JPH0273865A - 含金属化合物及び該化合物を使用した光学記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、含金属化合物及び該化合物を記録媒層に用い
た光学記録媒体に関するものである。

〔従来の技術〕

レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存及
び再生を可能とするため、近年、特にその開発がとシす
すめられている。

光学記録の一例としては、光ディスクをあげることがで
きる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、１μｍ程度に集束したレザー光を照射し、高密
度の情報記録を行なうものである。その記録は、照射さ
れたレーヤ′−光エネルギーの吸収によって、その個所
の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を生成させ
ることにより行なわれる。また、記録された情報の再生
は、レーザー光によシ変形が起きている部分と起きてい
ない部分の反射率の差を読み取ることにより行なわれる
。

したがって、光学記録媒体としては、し〜ザ光のエネル
ギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用す
る特定の波長のレーザ光に対する吸収が大きいこと、情
報の再生を正確に行なうため、再生に使用する特定波長
のレザー光に対する反射率が高いことが必要と彦る。

この種の光学記録媒体としては、種々の構成のものが知
られている。例えば、特開昭５５９７０３３号公報には
、基板上にフタロシアニン系色素の単層を設けたものが
開示され、また、特開昭５８−８３３４４号公報にはフ
ェナレン系色素を、特開昭５８−２２４７９８号公報に
はナフトキノン系色素を記録層に設けたものが開示され
ている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記のような従来のフタロシアニン系色
素は感度が低く、また分解点が高く蒸着しにくい等の問
題点を有し、さらに有機溶媒に対する溶解性が著しく低
く、塗布によるコーティングに使用することができない
という問題点も有している。また、上記のような従来の
フェナレン系やナフトキノン系色素は蒸着しゃすい利点
のある半面、反射率の低いという問題点を有している。

反射率が低いとレーザー光により記録された部分と未記
録部分との反射率に関係するコントラストは低く々す、
記録された情報の再生が困難となる。更に、一般に有機
系色素は、保存安定性が劣るという問題点を有している
。

本発明は、上記のような従来の課題を解決することので
きる、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布によるコー
ティングが可能で、しかも、反射率が高く、コントラス
トが良好で保存性にすぐれている含金属化合物及び該化
合物を用いた光学記録媒体の提供を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、レーザー光線により状態変化を主索として好
適な下記一般式ＣＩ〕で示される含金属化合物及び該化
合物を記録媒層の色素として基板に担持させた光学記録
媒体を要旨とするものである。

更に詳しくは、本発明の含金属化合物は、下記一般式〔
１〕 若しくはハロゲン化物を表わし、Ｋは置換又は非置換の
芳香族アミンの残基を表わし、ｎは２又は３の数を表わ
し、Ｑは陰イオンを表わす。）で示される含金属化合物
である。

前記一般式〔１〕中、Ｋで示される置換若しくは非置換
の芳香族アミンの残基としては、例えば、窒素原子、酸
素原子又はイオウ原子を含有する複素環アミンの残基、
テトラヒドロキノリン類、シュ（＋　１７ジン又は下記
一般式（式中、Ｘａ及びｙｂは水素原子、アルキル基、
アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アル
キルスルホニルアミノ基、アルコキシ基又はハロゲン原
子を表わし、Ｒａ及びＲ５は水素原子、炭素数１０〜２
ｏの置換若しくは非置換のアルキル基、アリール基、ア
リル基又はシクロヘキシル基を表わす。）で示される基
等が挙げられる。そして、Ｒａ及びＲｈで示されるアル
キル基、アリール基、アリル基又はシクロヘキシル基の
置換基としては、例えば、アルコキシ基、アルコキシア
ルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキ／基、シアノ基、
ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、アルキルスルホ
ニルアミノ基等が挙げられる。

好ましいものとしては、一般式ＣＩ） （式中、ＭはＮｉ　、　Ｃｕ　、　Ｃｏ　、　Ｚｎ　、
　Ｆｅ　、　Ｐｄ又はｐｔ　の金属原子を表わし、Ｘ、
Ｙは水素原子、）・ロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アシルアミノ基、アルフキ／カルボニルアミノ基
又はアルキルスルホニルアミノ基を表わし、Ｒ’、Ｒ２
ハ水素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のア
ルキル基、置換若しくは非置換のアＩＪ−ル基、置換若
しくは非置換のアルケニル基又は置換若しくは非置換の
シクロアルキル基を表わし、ｎは２又は３の数を表わし
、Ｑは陰イオンを表わす。）で示される含金属化合物が
挙げられる。

