JPS63276593A - 光学記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、含金属キノリンジオン系化合物を用いた光学
記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存お
よび再生を可能とするため、近年、特にその開発がとり
す〜められている。

光学記録の一例としては、光ディスクをあげることがで
きる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、／μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高
密度の情報記録を行なうものである。その記録は、照射
されたレーザー光エネルギーの吸収によって、その個所
の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成する
ことにより行なわれる。また、記録された情報の再生は
、レーザー光により変形が起きている部分と起きていな
い部分の反射率の差を読み取ることにより行なわれる。

したがって、光学記録媒体としては、レーザー光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用
する特定の波長のレーザー光に対する吸収が犬ぎいこと
、情報の再生を正確に行なうため、再生に使用する特定
波長のレーザー光に対する反射率が高いことが必要とな
る。

この種の光学記録媒体としては、糧々の構成のものが知
られている。

例えば、特開昭３！−９７０３３号公報には、基板上に
フタロシアニン系色素の単層を設けたものが開示されて
いる。しかしながらフタロシアニン系色素は感度が低く
、また分解点が高く蒸着しにくい等の問題点を有し、さ
らに有機溶媒に対する溶解性が著しく低（、塗布による
コーティングに使用することができないという問題点も
有している。

また、特開昭３ｇ−ｇ３３’ｌ弘号公報にはフェナレン
系色素を、特開昭３ｇ−，２コダ７９３号公報にはナフ
トキノン系色素を記録層に設けたものが開示されている
。しかし、このような色素は蒸着しやすいという利点の
反面、反射率が低いと（・５問題点を有している。反射
率が低いとレーザー光により記録された部分と未記録部
分との反射率に関係するコントラストは低くなり、記録
された情報の再生が困難となる。更に、一般に有機系色
素は保存安定性が劣るという問題点な有している。

〔発明が解決しよつとする問題点〕

本発明は、有機溶媒に対する溶解性が高（、塗布による
コーティングも可能で、しかも、反射率が高（、コント
ラストが良好で保存性にすぐれている含金属キノリンジ
オン系化合物を用いた光学記録媒体を提供することを目
的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、レーザー光線によって状態変化を生ぜしめる
ことによって記録再生を行なうための光学記録媒体の色
素として適した下記一般式ＣＩ／］で表わされる含金属
キノリンジオン系化合物を含む記録層を基板に担持させ
た光学記録媒体をその要旨とするものである。

一般式［１〕 （式中、Ｍはｃｕ、ｃｏまたはＮ１金属原子を表わし、
ｎは０またはｌ１表わし、Ｘ及びＹは水素原子、アルキ
ル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原
子を表わし、Ｒ１及びＲ２は水素原子、置換もしくは非
置換のＣ１〜２ｏのアルキル基、置換もしくは非置換の
アリール基、置換もしくは非置換のアリル基または置換
もしくは非置換のシクロヘキシル基を表わし、２−は陰
イオンを表わす。９ 一般式〔１〕中、Ｒ１、Ｒ２で示されろアルキル基、ア
リール基、アリル基またはシクロヘキシル基の置換基と
しては、例えば、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ
基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、ヒドロ
キシ基、テトラヒドロフリル基等が挙げられる。

また一般式ＣＩＩ中、２−で表わされろ陰イオンとして
は、たとえばニー、Ｂｒ−１Ｃ１−１０１０４−１ＳＯ
Ｎ−等があげられる。

前記一般式［Ｉ］で示される含金属キノリンジオン系化
合物°は、６００〜ｇ　００　ｎｍの成長帯域で吸収！
有し、しかも分子吸収係数が１０４〜１０５Ｃ７ｒＬ−
”である。

