JPH02667A - 含金属インドアニリン系化合物および該化合物を用いた光学記録媒体 - Google Patents

含金属インドアニリン系化合物および該化合物を用いた光学記録媒体

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JPH02667A
JPH02667A JP63057846A JP5784688A JPH02667A JP H02667 A JPH02667 A JP H02667A JP 63057846 A JP63057846 A JP 63057846A JP 5784688 A JP5784688 A JP 5784688A JP H02667 A JPH02667 A JP H02667A
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秀実 吉田
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内野 健一
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    • Y10S430/146Laser beam

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な含金属インドアニリン系化合物および
該化合物を用いた光学記録媒体に関する。
〔従来の技術〕
レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存お
よび再生を可能とするため、近年。
特にその開発がとりす\められている。
光学記録の一例としては、光ディスクをあげるオとがで
きる。
一般に、光ディスクは1円形の基体に設けられた薄い記
録層に、/μm程度に集束したレーザー光を照射し、高
密度の情報記録を行なうものである。その記録は、照射
されたレーザー光エネルギーの吸収によりて、その個所
の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を生成させ
ることにより行なわれる。また、記録された情報の再生
は、レーザー光により変形が起きている部分と起きてい
ない部分の反射率の差を読み取ることにより行なわれる
したがって、光学記録媒体としては、レーザー光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用
する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこと
、情報の再生を正確に行なうため、71)生に使用する
特定波長のし一ザー光に対する反射率が高いことが必要
となる。
この種の光学記録媒体としては1種々の構成のものが知
られている。
例えば、特開昭55−q7033号公報には、基板上に
フタロシアニン系色素の単層を設けたものが開示されて
いる。しかしながらフタロシアニン系色素は感度が低く
、また分解点が高く蒸着しにくい等の問題点を有し、さ
らに有機鼎媒に対する溶解性が著しく低く、塗布による
コーティングに使用することができないという問題点も
有している。
1だ、特開昭3g−g、73ググ号公報にはフェナレン
系色素を、特開昭5g−2,:lll79g号公報には
ナフトキノン系色素を記録層に設けたものが開示されて
いる。しかし、このような色素は蒸着しやすいという利
点の反面1反射率が低いという問題点を有している。反
射率が低いとレーザー光により記録された部分と未記碌
部分との反射率のコントラストは低くなり、記録された
情報の再生が困難となる。更に一般に有機系色素は保存
安定性が劣るという問題点を有している。
これらの問題点に関して、特願昭42−!;9777号
に、有機溶媒に対する溶解性および反射率(コントラス
ト)を改良した媒体として含金属インドアニリン系化合
物を記録層に設けたものを提案している。しかしながら
、初期特性(感度の膜厚依存性、2次歪)と保存安定性
(塗布膜1色票粉末)の両方の性能のバランスがとれた
記録媒体としては問題点を有していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、記録媒体としての上記の初期特性及び保存安
定性の両方の性能のバランスに優れたPF6−を対アニ