特に好ましいものとしては、一般式帽〕（式中、ＭはＮ
ｉ　、　Ｃｕ　、　Ｃｏ　、　Ｚｎ　、　Ｆｅ　、　Ｐ
ｄ又はｐｔの金属原子を表わし、Ｘｌは水素原子又は炭
素数１〜４のアルキル基を表わし、Ｒ３，Ｒ４は炭素数
１〜８のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキ
シアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコ
キシアルキル基、アリルオキシアルキル基、アリールア
ルキル基、アリールオキシアルキル基、シアノアルキル
基、ヒドロキ７アルキル基、テトラヒドロフリルアルキ
ル基。

アルキルスルホニルアミノアルキル基、アシルオキシア
ルキル基又はアルケニル基を表わし、ｎは２又は３の数
を表わし、Ｑは陰イオンを表わす。）で示される含金属
化合物が挙げられ、なかでもＲ３，Ｒ４については炭素
数１〜６リアルキル基を表わすものが好ましい。

また、一般式（１）、（Ｉ［）及び（１）中、Ｑで表わ
される陰イオンとしては、例えばｌ−１Ｂｒ−１Ｃｆ、
Ｆ−１ｃ７１ｏ４−１ＰＦ６−１ＳｂＦ６−１ＢＦ４−
１ＳＣＮ−１で示される８−アミノキノリンに、下記一
般式２　Ｓ　ｓＦ６．２　Ｚ　ｒ　Ｆｓ　”−等が挙げ
られるが、好ｔｊ。

いのは■−１Ｂｒ−１Ｃ７！−１ＣＩｑ−１ＰＦ６スＳ
ｂ　Ｆ、−等の陰イオンである。

前記一般式（ＩＬ　　（１）及び帽〕で示される本発明
の含金属化合物は、６００〜８００　ｎｍの波長帯域で
吸収を有し、しかも分子吸剋係数が１０５備−１以上の
高い値を有し、光学記録媒体としてすぐれた適性を有し
ている。

本発明の前記一般式［：Ｉ）、（１）及び〔厘〕で示さ
れる含金属化合物の一般的合成は、例えば下記構造式 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ”、Ｒ２は前記一般式〔１，１にお
ける定義に同じ。）で示される化合物の塩酸塩の酸化的
縮合を行ない、下記一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ｙは上記定義に同じ。ンで示
される化合物を得、次いで該化合物を下記−般式 （式中、Ｍ、Ｑは前記定義に同じ。）で示される化合物
と反応させることによって、下記一般式（式中、Ｍ、　
Ｘ、　Ｘ、　Ｙ、　Ｒ’　、Ｒ２，ｎ、　Ｑは前記一般
式〔１〕における定義に同じ。ンで示される含金属化合
物を得ろ方法（；より実才＆丁４ごヒｌｉ’ｓ”ｌ”き
る。

本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と含金属化合
物を含む記録媒層とから構成されるものであるが、さら
に必要に応じて基板上に下引き層を、また記録媒層上に
保護層を設けることができる。

本発明における基板としては、ガラス、グラスチック、
紙、板状又は箔状の金属等の一般の記録材料の支持体と
して用いられるものが挙げられるが、プラスチックが種
々の点から好適である。プラスチックとしては、アクリ
ル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル
’ＩＪ　脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポ
リプロピレン樹脂、ポリカルボネート樹脂、ポリイミド
樹脂、エポキシ樹脂、ポリザルホン樹脂等が挙げられる
。

本発明の光学記録媒体における情報記録媒層として含金
属化合物を使用する際、膜厚は１００Ａ〜５μｍ１好ま
しくは１００ＯＡ〜３μｍである。

成膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドク
ターブレード法、キャスト法、スピナ法、浸漬法など一
般に行なわれている薄膜形成法で成膜することができる
。また、必要に応じてバインダーを使用することもでき
る。バインダーとしてはポリビニルアルコール、ニド０
セルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、
ポリカーボネートなど既知のものが用いられ、色素に対
する樹脂の量は５０ｗｔ％以下であることが好ましい。

スピナー法により成膜の場合、回転数は５００〜５００
０ｒｐｍが好ましく、スピンコードの後、場合によって
は、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なって
もよい。また、記録体の安定性や耐光性向上のために、
−事項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物
（だとえば、アセチルアセトナトキレート、ビスフエニ
ルジチオール、サリチルアルデヒドオキ７ム、ビスジチ
オ−α−ジケトン等）を含有していてもよい。更に、必
要に応じて他の色素を併用することができる。他の色素
としては、別の種類の同系統の化合物でもよいし、トリ
アリールメタン系色素、アゾ染料、／アニン系色素、ス
クワリリウム系色素など他系統の色素でもよい。

