JPS6375065A - メチン系化合物及び同化合物を含む光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （、）発明の目的 （産業上の利用分野） 本発明は光吸収性を有するメチン系化合物、及び同化合
物を用いた光記録媒体に関する。

（従来の技術） レーザー光等を用いる光学記録は、情報を高密度に記録
保存でき、かつその記録を容易に再生利用できるもので
あシ、その−例として光ディスクがあげられる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、１篇程度に集束したレーデ−光を照射し、高密
度の情報記録を行なうものである。

その記録は、照射されたレーデ−光エネルギーの吸収に
よって、その個所の記録層に分解、蒸発、溶解等の熱的
変形が生じることによ）行なわれる。

また、その記録された情報の再生は、レーデ−光によシ
変形が起きている部分と起きていない部分の反射率の差
を読み取ることＫよシ行なわれる。

したがって、光記録媒体の記録層は、レーデ−光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用
する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこと
、情報の再生を正確に行なうため、再生に使用する特定
波長のレーデ−光に対する反射率が高い仁とが必要とな
る。

仁の種の光記録媒体としては、従来、種々の構成のもの
が知られている。たとえば、特開昭５５−９７０３３号
公報には、基板上に７タロシアニン系色素の単層を設け
たものが開示されている。しかし、フタロシアニン系色
素は感度が低いし、分解点が高く蒸着しにくいし、さら
に有機溶媒に対する溶解性が著しく低いので、記録層を
形成せしめる丸めの塗布によるコーティングが困難であ
る等の欠点がある。

また、特開昭５８−８３３４４号公報には７工ナレン系
色素を、特開昭５８−２２４７９３号公報にはナフトキ
ノン系色素を記録層に設けたものが開示されている。し
かし、これらの色素は蒸着させやすい利点を有する反面
において、反射率が低いという欠点がある。反射率が低
いと、レーザー光による記録された部分と未記録部分と
の反射率のコントラストが低くなシ、記録された情報の
再生が困難になる。

また、特開昭５９−２４６９２号公報、特開昭５９−６
７０９２号公報、特開昭５９−７１８９５号公報には、
シアニン系色素を記録層に設けたものが開示されている
。しかし、このような色素は塗布によるコーティングが
容易である利点があるが、耐光性に劣）、再生光によシ
劣化を起す欠点がある。

（発明が消失しようとする問題点） 本発明は、有機溶媒に対する溶解性及び反射率が高く、
かつ耐光性及び再生光に対する耐光に優れた新規な光吸
収性メチン系化合物の提供、及び同化合物を含有する記
録層を有する光記録媒体の提供を目的とするものである
。

（ｂ）発明の構成 （問題点を解決するための手段） 本発明のメチン系化合物は、一般式 ％式％ （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、ハロダン原
子、とドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、シアノ
基、ニトロ基、アルコ中シヵルゲエル基、アリールオキ
シカル−ニル基、モノ若しくはジアルキルアミノカル−
エル基、アルキルカルー二ルオ中シ基、アリールカルが
ニルオキシ基、アルコキシカルがニルオキシ基及びアリ
ールオキシカルがニルオキシ基から選ばれる原子又は基
を表わし、Ａは置換若しくは非置換の芳香族アミンの芳
香族環の水素原子を１個除いた残基を表わす。） で示される化合物である。

また、本発明の光記録媒体は、基板及び光吸収性色素含
有の記録層を有する光記録媒体において、光吸収性色素
が一般式 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、ハロダン原
子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、シアノ
基、ニトロ基、アルコキンカル−ニル基、アリールオキ
シカルがニル基、モノ若しくはジアルキルアミノカルゲ
ニル基、アルキルカルがニルオキシ基、アリールカルが
ニルオキシ基、アルコキシカル？ニルオキシ基及びアリ
ールオキシカルがニルオキシ基から選ばれる原子又は基
を表わし、Ａは置換若しくは非置換の芳香族アミンの芳
香族環の水素原子１個を除いた残基を表わす。） で示されるメチン系化合物であることを特徴とする光記
録媒体である。

前記一般式（１）における人で表わされる置換若しくは
非置換の芳香族アミンの芳香族ＳＯ水素原子１個を除い
た残基としては、たとえば窒素原子、酸素原子若しくは
イオウ原子を含有する複素環アミンの残基、テトラヒド
ロキノリン類、又は一般式 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロダン原子、
アルキル基、アシルアミノ基、アル；キシカルがニルア
き）基、アルキルスルホニルアミノ基及びアルコキシ基
から選ばれる原子又は基を表わし、Ｒ及びＲｌｂそれぞ
れ水素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換アル
キル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しく
は非置換のアリル基及び置換若しくは非置換のシクロヘ
キシル基から選ばれる原子又は基を表わす。） で示される基等があげられる。

