JPS6250187A - 耐光堅牢度向上法 - Google Patents
耐光堅牢度向上法Info
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- JPS6250187A JPS6250187A JP60188516A JP18851685A JPS6250187A JP S6250187 A JPS6250187 A JP S6250187A JP 60188516 A JP60188516 A JP 60188516A JP 18851685 A JP18851685 A JP 18851685A JP S6250187 A JPS6250187 A JP S6250187A
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明はインドレニン化合物の耐光堅牢度向上法に関す
る。
る。
更に詳しくは特定な化合物を共存せしめてなる赤外線吸
収剤を主用途とするインドレニン化合物の耐光堅牢度向
上法に関する。
収剤を主用途とするインドレニン化合物の耐光堅牢度向
上法に関する。
「従来の技術」
近年、赤外線吸収剤は広範な分野に利用されるようにな
った。例えば光学的記録媒体に適用する場合、赤外線吸
収剤からなる層をアクリル樹脂板、ポリカーボネート樹
脂板等の基板上に形成せしめこれに適当な光、例えばレ
ーザー光を照射することにより情報を記録することが行
われている。又赤外線吸収剤をノ〈イングーと有機溶媒
との混合物に混合し、例えば透明なアクリル樹脂板に塗
布すると赤外領域の光線に対する光遮断作用、即ちフィ
ルターとして有用に使用出来る。更に赤外線吸収剤をメ
チルメタアクリレート樹脂のような樹脂に練り込み成形
することにより、赤外領域の光が遮断されるメガネとし
て用いることも出来る。式 〔式（１）において几はアルキル、アルコキシアルキル
又はアルコキシアルコキシアルキルを、Ｙは水−素原子
又は塩素原子を、Ａは−ζｐ＝、し、Ｘは陰イオンを表
す〕 で表される化合物も前記したような用途に使用されうる
。
った。例えば光学的記録媒体に適用する場合、赤外線吸
収剤からなる層をアクリル樹脂板、ポリカーボネート樹
脂板等の基板上に形成せしめこれに適当な光、例えばレ
ーザー光を照射することにより情報を記録することが行
われている。又赤外線吸収剤をノ〈イングーと有機溶媒
との混合物に混合し、例えば透明なアクリル樹脂板に塗
布すると赤外領域の光線に対する光遮断作用、即ちフィ
ルターとして有用に使用出来る。更に赤外線吸収剤をメ
チルメタアクリレート樹脂のような樹脂に練り込み成形
することにより、赤外領域の光が遮断されるメガネとし
て用いることも出来る。式 〔式（１）において几はアルキル、アルコキシアルキル
又はアルコキシアルコキシアルキルを、Ｙは水−素原子
又は塩素原子を、Ａは−ζｐ＝、し、Ｘは陰イオンを表
す〕 で表される化合物も前記したような用途に使用されうる
。
「発明が解決しようとする問題点」
前記式（１）で表される化合物は赤外線吸収能を有する
ので赤外線吸収剤として用いられるがその耐光堅牢度が
充分でないという欠点があり、そのため高い耐光堅牢度
を必要とするような用途、目的の為にはその性能を十分
に発揮させることができない。
ので赤外線吸収剤として用いられるがその耐光堅牢度が
充分でないという欠点があり、そのため高い耐光堅牢度
を必要とするような用途、目的の為にはその性能を十分
に発揮させることができない。
「問題点を解決する為の手段」
本発明者らは前記したような問題点を解決すべく鋭意研
究を重ねた結果本発明に至ったものである。
究を重ねた結果本発明に至ったものである。
即ち、本発明は式
〔式（１）においてＲはアルキル、アルコキシアルキル
又はアルコキシアルコキシアルキルを、し、Ｘは陰イオ
ンを表す〕 で表される化合物に下記（２１、（３）又は（４）（式
（２１、（３）及び（４）においてＲはアルキル基をＸ
は陰イオンを表す。文武（３）に於てＥは置換していて
もよいフェニル基又はナフタレン基を表す） から選ばれる化合物の１種又は２種以上を共存せしめる
ことを特徴とする式（］）で表される化合物の耐光堅牢
度向上法を提供する。
又はアルコキシアルコキシアルキルを、し、Ｘは陰イオ
ンを表す〕 で表される化合物に下記（２１、（３）又は（４）（式
（２１、（３）及び（４）においてＲはアルキル基をＸ
は陰イオンを表す。文武（３）に於てＥは置換していて
もよいフェニル基又はナフタレン基を表す） から選ばれる化合物の１種又は２種以上を共存せしめる
ことを特徴とする式（］）で表される化合物の耐光堅牢
度向上法を提供する。
次に本発明において式（］）で表される化合物、式（２
３、（３）及び（４）の化合物（以後これらを添加剤と
いう）の具体例を示す。
３、（３）及び（４）の化合物（以後これらを添加剤と
いう）の具体例を示す。
式（］）の化合物の例（Ｒ，Ｙ、 Ａ、 Ｘは各々式（