オンとする新規な含金属インドアニIJン系化合物およ
び該化合物を用いた光学記録媒体を提供することを目的
とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、含金属インドアニリン系化合物の対アニ
オンについて鋭意検討したところ。
対アニオンが光学記録の初期特性および保存安定性に大
きな影響を与えることを見い出し、特KPFa−イオン
が両方の性能のバランスがとれていることを見い出した
本発明は、レーザー光線によって状態変化な生ぜしめる
ことにより、記録再生を行なうための光学記録媒体の色
素として適した下記−形成〔I〕で表わされるPF6−
を対アニオンとする新規な含金属インドアニリン系化合
物及び該化合物を基板に担持させた光学記録媒体をその
要旨とするものである。
一般式〔I〕 N に1 −一一一一一一一ノ (式中、MはVl族−Ib族−Ib族、Ib族−IVa
族+ Va族−Via族、■a族の金属原子、その71
0ゲン化物及びその酸化物を表わし、環A−B。
(、II E、 Fは置換基を有していてもよい。
K’−に2、Klは置換または非置換の芳香族アミンの
残基な表わす。l、m、nはそれぞれ0または/、ただ
しl+m+nは二または3を表わす。pはユ、3.ダを
表わす。) で示される含金属インドアニIJン系化合物。
−数式[1]中−に’ + K2、Klで示されている
置換もしくは非置換の芳香族アミンの残基としては、例
えば、テトラヒドロキノリン類、ジュロリジン等の窒素
原子、酸素原子またはイオウ原子を含有する複素環アミ
ンの残基、または下記−数式 (式中、XaおよびYbは水素原子、アルキル基。
アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アル
キルスルホニルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン
原子を表わし、■(8およびBbは水素原子またはC1
〜2oのアルキル基、アリール基、アルケニル基もしく
はシクロアルキル基を表わし、これらの基は置換されて
いてもよい。
又 Ba −Rbは酸素原子、窒素原子、イオウ原子を
介して環化していてもよい。)で示される基等が挙げら
れる。
そして−RaおよびRbで示されるアルキル基。
アリール基、アルケニル基またはシクロアルキル基の置
換基としては1例えば、アルコキシ基、アルコキシアル
コキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリル
オキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアン基、
ニトロ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、アル
キルスルホニルアミノ基、アシルオキシ基、ハロゲン原
子等が挙げられ、この他、アリール基、シクロアルキル
基の置換基としてアルキル基又はビニル基が挙げられる
一般式〔I〕で表わされる化合物のうち、好ましいもの
としては、−数式〔I〕においてl−m。
nが夫々/である一般式〔1〕 N 一一一一一−J ン化物及びそのブ化物を表わし、環A、B−(。
D、E、Fは置換基を有していてもよい。Kl −に2
− Kl は置換または非置換の芳香族アミンの残基を
表わす。pはコ、3.グを表わす。)で示される含金属
インドアニリン系化合物、又は−数式〔I〕において1
及びmがlでnが0である一般式[1[[] %式% (式中1Mはvm族、Ib族、Ib族−Ib族−IVa
族、 Va族、■a族、 Vlla族の金属原子及びそ
の酸化物を表わし、環A、B−C,Dは置換基を有して
いてもよい。Kl −K2 は置換または非置換の芳香
族アミンの残基を表わす。pはコ、3゜ダを表わす。) で示される含金属インドアニリン系化合物が挙げられる
前記−数式[11〕で示される化合物の中で、好ましい
ものとしては、−数式[IIV]られる。
(式中1MはVl族、  Ib族−nb族、Iub族−
IVa族、 Va族、 Vla族、〜’lla族の金属
原子を表わし。
R7、R8−R11、RIO−R11、R+2− XI
 、 x2− x3−yl −y2、Y3は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホ
ニルアミノ基を表わし、 R1、C2−R1−R4、R
5、R6は水素原子+ C,〜2o  のアルキル基、
アリール基、アルケニル基、シクロアルキル基を表わし
、これらの基は置換されていてもよい。pは=、3.4
tを表わす。)で示されるものが挙げ(式中1MはNi
 + Cu 、 Co −Zn又はFeの金属原子を表
わし、 x’−x5. x’は水素原子−C,〜4のア
ルキル基を表わし、R13−R”−R”  R”R17
R”は01〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、
アルコキシアルコキシアルキル基。
アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、アリルオ
キシアルキル基、アリールアルキル基。
アリールオキシアルキル基、シアノアルキル基。
ヒドロキシアルキル基、テトラヒドロフリルアルキル基
、アルキルスルホニルアミノアルキル基−アシルオキシ
アルキル基、アルケニル基を表わし、 R”、 R”は
水素原子、01〜4のアルキル基、ハロゲン原子を表わ
す。) で示されるものが挙げられる。
ましく 、 R++1− R20、R21としては水素
原子、C1〜4のアルキル基を表わす場合が好ましく 
、 x4゜x5 、 x6としては01〜4のアルキル
基を表わす場合が好ましい。
一方、一般式[11で示される化合物の中で好ましいも
のとしては、−数式〔■〕 R? −R8−RQ −RIO−XI 、 x2− y
l、Y2  は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アルキルスルホニルアミノ基を表わし。
R1−R2、R3−R4は水素原子、01〜2oのアル
キル基、アリール基、アルケニル基、シクロアルキル基
を表わし、これらの基は置換されていても良い。pはコ
、3.弘を表わす。)で示されるものが挙げられる。
特に好ましいものとしては、−数式〔V旧・・・・・・
〔■〕 (式中1MはVl族−rb族−nb族、 l[b族、 
lVa族+ Va族、 Via族−Vlla族の金属原
子を表わし。
・・・・・・[JID (式中1MはNi 、 Cu + Co 、 Zn又は
Feの金属原子を表わし、 x4 、 x5 は水素原
子、C1〜4のアルキル基を表わし、R13+ R” 
−R15,R”はC1,8のアルキル基、アルコキシア
ルキル基。
アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキ
シアルコキシアルキル基、アリルオキシアルキル基、了
り−ルアルキル基、アリールオキシアルキル基、シアノ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、テトラヒドロフリ
ルアルキル基−アルキルスルホニルアミノアルキル基、
アシルオキシアルキル基、アルケニル基を表わす。
R” + R”は水素原子、01〜4のアルキル基、ハ
ロゲン原子を表わす。)で示されるものが挙げられる。
中テモ−−数式[V[) 中−R”−R”−R”−R”
は01〜6のアルキル基を表わす場合が好ましく。
R”  R”としては水素原子又はC1〜4のアルキル
基を表わす場合が好ましく、x’、x’ としては01
〜4のアルキル基を表わす場合が好ましい。
前記−数式〔I〕で示される新規な含金属インドアニリ
ン系化合物は、6θ0〜qoonmの波長帯域で吸収を
有し、しかも分子吸収係数がIQ5Cm””以上の高い
値を有し、光学記録媒体に用いられるのにすぐれた適性
を有している。
本発明で使用される一般式[I)で示される含金属イン
ドアニリン系化合物の一般的合成は、たとえば− (式中 R?、R8は前記定義に同じ。)で示される化
合物に、下記−数式 (式中 xl 、 yl 、 R1−R2は前記定義に
同じ。)で示される化合物の塩酸塩を酸化的縮合を行な
い、下記−数式の化合物 (式中−R1、R2−R7、R8−XI −yl は前
記定義に同じ。)を得た。
次いで、上記化合物と下記−数式 (式中、 na −R6−RJI −RI2  x3 
、 Y3は前記定義に同じ。)で示される化合物と下記
−形成%式%) (式中1Mは前記定義に同じ。)とを反応させることに
よって、下記−数式 (式中 R1、C4−Bll 、 RIOX2、Y2は
