JPS6299192A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPS6299192A JPS6299192A JP60239016A JP23901685A JPS6299192A JP S6299192 A JPS6299192 A JP S6299192A JP 60239016 A JP60239016 A JP 60239016A JP 23901685 A JP23901685 A JP 23901685A JP S6299192 A JPS6299192 A JP S6299192A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ、特に半導体レーザによる書き込み、
再生記録がなされる光メモリ媒体に関する。
再生記録がなされる光メモリ媒体に関する。
一般に光ディスクは、基板上に設けた薄膜記録層に形成
された光学的に検出可能な小さな（例えば約１μｍ）ピ
ッ）１−らせん状又は円形のトラック形態にして高密度
情報を記憶することができる。この様なディスクに情報
を書込むには、レーデ感応層の表面に集束したレーザを
走査し、このレーデ光線が照射された表面のみにビラト
ラ形成し、このピットをらせん状又は円形トラック等の
形態で形成する。この感応層はレーザエネルギーを吸収
して光学的に検出可能なピッ）を形成できる。例えばヒ
ートモード記録方式では記録層がレーザエネルギーを吸
収してその照射部分が局部的に加熱され融解蒸発あるい
は凝集等の物理的変化を起こし非照射部分との間に光学
的差異（ｅＸ反射率、吸収率等）を生じさせて読み取る
こと罠よって検出される。
された光学的に検出可能な小さな（例えば約１μｍ）ピ
ッ）１−らせん状又は円形のトラック形態にして高密度
情報を記憶することができる。この様なディスクに情報
を書込むには、レーデ感応層の表面に集束したレーザを
走査し、このレーデ光線が照射された表面のみにビラト
ラ形成し、このピットをらせん状又は円形トラック等の
形態で形成する。この感応層はレーザエネルギーを吸収
して光学的に検出可能なピッ）を形成できる。例えばヒ
ートモード記録方式では記録層がレーザエネルギーを吸
収してその照射部分が局部的に加熱され融解蒸発あるい
は凝集等の物理的変化を起こし非照射部分との間に光学
的差異（ｅＸ反射率、吸収率等）を生じさせて読み取る
こと罠よって検出される。
この様な光記録媒体としてこれまでアルミニウム蒸着膜
などの金属薄膜、ビスマス薄膜、テルル系薄膜やカルコ
ゲナイド系非晶質ガラス膜などの無機物質が提案されて
いる。
などの金属薄膜、ビスマス薄膜、テルル系薄膜やカルコ
ゲナイド系非晶質ガラス膜などの無機物質が提案されて
いる。
これらは、蒸着法、ス・ぐツタ法などにより薄膜が得ら
れ、近赤外域でも光吸収を有するため半導体レーデが使
用できるという長所があるが、反面反射率が大きく熱伝
導率が大きく比熱も大きいという欠点がある。特に反射
率が大きいということは、レーデ光のエネルギーを有効
に利用できないので記録に要する光エネルギーが大きく
なり、大出力レーザ光源を必要とする。その結果、記録
装装置が大型かつ高価になると云う欠点がある。また、
テルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性を有すると
いう欠点がある。
れ、近赤外域でも光吸収を有するため半導体レーデが使
用できるという長所があるが、反面反射率が大きく熱伝
導率が大きく比熱も大きいという欠点がある。特に反射
率が大きいということは、レーデ光のエネルギーを有効
に利用できないので記録に要する光エネルギーが大きく
なり、大出力レーザ光源を必要とする。その結果、記録
装装置が大型かつ高価になると云う欠点がある。また、
テルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性を有すると
いう欠点がある。
このような事から、近年吸収性の選択ができ、吸収率が
大きく熱伝導が小さく、生産性が良く且つ毒性が低いこ
とから色素薄膜を記録層として適用した光学メモリ媒体
の研究提案がなされて来ている。代表的色素としてはシ
アニン系色素（特開昭５８−１１２７９０） 、アント
ラキノン系色素（％開昭５８−２２４４４８ ）、ナフ
トキノン系色素（％開昭５８−２２４７９３ ）及びフ
タロシアニン系色素（特開昭６Ｏ−４８３９６）等があ
り、これらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から成る
化合物をスピンナー塗布ディッピング法、グラダマ法又
は真空蒸着法等により、基板上に形成した光記録媒体で
