JPS62216792A

JPS62216792A - 光学記録媒体

Info

Publication number: JPS62216792A
Application number: JP61059284A
Authority: JP
Inventors: Shuichi Maeda; 修一前田; Yutaka Kurose; 裕黒瀬; Tetsuo Ozawa; 鉄男尾澤
Original assignee: Mitsubishi Kasei Corp
Current assignee: Mitsubishi Kasei Corp
Priority date: 1986-03-19
Filing date: 1986-03-19
Publication date: 1987-09-24

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（、）　　発明の目的本発明は光学記録媒体に関する。

（産業上の利用分野）本発明の光学記録媒体は、レーデ−光等を用いる高密度
の情報記録保存、及び同記録再生用の記録媒体として有
利に使用できる。

（従来の技術）レーデ−光等を用いる光学記録は、情報を高密度に記録
保存でき、かつその記録を容易に再生利用できるもので
あシ、その−例として光ディスクがあげられる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、１μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高
密度の情報記録を行なうものである。

溶解等の熱的変形が生成することによシ行なわれる。ま
た、記録された情報の再生は、レーデ−光によシ変形が
起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み
取ることにより行なわれる。

したがって、光学記録媒体は、レーデ−光のエネルイー
を効率よく吸収する必要があるため、記録に使用する特
定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこと、情報
の再生を正確に行なうため、再生に使用する特定波長の
レーデ−光に対する反射率が高いことが必要となる。

この種の光学記録媒体としては種々の構成のものが知ら
れている。たとえば、特開昭５５−９７０３３号公報に
は、基板上に７タロシアニン系色素の単層を設けたもの
が開示されている。フタロシアニン系色素は感度が低い
、分解点が高く蒸着しにくいし、さらに有機溶媒に対す
る溶解性が著しく低いので記録層を形成せしめるだめの
塗布によるコーティングが困難である等の欠点がある。

また、特開昭５８−８３３４４号公報には７工ナレン系
色素を、特開昭５８−２２４７９３号公報にはす７トキ
ノン系色素を記録層に設けたものが開示されている。こ
のような色素は蒸着しやすい利点を有する反面において
、反射率が低いという欠点を有している。反射率が低い
とレーデ−光によシ記録された部分と未記録部分との反
射率のコントラストが低くなり、記録された情報の再生
が困難になる。

また、％開昭５９−２４６９２号会報、特開昭５９−６
７０９２号公報、特開昭５９−７１８９５号公報には、
シアニン系色素を記録層に設けたものが開示されている
。このような色素は塗布によるコーティングが容易であ
る利点があるが、耐光性に劣シ、再生光によシ劣化を起
す欠点がある。

（発明が解決しようとする問題点）本発明は、塗布による記録層自体の形成が容易であり、
記録層が反射率が高くて記録のコントラストが良好であ
シ、しかも耐光性及び再生光に対する耐性に優れている
光学記録媒体を提供しようとするものである。

（ｂ）　　発明の構成（問題点を解決するための手段）本発明者等は前記の問題点を解決するために種種研究を
重ねた結果、特定の化学構造を有するナフトラクタム系
光吸収色素を含有する記録層を設けることによシ、その
目的を容易に達成することができたものである。

すなわち、本発明の光学記録媒体は、基板に一般式（式中、Ｋは置換若しくは非置換の芳香族アミンの残基
を表わし、Ｒは置換若しくは非置換のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、２″
″は陰イオンを表わし、環Ａは置換基を有していてもよ
いす７タレン環を表わす。）で表わされるナフトラクタ
ム系光吸収色素を含有する記録層を設けたことを特徴と
するものである。

前記一般式（１）におけるＲで表わされるアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアリル基の置換基若
しくは置換原子としては、たとえばアルコキシ基、アル
コキシアルコキシ基、アルコキシアル；キシアルコキシ
基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シ
アン基、ヒドロキシ基、テトラヒドロ７リル基、ハスグ
ン原子等があげられる。

