JPH0386582A - 光学記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学記録媒体の新規な製造方法に関する。

〔従来の技術〕

レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存釦
よび再生を可能とするため、近年、特に、開発が望筐れ
ている。

光学記録の一例としては、光ディスクを挙げることがで
きる。特に、小型で信頼性が高く、安価な半導体レーザ
ーの出現に伴ない、コンパクトディスク（ＣＤ）等の再
生専用型光ディスク、次いでＴｅ系無機材料を記録媒体
とする追記型光ディスクが実用化されてきた。これに対
して、新しい追記型媒体として検討されているレーザー
吸収色素を用いた有機色素系記録材料については、その
最大の特徴はスピンコード法等の塗布によシ成膜できる
点にあることから、常圧での高生産性により将来のコス
トダウンの可能性が期待されている。

一般に光ディスクは、円形の透明基板に設けられた薄い
記録層に、１μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、
高密度の情報記録を行なうものである。

記録は、照射されたレーザーエネルギーの吸収により、
その個所に生じた記録層の分解、蒸発、溶解等の熱的変
形により生威し、そして記録された情報の再生は、レー
ザー光により、変形が起きている部分と起きていない部
分の反射率の差を読み取ることにより行なわれる。

また、光ディスクの記録面には、正確な記録・再生を行
うため、案内溝があらかじめ形成されている。通常、こ
の案内溝はフォトポリマー法筐たは射出成形法により形
成されるが、前者の場合、フォトポリマーから型取りす
るために生産性が悪く高価であるという欠点を有してい
た。後者の場合は、射出成形法によるために生産性にす
ぐれ、安価なディスクを生産できるが、射出成形法に使
用できる樹脂は、加熱時の流動性が必要なため材料に制
約があり、一般に耐溶剤性が悪い。このような射出成形
プラスチック透明基板にレーザー吸収色素を溶液塗布に
よって薄膜形成させる場合、基板上の案内溝が塗布溶剤
に釦かされないことが必要であるが、塗布に使用できる
溶剤としては、従来はセロ・ノルフ系溶剤が知られてい
るのみであった。（特開昭６２−６７０６８号公報）。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記のような従来公知のセロソルブ系溶
剤には高濃度に溶解し得るレーザー吸収色素がほとんど
ないばかりか、かかるセロソルブ系溶剤では射出成形プ
ラスチック透明基板に対して基板をかかすことなく均一
に塗布することは難しいという問題があった。

本発明は、上記したような従来の課題を解決して、射出
成形透明プラスチック基板を用いた場合にも基板をかか
すことなく均一に塗布可能で、しかも、レーザー吸収色
素を高濃度に溶解する溶剤を用いた、光学記録媒体の新
規な製造方法の提供を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、かかる目的を遠戚すべく鋭意研究を進め
た結果、射出成形プラスチック透明基板を用いた場合に
も基板をかかすことなく均一に塗布可能で、しかもレー
ザー吸収色素を高て見出し、本発明に到達した。すなわ
ち、本発明は、有機色素の有機溶媒溶液を透明基板上に
塗布したのち乾燥して光学記録媒体を製造するに当シ、
前記有機溶媒としてヒドロキシアセチレン系化合物を用
いることを特徴とする光学記録媒体の製造方法を要旨と
するものである。

本発明に使用する透明基板としては、ガラス、プラスチ
ック等が挙げられるが、種々の点からプラスチックが好
適である。グラスチックとしては、アクリル樹脂、メタ
クリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロ
セルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロビレ／樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリサルホン
樹脂等が挙げられる。

特に好ましい透明基板としては、量産性にすぐれ、実用
的なレベルの複屈折、軟化点、耐熱性を有している射出
成形ポリカーボネート樹脂基板、ポリメタクリル樹脂基
板が挙げられる。

レーザー吸収色素としては、とドロキシアセチレン系溶
剤に高濃度に溶解するものが挙げられ、６００〜９００
ｎｍの波長帯域で吸収を有し、しかも分子吸光係数がｉ
ｏ’〜ＩＱ５ｃｍ−１であるものが好適である。

このような有機色素としては、フタロシアニン系色素、
ナフタロシアニン系色素、ネルマザ／ニッケル系色素、
シアニン系色素、ピコリン系色素、ナフトラクタム系色
素、アズレン系色素、スクワリリウム系色素、含金属イ
ンドアニリン系色素、含金属アゾ系色素、ジチオールニ
ッケル系色素、アントラキノン系色素、ビスアンスロン
系色素、フタロイルナフタルイミド系色素、シアノメチ
レンピロリン系色素、ナフトキノンメチド系色素、イン
ドアニリン系色素、ナフトキノン系色素、フェノチアジ
ン系色素、縮合環系色素等が挙げられる。