ある。この色素薄膜系は上記長所を有し、Ｉ￥ｆにシア
ニン系色素は構造的に近赤外に吸収波長をもたせること
が可能であり、しかも溶剤に対する溶解性及び融点が低
い等の長所を有することから多く検討がなされている。
大きく熱伝導が小さく、生産性が良く且つ毒性が低いこ
とから色素薄膜を記録層として適用した光学メモリ媒体
の研究提案がなされて来ている。代表的色素としてはシ
アニン系色素（特開昭５８−１１２７９０） 、アント
ラキノン系色素（％開昭５８−２２４４４８ ）、ナフ
トキノン系色素（％開昭５８−２２４７９３ ）及びフ
タロシアニン系色素（特開昭６Ｏ−４８３９６）等があ
り、これらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から成る
化合物をスピンナー塗布ディッピング法、グラダマ法又
は真空蒸着法等により、基板上に形成した光記録媒体で
ある。この色素薄膜系は上記長所を有し、Ｉ￥ｆにシア
ニン系色素は構造的に近赤外に吸収波長をもたせること
が可能であり、しかも溶剤に対する溶解性及び融点が低
い等の長所を有することから多く検討がなされている。
反面、光劣化、熱に対して不安定及び湿度劣化等があり
、長期保存性及び再稙安定性（読み出し光に対する安定
性）等に問題があると従来言われており、これらの問題
について種々の改良案が出されている。具体的には、記
録層上に保護膜を設けること（特開昭５５−２２９６１
．５７−６６５４１ ）、酸素による退色防止物質を混
合すること（特開昭５９−５５７９５）、長波長域に光
吸収を有する金属錯体を形成すること（特開昭５９−２
１５８９２）等が提案されている。しかしながら、これ
らの提案によっても問題を十分に解決しておらず、更に
添加剤による成膜性や反射率、吸収率の低下という問題
が生じる。
、長期保存性及び再稙安定性（読み出し光に対する安定
性）等に問題があると従来言われており、これらの問題
について種々の改良案が出されている。具体的には、記
録層上に保護膜を設けること（特開昭５５−２２９６１
．５７−６６５４１ ）、酸素による退色防止物質を混
合すること（特開昭５９−５５７９５）、長波長域に光
吸収を有する金属錯体を形成すること（特開昭５９−２
１５８９２）等が提案されている。しかしながら、これ
らの提案によっても問題を十分に解決しておらず、更に
添加剤による成膜性や反射率、吸収率の低下という問題
が生じる。
こうしたことから、記録密度及び反射性の点より下記一
般式に示すシアニン系色素を用いた塗布型記録媒体が注
目されている。
般式に示すシアニン系色素を用いた塗布型記録媒体が注
目されている。
〔但し、式中のＡは０．Ｓ、Ｓｅ、Ｃ，Ｘはハロダン陰
イオ７ 、 ＢＦ４− 、 Ｃｚ０４−１Ｒば７ ／ｌ
／ ＊ ルミ示す〕 しかしながら、上記一般式で表わされるシアニン系色素
についても成膜性、熱光安定性に欠けるという本質的な
問題を有する。成膜性については、メチ／連鎖数（、）
の増加により溶剤溶解性が低下すること、両端の複素環
の種類及び置換基の種類により溶解性が変わ′ることか
知られている。熱光安定性については、メチン連鎖数が
増加する程、熱、光に対して不安定になり、酸化劣化も
起こり易くなること、複素環の種類により熱、光に対す
る安定性が異なることが知られている。
イオ７ 、 ＢＦ４− 、 Ｃｚ０４−１Ｒば７ ／ｌ
／ ＊ ルミ示す〕 しかしながら、上記一般式で表わされるシアニン系色素
についても成膜性、熱光安定性に欠けるという本質的な
問題を有する。成膜性については、メチ／連鎖数（、）
の増加により溶剤溶解性が低下すること、両端の複素環
の種類及び置換基の種類により溶解性が変わ′ることか
知られている。熱光安定性については、メチン連鎖数が
増加する程、熱、光に対して不安定になり、酸化劣化も
起こり易くなること、複素環の種類により熱、光に対す
る安定性が異なることが知られている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、高い反射率
と高い記録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を
安定して行なうことが可能で、かつ再生時の光や日光、
湿度に対する安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提
供しようとするものである。
と高い記録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を
安定して行なうことが可能で、かつ再生時の光や日光、
