の電極
として使用されないでむしろ軸方向に向けられる個々の
電極が電極足84の形を示している。
この電極足84は互いに絶縁して組み立てられ接続線86に
接続している。第14図によれば陽極80の電極足84は接続
線86aと、陰極82の電極足は接続線86Kとそれぞれ連結し
て、それぞれ相等する制御部88の入力Ｅに連結してい
る。制御部88にはパルス発生器90から時間−サイクル信
号が供給され、同じく高電圧電源38の電圧が供給され
る。制御部88は複合器スイッチSa及びSkからなる複合器
部として働いている。選択可能に同時に一つまたはそれ
以上の陽極側の電極足84及び同時的に一つまたはそれ以
上の陰極側の電極足82に電源電圧38を加える。例えば陽
極側及び陰極側でそれぞれ電極足に電圧が加えられる
と、フイルドパターンが励起管１に沿って同時に電圧が
加えられる足の角度位置によってＡ軸に関して確保され
る。図に示されるように、そこで電気的渦巻場が発生さ
れ、その発生のたすけにより、ガスの渦巻は励起管のな
かで作用される。
第15図と第16図には別の電極の配置が陽極装入及び／ま
たは陰極装入について示されている。励起管１とのその
続き1aとの間でのレーザ光に対して軸Ａにおけるそのと
きどきの電極は第15図では円筒形電極92としてはめこま
れている。そのときすくなくとも円筒形電極は殆ど段な
しに励起管１もしくは続きの管1aの内壁に接続される寸
法であり、例えば円筒形電極は両側で配置され軸方向に
向けられている環状のカラー94の上に支持される。
なお励起管１に応じて続き管1aの横断面の寸法が励起管
１の横断面の寸法に関して第16図に示すように変えられ
る必要があるならば、中空円錐形電極96はそれに相当し
て発散しまたは収れんするよう形づけられる。励起管1a
の内壁が一方では段なしに実際上連結され、他方では半
径方向に実際上スリットなしに連結され、そのために薄
い内部カラー94iをもって連結されている。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−28285（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−22387（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−162380（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−121691（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−122997（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−178579（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−196080（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−208890（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−56782（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−177968（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭55−42344（ＪＰ，Ｕ) 米国特許3671883（ＵＳ，Ａ) 米国特許4470144（ＵＳ，Ａ) 米国特許3720885（ＵＳ，Ａ) 米国特許4274065（ＵＳ，Ａ)