ドクターブレード法、キャスト法、スピナ法、浸漬法、
特に、スピナー法等の塗布方法により記録媒層を形成す
る場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエタン、ブロ
モホルム、ジブロモエタン、エチルセロソルブ、キシレ
ン、クロロベンゼン、ンクロヘキサノン等ノ沸点１２０
〜１６０℃のものが好適に使用される。

この中でも、高生産性・コスト・耐吸湿性にすぐれる射
出成型ポリカーボネート樹脂基板に対しては、該基板を
おかすことなく、好適に使用できる溶媒として特に、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶
媒；ジアセトンアルコール、３−ヒドロキン−３−メチ
ル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒が挙けら
れる。

本発明の光学記録媒体の記録媒層は基板の両面に設けて
もよいし、片面だけに設けてもよい。

上記のようにして得られた記録媒体への記録は、基体の
両面又は、片面に設けた記録媒層に１μｍ程度に集束し
たレーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあて
ることによシ行なう。

レーザー光の照射された部分には、レーザーエネルギー
の吸収による、分解、蒸発、溶融等の記録媒層の熱的変
形が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取ることにより行なう。

本発明の光学記録媒体について使用されるレーザー光は
Ｎ２、Ｈｅ−ＣｄＸＡｒＸＨｅ−Ｎｅ、ルビー半導体、
色素レーザーなどがあげられるが、特に、軽量性、取扱
いの容易さ、コンパクト性などの点から半導体レーザー
が好適である。

〔実施例〕

次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明は以下の実施例によシ制限されるものではない。

実施例１ （ａ）　　製造例 ８−アミノキノリン７、２　Ｏｒ　（０，０５モル）を
アセトン２００ｍ１に溶解し、アンモニア水５０ｍ１を
加えた。０〜５℃でかくはんしながら、４−ジエチルア
ミノ−２−メチルアニリン塩酸塩１０．７３２（００５
モル）を水１００ｍＪ中に溶解させた溶液と過硫酸アン
モニウム２３．２６９を水２００ｍｊＪ中に溶解させた
溶液とを、約３０分間で同時に加えた。０℃〜５℃でさ
らに１時間かくはんした後、結晶を濾過、水洗した。得
られた結晶にメタノール１００ｍ７１を加え室温で１時
間かくはんした後、結晶を濾過、乾燥し、下記構造式〔
イ〕で示される化合物６．７２　Ｆを得た。

この化合物の構造は、マススペクトルにより確認したも
のである。

このようにして合成された上記構造式〔イ〕で示される
化合物１．０　Ｏｆをエタノール２００ｍ１に溶解し、
室温でかくはんしながら、過塩素酸ニッケル６水和物０
．８６　Ｆを水５０ｍ１中に溶解させた溶液を約３０分
を要して加えた。室温で２時間かくはんした後、生成し
た結晶を、濾過水洗、乾燥し、下記構造式〔口〕で示さ
れる化合物０．６１を得た。この化合物のクロロホルム
溶液中での最大吸収波長は６８７　ｎｍ、分子吸光係数
は６．５Ｘ１０’であった。

（ｂ）　　記録媒体例−１ 前記製造例（ａ）で得た含金属化合物０．１２をテトラ
クロロエタン１０ｆ’に溶解し、０２２μのフィルター
で濾過し、溶解液を得た。この溶液１　ｍ７Ｉをポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）ｌ脂基板（５２φ）の
上に滴下し、スピナー法により８００ｒｐｍの回転数で
塗布した。塗布後、６０℃で１０分間乾燥した。塗布膜
の最大吸収波長は７２０　ｎｍであり、スペクトルの形
状は巾広かった。

（Ｃ）光記録法−１ この塗布膜に、中心波長７８０ｎｍの半導体レザー光を
出力６ｍＷで照射したところ、輪郭の極めて明瞭なビッ
トが形成された。

この塗布膜は高温高湿下（６０℃、８０チＲＨ）での促
進テストで２０日以上安定であった。

（ｄ）　　記録媒体例−２ 前記製造例（ａ）で得た含金属化合物０．１２をエチル
セロノルブ１０２に溶解し、０．２２μのフィルターで
濾過し、溶解液を得た。この溶液５ｍ！を板厚１．２■
の１．６μｍピッチの溝（グループ）つきポリカーボネ
ート樹脂基板（射出成型品、５インチ）上に滴下し、ス
ピナー法により８００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布
後、６０℃で１０分間乾燥した。