湿度に対する安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提
供しようとするものである。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、
一般式 （但し、式中のＲ１は炭素数１〜６のアルキル基、２Ｒ
２ り）、Ｘはノ＃−１０レート、フルオロボレート、アイ
オダイド、クロライド、ブロマイド、ｐ−）ルエンスル
フォネートから選ばれる陰イオン、Ｙは−Ｒ３０Ｈ１−
Ｒ，Ｃ０ＯＨ、−Ｒ３ＣＯ）Ｉ 。
一般式 （但し、式中のＲ１は炭素数１〜６のアルキル基、２Ｒ
２ り）、Ｘはノ＃−１０レート、フルオロボレート、アイ
オダイド、クロライド、ブロマイド、ｐ−）ルエンスル
フォネートから選ばれる陰イオン、Ｙは−Ｒ３０Ｈ１−
Ｒ，Ｃ０ＯＨ、−Ｒ３ＣＯ）Ｉ 。
（Ｒ３；水素、炭素数１〜２０のアルキル基、好ましく
は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ４；炭素数１〜１８
のアルキル基、好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、
ｐｈ；フェニル基）、２はインドールを構成するベンゼ
ン環に付加されるベンゼン環、ｎは０又は１．２の整数
を示す）にて表わされる有機色素を含む記録層を有する
ことを特徴とするものである。
は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ４；炭素数１〜１８
のアルキル基、好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、
ｐｈ；フェニル基）、２はインドールを構成するベンゼ
ン環に付加されるベンゼン環、ｎは０又は１．２の整数
を示す）にて表わされる有機色素を含む記録層を有する
ことを特徴とするものである。
本発明に用いる有機色素は、メチン連鎖の両２Ｒ２
環、ペンタ環を２カ所導入することにより、特開昭５９
−８５７９１号に開示された のようなメチン連鎖のみから構成されたシアニン色素に
比べて耐熱性、耐光性が向上し、より耐保存性、男性劣
化特性の高い記録層を形成できる。前記シクロ環又はペ
ンタ環に導入されるＲ２の置換基は既述のとおりである
が、特に塩素、臭素、炭素数１〜６のアルキル基が好ま
しい。
−８５７９１号に開示された のようなメチン連鎖のみから構成されたシアニン色素に
比べて耐熱性、耐光性が向上し、より耐保存性、男性劣
化特性の高い記録層を形成できる。前記シクロ環又はペ
ンタ環に導入されるＲ２の置換基は既述のとおりである
が、特に塩素、臭素、炭素数１〜６のアルキル基が好ま
しい。
また、本発明に用いる有機色素はインドールを構成する
ベンゼン環にベンゼンｍｔ付加させて疎水性金高めるこ
とにより、特開昭５９−１５０７９５、特開昭５８−１
９４５９５に開示された、例えば ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ３Ｃ１（。
ベンゼン環にベンゼンｍｔ付加させて疎水性金高めるこ
とにより、特開昭５９−１５０７９５、特開昭５８−１
９４５９５に開示された、例えば ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ３Ｃ１（。
のよう表インドールを構成するベンゼン環が未置換もし
くはアルキル、ハロゲノで置換された色素に比べて耐保
存性の要素の一つである耐湿性を向上できる。
くはアルキル、ハロゲノで置換された色素に比べて耐保
存性の要素の一つである耐湿性を向上できる。
更に１本発明に用いる有機色素はインドールに置換基Ｙ
が導入された構造であるが、Ｙとし熱性の向上がなされ
、Ｙとして−Ｒ３０Ｈ１−Ｒ３ＣＯＯＨ１−Ｒ，ＣＯＨ
’に導入すると溶剤溶解性、成膜性の向上がなされる。
が導入された構造であるが、Ｙとし熱性の向上がなされ
、Ｙとして−Ｒ３０Ｈ１−Ｒ３ＣＯＯＨ１−Ｒ，ＣＯＨ
’に導入すると溶剤溶解性、成膜性の向上がなされる。
こうしたことから、置換基Ｙは記録媒体の構成、目的に
より適宜選択すればよい。
より適宜選択すればよい。
上記一般式にて表わされる色素を具体的に例示すると、
下記構造式（１）〜０Ｉに示すもの等を挙げることがで
きる。
下記構造式（１）〜０Ｉに示すもの等を挙げることがで
きる。
一−−ｒ５）
一一−（７）
−−−Ｃ’ｌ’）
−−−（ｑ）
上記一般式で表わされる色素を含む記録層は、該色Ｘｔ
−酢酸エチル、トルエン、アセトン、メチルイソブチル
ケトン、塩化メチレン、アルコール等の溶剤に溶解して
スピンナー法、ディッピンク法、ドクターブレード法、
ローｋ ：７−タ法等により基板上に薄膜を形成するこ
