JPS6230088A - 光メモリ媒体 - Google Patents
光メモリ媒体Info
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- JPS6230088A JPS6230088A JP60170034A JP17003485A JPS6230088A JP S6230088 A JPS6230088 A JP S6230088A JP 60170034 A JP60170034 A JP 60170034A JP 17003485 A JP17003485 A JP 17003485A JP S6230088 A JPS6230088 A JP S6230088A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/247—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes methine or polymethine dyes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーデ、特に半導体レーデによる書き込み、
再生記録がなされる光メモリ媒体に関する。
再生記録がなされる光メモリ媒体に関する。
一般に光ディスクは、基板上に設けた薄膜記録層に形成
された光学的に検出可能な小さな（例えば約ｉｔｔｍ）
ピットをらせん状又は円形のトラ、り形態にして高密度
情報を記憶することができる。この様なディスクに情報
を書込むには、レーデ感応層の表面に集束したレーデを
走査し、このレーデ光線が照射された表面のみにピット
を形成し、このピットをらせん状又は円形トラ、り等の
形態で形成する。この感応層はレーデエネルギーを吸収
して光学的に検出可能なビットを形成できる０例えばヒ
ートモート雫記録方式では記録層がレーデエネルギーを
吸収してその照射部分が局部的に加熱され融解蒸発ある
いは凝集等の物理的変化を起こし非照射部分との間に光
学的差異（ｏｘ反射率、吸収率等）を生じさせて読み取
ることによって検出される。この様な光記録媒体として
これまでアルミニウム蒸着Ｈｑなどの金属薄膜、ビスマ
ス薄膜、テルル系薄膜やカルコｒナイド系非晶質ガラス
膜などの無機物質が提案されている。
された光学的に検出可能な小さな（例えば約ｉｔｔｍ）
ピットをらせん状又は円形のトラ、り形態にして高密度
情報を記憶することができる。この様なディスクに情報
を書込むには、レーデ感応層の表面に集束したレーデを
走査し、このレーデ光線が照射された表面のみにピット
を形成し、このピットをらせん状又は円形トラ、り等の
形態で形成する。この感応層はレーデエネルギーを吸収
して光学的に検出可能なビットを形成できる０例えばヒ
ートモート雫記録方式では記録層がレーデエネルギーを
吸収してその照射部分が局部的に加熱され融解蒸発ある
いは凝集等の物理的変化を起こし非照射部分との間に光
学的差異（ｏｘ反射率、吸収率等）を生じさせて読み取
ることによって検出される。この様な光記録媒体として
これまでアルミニウム蒸着Ｈｑなどの金属薄膜、ビスマ
ス薄膜、テルル系薄膜やカルコｒナイド系非晶質ガラス
膜などの無機物質が提案されている。
これらは、蒸着法、スノ（ツタ法などによ邊薄膜が得ら
れ、近赤外域でも光吸収を有するため牛導体レーデが使
用できるという長所があるが、反面反射率が大きく熱伝
導率が大きく比熱も大きいという欠点がある。特に反射
率が大きいということは、レーデ光のエネルギーを有効
に利用できないので記録に要する光エネルギーが大きぐ
なシ、大出力レーデ光源を必要とする。その結果、記録
装置が大型かつ高価になると云う欠点がある。また、テ
ルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性を有するとい
う欠点がある。
れ、近赤外域でも光吸収を有するため牛導体レーデが使
用できるという長所があるが、反面反射率が大きく熱伝
導率が大きく比熱も大きいという欠点がある。特に反射
率が大きいということは、レーデ光のエネルギーを有効
に利用できないので記録に要する光エネルギーが大きぐ
なシ、大出力レーデ光源を必要とする。その結果、記録
装置が大型かつ高価になると云う欠点がある。また、テ
ルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性を有するとい
う欠点がある。
このような事から、近年吸収性の選択ができ、吸収率が
大きく熱伝導が小さく、生産性が良く且つ毒性が低すこ
とから色素薄膜を記録層として適用した光学メモリ媒体
の研究提案がなされて来ている０代表的色素としてはシ
アニン系色素（％開５８−１１２７９０ ）、アントラ