本発明の一般式ＣＩ］で示される含金属キノリンジオン
系化合物の一般的合成は、たとえば、吉田勝平、石黒美
和、久保由治；日本化学会第３３秋期年会講演予稿集７
９ｇＡ、４３ｇの記載に準じて行なうことができる。す
なわち、下記構造式［ｎ’ｌｌ で衣わされるキノリンジオンと一般式圓（式中、ｎ、Ｘ
、Ｙ、Ｒ１及びＲ２は前記定義に同じ。〕 とを金属塩存在下反応させることにより、一般式下〕 （式中、ｎ、ｘ−Ｙ−Ｒ’　及ヒＲ２ハ前記定ｅＡ　ニ
同じ。） で表わされるキノリンジオン系化合物を得、次に、下記
一般式［Ｖ］ Ｍ”（Ｚ）２　　　・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・［Ｖ］（式中、Ｍ及びＺは前記
定義に同じ。）で表わされる金属塩と反応させることに
より製造することができる。

本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と含金属キノ
リンジオン系化合物を含む記録層とから構成され−るも
のであるが、さらに必要に応じて基板上に下引き層をま
た記録層上に保請層を設けろことができる。

　７一 本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明または不透明のいずれでもよい。基板材料の材
質としては、ガラス、プラスチック、紙、板状または箔
状の金属等の一般の記録材料の支持体が挙げられるが、
プラスチックが種々の点から好適である。プラスチック
としては、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチ
レン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂
、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂等
が挙げられる。

本発明の光学記録媒体における含金属キノリンジオン系
化合物を含む情報記録層としての膜厚は／　００　Ａ　
〜ｊ　μｍ　、好ましくは１０ｏｏ；ｙ〜３μｍである
。成膜法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドク
ターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法など
一般に行なわれている薄膜形成法で成膜することができ
ろ。

また、必要に応じてバインダーを使用することもできる
。バインダーとしてはＰＶＡ、ＰＶＰ。

ニトロセルロース、酢酸セルロース、ホリビニルプチラ
ール、ポリカーボネートなど既知のものが用いられ、樹
脂に対する含金属キノリンジオン系化合物の量は重量比
で０．０７以上あることが望ましい。スピナー法により
成膜の場合、回転数はｓｏｏ〜ＳθＱ　Ｑ　ｒｐｍが好
ましく、スピンコードの後、場合によっては、加熱ある
いは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよい。

光 また、記録体の安定性や耐Ｖ性向上のために、−１項酸
素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（たとえ
ば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチ
オール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α
−ジケトン等）を含有していてもよい。更に、必要に応
じて池の色素を併用することができろ。池の色素として
は別の種類の同系統の化合物でもよいし、トリアリール
−メタン系色素、アゾ染料、シアニン系色素、スクワリ
リウム系色素など他系統の色素でもよい。

ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
、特に、スピナー法等の塗布方法により記録層を形成す
る場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエタン、ブロ
モホルム、ジブロモエタン、エチルセロソルフ、キシレ
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサノン等の沸点ｉｓｏ
〜／６０℃のものが好適に使用される。

本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両面に設けても
よいし、片面だけに設けてもよい。

上記の様にして得られた記録媒体への記録は、基体の両
面または、片面に設けた記録層に／μｍ程度に集束した
レーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてる
事により行なう。レーザー光の照射された部分には、レ
ーザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の
記録層の熱的変形が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取る事により行なう。

本発明の光字記録媒体について使用されるレーザー光は
Ｎ２、Ｈｅ−Ｃｄ　、　Ａｒ　、　Ｈｅ−Ｎｅ　、　ル
ビー、半導体、色素レーザーなどがあげられるが、特に
、軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点から
半導体レーザーが好適である。