とにより得られる。この記録層の厚さは、薄い程、記録
感度が高くなるが、反射率が膜厚に依存するために、１
０ ｎｍへ１０００ ｎｍ、好ましくは３０ ｎｍ〜５
００ｎｍの範囲にすることが適切である。また、基板と
してはガラス、プラスチック、金、１等の一般に用いら
れるものが使用可能であるが。
−酢酸エチル、トルエン、アセトン、メチルイソブチル
ケトン、塩化メチレン、アルコール等の溶剤に溶解して
スピンナー法、ディッピンク法、ドクターブレード法、
ローｋ ：７−タ法等により基板上に薄膜を形成するこ
とにより得られる。この記録層の厚さは、薄い程、記録
感度が高くなるが、反射率が膜厚に依存するために、１
０ ｎｍへ１０００ ｎｍ、好ましくは３０ ｎｍ〜５
００ｎｍの範囲にすることが適切である。また、基板と
してはガラス、プラスチック、金、１等の一般に用いら
れるものが使用可能であるが。
アクリル樹脂、ＩリカーＭネ・−ト、ポリオレフィン、
４リエステル、ポリイミドのフィルムでもよい。
４リエステル、ポリイミドのフィルムでもよい。
記録層は上述した方法により形成される。更に色素にバ
インダ樹脂を１〜４０ｉｔ１％、好ましくは３〜２０重
量係添加することにより、膜形成することができ、成膜
性、耐熱性、耐湿性を向上させることができる。ここに
用いるバインダ樹脂としては、例えばアクリル、エステ
ル、ニトロセルロース、エチレン、フロピレン、カーＭ
ネート、エチレンテレフタレート、エポキシ、ブチラー
ル、塩化ビニル、酢酸ビニル、スチレン等の単独重合体
、これらの共重合体等を挙けることができる。
インダ樹脂を１〜４０ｉｔ１％、好ましくは３〜２０重
量係添加することにより、膜形成することができ、成膜
性、耐熱性、耐湿性を向上させることができる。ここに
用いるバインダ樹脂としては、例えばアクリル、エステ
ル、ニトロセルロース、エチレン、フロピレン、カーＭ
ネート、エチレンテレフタレート、エポキシ、ブチラー
ル、塩化ビニル、酢酸ビニル、スチレン等の単独重合体
、これらの共重合体等を挙けることができる。
また、上記バインダ樹脂の代りに他の色素を混入させる
か、又は色素層を重ねた多層構造にすることによって成
膜性の向上や耐熱、耐湿。
か、又は色素層を重ねた多層構造にすることによって成
膜性の向上や耐熱、耐湿。
耐光性を向上させることができ、ひいては高密度、高感
度で再生劣化等のない耐久性の優れた光情報記録媒体を
得ることができる。この場合、他の色Ｘ’ｅ積層して耐
熱性、耐湿性、耐光性を向上させることも可能である。
度で再生劣化等のない耐久性の優れた光情報記録媒体を
得ることができる。この場合、他の色Ｘ’ｅ積層して耐
熱性、耐湿性、耐光性を向上させることも可能である。
ここに用いる色素としては、例えばシアニン色素、メロ
シアニン色素、アントラキノン色素、トリフェニルメタ
ン色素、キサ／テン系色素、フタロシアニン系色素等を
挙げることができる。
シアニン色素、アントラキノン色素、トリフェニルメタ
ン色素、キサ／テン系色素、フタロシアニン系色素等を
挙げることができる。
例えば下記一般式（Ａ） 、 （Ｂ）にて表わされるア
ミン化合物や下記一般式（Ｃ）にて表わされるジチオレ
ート金属錯体を添加し、光、酸素、水分による記録層の
光学特性の劣化を防止することも可能である。
ミン化合物や下記一般式（Ｃ）にて表わされるジチオレ
ート金属錯体を添加し、光、酸素、水分による記録層の
光学特性の劣化を防止することも可能である。
但し、式中のＲ１，Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５は炭素数１〜で、
Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す。
Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す。
・・・（Ｂ）
但し、式中のＲは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル
基、Ｘは過塩素酸イオン、弗化硼素酸イオン、ヘキサフ
ルオロ酸イオン等の陰イオン、ｍは０又は１．２の整数
、Ａは前記ｍ＝ｏ 、 １は、例えば市販されているＩ
ＲＱ−００２、ＩＲＱ−００３（いずれも日本化薬■製
商品名）等がある。
基、Ｘは過塩素酸イオン、弗化硼素酸イオン、ヘキサフ
ルオロ酸イオン等の陰イオン、ｍは０又は１．２の整数
、Ａは前記ｍ＝ｏ 、 １は、例えば市販されているＩ
ＲＱ−００２、ＩＲＱ−００３（いずれも日本化薬■製
商品名）等がある。
但し、式中のＲ１−Ｒ４はアルキル基又はフェニル基％
Ｘ、Ｙは水素、アルキル基、ハロダン基、ＭＶｉＮｉ