前記一般式Ｑｌ）におけるＲ又はＲで示されるアル牟ル
基、アリール基、アリル基又はシクロヘキシル基の置換
基としては、たとえばアルコキシ基、アルコキシアルコ
キシ基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、と
ドロキシ基、テトラヒドロフリル基等があげられる。

前記一般式（１）で示されるメチン系化合物は、６００
〜８５０ｎｍの波長帯域で吸収を有し、しかも分子吸収
係数が１０〜１０　ａｍ　　である。

前記一般式（１）で示されるメチン系化合物の中で特に
好ましいのは、一般式 〔式中、Ｒ、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｒ、Ｒは、それぞれ前記一般
式（１）又は（ＩＩ）において定義したものと同じであ
る。〕 で示されるメチン系化合物である。

前記一般式（ＩＩＩ）で示されるメチン系化合物は、一
般式 ｃ式中、Ｒ’、Ｒ”はそれぞれ前記一般式（１）で定義
したものと同じものである。〕 で示される化合物と、一般式 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、Ｒはそれぞれ前記一般式〇）で定
義したものと同じものである。〕で示されるシンナミッ
クアルデヒド類とを縮合させることＫよって製造するこ
とができる。

次に、本発明の光記録媒体は、基本的には基板と前記一
般式（１）で示されるメチン系化合物を含有する記録層
とから構成されるが、さらに必要に応じて基板上に下引
き層を、また記録層上に保護層を設けることができる。

本発明における基板としては、使用するレーデ−光に対
して透明又は不透明のいずれであってもよい。基板の材
質としては、ガラス、７”ラスチック、紙、板状若しく
は箔状の金属等の一般のこの種記録体用の支持体が使用
できるが、種々の点からしてグラスチックが好ましい、
そのグラスチックとしては、たとえばアクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニト
ロセルロース、４リ工チレンｍ＃ｄすｆロピレン樹脂、
？リカーがネート樹脂、４リイミド樹脂、−リサルホン
樹脂、ニブキシ樹脂等があげられる。

本発明の光記録媒体におけるメチン系化合物を含有する
記録層の厚さは、１００又〜５μ惧、好ましくは５００
Ｘ〜３都である。

その記録層形成のための成膜法としては、真空蒸着法、
スノ々ツタリング法、ドクターブレード法、キャスト法
、スピナー法、浸漬法などの一般的に行なわれている薄
膜形成法が用いられる。

その記録層の形成には、メチン系化合物にバインダーを
併用することができ、そのバインダーとしてはＩリビニ
ルアルコール、ぼりビニルピロリ也 トン、ニトロセルロースｌ：酸４ルロース、ポリビニル
ブチ２−ル、Ｉリビニルカーゼネートナトの樹脂類が使
用される。これらの樹脂類の使用量はメチン系化合物に
対して重量比で０．１重量−以上が望ましい。

前記のドクターブレード法、（ヤスト法、スピナー法、
浸漬法、特にスピナー法で記録層を形成する場合には塗
布溶媒が使用され、その溶媒としては、たとえばテトラ
クロロエタン、ブロモホルム、ジブロモエタン、エチル
セロソルブ、キシレン、クロロベンゼン、シクロヘキサ
ノン等）沸点が１２０〜１６０℃の溶媒が好適に使用さ
れる。

また、スピナー法による成膜は回転数５００〜５０００
　ｒｐｍが好ましく、ス♂ンコート後に、場合によりて
加熱或いは溶媒蒸気にあてるなどの処理を行なってもよ
い。

記録層には、記録層の安定性や耐光性向上のために、−
１項酸素のエンチャーとして遷移金属キレート化合物（
たとえばアセチルアセトナートキレート、ビスフェニル
ジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ
ール−α−ジケトン等）又は三級アミン化合物を含有せ
しめてもよい。

さらＫ、記録層には必要に応じて他の色素を併用するこ
とができる。その他の色素としてはす７トラフタム系色
素、トリアリールメタン系色素、７ノ色素、シアニン系
色素、スクアリリウム系色素、インドアニリン系色素、
ナフタロシアニン系色素、フタロシアニン系色素、含金
アゾ系色素などがあげられる。

本発明の光記録媒体における記録層社基板の両面に設け
てもよいし、片面だけに設けてもよい。

本発明の光記録媒体への記録は、基板の両面又は片面に
設けられた記録層に１＃を程度に集束したレーザー光、
好ましくは半導体レーデ−光をあてることＫよシ行々う
。レーザー光の照射された部分には、レーデ−光エネル
ギーの吸収による分解、蒸発、溶融等の記録層の熱的変
形が起こシ、情報が記録される。