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】内部で軸方向へ向かってガスが流れる少な
    くとも１つの励起管を有するガスレーザであって、上記
    励起管の内部には、ガスの電気的励起のための電極が設
    けられ、上記励起管の外周部には、ガス流入口部および
    ガス流出口部が励起管の周方向にわたって均等に設けら
    れたガスレーザにおいて、 上記励起管の外周側に、端部が上記ガス流入口部に接続
    されたガス入口管が設けられ、上記ガス入口管は、軸に
    沿う断面でみたときに、その内面が励起管の軸方向へ向
    かうにしたがって、励起管の内面に漸次近付くように緩
    やかな曲面で励起管の内面に連続していることを特徴と
    するガスレーザ。
  2. 【請求項２】前記ガス流入口部は、ガスを一旦貯めてお
    くチャンバー（44）に連通し、上記チャンバーはガスを
    供給するガス入口管（９）に接続されていることを特徴
    とする請求の範囲第１項に記載のガスレーザ。
  3. 【請求項３】前記ガス流入口部とガス流出口部との少な
    くとも一方は、電極の一部（34,82,84）として構成され
    ていることを特徴とする請求の範囲第１項ないし第２項
    のいずれかに記載のガスレーザ。
  4. 【請求項４】前記ガス流出口部には、前記励起管の外周
    部分に均等に配置され、励起管の壁部から緩やかに分岐
    してゆく流路が接続されていることを特徴とする請求の
    範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載のガスレー
    ザ。
  5. 【請求項５】前記励起管の断面形状は、少なくとも励起
    管の一部において非円形であることを特徴とする請求の
    範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載のガスレー
    ザ。
  6. 【請求項６】前記電極は、前記励起管の内壁の周辺に少
    なくとも円周方向へ延在する段差及びスリットなしに設
    けられていることを特徴とする請求の範囲第１項ないし
    第５項のいずれかに記載のガスレーザ。
  7. 【請求項７】前記電極には、前記励起管の電場形成を制
    御するための制御部（84,82,88）が設けられていること
    を特徴とする請求の範囲第１項ないし第６項のいずれか
    に記載のガスレーザ。
  8. 【請求項８】前記電極の陽極または陰極のうち少なくと
    も１つは、前記励起管の軸の周りに配列された複数の電
    極要素（82,84）で構成され、しかも個々の電極要素が
    前記制御手段により制御されることを特徴とする請求の
    範囲第７項に記載のガスレーザ。
  9. 【請求項９】前記励起管のうちガス流入口側へ寄った上
    流側の部分に、その断面を区画する格子（28）を設けた
    ことを特徴とする請求の範囲第１項ないし第８項のいず
    れかに記載のガスレーザ。
  10. 【請求項１０】前記格子は蜂の巣状をなすことを特徴と
    する請求の範囲第９項に記載のガスレーザ。
  11. 【請求項１１】前記励起管のうちガス流入口側へ寄った
    上流側の部分に、断面積が徐々に変化するくびれ部（3
    4）を設けたことを特徴とする請求の範囲第１項ないし
    第10項のいずれかに記載のガスレーザ。
JP60504318A 1984-10-10 1985-10-08 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ Expired - Lifetime JPH0693526B2 (ja)

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CH4861/84-6 1984-10-10
CH486184 1984-10-10
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Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6136104A Division JP2554024B2 (ja) 1984-10-10 1994-06-17 軸方向ガス流励起管からなるガスレーザ

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Publication Number Publication Date
JPS62502155A JPS62502155A (ja) 1987-08-20
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Application Number Title Priority Date Filing Date
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU584366B2 (en) * 1984-10-10 1989-05-25 Prc Corporation Gas laser comprising at least one axial gas-flown energizing path
JPH08270335A (ja) * 1995-03-29 1996-10-15 Yamaji Fudosan Kk ドア部材及びその製造方法
EP0922888B1 (de) * 1997-12-10 2003-05-21 Festo AG & Co Dichtungsring
US6580742B1 (en) * 1999-10-12 2003-06-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser oscillating apparatus
EP1248332B1 (en) 2000-05-30 2004-05-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser oscillating device
US6931046B1 (en) * 2000-09-14 2005-08-16 The Regents Of The University Of California High power laser having a trivalent liquid host
JP4489557B2 (ja) * 2004-10-21 2010-06-23 黒田精工株式会社 ボールねじの潤滑シール装置
JP4137961B2 (ja) * 2006-07-13 2008-08-20 ファナック株式会社 ガスレーザ発振装置
EP2712036A1 (en) * 2012-09-24 2014-03-26 Excico France A gas circulation loop for a laser gas discharge tube
JP5927218B2 (ja) * 2014-03-12 2016-06-01 ファナック株式会社 放電管を備えるレーザ発振器、およびレーザ加工装置