また、環Ａで表わされるす７タレン環の置換基又は置換
原子としては、ハロゲン原子、炭素ａｌ〜１０（２）ア
ルキル基・、炭素数１〜ｌｏの７＋＝＋４７基、アルキ
ルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基、ヒドロキシ基
等の非イオン性の基があげられる。

また、Ｋで嵌わされる置換若しくは非置換の芳香族アミ
ンの残基としては、たとえば一般式（式中、Ｘ及びＹは
それぞれ水１ｇ原子、ハロゲン原子、アルキル基、アジ
ルアｔ）基又はアル；午￥基を表わす。Ｒ及びＲ３はそ
れぞれ、水素原子、炭素数１〜２００＠換若しくは非置
換のアルキル基、アリール基又はシクロアキル基を表わ
し、そのアルキル基、７リー／Ｌ／基又はシフ冒ヘキシ
ル基の置換基としては、たとえばアルコキシ基、アルコ
−？−／アルコキシ基、アル；キクアルコキシアルコキ
シ基、アリルオキシ基、アリール基、了り一ルオキク基
、シアノ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基等が
あげられる。）で表わされる基、一般式％式％（式中、Ｒは水素原子、ハロｒ：／原子、アルキル基、
アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わし、Ｒ７は水素
原子、炭！ＷＬ１〜２０Ｃ）置換若しくは非置換のアル
キル基、アリール基、アリル基又はシクロアルキル基な
表わし、ｚｌは単なる結合手又は−〇−又は−Ｓ−を表
わし、Ｂは置換されていてもよいベンゼン環又はシクロ
ヘキサン環を表わす。）で表わされる基、一般式（式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
シルアミノ基又はアルコキシ基な表わし、Ｒ？は水素原
子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のアルキル基
、アリール基、アリル基又はシクロアルキル基を宍わし
、Ｒは水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子を戒わし
、Ｒ、Ｒ、Ｒは水素原子、アルキル基を表わす。）で表わされる基、一般式（式中、Ｒ１４及びＨ１５はそれぞれ水素原子、炭素数
１〜２０の置換若しくは非置換のアルキル基、アリール
基、アリル基又はシクロアルキル基を表わし、Ｒ１６及
びｎ　１７はそれぞれ水素原子、）・ログン原子、アル
キル基、アシルアミノ基又はアルコ、？シ基を懺わし、
−Ｚ２＝バーＣＨ−又ｉ’！　−Ｎ＝　ヲ表わす、）で我わされる基等が挙げられる・また、２−で表わされる陰イオンとしては、たとえばＸ
　　、Ｂｒ　、ｃｔ、ＣｌＯ４１ＢＦ４　　ＴＳＣＮ　
１等があげられる。