その記録された情報の再生は、レーデ−光によシ、熱的
変形が起きていない部分と起きている部分の反射率の差
を読み取ることＫよシ行なう。

本発明の光記録媒体の記録及び再生に使用されるレーザ
ーとしては、Ｎ２　＊　Ｈ＠−Ｃｄ　＋　Ａｒ　＊　Ｈ
＠−Ｎｏ　ｅルビー、半導体、色素レーザーなどがあげ
られるが、特に軽量性、取扱いの容易さ、コンノ々クト
性などの点からして半導体レーデ−が好ましい。

（実施例） 以下に実施例をあげてさらに詳述する。

実施例１ メチン系化合物： 構造式 で示される化合物１２ｉＰと、構造式 で示される化合物９８ｊ’とを氷酢酸２５０Ｐ及び無水
酢酸５０ノからなる溶液中に加え、１００〜１０５℃で
４時間攪拌して反応させ、反応終了後室温まで冷却し、
水１．５ノを加え、室温で１時間攪拌しえ、生成比でん
を結晶としてＦ取し、乾燥し、下記の構造式を有するメ
チン系化合物（黒緑色結晶）１６Ｐを得た。この化合物
の溶液（クロロホルム）中でのλｍ＆Ｘは７００　ｎｍ
であった。

この化合物は特性値は下記のとおシであった。

融点　１９１〜１９２℃ マススペクトル値 ｒｒｙ’＊　　　４８３　（Ｍ”　） ４１３　（Ｍ”−７０） 分子吸光係数Ｃ（クロロホルム中）　８．０Ｘ１０’光
記録媒体： 前記のようＫして得九メチン系化合物ＩＰをテトラクロ
ロエタン５０／−に溶解し、０．２２綿のフィルターで
濾過して溶液を得た。この溶液２ｄを、深さ７００又、
巾０．７−の紫外線硬化樹脂の＃（グループ）を有する
メタクリル樹脂（以下、「ＰＭＭｋ」という、）の基板
（１２０ｗａφ）上に滴下し、スピナー法によ’）　１
２００　ｒｐｍの回転数で塗布したのち、６０℃で１０
分間乾燥した。１！１布膜の最大吸収波長は６９５ｍｍ
であシ、スペクトルの形状祉巾広かった。また、その塗
布膜の吸光度と反射率曲Ｉｌ紘添付図面に示すとおシで
あり、反射率のピークは８４０　ｎｍにあシ、８４０ｎ
ｍＫおける反射率は４６チであった。

得られた光記鍮媒体の塗布ｇ（記録層）に、中心波長７
８０ｎｍの半導体レーデ−光（出力６−、ビーム１　ｉ
ｎｎ　）を照射したところ、巾約１＃＆、ビット長約２
篇の輪郭の極めて明瞭な孔（ビット）が形成された。そ
のキャリヤーレベル／ノイズレベル（ＣＡ’）比社高く
、耐光性及び再生光に対する耐性も良好であうた。

実施例２ メチン系化合物： 実施例１における製法Ｋｌｋする方法によシ、構造式 ％式％ 分子吸光係数（（クロロホルム中）　　９．２　Ｘ　１
０’光記鎌媒体： 上記のメチン系化合物ｌ？及びニトロセルロース（ダイ
セル化学工業株式会社商品名Ｂ５−２０　）１．５？を
、メチルエチルケト７５０？に溶解し、０．２２μｍの
フィルターで一過して溶液を得た。この溶液３ｄを、深
さ６５０Ｘ、巾０．７μ惰の紫外線硬化樹脂による溝（
グループ）を有するＰＭＭＡ樹脂基板（１２０ｔｍφ）
上に滴下し、１５００ｒｐｍの回転数で塗布したのち、
６０℃で１０分間乾燥した。

その塗布膜の最大吸収波長は６５０ｎｍであ）、Ｃ−り
は巾広かりた。また、この塗布膜の最大反射率は８ＳＯ
ｎｍの４０％であった。

得られた光記録媒体の塗布膜（記録層）Ｋ、中心波長７
８０ａｍの半導体レーデ−光（出力６ボ、ビーム径１．
ｕｓ）を照射したところ、巾約ＩＪｌｒｎ、♂ット長約
２１１Ｉｎの輪郭の極めて明瞭な孔（ビット）が形成さ
れた。その（’ＪＪ比が高く、耐光性及び再生光に対す
る耐性が良好でありた。

実施例３ メチン系化合物： 実施例ＩＫおける製法に準する方法によシ、構造式 で示されるメチン系化合物を得た。この化合物のλ１ｎ
□（クロロホルム）は７００　ｎｍであった。