１）におけるものである） 式（２）の添加剤の例（Ｒ，、Ｘは式（２）におけるも
の式（３）の添加剤の例（Ｒ，Ｅ、 Ｘ は式（３）に
おけるものである。） 式（４）の添゛加剤の例（Ｒ，Ｘは式（４）におけるも
のである。） 次に式（１）の化合物を赤外線吸収剤として光記録媒体
に適用した場合の本発明の方法につき説明する。
１）におけるものである） 式（２）の添加剤の例（Ｒ，、Ｘは式（２）におけるも
の式（３）の添加剤の例（Ｒ，Ｅ、 Ｘ は式（３）に
おけるものである。） 式（４）の添゛加剤の例（Ｒ，Ｘは式（４）におけるも
のである。） 次に式（１）の化合物を赤外線吸収剤として光記録媒体
に適用した場合の本発明の方法につき説明する。
式（１１の化合物と前記した添加剤の１種又は２種以上
を併用して後記するような塗布法によって基質上に適用
され光記録媒体が調爬される。
を併用して後記するような塗布法によって基質上に適用
され光記録媒体が調爬される。
式（１）の化合物、及び添加剤を溶解する為の溶剤とし
ては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトン、メ
チルエチルケトン等を挙げることが出来る。更にバイン
ダーを併用して基質上に塗布する場合の溶剤の例として
はメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメ
チルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン
、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、ジクロロエタン等ヲ挙ケることが出来る。そ
してバインダーを併用する場合、用いられるバインダー
の例としてはフェノール系、アルキッド系、尿素−メラ
ミン系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系、シリコン
系、ポリウレタン系、ポリアクリレート系、ポリ酢酸ビ
ニル系、ポリスチレン系樹脂等が挙げられる。
ては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトン、メ
チルエチルケトン等を挙げることが出来る。更にバイン
ダーを併用して基質上に塗布する場合の溶剤の例として
はメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメ
チルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン
、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、ジクロロエタン等ヲ挙ケることが出来る。そ
してバインダーを併用する場合、用いられるバインダー
の例としてはフェノール系、アルキッド系、尿素−メラ
ミン系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系、シリコン
系、ポリウレタン系、ポリアクリレート系、ポリ酢酸ビ
ニル系、ポリスチレン系樹脂等が挙げられる。
式（１）の化合物に対する前記添加剤の添加比率は式（
１）の化合物１．０に対して添加剤０，０５〜５．０、
好ましくは０．３〜１．５である。
１）の化合物１．０に対して添加剤０，０５〜５．０、
好ましくは０．３〜１．５である。
式（υの化合物と前記添加剤を塗布して用いる場合の基
質の例としてはポリアクリレート系、ポリメタアクリレ
ート系、ポリカーボネート系、セルローストリアセテー
ト系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリ塩化ビ
ニル系、ポリ塩化ビニリデン系、ＰＶＡ系、ポリエステ
ル系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスルホン系、
ポリエーテル系、ポリスチレン系、ポリアクリルニドＩ
Ｊル系樹脂裂のフィルム、シートあるいは盤状成型物が
あげられ、必要によりこれ等の表面にシリコン系合成樹
脂などで保護層を設けたものあるいは各種ガラス、セラ
ミックス、金属製板なども用いられる。（以下これらを
総称して「フィルム又は基板等」と略す） 塗布の方法としては式（１）の化合物と、１種又は２種
以上の添加剤を溶剤に溶解して塗布するか（１）の化合
物と添加物を溶剤に別々に溶解してから混合して塗布す
る。塗布法としてはスプレー或はスピンナーを用いてフ
ィルム又は基板等に塗布する。又、バインダーを併用す
る場合はバインダーと溶剤の混合物に式（１）の化合物
及び添加剤を溶解せしめた液をフィルム又は基板にスプ
レー、スピンナー、バーコーター、アプリケーター、グ
ラビヤコーター等を用いて塗布する。
質の例としてはポリアクリレート系、ポリメタアクリレ
ート系、ポリカーボネート系、セルローストリアセテー
ト系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリ塩化ビ