前記一般式（１）で表わされるナット２クタム系色表は
、６００〜８００ｎｍＣ）波長帯域で吸収を有し、しか
も分子吸収係数が１０　〜１０３　である。

前記一般式（１）で表わされるナット２クタム系色素■
中で好ましいものとしては、一般式（式中、Ｘ及びＹは
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル
アミノ基又はアルコキシ基を表わし、Ｒは置換若しくに
非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアリル基を表わし、Ｒ２及びＲ５はそれぞれ水素原子
、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のアルキル基、
アリール基、アリル基又はシクロアルキル基を表わし、
Ｒ４及びＲ５はそれぞれ水素原子、ノ・ログｙ原子、炭
素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキ
シ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基又
はヒドロキシ基を表わし、２は陰イオンを表わす。）で表わされるナフトラクタム系色素、一般式（式中、Ｒ
１は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ４及びＲ５は
それぞれ水素原子、／・ログｙ原子、炭素数１〜１０の
アルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、アルキル
アミノ基、アシルアミノ基、アミノ基又はヒドロキシ基
を表わし、Ｒは水素原子、ハロダン原子、アルキル基、
アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わし、Ｒは水素原
子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のアルキル基
、アリール基、アリル基又はシクロアルキル基を表わし
、２は単なる結合手又は−〇−又は−Ｓ−を表わし、Ｂ
は置換されていてもよいベンゼン環又はシクロヘキサン
環を表わし、２は陰イオンを表わす。）で懺わされるナフトラクタム系色素、一般式（式中、Ｒ
１は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ４およびＲ５
はそれぞれ水素原子、）１０ｒン原子、炭素数１〜１０
のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、アルキ
ルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基又Ｌヒドロキシ
基を表わし、Ｒ６は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わし、Ｂは水
素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のアルキ
ル基、アリール基、アリル基又はシクロアルキル基を表
わし、Ｂ１１は水素原子、ヒドロキシ基又はハロゲン原
子を表わし、Ｒ、Ｒ、Ｒはそれぞれ水素原子又はアルキ
ル基を表わし、２″″は陰イオンを表わす。）で表わされるナンドラクタム系色素、一般式（式中、Ｒ
１は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基又はアリル基を茨わし、Ｒ４及びＲ５は
それぞれ水素原子、ハロダン原子、炭素数１〜１０のア
ルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、アルキルア
ミノ基、アシルアミノ基、アミノ基又はヒドロキシ基を
表わし、Ｒ及びＲはそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０
の置換若しくは非置換のアルキル基、アリール基、アリ
ル基又はシクロアルキル基を表わし、Ｒ及びＲはそれぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ
基又はアルコキシ基を表わし、−２−は−〇Ｈ＝又は−
Ｎ＝を表わし、２−は陰イオンを表わす。）で表わされるナフトラクタム系色素が挙げられる。

前記一般式〔■〕〜〔ｖ〕で表わされるナフト２クタム
系色素は公知文献（たとえば特公昭４１−２０７１４号
公報、特公昭４２−２４５３５号公報、特公昭４３−７
０２４号公報、％開紹５２−７６３２９号公報、特開昭
５２−１４７６３１号公報、独国特許１，５６９，６０
６号明細書等）に記載された方法により製造することが
できる。

たと、えは一般式（ｎ）の化合物は一般式（式中、Ｒ、
Ｒ、Ｒは前記定義に同じ。）で表わされるす７トスチリ
ル化合物と、一般式（式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｘ、Ｙは前記
定義に同じ。）で表わされるアニリン誘導体とを脱水縮
合剤の存在下反応させることによシ容品に得られる。

また、九とえば、一般式〔…〕の化合物は、一般式　　
　　　　　　　　　　　　　Ｙ（式中、Ｒ２，Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’ＩＸＩＹは前記定義に
同じ。）で表わされる化合物と一般式％式％（式中、Ｒ１は前記定義に同じ。）で表わされるアルキル化剤を反応させることによっても
製造することができる。

本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と記録層とか
ら構成されているが、さらに必要に応じて基板上に下引
き層を、また記録層上に保護層を設けることができる。

本発明における基板としては、使用するレーデ−光に対
して透明又は不透明のいずれであってもよい。基板の材
質としては、ガラス、プラスチック、紙、板状若しくは
箔状の金属等の、一般にこの種の記録体用の支持体が使
用できるが、種々の点からしてグラスチックが好ましい
。そのプラスチックとしては、九とえばアクリル樹脂、
エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化
ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポ
リプロピレン樹脂、ポリカーゴネート樹脂、４１Ｊイミ
ド樹脂、ポリサルホン樹脂等があげられる。

本発明の光学記録媒体における情報記録層としてのナフ
トラクタム系光吸収色素を含有する記録層の厚さは１０
０＾〜５μｍ１好ましくは５００＾〜３μｍである。

その記録層の形成には、スノクツタリング法、ドクター
グレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法々どの一
般的に行なわれる薄膜形成法が用いられる。記録層はナ
フトラクタム系光吸収色素にバインダーを併用して形成
せしめることができる。

そのバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース
、ポリビニルブチラール、ポリカーゼネートなどの樹脂
類が使用される。記録層におけるナフトラクタム系光吸
収色素の含有蓋は樹脂類に対して１重量％以上であるの
が望ましい。