更に、本発明に釦いて特に好オしい有機色素としては、
例えば下記一般式〔１〕、〔口）　、（：Ｉ）、ＣＩＶ
）で表わされる色素化合物等が挙げられる。

一般式〔Ｉ〕 （ （式中、環ＡおよびＢ　は置換基を有していてもよいベ
ンゼン環またはナフタレン環を示し、Ｒ１およびＲ２は
Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基管たはアルケニル基を示し、ｎ
は０〜４の整数を示し、Ｘ−は陰イオンを示す。）で表
わされる化合物。

−数式（１） （、式中、Ａ２．Ｂ２はＣ′ＣＮ 〜。、または酸素原子を示 し、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は水素原子、アルキル基、
アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、７１０メチル
基または・・ロゲン原子を示し、Ｒ７，Ｒ８は水素原子
またはハロゲン原子を示す。）で表わされる化合物。

一散ズ（Ｉｆｆ） Ｒ９，，１０ 〔式中Ｒ９，Ｒ１０のうちのいずれか一つは−０（Ｃ２
Ｈ４０）　、　Ｒ１２（式中、Ｒ１１は分枝していても
よいアルキル基を、ｐは１〜６の整数をそれぞれ表わす
。）を示し、他の一つは水素原子を示し、Ａ３はｖｏ−
またはＣｕ、Ｎｉもしくはｃｏノ金属原子を示す。〕で
表わされる化合物。

−数式ＣＩＶ） （式中、Ｍは金属原子を示し、環Ａ４．Ｂ３は置換基を
有していてもよく、Ｑは置換または非置換の芳香族アミ
ンの残基を示し、２−は陰イオンを示し、ｍは２筐たは
３の数を示す。）で表わされる含金属インドアニリン系
化合物。

上記の一般式〔ｌ〕、〔ｌ〕、〔■〕釦よび（ＩＴ）で
表わされる有機色素に釦いて、環Ａ’　＆よび環Ｂ１の
ベンゼン環またはナフタレン環の置換基の例としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メ
チル基、エチル基等のアルキル基、トリフルオロメチル
基等の７１０ゲン化アルキル基、メトキシ基、エトキシ
基等のアルコキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキ
シアルコキシ基、エトキシエチル基等のアルコキシアル
キル基等が挙げられる。

Ｒ１＞よびＲ２のＣ１〜Ｃ８のアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、直鎖状または分枝状のプロピル基、
ブチル基、べエチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基が挙げられ、アルケニル基としてはアリル基、２
−メチルアリル基、３−メチルアリル基、２−ブロモア
リル基、３−ブロモアリル基、２−クロロアリル基、３
−クロロアリル基等が挙げられる。

Ｘ−１ｚ−の陰イオンとしては、ｌ−１Ｂｒ−１Ｃ１，
、きる。

Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒｅ　　で示されるアルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、直鎖状又は分岐状のプロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、ヘキシル基
、オクチル基等のＣ０〜８のアルキル基が挙げられる。

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、直鎖
状又は分岐状のプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオ
キシ基、ヘプチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチ
ルオキシ基等の０１〜８のアルコキシ基が挙ケラれる。

また、アルコキシアルコキシ基としては、メトキシエト
キシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、
ブトキシエトキシ基等が挙げられ、ハロメチル基として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基等が挙げられる。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、□臭素原子、塩素
原子、ヨウ素原子が挙げられる。

筐た　Ｒ７、Ｒ８で示されるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子が挙げられ
る。

、筐た、Ｑで表わされる置換もしくは非置換の芳香族ア
ミンの残基としては、例えばテトラヒドロキノリン類、
又は−数式 （式中、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ水素原子、・・ロ
ゲン原子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基
、アルキルスルホニルアミノ基又はアルコキシカルボニ
ルアミノ基を表わす。Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ、水
素原子、アルキル基、アリール基又はシクロヘキシル基
を表わし、そのアルキル基、アリール基又はシクロヘキ
シル基は炭素数１〜２０であり、置換基として、例えば
アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシア
ルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、アリール基、
アリルオキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、テトラヒド
ロフリル基等を有していてもよい。）で表わされる基が
挙げられる。