ニル系、ポリ塩化ビニリデン系、ＰＶＡ系、ポリエステ
ル系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスルホン系、
ポリエーテル系、ポリスチレン系、ポリアクリルニドＩ
Ｊル系樹脂裂のフィルム、シートあるいは盤状成型物が
あげられ、必要によりこれ等の表面にシリコン系合成樹
脂などで保護層を設けたものあるいは各種ガラス、セラ
ミックス、金属製板なども用いられる。（以下これらを
総称して「フィルム又は基板等」と略す） 塗布の方法としては式（１）の化合物と、１種又は２種
以上の添加剤を溶剤に溶解して塗布するか（１）の化合
物と添加物を溶剤に別々に溶解してから混合して塗布す
る。塗布法としてはスプレー或はスピンナーを用いてフ
ィルム又は基板等に塗布する。又、バインダーを併用す
る場合はバインダーと溶剤の混合物に式（１）の化合物
及び添加剤を溶解せしめた液をフィルム又は基板にスプ
レー、スピンナー、バーコーター、アプリケーター、グ
ラビヤコーター等を用いて塗布する。
この場合基板又はフィルム上にまず添加剤の層を設けそ
の上に式（１）の化合物の層を設けるか又はその逆の順
序によって式（１）の化合物又は添加剤からなる層を設
けることも出来る。
の上に式（１）の化合物の層を設けるか又はその逆の順
序によって式（１）の化合物又は添加剤からなる層を設
けることも出来る。
本発明の方法によって式（１ンの化合物が適用された場
合、その耐光堅牢度が飛躍的に向上するのでその耐光性
が不充分なため使用の制限されていた分野にも式（ＩＪ
の化合物が使われるようになり、文武（１）の化合物が
既に利用されている分野にあっても、その耐光堅牢度が
飛躍的に向上したので性能の一層の改善がはかられるよ
うになった。木取発明は殊に光記録媒体（元ディスク）
、赤外線フィルター、赤外線遮断メガネ等に利用した場
合すぐれた効果を現わす。
合、その耐光堅牢度が飛躍的に向上するのでその耐光性
が不充分なため使用の制限されていた分野にも式（ＩＪ
の化合物が使われるようになり、文武（１）の化合物が
既に利用されている分野にあっても、その耐光堅牢度が
飛躍的に向上したので性能の一層の改善がはかられるよ
うになった。木取発明は殊に光記録媒体（元ディスク）
、赤外線フィルター、赤外線遮断メガネ等に利用した場
合すぐれた効果を現わす。
「実施例」
実施例によって本発明を更に詳細に説明する。
実施例１゜
（１１−１６の化合物（赤外線吸収剤） Ｉｇ
（２１−１０の添加剤 １ｇ
ジクロロエタン １００ｆｆｌ
ｌからなる溶液をアクリル板上にスピンナーを用いてネ
２，００ Ｏｒ−ｐ、ｍ、でコートした。この試験片を
（イ）とする。比較例として上記組成から（２）−１０
の化合物を除いた組成の溶液を上記同様にコートしこの
試験片なお）とし、耐光試験を行った。
（２１−１０の添加剤 １ｇ
ジクロロエタン １００ｆｆｌ
ｌからなる溶液をアクリル板上にスピンナーを用いてネ
２，００ Ｏｒ−ｐ、ｍ、でコートした。この試験片を
（イ）とする。比較例として上記組成から（２）−１０
の化合物を除いた組成の溶液を上記同様にコートしこの
試験片なお）とし、耐光試験を行った。
耐光試験機はスガ試験機■製、Ｘｅｎｏｎ Ｆａｄｅ
Ｍｅｔｅｒ（型式ＦＡ−２５Ｘｆｆｉ、容量６ＫｖＡ）
を用いた。
Ｍｅｔｅｒ（型式ＦＡ−２５Ｘｆｆｉ、容量６ＫｖＡ）
を用いた。
露光前及び一定時間露光後のλｍａｘ、における吸光度
を測定し、残存率Ｈを下記の式により算出した。
を測定し、残存率Ｈを下記の式により算出した。
Ｈの値の太きいもの程耐光堅牢度が良好なことを示す。
結果は下表の通りであった。
露光時間
試験片 １０時間 ８２時間 １５４時間（Ａ
Ｊ １００．０ ９５．３ ８９．８
（Ｂ） ５６．５ ０ −以
上の試験結果から、試験片（５）の残存率が高く（１）
−１６の化合物の耐光堅牢度が大巾に改良されているこ
とがわかる。
Ｊ １００．０ ９５．３ ８９．８
（Ｂ） ５６．５ ０ −以
上の試験結果から、試験片（５）の残存率が高く（１）
−１６の化合物の耐光堅牢度が大巾に改良されているこ
とがわかる。
実施例２〜４゜
実施例１に於て添加剤を下記の表のように変え又露光時
間を１０時間のみとする以外は実施例１と同様な操作を
行って次の結果を得た（Ｈの値（％））。いずれも添加
剤の入っていない場合（実施例１の（Ｂ））に比べ大巾
に耐光堅牢度が改良されていた。
間を１０時間のみとする以外は実施例１と同様な操作を
行って次の結果を得た（Ｈの値（％））。いずれも添加
剤の入っていない場合（実施例１の（Ｂ））に比べ大巾
に耐光堅牢度が改良されていた。
実施例 添加剤 露光１０時間
２ （３Ｊ−３４ＩＮ、３
３ （３１−１１９０，５
４（３）−１４９１，９
実施例５〜３７゜
からなる溶液を実施例１と同様にコートし、試験片を作
製し、耐光試験を行いＨの値（％）を算出した◇結果を
以下に示す。（添加剤は前記した添加剤番号を示す） 実施例３８゜ からなる組成液を磁製ボールミル中で１６時間混合し、