、 Ｃｏ 、 Ｆｅ 、 Ｃｒ等の金属を示すものであ
る。かかる金属錯体としては、例えばＰＡ１００Ｉ〜１
００６ （いずれも三井東圧ファイン■製商品名）、Ｎ
−ビス（０−キシレン−４，５ジオール）テトラ（ｔ−
ブチル）アンモニム塩等がある。
Ｘ、Ｙは水素、アルキル基、ハロダン基、ＭＶｉＮｉ
、 Ｃｏ 、 Ｆｅ 、 Ｃｒ等の金属を示すものであ
る。かかる金属錯体としては、例えばＰＡ１００Ｉ〜１
００６ （いずれも三井東圧ファイン■製商品名）、Ｎ
−ビス（０−キシレン−４，５ジオール）テトラ（ｔ−
ブチル）アンモニム塩等がある。
なお、上記一般式の色素を含む記録層の他に必要に応じ
て中間層、保護層を設けることができる。中間層は、接
着性の向上と共に酸素、水分からの保護の目的で設けら
れ、主に樹脂又は無機化合物から形成される。樹脂とし
ては、例、ｔ ハ［化ビニル、酢酸ビニル、アクリル、
エステル、ニトロセルロース、カー＆＄−）、工４キシ
、エチレン、プロピレン、ブチラール等の単独もしくは
共重合体等を用いることができ。
て中間層、保護層を設けることができる。中間層は、接
着性の向上と共に酸素、水分からの保護の目的で設けら
れ、主に樹脂又は無機化合物から形成される。樹脂とし
ては、例、ｔ ハ［化ビニル、酢酸ビニル、アクリル、
エステル、ニトロセルロース、カー＆＄−）、工４キシ
、エチレン、プロピレン、ブチラール等の単独もしくは
共重合体等を用いることができ。
必要に応じて酸化防止剤、紫外光吸収剤、レベリング剤
や撥水剤等を含有させることが可能である。これらは、
スピンナー法、デイツビ／グ法、ドクターブレード法に
より形成される。無機化合物としては、例えば８１０，
２ 、 ＳｉＯ、ＡＬ２０． 。
や撥水剤等を含有させることが可能である。これらは、
スピンナー法、デイツビ／グ法、ドクターブレード法に
より形成される。無機化合物としては、例えば８１０，
２ 、 ＳｉＯ、ＡＬ２０． 。
Ｓｎ０２１ＭｇＦ２等が用いられ、イオンビーム、電子
ビーム、スパッタ法により薄膜が形成される。
ビーム、スパッタ法により薄膜が形成される。
前記保護層も中間層と同様の構成をとり、光。
酸素、水分からの記録層の保護、傷、ホコリ等からの保
護のために用いられる。
護のために用いられる。
次に、本発明の光情報記録媒体の構成例について図面を
参照して１説明する。
参照して１説明する。
第１図は、光情報記録媒体の基本構成を示すもので、基
板１上に一般式の色素を含む記録層２を設けた構造であ
る。記録、再生はレーザ光３を集光レンズにより記録層
２上に０．８〜１．５μｍの大きさのスポットに集光し
て行なわれる。
板１上に一般式の色素を含む記録層２を設けた構造であ
る。記録、再生はレーザ光３を集光レンズにより記録層
２上に０．８〜１．５μｍの大きさのスポットに集光し
て行なわれる。
記録再生のレーザ光３は、記録層２から照射してもよい
が、基板１が透明な材料からなる場合には基板１側から
照射する方が一般的に汚れやゴミの影響を少なくできる
。
が、基板１が透明な材料からなる場合には基板１側から
照射する方が一般的に汚れやゴミの影響を少なくできる
。
第２図は、基板１と記録層２０間に中間層４を、記録層
２上に保護ｔｍ ｓを夫々設けた構造のものである。
２上に保護ｔｍ ｓを夫々設けた構造のものである。
第３図は、同一構成の２枚の媒体を記録層２が互に対向
するようにスペーサ６を介して配置させたものである。
するようにスペーサ６を介して配置させたものである。
なお、第３図中の２はエアーギャップ、８はスピンドル
穴である。かかる構成によれば、特性的に良好であり、
更に記録層２への汚れやゴミの影：４を抑制できる利点
を有する。
穴である。かかる構成によれば、特性的に良好であり、
更に記録層２への汚れやゴミの影：４を抑制できる利点
を有する。
更に、前述した第１図〜第３図の構成において、Ａｔ、
Ａｇ等及びその他の反射膜を基板と記録層の間に設け
てもよい。
Ａｇ等及びその他の反射膜を基板と記録層の間に設け
てもよい。
以下１本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例１
上述し念構造式（１）の色素をメチルエチルケトンで溶
解し、２チ溶液とした後、これ全スピンナーコータで厚
さ１．２鰭のガラス基板上に塗布。
解し、２チ溶液とした後、これ全スピンナーコータで厚
さ１．２鰭のガラス基板上に塗布。
乾燥して厚さ８０ ｎｍの記録層を形成して記録媒体を
製造した。
製造した。
実施例２
上述した構造式（３）の色素を塩化メチレンで溶解し、
２優溶液とした後、これをスピンナーコータで厚さ１．
２ｔｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７５ ｎｍ