前記定義に同じ。)で示される化合物及び/又は下記−
数式 (式中、R’、R2−R3、R4−R5、R6−R?、
C8−R9、8IG 、  R11−C12−xl −
x2−  x3−  yl −YQ。
Y3.M  は前記定義に同じ。)で示される化合物か
あるいは下記一般式 (式中、R1、R2−R3、R4−R7、R8−RGI
 −RIO−XI −X2− yl −y2、Mは前記
定義に同じ。)を得た。
次いで、上記化合物と下記構造式 %式% で表わされる化合物とを反応(対イオン交換)させるこ
とによって製造することができる。
上記の様な製造法によって得られる含金属インドアニリ
ン系化合物を本発明の光学記録媒体に用いる場合1色素
は単品でもよいし置換基の異なるもの、配位数の異なる
ものを混合して使用してもよい。
本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と含金属イン
ドアニリン系化合物を含む記録層とから構成されるもの
であるが、さらに必要に応じて基板上に下引き層をまた
記録層上に保護層を設けることができる。
本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明または不透明のいずれでもよい。基板材料の材
質としては、ガラス、プラスチック、紙、板状−または
箔状の金属等の一般の記録材料の支持体が挙げられるが
、プラスチックが種々の点から好適である。プラスチッ
クとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂。
酢酸ビニル雷脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース−
ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルホ
ン樹脂等が挙げられる。
この中で、高生産性、コスト、耐吸湿性の点から射出成
型ポリカーボネート樹脂基板が特に好ましい。
本発明の光学記録媒体における含金属インドアニリン系
化合物を含有する記録層は、膜厚ioo人〜j師、好ま
しくは10θO久〜3μmである。成膜法としては真空
蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャ
スト法、スピナー法、浸漬法など一般に行なわれている
薄膜形成法で成膜することができる。
また、必要に応じてバインダーを使用することもできる
。バインダーとしてはPVA、PVP、ニトロセルロー
ス、酢酸セルロース、ホ+)ビニルブチラール、ポリカ
ーボネートなど既知のものが用いられ、樹脂に対する含
金属インドアニIJン系化合物の量は重量比で/%以上
あることが望ましい。スピナー法により成膜の場合、回
転数はsoo 〜sooorpmが好ましく、スピンコ
ードの後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあ
てる等の処理を行なってもよい。
また、記録体の安定性や耐光性向上のために。
−重環酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物
(たとえば、アセチルアセトナートキレート、ビスフエ
ニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジ
チオ−α−ジケトン等)を含有していてもよい。更に、
必要に厄、じて他の色素を併用することができる。他の
色素としては別の種類の同系統の化合物でもよいし。
トリアリールメタン系色素、アゾ染料、シアニン系色素
、スクワリリウム系色素など他系統の色素でもよい。
ドクターブレード法−キャスト法、スピナー法、浸漬法
、特に、スピナー法等の塗布方法により記録層を形成す
る場合の塗布溶媒としては。
テトラクロロエタン、フロモホルム、ジブロモエタン、
ジアセトンアルコール、エチルセロソルブ、キシレン、
3−ヒドロキシ−3−メチル−2−7’タノン、クロロ
ベンゼン、シクロヘキサノン等の沸点/20〜ibo℃
のものが好適に使用される。
ロ                 口中でも、メチ
ルセメソルプ、エチルセlソルプ等のセロソルブ系溶媒
;ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル
−=−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒が、基板と
して好ましく用いられる射出成形ポリカーボネート樹脂
基板をおかすことなく好適に使用でき、特に好ましい。
本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両面に設けても
よいし1片面だけに設けてもよい。
上記の様にして得られた記録媒体への記録は。
基体の両面または、片面に設けた記録層に/μm程度に
集束したレーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光
をあてる事により行なう。レーザー光の照射された部分
には、レーザーエネルギーの吸収による1分解、蒸発、
溶融等の記録層の熱的変形が起こる。
記録された情報の再生は、レーザー光により。
熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反射率
の差を読み取る事により行なう。
本発明の光学記録媒体について使用されるレーザー光は
N2 + He Cd −Ar 、 He −Ne 、
 ルビー半導体1色素レーザーなどがあげられるが、特
に、軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点か
ら半導体レーザーが好適である。
〔実施例〕
以下実施例によりこの発明を具体的に説明するが、かか
る実施例は本発明を限定するものではない。
尚、光学記録媒体の初期特性の二次歪の値は。
下記式により計算した。
実施例/ (a)製造例 下記構造式 で表わされる化合物/、07 ii−をS 00 ml
のエタノールに溶解したものに−NiC1□・AH20
o、ti <z yを水250−に溶解したものを加え
室温で7時間攪拌した。次いでNH4PF6八261を
水2!;0m1VC溶解したものを滴下した。
得られた沈殿を吸引濾過し、水洗、乾燥し。
下記構造式で表わされる含金属インドアニリン系化合物
ムダ!rg−(対理論収率90係)を得た。
本化合物の可視部の吸収スペクトル(クロロホルム中)
は図−7に示すようにλmaxg o o nm (ε
max / A 0000 )であった。
TG−DSCにより測定されたデータは1発熱開始湛度
/gb℃で発熱ピークはなだらかであった。
(b)  記録媒体例 前記製造例(a)で得た含金属インドアニリン系化合物
o、i s g−を3−ヒドロキシ−3−メチルーコー
ブタノン10fに溶解し、0.22μのフィルターで濾
過し、溶解液を得た。この溶液5−を深さ700A、幅
0.7μの溝(グループ)つき射出成形ポリカーボネー
ト樹脂基板(5インチ)上に滴下し、スピナー法により
/ 000 rpmの回転数で塗布した。
塗布後、60℃で70分間乾燥した。塗布膜の最大吸収
波長はg 10nrn  であり1反射率ti 2 %
 (g 、、70 nm )  であった。スペクトル
の形状は巾広かった。
図−二に塗布膜および反射のスペクトルを示す。
(c)  光記録法 上記記録媒体を’I trV′sで回転させながら。
中心波F4g30nm の半導体レーザー光でパルス幅
s 00 n5ec  で照射したところ、出力6rT
rwでC/N比j 5 dBを得た。感度も膜厚に依存
せずフラットで2次歪も−II OdB  と初期特性
は良好であり、しかも保存安定性Ct、s℃−gO%円
()も良好であり、光学記録媒体としてきわめて優れた
ものであった。
比・咬例/−/及び/−2 下記構造式〔X〕及び〔X〕で表わされる含金属インド
アニリン系化合物を夫々実施例1と同様に塗布し、ディ
スクを作成、初期特性(感度の膜厚依存性、2次歪)、
保存安定性(塗布膜の反射率の変化率1色素粉末の吸光
度の変化率)について評価・比較したところ、第1表に
示すようにいずれの化合物の場合も本発明の実施例1の
光学記録媒体よりも1両方の性能が劣りバランスがとれ
ず、光学記録媒体として不適であった。
実施例コ (a)  M造例 下記構造式 で表わされる化合物O,S 式 ?および下記構造 [X] ・・・・・・[Xl] で表わされる化合物0.!; A yを5007!のエ
タノールに溶解したものに、 NICI2・6H200
、タダ1を水/θomtに溶解したものを加え。
室温で1時間攪拌した。次いでNH4PF6八二へ?を