１ｍｍ厚のポリエステルフィルム上へ気１２バーコータ
ーを用いて塗布し自然乾燥した。この試験片を（Ａ）（
赤外線フィルター）とする。比較例として上記組成から
（２１−１０の添加剤を除いた組成液を用いて前記と同
様にして試験片（Ｂｌを作製した。（ＡＪ（ＢＪについ
て実施例１と同様に耐光試５験を行いＨの値（％）を算
出した。結果を以下に示す。
製し、耐光試験を行いＨの値（％）を算出した◇結果を
以下に示す。（添加剤は前記した添加剤番号を示す） 実施例３８゜ からなる組成液を磁製ボールミル中で１６時間混合し、
１ｍｍ厚のポリエステルフィルム上へ気１２バーコータ
ーを用いて塗布し自然乾燥した。この試験片を（Ａ）（
赤外線フィルター）とする。比較例として上記組成から
（２１−１０の添加剤を除いた組成液を用いて前記と同
様にして試験片（Ｂｌを作製した。（ＡＪ（ＢＪについ
て実施例１と同様に耐光試５験を行いＨの値（％）を算
出した。結果を以下に示す。
実施例３９゜
の組成液を用いて実施例３８と同様にして添加剤の入っ
たものと入っていない試験片（５）、 （Ｂｌ （赤外
線フィルター）を作製し、付光試験を行った結果は以下
の通りであった。（Ｈｒ）値） 「発明の効果」 式（１）で示される化合物を使用するにあたり特定の添
加剤を併用することによって該化合−物の耐光堅牢度を
飛躍的に向上させることが出来た。
たものと入っていない試験片（５）、 （Ｂｌ （赤外
線フィルター）を作製し、付光試験を行った結果は以下
の通りであった。（Ｈｒ）値） 「発明の効果」 式（１）で示される化合物を使用するにあたり特定の添
加剤を併用することによって該化合−物の耐光堅牢度を
飛躍的に向上させることが出来た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 〔式（１）においてＲはアルキル、アルコシキアルキル
又はアルコキシアルコキシアルキルをＹは水素原子又は
塩素原子を、Ａは▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼（これらの式中Ｂは
水素原子、塩素原子又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼を表す）又は▲数式、化学式、表等があります▼を
それ ぞれ表し、Ｘは陰イオンを表す〕 で表される化合物に下記（２）、（３）又は（４）（ａ
）▲数式、化学式、表等があります▼（２） （ｂ）▲数式、化学式、表等があります▼（３） （ｃ）▲数式、化学式、表等があります▼（４） （式（２）、（３）及び（４）においてＲ′はアルキル
基を、Ｘ′は陰イオンを表す。又式（３）においてＥは
置換していてもよいフェニル基又はナフタレン基を表す
） の化合物から選ばれる化合物の１種又は２種以上を共存
せしめることを特徴とする式（１）で表される化合物の
耐光堅牢度向上法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60188516A JPS6250187A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 耐光堅牢度向上法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60188516A JPS6250187A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 耐光堅牢度向上法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6250187A true JPS6250187A (ja) | 1987-03-04 |
| JPH0465796B2 JPH0465796B2 (ja) | 1992-10-21 |
Family
ID=16225082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60188516A Granted JPS6250187A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 耐光堅牢度向上法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6250187A (ja) |
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- 1985-08-29 JP JP60188516A patent/JPS6250187A/ja active Granted
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Also Published As
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