前記のドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、
浸漬法等の塗布方法、特にスピナー法で記録層を形成す
る場合には、塗布溶媒が使用されるが、その溶媒として
は、たとえばブロモホルム、ジブロモエタン、テトラク
ロロエタン、エチルセロソルブ、キシレン、クロロベン
ゼン、シクロヘキサノン等の沸点が１２０〜１６０℃の
溶媒が好適に使用される。スピナー法による成膜の場合
は、回転数が５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピ
ンコード後に、場合によって加熱或いは溶媒蒸気にあて
るなどの処理を行なってもよい。

本発明の光学記録媒体の記録層には、記録層の安定性や
耐光性を向上させる目的で、−１項酸素クエンチャーと
して遷移金属キレート化合物（たとえばアセチルアセト
ナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルア
ルデヒドオキシム、ビスジチオール−α−ノヶトン等）
を含有せしめてもよい。

さらに、本発明の記録層には同系統の色素および他系統
の色素を併用することができる。他系統の色素としては
、インドフェノール系色素、トリアリールメタン系色素
、アゾ系色素、シアニン系色素、スクワリリウム系色素
などがあげられる。

本発明の光学記録媒体における記録層は、基板の両面に
設けてもよいし、片面だけに設けてもよい。

本発明の光学記録媒体への記録は、基板の両面又は片面
に設けられた記録層に１μｍ程度に集束したレーザー光
、好ましくは半導体レーデ−光をあてることにより行な
う。レーザー光の照射された部分には、レーザー光エネ
ルギーの吸収による分解、蒸発、溶融等の記録層の熱的
変形が起こり、情報が記録される。

記録された情報の再生は、レーデ−光により、熱的変形
が起きていない部分と起きていない部分の反射率の差を
読み取ることにより行なう。

本発明の光学記録媒体の記録及び再生に使用されるレー
デ−としては、Ｎ２、Ｈａ−Ｃｄ　、　Ａｒ　、　Ｈ４
１−Ｎｅ　、ルビー、半導体、色素レーデ−などがあげ
られるが、特に半導体レーザーが軽量性、取扱いの容易
さ、コンパクト性などの点がらして好ましい。

（実施例）以下に、実施例をあげてさらに詳述する。

実施例１ナフトラクタム系色素の合成：構造式で表わされる化合物４．３ｇをトルエン５０．ｄ中に懸
濁させ、１００℃に加熱して溶解させた。１００℃に保
温、攪拌しながらジエチル硫酸３．０ｇを滴下し、この
温度に１０時間攪拌して反応させた。

反応後冷却し、生成物を濾過して得られた生成物を３０
０−の熱湯に溶解し、０．５ｇの脱色炭と共に煮沸して
一過した。ｐ−）ルエンスルホン酸ｓ、ｏｇを加えて室
温で３時間攪拌した。沈殿した結晶を戸数し、乾燥して
、下記の構造式を有する黒色粉末のナフトラクタム系色
素４．５９を得た。

この色素の溶液（クロロホルム）中でのλｍａｘは６６
５　ｎｍであった。

Ｂｒ光学記録媒体：上記のようにして得られたナフトラクタム系色素１ｇを
ジブロモエタン５０Ｉに溶解し、０．２２βのフィルタ
ーでｐ遇して溶液とした。この溶液２ＷＬｌを、深さ７
００Ｘ、巾０．７μの紫外線硬化樹脂による溝（グルー
プ）つきのメチルメタクリレート樹脂基板（１２０濶φ
）上に滴下し、スピナー法によｊｌ）　１２００　ｒｐ
ｍの回転数で塗布し、６０℃で１０分間乾燥した。同一
条件でガラス板に塗布し、タリステップにより塗布膜厚
を測定したところ、７００１であった。塗布膜の最大吸
収波長は６６０　ｎｍであり、スペクトルの形状は巾広
でありた・この塗布膜に、中心波長６３２．８ｎｍのＨｅ−Ｎｏし
一デー光を用い、ビーム径２．４μｍで照射したところ
１輪郭の極めて明瞭な孔（ピット）が形成された。その
い比は５０　ｄＢであり、耐光性及び再生光に対する耐
性が良好であった。