水toomlK溶Mしたものを滴下した。
得られた沈殿を吸引濾過し、水洗、乾燥し、下記構造式
で表わされる含金属インドアニリン系化合物の混合物へ
グ グ Iを得た。
氷晶の可視部の吸収スペクトル(クロロホルム中)はλ
max g 00 nm(εmax /69000)で
あった。
(b)  記録媒体例 前記裂造例(a)で得た含金属インドアニリン系化合物
の混合物0./ j 9−をジアセトンアルコールlO
zに溶解し−0,22μのコイルターで濾過し、溶解液
を得た。この溶液5−を深さqoo人1幅0.7μの溝
(グループ)つき射出成型ポリカーボネート樹脂基板(
5インチ)上に滴下し、スピナー法により700rpl
nの回転数で塗布した。塗布後+ t、o℃で10分間
乾燥した。
塗布膜の最大吸収波長はglonmであり。
反射率はりダ%(g 、30 nm )であった。スペ
クトルの形状は単一のものよりも一層巾広かった。
光記録法 上記記録媒体をグm/sで回転させながら、中心波長g
3θ且の半導体レーザー光でパ(C) ルス幅s o o n5ec  で照射したところ出力
6調でC/N比5 F dBを得た。感度は膜厚に依存
せずフラットで2次歪も−ts 2 dB  と初期特
性は良好、しかも保存安定性(65’C。
g o % RH)  も良好であり、光学記録媒体と
してきわめて優れたものであった。これらの結果を第1
表に記す。
比較例コーl及びコーツ 下記構造式[XIl]及び淵〕で表わされる含金属イン
ドアニリン系化合物の混合物を夫々実施例二と同様に塗
布し、ディスクを作成、初期特性(感度の膜厚依存性、
2次歪)、保存安定性(塗布)漠の反射率の変化率1色
素粉末の吸光度の変化率)について評価・比較したとこ
ろ、第15に示すようにいずれの混合物の場合も本発明
の実施例二の光学記録媒体よりも両方の性能が劣りバラ
ンスがとれず、光学記録媒体として不適であった。
実施例3 実施例1において用いた色素の代わりに下記第2表に示
した化合物を実施例1と同様に合成し、基板上に塗布し
たところ、下記第二衣に示す最大吸収波長をもつ薄膜基
板を得た。このようにして得られた薄膜に光源として半
導体レーザーを用いて書き込みを行なったところ、均一
かつ明瞭な形状のビットが得られた。感度、CZN比も
良好であり、初期特性(感度の膜厚依存性、2次歪)は
良好、しかも保存安定性も良好であり、光学記録媒体と
してきわめて優れたものであった。
前記実施例で用いた化合物の他1本発明の光学記録媒体
に好適に使用される含金属インドアニリン系化合物の具
体例は第3表の通りである。
実施例グ 実施例2において用いた含金属インドアニリン系化合物
の混合物の代わりに、第9表に示した化合物/l B及
びMで表わされる金属の塩を用いた以外は実施例ユと同
様にして合成した含金属インドアニリン系化合物の混合
物(対アニオンは(PF6−)2を表わす。)を同様に
基板上に塗布したところ、第41表に示す最大吸収波長
をもつ薄膜基板を得た。このようにして得られた薄膜に
光源として半導体レーザーを用いて書き込みを行なった
ところ、均一かつ明瞭な形状のビットが得られた。C/
N比も良好であり一保存性も良好であった。
実施例5 (a)  製造例 下記構造式 本化合物の可視部の吸収スペクトル(クロロホルム中)
はλmax g O/ nm (εmaxコθoooo
 )であった。
本化合物の元素分析の測定値は下記の通り計算値とよく
合致していた。
で表わされる化合カム〇71をSOOmtのエタノール
に溶解したものに、 N1Ch弓H2O0,367を水
/ 00 mlK溶解したものおよびN84PF6  
ハ2乙1を水1oo−に溶解したものを混合し、約7時
間でtm下、室幅で7時間攪拌した。次いで水1007
を添加、室温で2時間攪拌後得られた沈殿を吸引濾過し
、水洗、乾燥し、下記構造式で表わされる含金属インド
アニリ/系化合物0.7θ?を得た。
(b)  記録媒体例 前記製造例(a)で得た含金属インドアニリン系化合物
0./ 7 Pを3−ヒドロキシ−3−メチルーコーブ
タノン109−に浴解し、0.22μのフィルターで濾
過し、溶解液を得た。この溶g、3mlを深さl−S 
OA 、 @ 0.7μの溝(グループ)つき射出成形
ポリカーボネート樹脂基板(Sインチ)上に滴下し、ス
ピナー法により700 rpmの回転数で塗布した。塗