（ｅ）光記録法−２ 上記記録媒体を成膜した５インチのポリカーボネート樹
脂基板を４ｒｒＶ′Ｓで回転させながら、中心波長７８
０　ｎｍの半導体レーザー光でパルス幅５００　ｎ５ｅ
ｃで照射したところ、高いＣハ　比を得た。保存安定性
（６０℃、ｓｏ％ＲＨ）　　も良好であった。

実施例２ （ａ）　　製造例 実施例１において下記構造式 ％式％） で表わされる化合物１．１４２を用いた以外は実施例１
と同様に行ない、下記構造式で表わされる含金属化合物
を得た。

本化合物の可視部の吸収スペクトル（クロロホルム中）
は、λｍａｘ　７０２　ｎｍであった。

（ｂ）　　記録媒体例 前記製造例（ａ）で得た含金属化合物を実施例１に記載
の方法に従って、溝（グループ）つきＰＭＭＡ樹脂基板
上にスピナー法による塗布を行なった。塗布膜の最大吸
収波長は７３５　ｎｍであり、スペクトルの形状は巾広
かった。

（Ｃ）光記録法 上記のＰＭＭＡ樹脂基板を４　ｍ　／　ｓで回転させガ
から、中心波長７８０　ｎｍの半導体レーザー光で、パ
ルス幅５００　ｎ５ｅｃで照射したところ、高いＣ／Ｎ
比を得た。

保存安定性（６０℃、８０％ＲＨ）も良好であった。

実施例３ 実施例１において用いた化合物の代わりに下記第１表に
示した化合物を使用して塗布したところ、第１表に示す
最大吸収波長をもつ薄膜基板を得た。このようにして得
られた薄膜に光源として半導体レーザーを用いて書き込
みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状のビットが得
られた。Ｃ／Ｎ比も高く良好であり、保存安定性（６０
℃、８０％ＲＨ）も良好であった。

前記実施例で用いた化合物の他、本発明の光学記録媒体
に好適に使用される本発明のａ金属化合物の具体例とし
ては、さらに下記第２表及び第３表に示すように挙げる
ことができる。

まず、前記一般式〔１〕（但し、ＱをＺ−で表わす。）
で示されるものを下記第２表にまとめて示す。

第 表 （その２） （その１ （その３ 第 表 （その４ 第 表 （その６） 第 表 （その５） 第 表 （その７ 第 表 （その８ 第 表 （その１０ 嬶 イ〈 （その９ 第 表 （その１１） （その１２） 次に、前記一般式ＣＩ）で示される前記具体例以外のも
のであって、本発明の光学記録媒体に好適に使用される
含金属化合物の具体例を下記第３表に示す。

〔発明の効果〕

本発明の新規な含金属化合物は、有機溶媒に対する溶解
性が高く、塗布による基板面へのコティングが可能であ
り、しかも耐光性、耐熱性良好で且つ保存安定性にすぐ
れているばかりでなく、反射率が高く、コントラストも
良好である、という工業的価値ある顕著な効果を奏する
ものである。

また、本発明の光学記録媒体は、記録媒層の光吸収物質
としてかかる新規な本発明の含金属化合物を含有してい
るので、耐光性、耐熱性、保存安定性にすぐれ、しかも
その反射率は高く、コントラストも良好なげかりでなく
、該記録媒層の薄膜の最大吸収波長のピークは巾広く、
この薄膜にレーザー光を入射させると輪郭の極めて明瞭
なビット（孔）が形成され、しかもそのＣ／Ｎ比は高く
良好である、という顕著な効果を奏するものである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼……〔 I 〕 （式中、ＭはVIII族、 I ｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ
   族、Ｖａ族、VIａ族若しくはVIIａ族の金属原子又はそ
   の酸化物若しくはハロゲン化物を表わし、Ｋは置換又は
   非置換の芳香族アミンの残基を表わし、ｎは２又は３の
   数を表わし、Ｑは陰イオンを表わす。）で示される含金
   属化合物。
2. （２）基板上に担持させた色素よりなる記録媒層に該色
   素に熱的変化を与える集束レーザー光を照射して、前記
   記録媒層に部分的な変化を生ぜしめて記録を行い、次い
   で該変化部分の選択によって再生を行う記録媒体であっ
   て、基板に前記記録媒層の色素として請求項１記載の一
   般式〔 I 〕で示される含金属化合物を担持せしめたこ
   とを特徴とする光学記録媒体。