キノン系色素（特開５８−２２４４４８ ）、ナフトキ
ノン系色素（特開５８−２２４７９３ ）及びフタロシ
アニン系色素０％間６ｏ−４８３９ｆ５）等があシ、こ
れらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から成る化合物
をスピンナー塗布ディッピング法、プラズマ法文真空蒸
着法等によシ、基板上に形成した光記録媒体である。こ
の色素薄膜系は上記長所を有している反面、光劣化、熱
に対して不安定及び湿度劣化等があり、長期保存性及び
再生安定性（読み出し光に対する安定性）等に問題があ
ると従来言われておシ、こ ゛れらの問題について種々
の改良案が出されている。具体的には、記録層上に保護
膜を設けること（％開５５−２２９６１．５７−６６５
４１）、酸素による退色防止物質を混合すること（特開
５９−５５７９５）、長波長域に光吸収を有する金属錯
体を形成すること（特開５９−２１５８９２）等が提案
されている。しかしいまだ充分に問題を解決するにいた
っていない。
大きく熱伝導が小さく、生産性が良く且つ毒性が低すこ
とから色素薄膜を記録層として適用した光学メモリ媒体
の研究提案がなされて来ている０代表的色素としてはシ
アニン系色素（％開５８−１１２７９０ ）、アントラ
キノン系色素（特開５８−２２４４４８ ）、ナフトキ
ノン系色素（特開５８−２２４７９３ ）及びフタロシ
アニン系色素０％間６ｏ−４８３９ｆ５）等があシ、こ
れらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から成る化合物
をスピンナー塗布ディッピング法、プラズマ法文真空蒸
着法等によシ、基板上に形成した光記録媒体である。こ
の色素薄膜系は上記長所を有している反面、光劣化、熱
に対して不安定及び湿度劣化等があり、長期保存性及び
再生安定性（読み出し光に対する安定性）等に問題があ
ると従来言われておシ、こ ゛れらの問題について種々
の改良案が出されている。具体的には、記録層上に保護
膜を設けること（％開５５−２２９６１．５７−６６５
４１）、酸素による退色防止物質を混合すること（特開
５９−５５７９５）、長波長域に光吸収を有する金属錯
体を形成すること（特開５９−２１５８９２）等が提案
されている。しかしいまだ充分に問題を解決するにいた
っていない。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、記録感度が
高く、光熱に対して安定で優れた長期保存性を有し、更
に再生特性の優れた光メモリ媒体を提供しようとするも
のである。
高く、光熱に対して安定で優れた長期保存性を有し、更
に再生特性の優れた光メモリ媒体を提供しようとするも
のである。
本発明は、一般式
（但し、式中のＲは水素又は炭素数１〜６のアルキル基
、Ｘはへキサフルオロン酸イオン、ヘルキフルオロアン
チモン酸イオン、弗化硼素ｅイオン及び過塩素酸イオン
から選ばれる陰イオにて表わされる化合物と有機色素と
を主材とする有機被膜を備えたことを特徴とするもので
ある。
、Ｘはへキサフルオロン酸イオン、ヘルキフルオロアン
チモン酸イオン、弗化硼素ｅイオン及び過塩素酸イオン
から選ばれる陰イオにて表わされる化合物と有機色素と
を主材とする有機被膜を備えたことを特徴とするもので
ある。
上記一般式にて表わされる化合物としては、例えば下記
式（Ｉ）〜（至）に示すもの等を挙げることができる。
式（Ｉ）〜（至）に示すもの等を挙げることができる。
−−官 ≧ ８
なお、前記（１）〜■の最大吸収波長は夫々１３１０ｍ
μ、１４４０ｎｌ 、１４２０ｍμ、１０５０ｍμであ
る。こうした化合物は、日本化薬（株）のＩＲＱ−０２
２、ＩＲＱ−０３３等として市販されており、これらは
公知の方法によシ合成される。
μ、１４４０ｎｌ 、１４２０ｍμ、１０５０ｍμであ
る。こうした化合物は、日本化薬（株）のＩＲＱ−０２
２、ＩＲＱ−０３３等として市販されており、これらは
公知の方法によシ合成される。
上記有機色素は最大吸収波長が６５０〜９ Ｑ Ｏｎｒ
ｎに有するものが好適で、特に８００ ｎｍにおいて吸
光度が０．４以上のものが望ましい。こうした有機色素
としては、例えば下記構造式（４）〜Φ）に示すもの等
を挙げることができる。
ｎに有するものが好適で、特に８００ ｎｍにおいて吸
光度が０．４以上のものが望ましい。こうした有機色素
としては、例えば下記構造式（４）〜Φ）に示すもの等
を挙げることができる。
＾ ＾
＾３ ８ （
、） Ｑ閃 ミ 閃 曳○ 上記（Ａ）〜（Ｄ）式のベンゼン環、ナフタレン環、フ
ェナントレン環を縮合した有機色素を用いてもよい。こ
の他、インドール環、チアゾール環、オキサゾール環、
トレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン環等を有す