布後+ t、OCでio分間乾燥した。塗布膜の最大吸
収波長は500画であり1反射率ダθチ(ざJ Onm
 )  であった。スペクトルの形状は巾広かった。
(C)  光記録法 上記記録媒体を!m/sで回転させながら。
中心波長g 30 nmの半導体レーザー光でパルス幅
s o o n5ec  で照射したところ、出力&r
ryvでC/N比s b dBを得た。感度は膜厚に依
存せずフラットで一次歪も一4t OdB  と初期特
性は良好、しかも保存安定性(65℃。
go%RH)も良好であり、光学記録媒体としてきわめ
て優れたものであった。
実施例6 (a)  製造例 下記構造式 で表わされる化合物1./ 6%を500ゴのエタノー
ルに溶解したものに、NiCl2・A H2O0、グ弘
1を水100dに溶解したものを加え室温で約1時間攪
拌し1次いでN)−I4PFa へユ6を水1oo−に
溶解したものを滴下、室温で7時間攪拌し1次いで水1
00rdを添加しコ含金属インドアニリン系化合カム2
09−を得た。
本化合物の可視部の吸収スペクトル(クロロホルム中)
はλmax gθJ nm (εmax、2ooooo
 )であった。
本化合物の元素分析の測定値は、下記の通り計算値とよ
く合致した。
(b)  記録媒体例 前記製造例(a)で得た含金属インドアニリン系化合物
0./ 6%を3−ヒドロキシ−3−メチルーコープタ
ノン10?に溶解し−0,22ルス幅!r 00 n5
ec  で照射したところ、出力ArrwtでC/N比
!; 3 dE3を得た。感度は膜厚に依存せずフラッ
トで2次歪も−! / d[j  と初期特性は良好、
しかも保存安定性(6r℃−go%RH)も良好であり
、光学記録媒体としてきわめて優れたものであった。
実施例7 (a)  製造例 下記構造式 (グループ)つき、射出成型ポリメチルメタアクリレー
ト樹脂基板(5インチ)上に滴下し、スピナー法により
goo rpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃で
70分間乾燥した。
塗布膜の最大吸収波長はgθjnmであり。
反射率は3g%(g J Onm )  であった。ス
ペクトルの形状は巾広かった。
(C)  光記録法 上記記録媒体を’I In/sで回転させながら。
中心波長g30nm の半導体レーザー光でパで表わさ
れる化合物o、qqyを500−のエタノールに溶解し
たものに、 CoC1□・AH20θ、tIp y−を
水100m1に溶解したものを加え。
室温で1時間攪拌した。次いでN)(、PF6八2へ1
を水1oo−に溶解したものを滴下した。
さらに水lθOmtを添加、得られた沈殿を吸引−過し
、水洗、乾燥し、下記構造式で表わされる含金属インド
アニリン系化合カム〇5Iを得た。
水晶の可視部の吸収スペクトル(クロロホルム中)はλ
maXg OJ nm (εmax /gsOOO)で
あった。
本化合物の元素分析の測定値は、下記の辿り計算値とよ
く合致した。
(b)  記録媒体例 前記製造例(a)で得た含金属インドアニリン系化合物
の混合物0./ 5 ?をジアセトンアルコール1OL
i−に溶解し、0..22μのフィルターで濾過し、溶
解液を得た。この溶@ s mlを深さ700に、幅0
.7μの溝(グループ)2き射出成型ポリカーボネート
樹脂基板(Sインチ)上に滴下し、スピナー法により7
00rpmの回転数で塗布した。塗布後、AOCで70
分間乾燥した。
塗布膜の最大吸収波長はg OA nmであり。
反射率は36%(g 、7 o nm )であった。
(c)  光記録法 上記記録媒体を’I m/sで回転させながら。
中心波長g、30nm の半導体レーザー光でパルス幅
!; 00 n5ec  で照射したところ出カフ偏で
C/N比! & dBを得た。感度は膜浮に依存せずフ
ラットでコ充歪も−tIx dB  と初期特性は良好
、しかも保存安定性(A5℃。
gO%RH)も良好であり、光学記録媒体としてきわめ
て優れたものであった。
実施例g (a)  !!造例 下記構造式 で表わされる化合物/、θ7fをsoomtのエタノー
ルに溶解したものに+ NiCl2・AH20乙、乙1
を水/θ0−に溶解したものを加え、室温で7時間攪拌
した。次いでNH4PF、八26Iを水ioomeK’
FJ解したものを滴下、室温で約2時間攪拌した。次い