Ｍとしては、■族、Ｉｂ族、Ｉｂ族、ｌａ族、■ａ族、
Ｖａ族、■ａ族、■ａ族の金属原子が挙げられ、好１し
くはＮｉ　、　Ｃｕ、　Ｃｏの金属原子が挙げられる。

環Ａ４　　環Ｂ３の置換基としては、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、
アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルア
ミノ基等が挙げられる。

本発明の製造法にお・いて、塗布による記録層の成膜は
、前用一般式〔ｌ〕、ｒＩ〕、〔■〕卦よび［”ｌＶ）
で表わされる有機色素を、その１１あるいはバインダー
とともにヒドロキシアセチレン系溶剤中に溶解させたも
のをスピンコードすることにより実施される。その際使
用するバインダーとしては、ヒドロキシアセチレン系溶
剤に溶解するものであればよい。

本発明に使用するヒドロキシアセチレン系溶剤としては
、通常、炭素数３〜８の脂肪族ヒドロキシアセチレン系
溶剤が挙げられ、具体的には例えば下記のものなどを挙
げることができる。

ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ２ ＣＨ３ −Ｃ−Ｃ三ＣＨ。

Ｈ ＣＨ３−ＣＨ２ ＣＨ３ ＣＨ２ −Ｃ−Ｃ＝　ＣＨ Ｈ ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ２ Ｈ これらのうち、好ましいものと しては、 沸点 ２０〜１ ０℃のもの、 特に下記構造式 ％式％ で示される化合物等が挙げられる。

本発明のヒドロキシアセチレン系溶剤に対スる有機色素
の比率は、特に好！シ＜は０．５〜３．０重量優である
。筐た、バインダーに対する有機色素の比率は１０重重
量風上が好ましい。

このように有機色素を溶解させた溶液は、０．３μｍ以
下のフィルターで済過することが好筐しい。

スピンコードの回転数は５００〜２０００ｒｐｍが好筐
しい。スピンコードの後、場合によっては加熱あるいは
溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよい。筐た、塗
布膜の膜厚は３００〜３０００Ａが好ましい。

更に、記録媒体の安定性や耐光性向上のために一重項酸
素クエンチャーとして還移金属キレート化合物（アセチ
ルアセトナート、ビスフエニルジチオール、サリチルア
ルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等のキレ
ート）を含有していてもよい。

本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両面に設けても
工いし、片面だけに設けてもよい。

上記のようにして得られた記録媒体への記録は、基体の
両面または、片面に設けた記録層に１μｍ程度に集束し
たレーザー光、好壕しくは、半導体レーザーの光をあて
ることによシ行なう。

レーザー光の照射された部分には、レーザーエネルギー
の吸収による、分解、蒸発、溶融等の記録層の熱的変形
が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取ることにより行なう。

光源としては、各種のレーザーを用いることができるが
、価格、大きさの点で、半導体レーザーが特に好筐しい
。半導体レーザーとしては、中心波長８３０ｎｍ、中心
波長７８０　ｎｍのレーザーが望ましい。

〔実施例〕

次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明は以下の実施例にょう制限されるものではない。

実施例１ 上記式〔Ｖ〕で表わされるシアニン系色素１２を、下記
構造式 で示されるヒドロキシアセチレン系溶剤ｓｏｒに溶解し
、０．２２μＭのフィルターで濾過Ｌ、溶解液を得た。

この溶液２　ｍＪを、深さ７００Ａ、巾０．７μｍの溝
（グループ）つき射出成形メタクリル樹脂基板（直径１
３０ｍ）上に滴下し、１２００ｒｐｍの回転数で塗布し
た。塗布後、６０℃で１０分間乾燥した。膜厚測定のた
め、同一条件でガラス板に塗布してα−ステップによる
膜厚測定をしたところ、１５００Ａであった。

塗布膜の最大吸収波長は７９０　ｎｍであり、そのピー
クは巾広かった。

この塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レーザー
光を、出力６’ｍＷのビーム径１μｍで照射したところ
、巾約１μｍ１　ピット長約２μｍの輪郭の極めて明瞭
な孔（ビット）が形成された。キャリヤーレベル／ノイ
ズレベル（Ｃ／Ｎ）比は５ｚｄＢであった。保存安定性
（６０℃、８０％ＲＨ）も良好であった。