実施例 以下実施例によりこの発明を具体的に説明するが、かか
る実施例は本発明を限定するものではない。

実施例／ （ａ）製造例 ９３％エタノールｌｓｏｍｌ中で、下記構造式 で表わされる５９ｇ−キノリンジオン／ｙと下記構造式 で表わされるＮ、　Ｎ−ジメチルフェニレンシアー１工
一 ミンλ、３７ｇをＮｉＣｌ２０、ＱＯ７！９の存在下、
３０℃で２時間反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留
去して得た残留物を希塩酸水溶液で洗浄した後、生成物
をクロロホルムで抽出し、カラムクロマトグラフィー（
シリカゲル、酢酸エテル：クロロホルム＝＝／　：　／
　）で精製して、下記構造式で表わされるキノリンジオ
ン系化合物を得た。（収率り７％） 本化合物の融点は、２０７〜λｏｑ℃であり、可視部の
吸収スペクトル（ベンゼン）はλｍａｘ＆　ｌ１３ｎｍ
であり、元素分析結果は下記の通り、分析値と計算値と
がよ（合致した。

次に、上記で得られたｔ、−（ｐ−ジメチルアミノ）ア
ニリノ−３２ｇ−キノリンジオン７００■をりＳ％エタ
ノールＡＯｍｌに溶解した液に、Ｎ１（Ｃ１０４）２−
　ＡＨ２０Ａ　／　ｍ９を９３％エタノール２０ＴＬｌ
に溶かした溶液をゆっくり加えた。室温下でＳ時間攪拌
後、エバポレーターで溶液にわずかなにごりが生じるま
で溶媒を留去し、冷蔵庫で一夜放置すると青緑色の沈殿
が析出した。ろ通抜、結晶を真空デシケータ−中Ｐ２Ｏ
５上で乾燥したところ、下記構造式 で表わされるる−（ｐ−ジメチルアミノ〕アニリノ−ｓ
、　ｇ−キノリンジオ７のＮｉ（］］）錯体を得た。

本化合物の融点は、３００℃以上であり、図−／に示す
ように可視部の吸収スペクトル（クロロホルム中）はλ
ｍａｘ６９ｊｎｌｎであり、元素分析結果は、下記の通
り、分析値と計算値とがよ（合致した。

（ｂ）記録媒体例 前記構造式の含金属キノリンジオン系化合物０．／ｊＪ
’ｆｇテトラクロロエタン１０９に溶解し、０．ココμ
のフィルターで濾過し、溶解液を得た。この浴液５１を
深さ７θ０＾、幅０．７μの紫外線硬化樹脂による溝（
グループ〕つぎポリメチルメタクリレ−）（ＰＭＭＡ）
樹脂基板（３インチ）上に滴下し、スピナー法によりワ
０θｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で７０
分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は？　＆　Ｏｎｍ
であり、スペクトルの形状は幅広かった。

（Ｃ）　　光記録法 上記記録媒体層を成膜した５インチの ＰＭＭＡ樹脂基板を４　ｍ／ｓで回転させながら、中心
波長７　ｇ　Ｏｎｍの半導体レーザー光でパルス幅左０
０　ｎ５ｅｃで照射したところ、輪郭の極めて明瞭なピ
ットが形成され、Ｏ／Ｎ比も良好であった。保存安定性
（６０℃、ｇｏ％ＲＨ）も良好であった。

実施例コ （ａＪ製造例 酢酸２００ｍ１中で、５２ｇ−キノリンジオン／ｙと、
Ｎ、　Ｎ−ジメチルアニリンコ、、２ｑｇをＣｕ（ＯＨ
３０００）２−　Ｈ２ＯＡ、２　ｇｍｍｏｌｅ　（７）
存在下、３０℃で０．３時間反応させた。

反応後、反応液からクロロホルムで生成物＝１５− を抽出した。クロロホルムを飽和Ｎ　ａ２Ｃ０３水溶液
で中和、洗浄した後、濃縮し、カラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル、クロロホルム中で精製して下記の構造
式 で表わされる化合物夕得た。（収率ｇＯ％）本化合物の
融点は、λθダ〜２ＯＡ’Ｃであり、可視部の吸収スペ
クトル（ベンゼン）はλｍａｘｊ３＆ｎｍであった。元
素分析結果は、下記の通り、分析値と計算値とがよ（合
致した。