の記録層を形成して記録媒体を製造した。
２優溶液とした後、これをスピンナーコータで厚さ１．
２ｔｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７５ ｎｍ
の記録層を形成して記録媒体を製造した。
実施例３
上述した構造式（８）の色素に、バインダ樹脂としての
アクリル樹脂（三菱レーヨン社製：ダイヤナールＢＲ−
６０）を１ｏ：ｆｆＥｉチ添加し、これを塩化メチレン
で溶解して３％溶液どした後、この溶液をスピンナーコ
ータで厚さ１．２園のガラス基板上に塗布、乾燥して厚
さ９５ ｎｍの記録層を形成して記録媒体を製造した。
アクリル樹脂（三菱レーヨン社製：ダイヤナールＢＲ−
６０）を１ｏ：ｆｆＥｉチ添加し、これを塩化メチレン
で溶解して３％溶液どした後、この溶液をスピンナーコ
ータで厚さ１．２園のガラス基板上に塗布、乾燥して厚
さ９５ ｎｍの記録層を形成して記録媒体を製造した。
実施例４
上述した構造式（２）の色素と赤外線吸収剤（日本火薬
社製商品名： ＩＲＧ−００３）とを重量比で３：ｌの
割合にて混合し、これをメチルエチルケトンで溶解して
１０％溶液とした後、この溶液をスピンナーコータで厚
さ１．２ ｔｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ８
０ ｎｍの記録層を形成して記録媒体を製造した。
社製商品名： ＩＲＧ−００３）とを重量比で３：ｌの
割合にて混合し、これをメチルエチルケトンで溶解して
１０％溶液とした後、この溶液をスピンナーコータで厚
さ１．２ ｔｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ８
０ ｎｍの記録層を形成して記録媒体を製造した。
実施例５
上述した構造式（１）の色素と下記構造式（１１）の色
素とを重量比で２＝１の割合で混合し、これを実施例、
１と同様に溶解し、基板上に塗布、乾燥して厚さ７５
ｎｍの記録層を形成し、記録媒体を製造し九。
素とを重量比で２＝１の割合で混合し、これを実施例、
１と同様に溶解し、基板上に塗布、乾燥して厚さ７５
ｎｍの記録層を形成し、記録媒体を製造し九。
・・・０υ
実施例６
実施例１と同様な方法によりガラス基板上に構造式（１
）の色素からなる厚さ６０ ｎｍの記録層を形成した後
、この記録層上に下記構造式（１２に示すアルミニウム
ナフタロシアニンを真空度１、 ＯＸ １０−５Ｔｏｒ
ｒの条件下で真空加熱蒸着して厚さ３０ ｎｍの反射性
保護層を形成し、記録媒体を製造した。
）の色素からなる厚さ６０ ｎｍの記録層を形成した後
、この記録層上に下記構造式（１２に示すアルミニウム
ナフタロシアニンを真空度１、 ＯＸ １０−５Ｔｏｒ
ｒの条件下で真空加熱蒸着して厚さ３０ ｎｍの反射性
保護層を形成し、記録媒体を製造した。
比較例１
下記構造式（１）の色素を塩化メチレンで溶解して２チ
浴液とした後、この浴１’ｅスピンナーコータで厚さ１
．２ ｍのガラス基板上に塗布し、乾燥して厚さ８０
ｎｍの記録層を形成し、言己録媒体を製造した。
浴液とした後、この浴１’ｅスピンナーコータで厚さ１
．２ ｍのガラス基板上に塗布し、乾燥して厚さ８０
ｎｍの記録層を形成し、言己録媒体を製造した。
比較例２
下記構造式（…）の色素を比較例１と同様な方法で溶解
し、ガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７０ ｎｍの記
録層を形成し、記録媒体を製造した。
し、ガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７０ ｎｍの記
録層を形成し、記録媒体を製造した。
比較例３
下記構造式（ＩＩ）の色素を比較例１と同様な方法で溶
解し、ガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７０ ｎｍの
記録層を形成し、記録媒体を製造した。
解し、ガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７０ ｎｍの
記録層を形成し、記録媒体を製造した。
しかして、本実施例１〜６及び比較例１〜３の記録媒体
の記録層について、記録層側より波長８３０ｎｍの光に
対する反射率を分光光度計により測定した。また、各記
録層について波長８３０ｎｍの光に対する吸光度を測定
した。更に、波−Ｊ％８３０ｎｍの半導体レーデ光を媒
体面出力４ｍＷとなるように直径１．２μｍのスポット
に集光し、この集光レーザ光を各記録媒体の基板側から
その移動速度ｆ ９ ｍ ／ ｓｅｅの条件下で書き込