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3671883A (en) * 1969-10-20 1972-06-20 Aga Ab Process and apparatus for effecting high gas flow in discharge tube of gas laser
US3720885A (en) * 1971-04-30 1973-03-13 Us Navy Transverse flow carbon dioxide laser system
JPS49122997A (ja) * 1973-03-27 1974-11-25
JPS55121691A (en) * 1979-03-14 1980-09-18 Hitachi Ltd Gas laser device
JPS5542344B2 (ja) * 1976-07-19 1980-10-30
US4274065A (en) * 1979-07-31 1981-06-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Closed cycle annular-return gas flow electrical discharge laser
JPS58178579A (ja) * 1982-04-13 1983-10-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ発振器
JPS58196080A (ja) * 1982-05-12 1983-11-15 Toshiba Corp 気体レ−ザの発振容器
JPS5956782A (ja) * 1982-09-25 1984-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレ−ザ装置
US4470144A (en) * 1981-05-18 1984-09-04 Matsushita Electric Industrial Company, Limited Coaxial-type carbon dioxide gas laser oscillator
JPS59208890A (ja) * 1983-05-13 1984-11-27 Nec Corp 高速軸流形ガスレ−ザ管
JPS6028285A (ja) * 1983-07-02 1985-02-13 メツサ−・グリ−スハイム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 気体レ−ザ
JPS6022387B2 (ja) * 1980-10-06 1985-06-01 カシオ計算機株式会社 小型電子式翻訳機

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3428914A (en) * 1965-01-25 1969-02-18 Spectra Physics Gas lasers with plasma tube having variable cross-section and discharge current
JPS5891690A (ja) * 1981-11-27 1983-05-31 Hitachi Ltd ガスレ−ザ発生装置
US4457000A (en) * 1982-03-03 1984-06-26 Rockwell International Corporation Shock wave suppressing flow plate for pulsed lasers
JPS597236A (ja) * 1982-07-06 1984-01-14 Nissan Motor Co Ltd 吸気圧力センサ
AU584366B2 (en) * 1984-10-10 1989-05-25 Prc Corporation Gas laser comprising at least one axial gas-flown energizing path

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3671883A (en) * 1969-10-20 1972-06-20 Aga Ab Process and apparatus for effecting high gas flow in discharge tube of gas laser
US3720885A (en) * 1971-04-30 1973-03-13 Us Navy Transverse flow carbon dioxide laser system
JPS49122997A (ja) * 1973-03-27 1974-11-25
JPS5542344B2 (ja) * 1976-07-19 1980-10-30
JPS55121691A (en) * 1979-03-14 1980-09-18 Hitachi Ltd Gas laser device
US4274065A (en) * 1979-07-31 1981-06-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Closed cycle annular-return gas flow electrical discharge laser
JPS6022387B2 (ja) * 1980-10-06 1985-06-01 カシオ計算機株式会社 小型電子式翻訳機
US4470144A (en) * 1981-05-18 1984-09-04 Matsushita Electric Industrial Company, Limited Coaxial-type carbon dioxide gas laser oscillator
JPS58178579A (ja) * 1982-04-13 1983-10-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ発振器
JPS58196080A (ja) * 1982-05-12 1983-11-15 Toshiba Corp 気体レ−ザの発振容器
JPS5956782A (ja) * 1982-09-25 1984-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレ−ザ装置
JPS59208890A (ja) * 1983-05-13 1984-11-27 Nec Corp 高速軸流形ガスレ−ザ管
JPS6028285A (ja) * 1983-07-02 1985-02-13 メツサ−・グリ−スハイム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 気体レ−ザ

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Publication number Publication date
EP0178262A1 (de) 1986-04-16
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AU4960885A (en) 1986-05-02
AU4960185A (en) 1986-05-02
AU584366B2 (en) 1989-05-25
CA1268533A (en) 1990-05-01
JP2554024B2 (ja) 1996-11-13
WO1986002499A1 (en) 1986-04-24
ATE55659T1 (de) 1990-09-15
EP0178262B1 (de) 1989-09-20
EP0178263B1 (de) 1990-08-16
JPH07142787A (ja) 1995-06-02
US4692928A (en) 1987-09-08
WO1986002498A1 (en) 1986-04-24
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JPS62502437A (ja) 1987-09-17
ATE46596T1 (de) 1989-10-15
EP0178263A1 (de) 1986-04-16
JPH0714082B2 (ja) 1995-02-15
DE3573200D1 (en) 1989-10-26
CA1267715A (en) 1990-04-10

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