るシアニン、メロシアニン系色素（例えば日本化薬工業
社製；ＩＲ−８２０）、アンスラキノン系色素（例えば
日本化薬工業社製； ＩＲ−８００，ＩＲ−８４０）、
トリフェニルメタン系色素、フタロシアニン系色素、ナ
フタロシアニン系色素、アゾ系色素等を用いることがで
きる。これらの中で特に効果の大きい色素はシアニン系
色素、メタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、
トリフェニルメタン系色素である。
＾３ ８ （
、） Ｑ閃 ミ 閃 曳○ 上記（Ａ）〜（Ｄ）式のベンゼン環、ナフタレン環、フ
ェナントレン環を縮合した有機色素を用いてもよい。こ
の他、インドール環、チアゾール環、オキサゾール環、
トレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン環等を有す
るシアニン、メロシアニン系色素（例えば日本化薬工業
社製；ＩＲ−８２０）、アンスラキノン系色素（例えば
日本化薬工業社製； ＩＲ−８００，ＩＲ−８４０）、
トリフェニルメタン系色素、フタロシアニン系色素、ナ
フタロシアニン系色素、アゾ系色素等を用いることがで
きる。これらの中で特に効果の大きい色素はシアニン系
色素、メタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、
トリフェニルメタン系色素である。
上記一般式の化合物と有機色素を主材とする有機薄膜は
、それらの混合物からなるものと、それらを含む薄膜全
積層したものとを挙げることができる。混合物によシ有
機薄膜を形成する場合には、一般式の化合物を有機色素
に対して３０Ｌ４の範囲で混合した混合物を用いること
が望ましい。この理由は、化合物の混合量を０．０１Ｎ
量チ未満にすると、酸化劣化の防止効果を十分に発揮で
きず、かといってその混合量が１００重ｔチを越えると
、感度低下等を招く恐れがある。
、それらの混合物からなるものと、それらを含む薄膜全
積層したものとを挙げることができる。混合物によシ有
機薄膜を形成する場合には、一般式の化合物を有機色素
に対して３０Ｌ４の範囲で混合した混合物を用いること
が望ましい。この理由は、化合物の混合量を０．０１Ｎ
量チ未満にすると、酸化劣化の防止効果を十分に発揮で
きず、かといってその混合量が１００重ｔチを越えると
、感度低下等を招く恐れがある。
上記有機色素の薄膜はスピンナー法、ディン。
ピング法、蒸着法又はグラダマ法等により形成される。
一般式の化合物の薄膜又はその化合物と有機色素の混合
薄膜は、スピンナー法、ディッピング法、ロールコータ
法、グラビアコート法等によシ形成される。膜厚につい
ては前記化合物、有機色素の単独薄膜の場合、５０〜１
０００Ｘ程度、混合膜の場合、有機色素の種類によシ異
なるが１００Ｘ〜１．０μｍ、好ましくは２００Ｘ〜３
０００Ｘにすることが望ましい。前記成膜に際しては、
接着性、成膜性等を改善する目的でポリマーを添加する
ことが望ましい。このポリマーとしては塩化ビニル樹脂
、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチル系樹
脂、ニトロセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂、
エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂
、ポリブチラール系樹脂等の単体もしくは共重合体等が
用いられる。
薄膜は、スピンナー法、ディッピング法、ロールコータ
法、グラビアコート法等によシ形成される。膜厚につい
ては前記化合物、有機色素の単独薄膜の場合、５０〜１
０００Ｘ程度、混合膜の場合、有機色素の種類によシ異
なるが１００Ｘ〜１．０μｍ、好ましくは２００Ｘ〜３
０００Ｘにすることが望ましい。前記成膜に際しては、
接着性、成膜性等を改善する目的でポリマーを添加する
ことが望ましい。このポリマーとしては塩化ビニル樹脂
、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチル系樹
脂、ニトロセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂、
エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂
、ポリブチラール系樹脂等の単体もしくは共重合体等が
用いられる。
上記有機薄膜が成膜される基板としては、例えばガラス
、金属、或いはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
オレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ポリアミド系樹脂等の基板、フィルムを用いるこ
とができる。
、金属、或いはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
オレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ポリアミド系樹脂等の基板、フィルムを用いるこ
とができる。
なお、上述した有機薄膜の他に、必要に応じて下地層、
中間層或いは有機薄膜への傷、ホコリからの保護、水分
やがスによる劣化防止のための保護膜を設けてもよい。
中間層或いは有機薄膜への傷、ホコリからの保護、水分
やがスによる劣化防止のための保護膜を設けてもよい。
次に、本発明の光メモリ媒体の構造について図面を参照
して説明する。
して説明する。
第１図は光メモリ媒体の基本構成を示すもので、同図（
ト）は基板１上に一般式の化合物と有機 ゛色素を混合
し之有機薄膜（記録層）２を設けた構造、同図（Ｂ）は
基板１上に有機色素層３及び化合物層４を順次積層し几
構造を示す。書き込み再生時の集束レーザ光５は、基板
１側、記録層側のいずれでもよい。
ト）は基板１上に一般式の化合物と有機 ゛色素を混合
し之有機薄膜（記録層）２を設けた構造、同図（Ｂ）は
基板１上に有機色素層３及び化合物層４を順次積層し几
構造を示す。書き込み再生時の集束レーザ光５は、基板
１側、記録層側のいずれでもよい。
第２図は基板１と記録層２の間に中間層６を、記録層２
上に保護層７を夫々設は九構造のものである。
上に保護層７を夫々設は九構造のものである。
第３図は、同一構成の２枚の媒体を記録層２側が互に対
向するようにスペーサ８を介して配置させたものである
。なお、第３図中の９はエアーギャップ、１０はスピン
ドル穴を示す。
向するようにスペーサ８を介して配置させたものである
。なお、第３図中の９はエアーギャップ、１０はスピン
ドル穴を示す。
第４図は、化合物と有機色素を主成分とする記録Ｊ＃２
がポリマーバインダ等を含み、記録層の反射率が不足す
る場合に反射層を設けた例であり、同図（Ａ）は基板１
と記録層２０間に反射膜１１を、同図（Ｂ）は記録層２
上に反射層１１を、夫々設けたものである。こうした構
造の光メモリ媒体では集束レーザ光５の照射は基板１側
、記録層２（又は反射層９）側いずれでもよいが、第４
図（Ａ）の場合は記録）ｆｊｉ ２１１１１、第４図（
Ｂ）の場合は基板１側から集束レーザ光５を入射させる
ことが、記録感度の点で望ましい。
がポリマーバインダ等を含み、記録層の反射率が不足す
る場合に反射層を設けた例であり、同図（Ａ）は基板１
と記録層２０間に反射膜１１を、同図（Ｂ）は記録層２
上に反射層１１を、夫々設けたものである。こうした構
造の光メモリ媒体では集束レーザ光５の照射は基板１側
、記録層２（又は反射層９）側いずれでもよいが、第４
図（Ａ）の場合は記録）ｆｊｉ ２１１１１、第４図（
Ｂ）の場合は基板１側から集束レーザ光５を入射させる
ことが、記録感度の点で望ましい。
以上のような構成のメモリ媒体において、有機色素は赤
外光乃至近赤外光等によって励起された時、エネルギー
移動によシー重項酸素が生じ、該−１項酸素が有機色素
と酸化反応するが、又は熱によって分解され、酸化によ
シ劣化が起こるといわれている。こうした酸化劣化に対
して一般式の化合物の添加もしくは同化合物層の積層に
よシ熱酸化劣化を防止できる。これは、化合物が色素よ
シ長波長域に最大吸収を有し、かつ熱線を吸収して内部
に貯える機能を有すことに起因するものと考えられる。
外光乃至近赤外光等によって励起された時、エネルギー
移動によシー重項酸素が生じ、該−１項酸素が有機色素
と酸化反応するが、又は熱によって分解され、酸化によ
シ劣化が起こるといわれている。こうした酸化劣化に対
して一般式の化合物の添加もしくは同化合物層の積層に
よシ熱酸化劣化を防止できる。これは、化合物が色素よ
シ長波長域に最大吸収を有し、かつ熱線を吸収して内部
に貯える機能を有すことに起因するものと考えられる。
特に、有機色素と化合物の混合物から有膜薄膜を形成す
る場合には、それらの相溶性が優れていること、化合物
が有機色素に対するマ） ＩＪソック果を示すことによ
って、熱、酸素の劣化を防止できるものと考えられる。
る場合には、それらの相溶性が優れていること、化合物
が有機色素に対するマ） ＩＪソック果を示すことによ
って、熱、酸素の劣化を防止できるものと考えられる。
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例１
前述した構造式（４）の有機色素に前述した構造式（２
）の化合物を５重量係添加し、これをジクロロメタンに
溶解して１重ｉ％溶液とした後、この溶液をスピンナー