で水100−を加え沈殿を生成、その捷ま約1時間懸濁
状態で攪拌した。得られた沈殿を吸引濾過し、水洗乾燥
し、下記構造式で表わされる含金属インドアニリン系化
合物の混合物0.g 、2 jil−を得た。
本化合物の可視部の吸収スペクトル(クロロホルム中)
けλmax g 00 nm (εmaxigθooo
 )であった。
(b)  記録媒体例 前記製造例(a)で得た含金属インドアニリン系化合物
0./ s fをジアセトンアルコール101に溶解し
−0,22μのフィルターで濾過し、溶解液を得た。こ
の浴液5−を深さ’tooA−幅0.7μの溝(グルー
プ)つき。
射出成型ポリカーボネート樹脂基板(Sインチ)上に滴
下し、スピナー法により700rpmの回転数で塗布し
た。塗布後+ 40℃で10分間乾燥した。塗布膜の最
大吸収波長はgOJnmであり一反射率はり0%(g3
0nm)であった。スペクトルの形状は巾広かった。
(C)  光記録法 上記記録媒体をダm/sで回転させながら。
中心波長g30nm の半導体レーザー光でパルス1W
ii 300 n5ec  で照射したところ、出力b
rrwでC/N比!; 、7 dBを得た。保存安定性
(65℃、go%RH)も良好であり、光学記録媒体と
してきわめて優れたものであった。
実施例9 実施例5において用いた色素の代わりに下記第5表に示
した化合物を実施fjtjl sと同様に合成し、基板
上に塗布したところ、下記第5表に示す最大吸収波長を
もつ薄膜基板を得た。このようにして得られた薄膜に光
源として半導体レーザーを用いて書き込みを行なったと
ころ、均一かつ明瞭な形状のピットが得られた。感度、
C/N比も良好であり、初期特性(感度の膜淳依存性、
2次歪)は良好、しかも保存安定性も良好であり、光学
記録媒体としてきわめて優れたものであった。
前記実施例で用いた化合物の他1本発明の光学記録媒体
に好適に使用される含金属インドアニリン系化合物の具
体例は第6表に挙げられた化合物及び前記−形成1:l
V’〕おいてxi −x2 及びX3がコーCH,を表
わし、 yl −y2及びY3がH原子を表わし−R7
、R8、R11−RIO、R11及びR′2はいずれも
H原子を表わしており R1、R1’ 、 R1゜R4
−R’、 R’、  M及びPが後記第7表に示すもの
をおのおの表わしている化合物が挙げられる。
第 表 q 〔発明の効果〕 本発明のPF、″ を対アニオンとする含金属インドア
ニリン系化合物は、初期特性が良好、しかも保存安゛定
性にもすぐれ5両方の性能のバランスがとれているので
、該化合物を用いた光学記録媒体は有用なものである。
【図面の簡単な説明】
図−7は、実施例/に示したPF、″ を対アニオンと
する本発明の含金属インドアニリン系化合物1例の可視
部吸収スペクトルを表わすものであり、縦軸は吸光度、
横軸は波長(nm )を表わす。 図−コは、実施例1の含金属インドアニリン系化合物の
塗布薄膜の吸収スペクトルと反射スペクトルを表わすも
のであり、縦軸は左が吸光度、右が反射率を表わし、横
軸は波長(nm )を表わす。 図− 長(nny”)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
    〕 (式中、MはVIII族、 I b族、IIb族、IIIb族、IVa
    族、Va族、VIa族、VIIa族の金属原子、そのハロゲ
    ン化物及びその酸化物を表わし、環A、B、C、D、E
    、Fは置換基を有していてもよい。K^1、K^2、K
    ^3は置換または非置換の芳香族アミンの残基を表わす
    。l、m、nはそれぞれ0または1、ただしl+m+n
    はスまたは3を表わす。pは2、3または4を表わす。 ) で示される含金属インドアニリン系化合物。
  2. (2)基板上に担持された色素を含有する記録層に該色
    素に熱的変化を与える集束レーザー光を照射して、前記
    記録層に部分的な変化を生ぜしめて記録を行ない、次い
    で該変化部分の選択によって再生を行なう記録媒体にお
    いて、色素として前記一般式〔 I 〕で表わされる含金
    属インドアニリン系化合物を使用することを特徴とする
    光学記録媒体。
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