実施例２実施例１の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素を合成した。この色素のλｍｉ工（ク
ロロホルム溶液）は７１０　ｎｍでらった。

Ｂｒ光学記録媒体：上記のようにして得られたナフトラクタム系色素ＩＩを
テトラクロロエタン５０９に溶解し、０．２２μのフィ
ルターで濾過して得喪溶液２ｍｌを、深さ７００Ｘ、巾
０．７μの紫外線硬化樹脂による溝（グループ）付きの
メチルメタアクリレート樹脂基板（１３０ｗφ）上に滴
下し、８００　ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６
０℃で２０分間乾燥した。別に、膜厚測定のためにガラ
ス板に同一条件で塗布してタリステップによる膜厚測定
をしたところ、６５０１であった。塗布膜の最大吸収波
長は７２０　ｎｍであり、ピークの巾が広かった。

この塗布膜に、中心波長７８０　ｎｍの半導体レーデ−
光を、出力６ｍＷでビーム径１μｍで照射したところ、
巾約１μｍ、ピット要約２μｍの輪郭の極めて明瞭な孔
（ピット）が形成された。そのキャリヤーレベル／ノイ
ズレベル比（ＣｌＮ　比）　ハ４　ｓ　ｔａであ２　＊
　ｔｈまた、塗布膜の耐光性及び再生光に対する耐性が
良好であった。

実施例３実施例１の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素を合成した。この色素のλ、。（クロ
ロホルム溶液）は７１０　ｎｒｎであった。

このナフトラクタム系色素ＩＩＩをシクロヘキサノン５
Ｑ９に済解し、０．２２μのフィルターで炉遇して溶液
を得た。この溶液３ｄを、深さ６５０人、巾０．７μの
紫外線硬化樹脂による溝（グループ）つきのメチルメタ
アクリレート樹脂基板（１２０＋ｗφ）上に滴下し、１
５００　ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で
１０分間乾燥した。

膜厚測定のために、同一条件でガラス板に塗布し、タリ
ステップにより測定したととろ、膜厚が７００又であっ
た。塗布膜の最大吸収波長は７３９　ｎｍであり、ピー
クの巾が広かった。

この塗布膜に、中心波長７８０　ｎｍの半導体装置デー
光を、出力６ｍＷでビーム径１μｍで照射したところ、
巾約１μｍ、ピット要約２μｍの輪郭の極めて明瞭な孔
Ｃピット）が形成された。また、そのキャリヤーレベル
／ノイズレベル比！−１４９ｄＢであり、耐光性及び再
生光に対する耐性は良好であった。

実施例４〜６９実施例１の合成法に準じて下記の一般式で表わされ、か
つ第１表に示す種々の構造式を有するナフトラクタム系
色素を合成した。この色素のλｍａｘ（クロロホルム酢
液）、及び実施例１の方法に準じて紫外線硬化樹脂によ
る溝（グループ）つきのメチルメタアクリレート樹脂基
板上に塗布した塗布膜の最大吸収波長は第１表に示すと
おりであった。

＋Ａ　５　　Ｂ　５また、その塗布膜に、中心波長６３２．８ｎｍのＨｅ−
Ｎａレーザー光を照射したところ、輪郭の極めて明瞭な
孔（ピット）が形成され、反射率が高く、高感度でい比
も優れており、耐光性及び再生光に対する耐性が良好で
あった。