実施例２ 上記式（Ｖｌ）で表わされるシアニン系色素１２とニト
ロセルロースｔｓｙ（ダイセル化学社製、Ｒ８−２０）
を、下記構造式 で示されるヒドロキシアセチレン系溶剤５０２に溶解し
、０．２２μｍのフィルターで済過し、溶解液を得た。

この溶液の３ｍｌを、深さ６５０Ａ１巾０．７μｍのグ
ループつき射出成形メタクリル樹脂基板（直径１２０ｍ
）上に滴下し、１５００　ｒｐｍの回転数で塗布した。

塗布後、６０℃で１０分間乾燥した。膜厚測定のために
、同様な方法でガラス板に塗布し、α−ステップにより
測定したところ、膜厚１２００Ａであった。

塗布膜の最大吸収波長は８２０　ｎｍであり、ピークは
巾広かった。

この塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レーザー
光を、出力６ｍＷのビーム径１μｍで照射したところ、
巾約１μｍ１　ビット長約２μｍの輪郭の極めて明瞭な
ビットが形成された。

Ｃ／Ｎ比はｓ　１　ｄＢであった。保存安定性（６０℃
、８０％ＲＨ）も良好であった。

比較例１−１〜２−２ 実施例１で示されるシアニン系色表を用い、本発明のヒ
ドロキシアセチレン系溶剤を使用した実施例の場合とそ
れ以外の従来の溶剤を使用した比較例の場合とについて
、射出成形ポリカーボネート透明基板への影響〔白化、
溝ブレの有無〕訃よび塗布膜の結晶化を比較したところ
、本発明の実施例の方が著しくすぐれていた。

渣た、実施例２で示されるシアニン系色素を用い同様の
比較を行ったところ、本発明の実施例の方が著しくすぐ
れていた。

以上の比較結果を下記第１表に筐とめて示す。

実施例３ 上記式〔■〕で表わされるナフタロシアニン系色素を、 下記構造式 で示されるヒ ドロキシアセチレン系溶剤に溶解 し、 係の溶液を調製し、 この溶液をスピンコ ード法（回転数１ ｐｍ 〉 によりグループ 付きの射出成形メタクリル樹脂基板上に塗布した。塗布
された薄膜（記録層）の最大吸収波長は８４０ｎｍであ
り、その吸収ピークは巾広かった。

この薄膜に、中心波長８３０ｎｍのレーザー光を出力４
ｍＷ、ビーム径約１μｍで照射したところ、巾約１μｍ
１　ビット長さ約２μｍの輪郭の極めて明瞭なビットが
形成され、そのときのＣ／Ｎ比は５１　ｄＢであった。

筐た、その保存安定性は、温度６０℃、相対湿度８０％
の恒温・恒湿槽中で１０日間保存した後の半導体レーザ
ー光による書き込み性能のＣ／Ｎ比によるとｓ　ｌｄＢ
であった。

実施例４ 上記式〔■〕で表わされる含金属インドアニリン系色素
０．１５　Ｆを、下記構造式 で示されるとドロキシアセチレン系溶剤１０２に溶解し
、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解液を得た。

この溶液５　ｍｌ　　を板厚１．２箇の１．６μｍピッ
チのグループつきポリカーボネート樹脂基板（射出成形
品、直径５インチ）上に滴下し、スピナー法によｉ）　
８００　ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で
１０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長はｓｏｓｎｍ
であり、その反射率は３４％（８３０ｎｍ）であった。

上記記録層を成膜した５インチのポリカーボネート樹脂
基板を４　ｍ　／　ｓで回転させながら、中心波長８３
０ｎｍの半導体レーザー光でパルス幅５００　ｎ５ｅｃ
で照射したところ、出力６ｍＷでＣ／Ｎ比５４　ｄＢを
得た。保存安定性（６０℃、８０多ＲＨ）も良好であっ
た。

〔発明の効果〕

本発明の製造方法によれば、レーザー吸収色素を高濃度
に溶解し、射出成形プラスチック透明基板を用いた場合
にも基板を釦かす（白化、溝ダレ等）ことなく均一に塗
布可能であり、塗布時に結晶化もなく、得られた塗布膜
は保存安定性にすぐれ、反射率が高く、高感度でＣ／Ｎ
比も高い、光学記録媒体を工業的有利に製造し得る、と
いう顕著な効果を奏することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）有機色素の有機溶媒溶液を透明基板上に塗布した
   のち乾燥して光学記録媒体を製造するに当り、前記有機
   溶媒としてヒドロキシアセチレン系化合物を用いること
   を特徴とする光学記録媒体の製造方法。