み、同レーデ光で再生出力０．４ ｍＷで再生を行なっ
て記録感度（記録エネルギー闇値）及び再生信号のＣハ
値を測定した。更に、本実施例１〜６及び比較例１〜３
の記録媒体を５０℃、９５チの雰囲気下に１５０時間放
置し、放置前後の吸光度低下率、反射率低下率を測定す
る耐熱湿性試験を行なった。各記録媒体に２５℃、６０
チの雰囲気で５００Ｗタングステン光ｔ ５０ ｃｍへ
だてて１００時間照射し、タングステン光の照射前後で
の吸光度低下率、反射率低下率を測定する１光試験を行
なった。これらの結果を下記表に示した。
の記録層について、記録層側より波長８３０ｎｍの光に
対する反射率を分光光度計により測定した。また、各記
録層について波長８３０ｎｍの光に対する吸光度を測定
した。更に、波−Ｊ％８３０ｎｍの半導体レーデ光を媒
体面出力４ｍＷとなるように直径１．２μｍのスポット
に集光し、この集光レーザ光を各記録媒体の基板側から
その移動速度ｆ ９ ｍ ／ ｓｅｅの条件下で書き込
み、同レーデ光で再生出力０．４ ｍＷで再生を行なっ
て記録感度（記録エネルギー闇値）及び再生信号のＣハ
値を測定した。更に、本実施例１〜６及び比較例１〜３
の記録媒体を５０℃、９５チの雰囲気下に１５０時間放
置し、放置前後の吸光度低下率、反射率低下率を測定す
る耐熱湿性試験を行なった。各記録媒体に２５℃、６０
チの雰囲気で５００Ｗタングステン光ｔ ５０ ｃｍへ
だてて１００時間照射し、タングステン光の照射前後で
の吸光度低下率、反射率低下率を測定する１光試験を行
なった。これらの結果を下記表に示した。
以上詳述した如く１本発明によれば高い反射率と高い記
録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を安定して
行なうことが可能で、かつ再生光や日光、湿度に対する
安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提供できる。
録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を安定して
行なうことが可能で、かつ再生光や日光、湿度に対する
安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提供できる。
第１図〜第３図は、夫々本発明の光情報記録媒体を示す
概略図である。 １・・・基板、２・・・記録層、３・・・レーザ光、４
・・・中間層、５・・・保護層、６・・・スペーサ。 出願人代理人 弁理士 坪 井 浮筒１図 第２図 第３図 手続ネｍ正書 １、事件の表示 特願昭６０−２３９０１６号 ２、発明の名称 光情報記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （０３７）オリンパス光学工業株式会社４、代理人 東京都千代田区霞が関３丁目７番２号ｔｌＢＥビル〒１
００電話０３ （５０２）３１８１ （大代表）７、補
正の内容 （１）、明Ｆｆｉｌｌ中第３頁１０行目において、「（
ｅ×反射率、吸収率等）」とあるを「（例えば反射率、
吸収率等）」と訂正する。 ＋２）、明ＩＩＩ害中第３頁１９〜２０行目において、
「反面反射率が大きく熱伝導率が大きく比熱も大きいと
いう欠点がある。」とあるを［反面反射率が大きく、し
かも熱伝導率が大きく、比熱も大きい等の・欠点がある
。」と訂正する。 （３）、明細ｍ中筒４頁８行目において、「吸収率が大
きく熱伝導が小さく、生産性が良く」とあるを「吸収率
が大きく、更に熱伝導率が小さく、加えて生産性が良く
」と訂正する。 （４）、明！！！Ｉ雪中第５頁１２行目において、「形
成」とあるを「添加」と訂正する。 （５）、明細書中筒６頁１行目の一般式を下記の如く訂
正する。 （６１，明ＩＩＩ中第１０頁１行目の一般式を下記の如
く訂正する。 記 （７）、明Ｉｌｌ中第１８頁４行目の一般式を下記の如
く訂正する。 記 とあるを「Ｎｉ−ビス」と訂正する。 １９）、明ｌ１１１ｍ中第２５頁１行目の構造式を下記
の如く訂正する。
概略図である。 １・・・基板、２・・・記録層、３・・・レーザ光、４
・・・中間層、５・・・保護層、６・・・スペーサ。 出願人代理人 弁理士 坪 井 浮筒１図 第２図 第３図 手続ネｍ正書 １、事件の表示 特願昭６０−２３９０１６号 ２、発明の名称 光情報記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （０３７）オリンパス光学工業株式会社４、代理人 東京都千代田区霞が関３丁目７番２号ｔｌＢＥビル〒１
００電話０３ （５０２）３１８１ （大代表）７、補
正の内容 （１）、明Ｆｆｉｌｌ中第３頁１０行目において、「（
ｅ×反射率、吸収率等）」とあるを「（例えば反射率、