実施例７０〜７７実施例１の合成法に準じて、下記の一般式で表わされ、
かつ第１表に示す種々の構造式を有するナフトラクタム
系色素を合成した。この色素のλｍａｘ（クロロホルム
溶液）、及び実施例１の方法に準じて紫外線硬化樹脂に
よる溝（グループ）つきのメチルメタアクリレート樹脂
基板上に塗布した塗布膜の最大吸収波長は第２表に示す
とおシであったＯまた、その塗布膜に中心波長７８０ｎｒｎの半導体レー
ザー光を照射したところ、輪郭の極めて明瞭な孔（ピッ
ト）が形成され、反射率が高く、高感度でＣ／Ｎ比も優
れておシ、耐光性及び再生光に対する耐性が良好であっ
た。

（Ｃ）　　発明の効果本発明の光学記録媒体は、記録層形成用のナフトラクタ
ム系光吸収色素が有機溶媒に対する溶解性に優れている
ので記録層自体の塗布による形成が容易であり、記録層
が反射率が高く、コントラストが良好で、しかも耐光性
及び再生光に対する耐性にも優れている。

Claims

【特許請求の範囲】１）基板に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｋは置換若しくは非置換の芳香族アミンの残基
を表わし、Ｒは置換若しくは非置換のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｚ＾
−は陰イオンを表わし、環Ａは置換基を有していてもよ
いナフタレン環を表わす。）で表わされるナフトラクタ
ム系光吸収色素を含有する記録層を設けたことを特徴と
する光学記録媒体。２）ナフトラクタム系光吸収色素が、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わし
、Ｒ＾１は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ＾２及
びＲ＾３はそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０の置換若
しくは非置換のアルキル基、アリール基、アリル基又は
シクロアルキル基を表わし、Ｒ＾４及びＲ＾５はそれぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、アルキルアミノ基
、アシルアミノ基、アミノ基又はヒドロキシ基を表わし
、Ｚ＾−は陰イオンを表わす。）で表わされるナフトラクタム系色素である特許請求の範
囲第１項記載の光学記録媒体。３）ナフトラクタム系光吸収色素が、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は置換若しくは非置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ
＾４及びＲ＾５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭
素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキ
シ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基又
はヒドロキシ基を表わし、Ｒ＾６は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を
表わし、Ｒ＾７は水素原子、炭素数１〜２０の置換若し
くは非置換のアルキル基、アリール基、アリル基又はシ
クロアルキル基を表わし、Ｚ＾１は単なる結合手又は−
Ｏ−又は−Ｓ−を表わし、Ｂは置換されていてもよいベ
ンゼン環又はシクロヘキサン環を表わし、Ｚ＾−は陰イ
オンを表わす。）で表わされるナフトラクタム系色素である特許請求の範
囲第１項記載の光学記録媒体。４）ナフトラクタム系光吸収色素が、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は置換若しくは非置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ
＾４およびＲ＾５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコ
キシ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基
又はヒドロキシ基を表わし、Ｒ＾８は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基
を表わし、Ｒ＾９は水素原子、炭素数１〜２０の置換若
しくは非置換のアルキル基、アリール基、アリル基又は
シクロアルキル基を表わし、Ｒ＾１＾１は水素原子、ヒ
ドロキシ基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ＾１＾０、Ｒ
＾１＾２、Ｒ＾１＾３はそれぞれ水素原子又はアルキル
基を表わし、Ｚ＾−は陰イオンを表わす。）で表わされ
るナフトラクタム系色素である特許請求の範囲第１項記
載の光学記録媒体。５）ナフトラクタム系光吸収色素が、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は置換若しくは非置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ
＾４およびＲ＾５はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコ
キシ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ基
又はヒドロキシ基を表わし、Ｒ＾１＾４及びＲ＾１＾５
はそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非
置換のアルキル基、アリール基、アリル基又はシクロア
ルキル基を表わし、Ｒ＾１＾６及びＲ＾１＾７はそれぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ
基又はアルコキシ基を表わし、−Ｚ＾２＝は−ＣＨ＝又
は−Ｎ＝を表わし、Ｚ＾−は陰イオンを表わす。）で表わされるナフトラクタム系色素である特許請求の範
囲第１項記載の光学記録媒体。