次に、上記で得られた６−（ｐ−ジメチルアミノ）フェ
ニル−３７ｇ−キノリンジオンｏ、ｓｇ’ｉｇｑｑ％エ
タノール９０ばに溶解した液に、０ｕ（０１０４）２−
４Ｈ２０θ、４７ｇ’ｆｉ９９％エタノール、３０ｒｎ
ｌに溶かした溶液をゆっくり加えた。３０分間攪拌後、
得られた結晶を濾過し真空デシケータ−中Ｐ２Ｏ５上で
乾燥したところ、下記構造式 で表わされるＡ−（ｐ−ジメチルアミノ）フェニル−５
２ｇ−キノリンジオンの（Ｕ（［）錯体化合物を得た。

本化合物、の可視部の吸収スペクトル（クロロホルム中
）は図−２に示すようにλｍａＸり７０ｕｍ　（ブロー
ド）であった。

（ｂ）　　記録媒体例 前記構造式で示される含金属キノリンジオン系化合物な
実施例／に記載の方法に従って、溝（グループ）つきＰ
ＭＭＡ樹脂基板上にスピナー法による塗布を行なった。

塗布膜の最大吸収波長は７　ｇ　Ｏｎｍであり、スペク
トルの形状は幅広かった。

（Ｃ−）　　光記録法 上記のＰＭＭＡ樹脂基板をｌ１ｍ／ｓで回転させながら
、中心波長ｑ　ｇ　ｏ　ｎｍの半導体レーザー光で、パ
ルス幅！　００　ｎ５ｅｃで照射したところ、輪郭の極
めて明瞭なピットが形成され、Ｃ／Ｎ比も良好であった
。保存安定性（乙Ｑ℃、ｇｏ％ＲＨ）も良好であった。

実施例３ 実施例／において用いた含金属キノリンジオン系化合物
の代わりに下記第１表に示した化合物を使用した以外は
実施例／と同様にして塗布したところ、下記第１表に示
す最大吸収波長暑もつ薄膜基板ヶ得た。このようにして
得られた薄膜に光源として半導体レーザーを用いて書き
込みを行なったところ、均一かつ明瞭な形状のピットが
得られた。Ｃ／Ｎ比も良好であり、保存性も良好であっ
た。

＝　１９− ＝２３− 一２５− ＝　２６− 〔発明の効果〕 本発明の含金属キノリンジオン系化合物は、有機溶媒に
対する溶解性が高（、塗布によるコーティングが可能で
あり、しかも、反射率が高（、コントラストが良好であ
り且つ保存安定性にすぐれているので、該化合物を用い
た光学記録媒体は極めて有用なものである。

【図面の簡単な説明】

図−／および図−２は、各々本発明の実施例−／および
実施例コの含金属キメリンジオン系化合物の可視部吸収
スペクトルを表わすものであり、縦軸は吸光度、横軸は
波長（ｎｍ）を表わす。 特許出願人　三菱化成工業株式会社 代　理　人　弁理士　長谷用　　− （ほか７名） 図−１ 夜長（ｎ４） 図−２ 衰失（ｎヮ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）レーザー光線によって状態変化を生ぜしめること
   によって記録再生を行なうための光学記録媒体であって
   、基板に一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
   〕 （式中、ＭはＣｕ、ＣｏまたはＮｉ金属原子を表わし、
   ｎは０または１を表わし、Ｘ及びＹは水素原子、アルキ
   ル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原
   子を表わし、Ｒ＾１及びＲ＾２は水素原子、置換もしく
   は非置換のＣ＿１〜＿２＿０のアルキル基、置換もしく
   は非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリル基
   または置換もしくは非置換のシクロヘキシル基を表わし
   、Ｚ＾−は陰イオンを表わす。）で示される含金属キノ
   リンジオン系化合物を含有する記録層を担持せしめたこ
   とを特徴とする光学記録媒体。