吸収率等）」と訂正する。 ＋２）、明ＩＩＩ害中第３頁１９〜２０行目において、
「反面反射率が大きく熱伝導率が大きく比熱も大きいと
いう欠点がある。」とあるを［反面反射率が大きく、し
かも熱伝導率が大きく、比熱も大きい等の・欠点がある
。」と訂正する。 （３）、明細ｍ中筒４頁８行目において、「吸収率が大
きく熱伝導が小さく、生産性が良く」とあるを「吸収率
が大きく、更に熱伝導率が小さく、加えて生産性が良く
」と訂正する。 （４）、明！！！Ｉ雪中第５頁１２行目において、「形
成」とあるを「添加」と訂正する。 （５）、明細書中筒６頁１行目の一般式を下記の如く訂
正する。 （６１，明ＩＩＩ中第１０頁１行目の一般式を下記の如
く訂正する。 記 （７）、明Ｉｌｌ中第１８頁４行目の一般式を下記の如
く訂正する。 記 とあるを「Ｎｉ−ビス」と訂正する。 １９）、明ｌ１１１ｍ中第２５頁１行目の構造式を下記
の如く訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛但し、式中のＲ＿１は炭素数１〜６のアルキル基、Ａ
は ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼〔Ｒ＿２；水素、アルキル基、ハロ
ゲン又は▲数式、化学式、表等があります▼（ｐｈ；フ
ェニル基）〕、Ｘはパークロレート、フルオロボレート
、アイオダイド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエ
ンスルフォネートから選ばれる陰イオン、Ｙは−Ｒ＿３
ＯＨ、−Ｒ＿３ＣＯＯＨ、−Ｒ＿３ＣＯＨ、−ＣＨ（Ｒ
＿３）ｐｈ、▲数式、化学式、表等があります▼又は▲
数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿３；水 素、炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ＿４；炭素数１〜
１８のアルキル基、ｐｈ；フェニル基）、Ｚはインドー
ルを構成するベンゼン環に付加されるベンゼン環、ｎは
０又は１、２の整数を示す｝にて表わされる有機色素を
含む記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60239016A JPS6299192A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60239016A JPS6299192A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6299192A true JPS6299192A (ja) | 1987-05-08 |
Family
ID=17038637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60239016A Pending JPS6299192A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6299192A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63307985A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| JP5993054B1 (ja) * | 2015-03-27 | 2016-09-14 | 奥本 健二 | 広い吸収帯を示す薄膜とそれを含むデバイスとそれらの製法 |
-
1985
- 1985-10-25 JP JP60239016A patent/JPS6299192A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63307985A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| JP5993054B1 (ja) * | 2015-03-27 | 2016-09-14 | 奥本 健二 | 広い吸収帯を示す薄膜とそれを含むデバイスとそれらの製法 |
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| JPS62201288A (ja) | 光情報記録媒体 | |
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| JPS62164595A (ja) | 光情報記録媒体 | |
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