光記録媒体： 上記のメチン系化合物ＩＰをジツロモエタン５０、Ｐに
溶解し、０．２２μ漢のフィルターで一過し、溶液を得
た。この溶液２−を、深さ７００Ｘ、巾０．７μｍの紫
外線硬化樹脂による溝（グルツ）を有するＰＭＭＡ樹脂
基板（１３０ｎｍ−）上に滴下し、８００　ｒｐｍ　の
回転数で塗布したのち、６０℃で２０分間乾燥した。得
られた塗布膜の最大吸収波長は６９５ｎｍであシ、♂−
りは巾広かった。

得られた光記録媒体（塗布Ｉ！Ｘ）に、中心波長７８０
ｎｍの半導体レーデ−光（出力６　ｍＷ、ビーム径１　
ｔｍ　）を照射したところ、巾約ｌａｍ、ピット長約２
篇の輪郭の極めて明瞭な孔（ビット）が形成された。そ
のＣ／ＳＪ比は高く、耐光性及び再生光に対する耐性も
良好であった。

実施例４〜８９ 一般式 を有し、かつ第１表に示された種々のメチン系化合物を
、実施例１における製法に準する方法によシ製造した。

得られた各メチン系化合物のクロロホルム溶媒中の最大
吸収波長は第１表にそれぞれ示すとおシであった。

また、その各メチン系化合物を、実施例１におけると同
様の条件で溝（グループ）を有するＰＭＭＡ樹脂基板上
に塗布し、光記録媒体を製造した。得られた各光記録媒
体は記録層（塗布膜）のスイクトルビークがブロードで
あシ、その最大吸収波長は第１表に示すとおシであった
。

また、その各記録層に、中心波長７８０ｎｍの半導体レ
ーデ−光を照射したところ、輪郭の極めて明瞭な孔（ピ
ット）が形成され、反射率が高く、高感度でＣ／Ｎ比が
優れていた。また、その耐光性及び再生光に対する耐性
も良好であった。

以−Ｆ−’ｒ−ＩＩ （ｃ）発明の効果 本発明のメチン系化合物は有機溶媒に対する溶解性に著
しく優れ、ま九反射率が高く、耐光性に優れている。し
たがって、この化合物を用いる本発明の光記録媒体は、
その記録層の形成を溶媒溶液塗布（コーティング）法で
容易に行なわせることができ、その記録層のコントラス
トが良好で、耐光性及び再生光に対する耐性に優れてい
る。

【図面の簡単な説明】

添付図面は、実施例１で得られた記録層の吸光度と反射
率曲線を図示し九ものである。 特許出願人　　三菱化成工業株式会社 １・二ンｊ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ水素原子、ハロゲ
   ン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、シ
   アノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリール
   オキシカルボニル基、モノ若しくはジアルキルアミノカ
   ルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカ
   ルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基及び
   アリールオキシカルボニルオキシ基から選ばれる原子又
   は基を表わし、Ａは置換若しくは非置換の芳香族アミン
   の芳香族環の水素原子１個を除いた残基を表わす。） で示されるメチン系化合物。 ２）一般式におけるＡが、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼。 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
   アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルア
   ミノ基、アルキルスルホニルアミノ基及びアルコキシ基
   から選ばれる原子又は基を表わし、Ｒ＾３及びＲ＾４は
   それぞれ水素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置
   換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、置
   換若しくは非置換のアリル基及び置換若しくは非置換の
   シクロヘキシル基から選ばれる原子又は基を表わす。）
   で示される基である特許請求の範囲第１項記載のメチン
   系化合物。 ３）基板及び光吸収性色素含有の記録層を有する光記録
   媒体において、光吸収性色素が一般式▲数式、化学式、
   表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ水素原子、ハロゲ
   ン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、シ
   アノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリール
   オキシカルボニル基、モノ若しくはジアルキルアミノカ
   ルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカ
   ルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基及び
   アリールオキシカルボニルオキシ基から選ばれる原子又
   は基を表わし、Ａは置換若しくは非置換の芳香族アミン
   の芳香族環の水素原子１個を除いた残基を表わす。） で示されるメチン系化合物であることを特徴とする光記
   録媒体。 ４）一般式におけるＡが、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
   アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルア
   ミノ基、アルキルスルホニルアミノ基及びアルコキシ基
   から選ばれる原子又は基を表わし、Ｒ＾３及びＲ＾４は
   それぞれ水素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置
   換アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換
   若しくは非置換のアリル基及び置換若しくは非置換のシ
   クロヘキシル基から選ばれる原子又は基を表わす。） で示される基である特許請求の範囲第３項記載の光記録
   媒体。