法によ！７ポリメチルメタクリレート基板上に塗布し、
乾燥して厚さ７００Ｘの混合薄膜（記録層）を形成して
光メモリ媒体を製造した。
）の化合物を５重量係添加し、これをジクロロメタンに
溶解して１重ｉ％溶液とした後、この溶液をスピンナー
法によ！７ポリメチルメタクリレート基板上に塗布し、
乾燥して厚さ７００Ｘの混合薄膜（記録層）を形成して
光メモリ媒体を製造した。
実施例２
ポリメチルメタクリレート基板上にアントラキノン系色
素（日本化薬工業（株）ｆｆ ： ＩＲ−８００）を蒸
着して厚さ８００Ｘの有機色素層を形成した後、この有
機色素層上に前述した構造式（ＩＶ）の化合物のメタノ
ール溶液をディッピング法により成膜して化合物Ｊ−を
形成し、光メモリ媒体を裏道した。
素（日本化薬工業（株）ｆｆ ： ＩＲ−８００）を蒸
着して厚さ８００Ｘの有機色素層を形成した後、この有
機色素層上に前述した構造式（ＩＶ）の化合物のメタノ
ール溶液をディッピング法により成膜して化合物Ｊ−を
形成し、光メモリ媒体を裏道した。
比較例１
前述した構造式囚のみからなる記録層をポリメチルメタ
クリレート基板上に形成して光メモリ媒体を製造した。
クリレート基板上に形成して光メモリ媒体を製造した。
比較例２
アントラキノン系色素（日本化薬工業（株）！！：ＩＲ
−８００ ）のみをポリメタクリレート基板上に蒸着し
て光メモリ媒体を製造し友。
−８００ ）のみをポリメタクリレート基板上に蒸着し
て光メモリ媒体を製造し友。
しかして、本実施例１，２及び比較例１，２の光メモリ
媒体について波長８３０ ｎｍの半導体レーザ光を直径
１．０μｍスポットに集光し、線速度３ｒｖ／ｍｅｃで
基板側から書き込み・！ワーフ、０ｍｗ７ｃｍζ再生・
やワー０．４ｍｗ／ｃｍ”の条件で書き込み再生を行な
い、初期Ｃ／Ｎ、再生時のＣ／Ｎを求めた。また、各メ
モリ媒体をサンシャインフェードメータを用いて４０℃
で１００時間時間比後のＣ／Ｎ値を求めて耐光性を評価
した。更に、各メモリ媒体を６０℃×９０％で７００時
間放置した後のＣ／′Ｎ値を求めて耐湿・湿度を評価し
た。更に、耐光性、耐湿・湿度及び再生試験については
、波長８００ ｎｍの光における初期吸光度に対する変
化率を調べた。これらの結果を下記表に示し ゛た。
媒体について波長８３０ ｎｍの半導体レーザ光を直径
１．０μｍスポットに集光し、線速度３ｒｖ／ｍｅｃで
基板側から書き込み・！ワーフ、０ｍｗ７ｃｍζ再生・
やワー０．４ｍｗ／ｃｍ”の条件で書き込み再生を行な
い、初期Ｃ／Ｎ、再生時のＣ／Ｎを求めた。また、各メ
モリ媒体をサンシャインフェードメータを用いて４０℃
で１００時間時間比後のＣ／Ｎ値を求めて耐光性を評価
した。更に、各メモリ媒体を６０℃×９０％で７００時
間放置した後のＣ／′Ｎ値を求めて耐湿・湿度を評価し
た。更に、耐光性、耐湿・湿度及び再生試験については
、波長８００ ｎｍの光における初期吸光度に対する変
化率を調べた。これらの結果を下記表に示し ゛た。
以上詳述した如く、本発明によれば有機色素の特長であ
る高い感度、記録密度及びＣ／Ｎを維持し、光、熱に対
する安定性に優れ、再生劣化の少ない高性能の光メモリ
媒体を提供できる。
る高い感度、記録密度及びＣ／Ｎを維持し、光、熱に対
する安定性に優れ、再生劣化の少ない高性能の光メモリ
媒体を提供できる。
第１図〜第４図は、夫々本発明の光メモリ媒体を示す概
略図である。 １・・・基板、２・・・記録層、３・・・有機色素層、
４・・・化合物層、５・・・レーザ光、６・・・中間層
、７・・・保護層、１１・・・反射層。 出願人代理人 弁理士 坪 井 淳ト５ １〜５ 封５１１２＝１ 第２ 図 第３図 第４図
略図である。 １・・・基板、２・・・記録層、３・・・有機色素層、
４・・・化合物層、５・・・レーザ光、６・・・中間層
、７・・・保護層、１１・・・反射層。 出願人代理人 弁理士 坪 井 淳ト５ １〜５ 封５１１２＝１ 第２ 図 第３図 第４図
Claims (3)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、式中のＲは水素又は炭素数１〜６のアルキル基
、Ｘはヘキサフルオロン酸イオン、ヘルキフルオロアン
チモン酸イオン、弗化硼素酸イオン及び過塩素酸イオン
から選ばれる陰イオン、ｍは０又は１、２の整数、Ａは
▲数式、化学式、表等があります▼ ｎ＝１又は２、前記ｍ＝２の時▲数式、化学式、表等が
あります▼を示す）にて表わされる化合物と有機色素と
を主材とする有機被膜を備えたことを特徴とする光メモ
リ媒体。 - （２）有機被膜が一般式にて表わされる化合物と有機色
素を主成分とする混合物からなる単層膜であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の光メモリ媒体。 - （３）有機被膜が一般式にて表わされる化合物膜と有機
色素を含む膜とからなる積層膜であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の光メモリ媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60170034A JPS6230088A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 光メモリ媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60170034A JPS6230088A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 光メモリ媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230088A true JPS6230088A (ja) | 1987-02-09 |
Family
ID=15897380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60170034A Pending JPS6230088A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 光メモリ媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6230088A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6250187A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-04 | Nippon Kayaku Co Ltd | 耐光堅牢度向上法 |
| JPH01113482A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-02 | Canon Inc | 光記録媒体 |
| JPH03203691A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-05 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
| JPH03203690A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-05 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236131A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-22 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
-
1985
- 1985-08-01 JP JP60170034A patent/JPS6230088A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236131A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-22 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6250187A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-04 | Nippon Kayaku Co Ltd | 耐光堅牢度向上法 |
| JPH0465796B2 (ja) * | 1985-08-29 | 1992-10-21 | Nippon Kayaku Kk | |
| JPH01113482A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-02 | Canon Inc | 光記録媒体 |
| JPH03203691A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-05 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
| JPH03203690A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-05 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
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